JPH08111306A - 耐食性に優れたボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末、ボンド磁石および磁石粉末の製造方法 - Google Patents
耐食性に優れたボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末、ボンド磁石および磁石粉末の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐食性に優れたボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ
系磁石粉末、この磁石粉末で作製した耐食性に優れたボ
ンド磁石および磁石粉末の製造方法を提供する。 【構成】 （１） Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末の表面に
ＳｉＯ2 保護皮膜が形成されている耐食性に優れたボン
ド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末、（２） 上記
（１）の磁石粉末を樹脂バインダーで結合したボンド磁
石、（３） エチルシリケートを用いたゾル・ゲル反応
により、またはプラズマ化学蒸着法により、Ｎｄ−Ｆｅ
−Ｂ系磁石粉末表面に二酸化ケイ素の保護皮膜を形成す
る耐食性に優れたボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉
末の製造方法。
系磁石粉末、この磁石粉末で作製した耐食性に優れたボ
ンド磁石および磁石粉末の製造方法を提供する。 【構成】 （１） Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末の表面に
ＳｉＯ2 保護皮膜が形成されている耐食性に優れたボン
ド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末、（２） 上記
（１）の磁石粉末を樹脂バインダーで結合したボンド磁
石、（３） エチルシリケートを用いたゾル・ゲル反応
により、またはプラズマ化学蒸着法により、Ｎｄ−Ｆｅ
−Ｂ系磁石粉末表面に二酸化ケイ素の保護皮膜を形成す
る耐食性に優れたボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉
末の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、耐食性に優れたボン
ド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末、この磁石粉末で作
製したＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石、およびボンド磁石
用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末の製造方法に関するもので
ある。
ド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末、この磁石粉末で作
製したＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石、およびボンド磁石
用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末の製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】一般に、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末を樹
脂バインダーで結合して所定の寸法形状に成形したＮｄ
−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石は比較的安価で高い磁気特性を
有するとともに、寸法精度が高く、薄肉で複雑な形状の
磁石に容易に製造できるところから、電気電子機器に広
く使用されている。
脂バインダーで結合して所定の寸法形状に成形したＮｄ
−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石は比較的安価で高い磁気特性を
有するとともに、寸法精度が高く、薄肉で複雑な形状の
磁石に容易に製造できるところから、電気電子機器に広
く使用されている。
【０００３】しかしながら、一般にＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁
石粉末は酸化しやすく、このため多湿高温環境下で保存
することができないのは勿論のこと、このＮｄ−Ｆｅ−
Ｂ系磁石粉末を樹脂バインダーで結合したボンド磁石を
上記多湿高温環境下で使用しても酸化し、磁気特性が大
幅に低下することは避けられなかった。
石粉末は酸化しやすく、このため多湿高温環境下で保存
