JPH08112862A - 光造形装置 - Google Patents
光造形装置Info
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- JPH08112862A JPH08112862A JP6251071A JP25107194A JPH08112862A JP H08112862 A JPH08112862 A JP H08112862A JP 6251071 A JP6251071 A JP 6251071A JP 25107194 A JP25107194 A JP 25107194A JP H08112862 A JPH08112862 A JP H08112862A
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Abstract
ことなく、かつ、液晶シャッタの昇温によるコントラス
ト低下やシャッタ性能の劣化を抑制し、光源照度分布を
均一化する。 【構成】 液状の光硬化性樹脂2の上方であって巾方向
に走行自在に配置した線状光源11からの光線を、液晶
シャッタ及び等倍結像素子15を経て、前記光硬化性樹
脂2の液面に照射して目的立体モデルの断面パターンに
対応する薄膜の硬化樹脂層2aを形成し、この樹脂層を
順次積層して立体モデルを形成する光造形装置におい
て、線状光源11と液晶シャッタ5との間に、該液晶シ
ャッタ5に入射する光を遮光によって選択的に規制する
遮光板組立体13を装着したことを特徴とするものであ
る。
Description
光を照射し、所望の形状を持つ立体モデルを形成する光
造形装置に関する。
脂の表面にスポット状のレーザ光を平面的に走査させて
目的造形物の断面パターンを描く露光を行って、レーザ
光が当たった部分に位置する光硬化性樹脂のみを硬化さ
せて薄膜の硬化樹脂層を形成し、この硬化樹脂層を連続
的に幾層にも積層することで、立体モデルを形成するよ
うにしたものが一般に知られている。
露光方式を採用した光造形装置の場合、レーザ光での走
査は、一筆書きによる長い線を描くのと同様の工程とな
るため、造形に長時間が必要であった。
用いた光造形装置、即ち、平行光の光源と光硬化性樹脂
との間に液晶シャッタを配置し、この液晶シャッタ上に
表示した立体モデル(目的造形物)の断面パターンをマ
スクパターン(露光マスクパターン)として使用して、
このマスクパターンを介した平行光による一括露光で高
速に光硬化性樹脂を硬化させるようにしたものが広く知
られている(例えば、特開昭62−288844号公
報、特開平3−227222号公報、実開平2−317
26号公報等参照)。
来例の場合、一括露光を行うためには、液晶シャッタの
サイズと少なくとも同じだけの面積を照射する照射強度
の均一な平行光が必要となり、液晶シャッタのサイズが
大きいほど、高圧水銀ランプ等の光源から均一な平行光
を得るために、大型のレンズや反射板等を使用し、しか
も長い光路長が必要となって、光源、ひいては装置全体
が大型化してしまうといった問題があった。
長を必要としない造形方法として、平行光による一括露
光を用いる代わりに、ロングアークの水銀ランプ等を使
用した線状光源と液晶シャッタ等を組み合わせ、線状光
源を移動させることにより、液晶シャッタのマスクパタ
ーンを介した線露光で光硬化性