することができないのは勿論のこと、このＮｄ−Ｆｅ−
Ｂ系磁石粉末を樹脂バインダーで結合したボンド磁石を
上記多湿高温環境下で使用しても酸化し、磁気特性が大
幅に低下することは避けられなかった。
【０００４】この対策として、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉
末表面にポリオレフィン、ポリスチレン等の高分子保護
皮膜を形成し、耐食性の改善を図ることが提案されてい
る（特開平４−２５７２０２号公報参照）。
末表面にポリオレフィン、ポリスチレン等の高分子保護
皮膜を形成し、耐食性の改善を図ることが提案されてい
る（特開平４−２５７２０２号公報参照）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記高
分子保護皮膜は、（ａ） １００℃程度の比較的低温で
熱劣化を起こして急速に防食性を失うため、多湿、高温
の環境下での使用に限界がある、（ｂ） Ｏ2 やＨ2 Ｏ
に対するバリヤー性が十分でないために、通常１０μｍ
以上の厚膜とする必要があるが、このような厚膜にする
と実効的なボンド磁石中での磁石粉末の体積分率が下が
り、ボンド磁石の磁気特性を低下させる、などの課題が
あった。
分子保護皮膜は、（ａ） １００℃程度の比較的低温で
熱劣化を起こして急速に防食性を失うため、多湿、高温
の環境下での使用に限界がある、（ｂ） Ｏ2 やＨ2 Ｏ
に対するバリヤー性が十分でないために、通常１０μｍ
以上の厚膜とする必要があるが、このような厚膜にする
と実効的なボンド磁石中での磁石粉末の体積分率が下が
り、ボンド磁石の磁気特性を低下させる、などの課題が
あった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者等
は、かかる課題を解決するべく研究を行った結果、
（イ） 二酸化ケイ素（以下、ＳｉＯ2 で示す）皮膜
は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の使用温度範囲内の高
温環境下でも物性に変化がなく、したがって高温環境下
における防食性の低下はない、（ロ） ＳｉＯ2 皮膜
は、高分子皮膜に比べてＯ2 やＨ2 Ｏに対するバリヤー
性が高く、またＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末に対する密着
性もよく、従って、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末に対する
保護皮膜としては高分子皮膜よりも薄くすることがで
き、このＳｉＯ2 皮膜を形成した磁石粉末を用いて作製
したボンド磁石は高分子皮膜を形成した磁石粉末を用い
て作製したボンド磁石に比べて磁石粉末の体積分率を向
上させることができるので、ボンド磁石の磁気特性を向
上させることができる、などの研究結果が得られたので
ある。
は、かかる課題を解決するべく研究を行った結果、
（イ） 二酸化ケイ素（以下、ＳｉＯ2 で示す）皮膜
は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の使用温度範囲内の高
温環境下でも物性に変化がなく、したがって高温環境下
における防食性の低下はない、（ロ） ＳｉＯ2 皮膜
は、高分子皮膜に比べてＯ2 やＨ2 Ｏに対するバリヤー
性が高く、またＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末に対する密着
性もよく、従って、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末に対する
保護皮膜としては高分子皮膜よりも薄くすることがで
き、このＳｉＯ2 皮膜を形成した磁石粉末を用いて作製
したボンド磁石は高分子皮膜を形成した磁石粉末を用い
て作製したボンド磁石に比べて磁石粉末の体積分率を向
上させることができるので、ボンド磁石の磁気特性を向
上させることができる、などの研究結果が得られたので
ある。
【０００７】この発明は、かかる研究結果に基づいてな
されたものであって、（１） Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉
末の表面にＳｉＯ2 保護皮膜が形成されている耐食性に
優れたボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末、およ
び、（２） 上記（１）の磁石粉末を樹脂バインダーで
結合したボンド磁石、に特徴を有するものである。
されたものであって、（１） Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉
末の表面にＳｉＯ2 保護皮膜が形成されている耐食性に
優れたボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末、およ
び、（２） 上記（１）の磁石粉末を樹脂バインダーで
結合したボンド磁石、に特徴を有するものである。
【０００８】上記Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末の表面に形
成されるＳｉＯ2 保護皮膜は、連続した緻密な膜である
ために、平均膜厚は０．１〜２μｍの範囲内にあれば十
分である。
成されるＳｉＯ2 保護皮膜は、連続した緻密な膜である
ために、平均膜厚は０．１〜２μｍの範囲内にあれば十
分である。
【０００９】したがって、この発明は、（３） Ｎｄ−
Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末の表面に、平均膜厚：０．１〜２μ
ｍのＳｉＯ2 保護皮膜が形成されている耐食性に優れた
ボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末にも特徴を有す
るものである。
Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末の表面に、平均膜厚：０．１〜２μ
ｍのＳｉＯ2 保護皮膜が形成されている耐食性に優れた
ボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末にも特徴を有す
るものである。
【００１０】この発明の耐食性に優れたボンド磁石用Ｎ
ｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末のＳｉＯ2保護皮膜は、下記の
方法で形成する。
ｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末のＳｉＯ2保護皮膜は、下記の
方法で形成する。
【００１１】（Ｉ） エチルシリケートを用いたゾル・
ゲル反応によるＳｉＯ2 保護皮膜の形成方法。
ゲル反応によるＳｉＯ2 保護皮膜の形成方法。
【００１２】先ず、Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 （テトラエチ
ルオルトシリケート）のアルコール溶液に加水分解反応
の触媒として少量の酸を添加したのち、撹拌し放置する
と化１に示される加水分解が起きる。
ルオルトシリケート）のアルコール溶液に加水分解反応
の触媒として少量の酸を添加したのち、撹拌し放置する
と化１に示される加水分解が起きる。
【００１３】
【化１】
【００１４】この加水分解が起きた溶液をさらにアルコ
ールで希釈する。この希釈された溶液濃度はＳｉＯ2 換
算で０．１〜５wt％となるように希釈することが好まし
い。その理由は、溶液中のＳｉＯ2 換算濃度が０．１wt
％未満では連続した皮膜の形成が困難であり、またＳｉ
Ｏ2 換算濃度が５wt％を越えると皮膜の厚さが２μｍよ
りも厚くなり、磁性体の体積分率が下がり、ボンド磁石
の磁気特性が落ちるとともに、それ以降の工程の加熱処
理時に皮膜に割れが入り、かえって耐食性改善効果が減
少するからである。
ールで希釈する。この希釈された溶液濃度はＳｉＯ2 換
算で０．１〜５wt％となるように希釈することが好まし
い。その理由は、溶液中のＳｉＯ2 換算濃度が０．１wt
％未満では連続した皮膜の形成が困難であり、またＳｉ
Ｏ2 換算濃度が５wt％を越えると皮膜の厚さが２μｍよ
りも厚くなり、磁性体の体積分率が下がり、ボンド磁石
の磁気特性が落ちるとともに、それ以降の工程の加熱処
理時に皮膜に割れが入り、かえって耐食性改善効果が減
少するからである。
【００１５】このようにして作成した溶液に、Ｎｄ−Ｆ
ｅ−Ｂ系磁石粉末を浸漬し、ろ別後室温で撹拌しながら
乾燥すると、磁石粉末の表面にＳｉ（ＯＨ）4 モノマー
の皮膜が一様に形成され、このＳｉ（ＯＨ）4 モノマー
皮膜が形成された磁石粉末を加熱するとＳｉ（ＯＨ）4
モノマーが縮合反応し、磁石粉末の表面に緻密で連続し
たＳｉＯ2 皮膜が形成される。
ｅ−Ｂ系磁石粉末を浸漬し、ろ別後室温で撹拌しながら
乾燥すると、磁石粉末の表面にＳｉ（ＯＨ）4 モノマー
の皮膜が一様に形成され、このＳｉ（ＯＨ）4 モノマー
皮膜が形成された磁石粉末を加熱するとＳｉ（ＯＨ）4
モノマーが縮合反応し、磁石粉末の表面に緻密で連続し
たＳｉＯ2 皮膜が形成される。
【００１６】上記Ｓｉ（ＯＨ）4 モノマーに縮合反応を
起こさせる加熱雰囲気は、真空またはＡｒ，Ｎ2 などの
不活性ガス雰囲気が好ましく、その加熱温度は８０〜５
００℃が好ましい。縮合反応を促進するためには８０℃
以上の温度が必要であり、また磁石粉末の金属組織変化
が起こらないためには５００℃以下であることが望まし
い。
起こさせる加熱雰囲気は、真空またはＡｒ，Ｎ2 などの
不活性ガス雰囲気が好ましく、その加熱温度は８０〜５
００℃が好ましい。縮合反応を促進するためには８０℃
以上の温度が必要であり、また磁石粉末の金属組織変化
が起こらないためには５００℃以下であることが望まし
い。
【００１７】（ＩＩ） プラズマ化学蒸着法によるＳｉ
Ｏ2 皮膜の形成方法。
Ｏ2 皮膜の形成方法。
【００１８】真空容器内に原料ガスとして水素化シリコ
ンガス、アルキルシラン、アルコキシシラン鎖状ポリシ
ロキサン、環状ポリシロキサンなどのＳｉ源のガスと、
Ｏ2，Ｎ2 Ｏなどの酸素源のガスを導入し、真空ポンプ
により容器内の圧力を一定に保持しながら、電極に高周
波電力を加えて放電を起こさせてプラズマを発生させ、
その化学反応により磁石粉末表面にＳｉＯ2 皮膜を形成
する。磁石粉末表面に均一にＳｉＯ2 皮膜を形成させる
ためには、蒸着中は磁石粉末を常に転動または流動させ
る必要があり、そのための各種装置を使用する。この方
法により磁石粉末表面に形成されるＳｉＯ2 皮膜の平均
膜厚も０．１〜２μｍの範囲内にあることが好ましい。
ンガス、アルキルシラン、アルコキシシラン鎖状ポリシ
ロキサン、環状ポリシロキサンなどのＳｉ源のガスと、
Ｏ2，Ｎ2 Ｏなどの酸素源のガスを導入し、真空ポンプ
により容器内の圧力を一定に保持しながら、電極に高周
波電力を加えて放電を起こさせてプラズマを発生させ、
その化学反応により磁石粉末表面にＳｉＯ2 皮膜を形成
する。磁石粉末表面に均一にＳｉＯ2 皮膜を形成させる
ためには、蒸着中は磁石粉末を常に転動または流動させ
る必要があり、そのための各種装置を使用する。この方
法により磁石粉末表面に形成されるＳｉＯ2 皮膜の平均
膜厚も０．１〜２μｍの範囲内にあることが好ましい。
【００１９】したがって、この発明は、（４） エチル
シリケートを用いたゾル・ゲル反応により、またはプラ
ズマ化学蒸着法により、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末表面
に二酸化ケイ素の保護皮膜を形成する耐食性に優れたボ
ンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末の製造方法に特徴
を有するものである。
シリケートを用いたゾル・ゲル反応により、またはプラ
ズマ化学蒸着法により、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末表面
に二酸化ケイ素の保護皮膜を形成する耐食性に優れたボ
ンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末の製造方法に特徴
を有するものである。
【００２０】この発明のＳｉＯ2 皮膜を形成するための
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末は、粉砕磁石粉末、液体急冷
法による等方性磁石粉末、水素処理による異方性磁石粉
末のいずれの粉末でもよいが、特に耐食性が劣る粉砕磁
石粉末または水素処理磁石粉末に適用すると効果があ
る。
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末は、粉砕磁石粉末、液体急冷
法による等方性磁石粉末、水素処理による異方性磁石粉
末のいずれの粉末でもよいが、特に耐食性が劣る粉砕磁
石粉末または水素処理磁石粉末に適用すると効果があ
る。
【００２１】上記（Ｉ）および（ＩＩ）の方法で得られ
たこの発明のＳｉＯ2 皮膜を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁
石粉末をナイロン、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
フェニレンサルファイドなどの熱可塑性樹脂と混合し、
この混合物を射出成形または押出成形してボンド磁石を
作製することができる。
たこの発明のＳｉＯ2 皮膜を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁
石粉末をナイロン、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
フェニレンサルファイドなどの熱可塑性樹脂と混合し、
この混合物を射出成形または押出成形してボンド磁石を
作製することができる。
【００２２】また、この発明のＳｉＯ2 皮膜を有するＮ
ｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末はニトリルブチルゴムなどの合
成ゴムと混合し、これをロール法により成形して可撓性
ゴム磁石を作製することができる。
ｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末はニトリルブチルゴムなどの合
成ゴムと混合し、これをロール法により成形して可撓性
ゴム磁石を作製することができる。
【００２３】さらに、この発明のＳｉＯ2 皮膜を有する
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末をエポキシ、ビスマレイミド
トリアジンなどの熱硬化性樹脂と混合し、これを圧縮成
形してボンド磁石を作製することもできる。
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末をエポキシ、ビスマレイミド
トリアジンなどの熱硬化性樹脂と混合し、これを圧縮成
形してボンド磁石を作製することもできる。
【００２４】
【実施例】プラズマアーク溶解してＮｄ：１２．６at
％、Ｃｏ：１１．６at％、Ｂ：６．０at％、Ｇａ：１．
０at％、Ｆｅ：残部からなる組成のインゴットを作製
し、このインゴットにＡｒ雰囲気中、温度：１１２０
℃、２０時間保持したのちＡｒガスで急冷の均質化焼鈍
を施し、この均質化焼鈍したインゴットをジョークラッ
シャにより１０mm角以下に粗粉砕し、この粗粉砕したも
のを真空炉に装入し、真空炉内の雰囲気を１気圧のＨ2
フロー雰囲気とし、真空炉内の温度を８３０℃まで昇温
し、同温度で３時間保持したのち真空排気を行い、１×
１０-2Torrの真空度となるまで脱水素を行なったのち直
ちにＡｒガスにより急冷し、ブラウンミルにより粉砕
し、平均粒度：約１００μｍのＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉
末を作製した。
％、Ｃｏ：１１．６at％、Ｂ：６．０at％、Ｇａ：１．
０at％、Ｆｅ：残部からなる組成のインゴットを作製
し、このインゴットにＡｒ雰囲気中、温度：１１２０
℃、２０時間保持したのちＡｒガスで急冷の均質化焼鈍
を施し、この均質化焼鈍したインゴットをジョークラッ
シャにより１０mm角以下に粗粉砕し、この粗粉砕したも
のを真空炉に装入し、真空炉内の雰囲気を１気圧のＨ2
フロー雰囲気とし、真空炉内の温度を８３０℃まで昇温
し、同温度で３時間保持したのち真空排気を行い、１×
１０-2Torrの真空度となるまで脱水素を行なったのち直
ちにＡｒガスにより急冷し、ブラウンミルにより粉砕
し、平均粒度：約１００μｍのＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉
末を作製した。
【００２５】実施例１ テトラエチルオルトシリケート（以下、ＴＥＯＳと記
す）をイソプロピルアルコールで溶解し、４０．９wt％
ＴＥＯＳアルコール溶液を作製し、この４０．９wt％Ｔ
ＥＯＳアルコール溶液に対して、触媒として０．３wt％
硝酸水溶液を７．１wt％添加し撹拌したのち２４時間放
置した。
す）をイソプロピルアルコールで溶解し、４０．９wt％
ＴＥＯＳアルコール溶液を作製し、この４０．９wt％Ｔ
ＥＯＳアルコール溶液に対して、触媒として０．３wt％
硝酸水溶液を７．１wt％添加し撹拌したのち２４時間放
置した。
【００２６】このようにして得られた溶液をイソプロピ
ルアルコールで２１倍に希釈し、ＳｉＯ2 換算で０．５
wt％の表面処理溶液を作製した。
ルアルコールで２１倍に希釈し、ＳｉＯ2 換算で０．５
wt％の表面処理溶液を作製した。
【００２７】上記平均粒度：約１００μｍのＮｄ−Ｆｅ
−Ｂ系磁石粉末を上記表面処理溶液に浸漬し、ろ別した
のち室温で撹拌しながら乾燥し、上記Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系
磁石粉末表面にＳｉ（ＯＨ）4 皮膜を形成し、ついで２
×１０-5Torrの真空雰囲気中、温度：２５０℃で１時間
加熱し、ＳｉＯ2 平均膜厚：１μｍの本発明磁石粉末１
を作製した。
−Ｂ系磁石粉末を上記表面処理溶液に浸漬し、ろ別した
のち室温で撹拌しながら乾燥し、上記Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系
磁石粉末表面にＳｉ（ＯＨ）4 皮膜を形成し、ついで２
×１０-5Torrの真空雰囲気中、温度：２５０℃で１時間
加熱し、ＳｉＯ2 平均膜厚：１μｍの本発明磁石粉末１
を作製した。
【００２８】この本発明磁石粉末１に対して２．５wt％
のビスマレイミドトリアジン樹脂を添加し混合したの
ち、配向磁界１５ＫＯｅを圧縮方向と平行に印加しなが
ら圧力：６ton ／cm2 で常温圧縮成形して直径：１０m
m、高さ：７mmの成形体を作製し、この成形体をＡｒ気
流中、温度：１５０℃、３０分保持の条件で樹脂硬化さ
せ、本発明ボンド磁石１を作製した。
のビスマレイミドトリアジン樹脂を添加し混合したの
ち、配向磁界１５ＫＯｅを圧縮方向と平行に印加しなが
ら圧力：６ton ／cm2 で常温圧縮成形して直径：１０m
m、高さ：７mmの成形体を作製し、この成形体をＡｒ気
流中、温度：１５０℃、３０分保持の条件で樹脂硬化さ
せ、本発明ボンド磁石１を作製した。
【００２９】実施例２ 上記Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末を真空容器内に設置され
た回転羽根方式の撹拌機により転動しながら、真空容器
内にヘキサメチルジシロキサンガスとＮ2 Ｏガスを同時
に各々５０cc／min の流量で導入し、２４．５ＭＨｚの
高周波プラズマにより投入電力：３００Ｗで放電を行
い、３０分間蒸着を行ない、ＳｉＯ2 皮膜の平均厚さが
１μｍの本発明磁石粉末２を作製した。
た回転羽根方式の撹拌機により転動しながら、真空容器
内にヘキサメチルジシロキサンガスとＮ2 Ｏガスを同時
に各々５０cc／min の流量で導入し、２４．５ＭＨｚの
高周波プラズマにより投入電力：３００Ｗで放電を行
い、３０分間蒸着を行ない、ＳｉＯ2 皮膜の平均厚さが
１μｍの本発明磁石粉末２を作製した。
【００３０】この本発明磁石粉末２を用い、実施例１と
同様にして本発明ボンド磁石２を作製した。
同様にして本発明ボンド磁石２を作製した。
【００３１】従来例１〜３ ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンをそれぞ
れキシレンに溶解させて樹脂濃度を調整し、溶液の粘度
を５００センチポイズに調整した。これら各種溶液に上
記Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末を浸漬した後、ろ別して緩
やかに撹拌しながらブロワーで乾燥し、平均膜厚：１５
μｍのポリエチレン皮膜を形成した従来磁石粉末１、平
均膜厚：１５μｍのポリプロピレン皮膜を形成した従来
磁石粉末２および平均膜厚：１５μｍのポリスチレン皮
膜を形成した従来磁石粉末３をそれぞれ作製した。さら
にこれら従来磁石粉末１，２および３を用い、実施例１
と同様にして、それぞれ従来ボンド磁石１，２および３
を作製した。
れキシレンに溶解させて樹脂濃度を調整し、溶液の粘度
を５００センチポイズに調整した。これら各種溶液に上
記Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末を浸漬した後、ろ別して緩
やかに撹拌しながらブロワーで乾燥し、平均膜厚：１５
μｍのポリエチレン皮膜を形成した従来磁石粉末１、平
均膜厚：１５μｍのポリプロピレン皮膜を形成した従来
磁石粉末２および平均膜厚：１５μｍのポリスチレン皮
膜を形成した従来磁石粉末３をそれぞれ作製した。さら
にこれら従来磁石粉末１，２および３を用い、実施例１
と同様にして、それぞれ従来ボンド磁石１，２および３
を作製した。
【００３２】上記実施例１〜２および従来例１〜３で得
られた本発明磁石粉末１〜２および従来磁石粉末１〜３
をそれぞれ１０ｇ秤量し、この本発明磁石粉末１〜２お
よび従来磁石粉末１〜３を大気中、温度：６５℃、温
度：９５％の多湿高温雰囲気に５００時間保持し、再び
重量を測定し、その差を酸化量として求め、表１に示し
た。
られた本発明磁石粉末１〜２および従来磁石粉末１〜３
をそれぞれ１０ｇ秤量し、この本発明磁石粉末１〜２お
よび従来磁石粉末１〜３を大気中、温度：６５℃、温
度：９５％の多湿高温雰囲気に５００時間保持し、再び
重量を測定し、その差を酸化量として求め、表１に示し
た。
【００３３】
【表１】
【００３４】表１に示される結果から、平均膜厚１μｍ
のＳｉＯ2 皮膜を形成した本発明磁石粉末１〜２は、平
均膜厚：１５μｍのポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン皮膜をそれぞれ形成した従来磁石粉末１〜３
に比べて重量差が少ないところから耐食性に優れている
ことがわかる。
のＳｉＯ2 皮膜を形成した本発明磁石粉末１〜２は、平
均膜厚：１５μｍのポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン皮膜をそれぞれ形成した従来磁石粉末１〜３
に比べて重量差が少ないところから耐食性に優れている
ことがわかる。
【００３５】さらに、本発明ボンド磁石１〜２および従
来ボンド磁石１〜３について５０ＫＯｅのパルス着磁を
施したのち、オープンフラックスを磁束計を用いて引き
抜き法により測定し、また磁気特性をＢＨカーブトレー
サを用いて最大印加磁界２０ＫＯｅで測定し、その結果
を表２に示した。
来ボンド磁石１〜３について５０ＫＯｅのパルス着磁を
施したのち、オープンフラックスを磁束計を用いて引き
抜き法により測定し、また磁気特性をＢＨカーブトレー
サを用いて最大印加磁界２０ＫＯｅで測定し、その結果
を表２に示した。
【００３６】これら測定が終ったのち再び５０ＫＯｅの
パルス着磁を施したこれらボンド磁石を８０℃、９５％
ＲＨに保った恒温恒湿槽に装入し、５００時間保持した
のち取り出して外観の発錆状態を観察し、さらにオープ
ンフラックスを測定し、恒温恒湿槽装入前後の減少率を
求めてその結果を表２に示し、耐食性の評価を行った。
さらに本発明ボンド磁石１〜２および従来ボンド磁石１
〜３について、１３０℃に保持された恒温槽に装入し、
５００時間保持したのち取り出して恒温槽装入前後のオ
ープンフラックスを測定し、その減少率を求めてその結
果を表２に示し、耐熱性の評価を行った。
パルス着磁を施したこれらボンド磁石を８０℃、９５％
ＲＨに保った恒温恒湿槽に装入し、５００時間保持した
のち取り出して外観の発錆状態を観察し、さらにオープ
ンフラックスを測定し、恒温恒湿槽装入前後の減少率を
求めてその結果を表２に示し、耐食性の評価を行った。
さらに本発明ボンド磁石１〜２および従来ボンド磁石１
〜３について、１３０℃に保持された恒温槽に装入し、
５００時間保持したのち取り出して恒温槽装入前後のオ
ープンフラックスを測定し、その減少率を求めてその結
果を表２に示し、耐熱性の評価を行った。
【００３７】
【表２】
【００３８】表２に示される結果から、本発明磁石粉末
１〜２で作製された本発明ボンド磁石１〜２はいずれも
従来磁石粉末１〜３で作製された従来ボンド磁石１〜３
に比べて耐食耐熱性に優れていることがわかる。
１〜２で作製された本発明ボンド磁石１〜２はいずれも
従来磁石粉末１〜３で作製された従来ボンド磁石１〜３
に比べて耐食耐熱性に優れていることがわかる。
【００３９】
【発明の効果】上述のように、この発明の製造方法で作
製したＳｉＯ2 皮膜を有するこの発明のボンド磁石用Ｎ
ｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末は、従来の高分子皮膜を有する
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末よりも磁気特性および耐食耐
熱性に優れたボンド磁石を製造することができ、電気電
子産業の発展に大いに貢献しうるものである。
製したＳｉＯ2 皮膜を有するこの発明のボンド磁石用Ｎ
ｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末は、従来の高分子皮膜を有する
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末よりも磁気特性および耐食耐
熱性に優れたボンド磁石を製造することができ、電気電
子産業の発展に大いに貢献しうるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｆ 1/053 1/08 Ｈ０１Ｆ 1/08 Ａ
Claims (4)
- 【請求項１】 Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末の表面に二酸
化ケイ素の保護皮膜が形成されていることを特徴とする
耐食性に優れたボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉
末。 - 【請求項２】 請求項１記載の磁石粉末を樹脂バインダ
ーで結合したことを特徴とするボンド磁石。 - 【請求項３】 エチルシリケートを用いたゾル・ゲル反
応によりＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末表面に二酸化ケイ素
の保護皮膜を形成することを特徴とする耐食性に優れた
ボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末の製造方法。 - 【請求項４】 プラズマ化学蒸着法によりＮｄ−Ｆｅ−
Ｂ系磁石粉末表面に二酸化ケイ素の保護皮膜を形成する
ことを特徴とする耐食性に優れたボンド磁石用Ｎｄ−Ｆ
ｅ−Ｂ系磁石粉末の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6270460A JPH08111306A (ja) | 1994-10-07 | 1994-10-07 | 耐食性に優れたボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末、ボンド磁石および磁石粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6270460A JPH08111306A (ja) | 1994-10-07 | 1994-10-07 | 耐食性に優れたボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末、ボンド磁石および磁石粉末の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08111306A true JPH08111306A (ja) | 1996-04-30 |
Family
ID=17486608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6270460A Withdrawn JPH08111306A (ja) | 1994-10-07 | 1994-10-07 | 耐食性に優れたボンド磁石用Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉末、ボンド磁石および磁石粉末の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08111306A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002367820A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Japan Science & Technology Corp | 磁石廃材を再利用した希土類ボンド磁石 |
| WO2003088279A1 (en) * | 2002-04-09 | 2003-10-23 | The Electrodyne Company, Inc. | Bonded permanent magnets |
| WO2010090229A1 (ja) | 2009-02-03 | 2010-08-12 | 戸田工業株式会社 | 表面処理された希土類系磁性粉末、該希土類系磁性粉末を含有するボンド磁石用樹脂組成物並びにボンド磁石 |
| JP2011216659A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Nitto Denko Corp | Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石 |
| EP2497094A1 (de) * | 2009-11-05 | 2012-09-12 | Robert Bosch GmbH | Verfahren zur herstellung eines magnets sowie magnet und elektrische maschine |
| DE102013213494A1 (de) * | 2013-07-10 | 2015-01-29 | Volkswagen Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung eines Permanentmagneten sowie Permanentmagnet und elektrische Maschine mit einem solchen |
| CN104919546A (zh) * | 2012-11-14 | 2015-09-16 | 大众汽车有限公司 | 用于生产永磁体的方法和永磁体 |
| JP2020050904A (ja) * | 2018-09-26 | 2020-04-02 | 日亜化学工業株式会社 | 磁性粉末およびその製造方法 |
| JP2020056101A (ja) * | 2018-09-26 | 2020-04-09 | 日亜化学工業株式会社 | 希土類磁性粉末の製造方法 |
| CN112002512A (zh) * | 2020-10-29 | 2020-11-27 | 宁波合力磁材技术有限公司 | 一种防腐蚀的烧结钕铁硼磁材及其制备工艺 |
| JP2021055133A (ja) * | 2019-09-27 | 2021-04-08 | 日亜化学工業株式会社 | 磁性粉末の製造方法 |
-
1994
- 1994-10-07 JP JP6270460A patent/JPH08111306A/ja not_active Withdrawn
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| DE102013213494A1 (de) * | 2013-07-10 | 2015-01-29 | Volkswagen Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung eines Permanentmagneten sowie Permanentmagnet und elektrische Maschine mit einem solchen |
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| US11710586B2 (en) | 2018-09-26 | 2023-07-25 | Nichia Corporation | Magnetic powder |
| JP2021055133A (ja) * | 2019-09-27 | 2021-04-08 | 日亜化学工業株式会社 | 磁性粉末の製造方法 |
| US11594352B2 (en) | 2019-09-27 | 2023-02-28 | Nichia Corporation | Method of producing magnetic powder |
| CN112002512A (zh) * | 2020-10-29 | 2020-11-27 | 宁波合力磁材技术有限公司 | 一种防腐蚀的烧结钕铁硼磁材及其制备工艺 |
| CN112002512B (zh) * | 2020-10-29 | 2021-03-02 | 宁波合力磁材技术有限公司 | 一种防腐蚀的烧结钕铁硼磁材及其制备工艺 |
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|---|---|---|---|
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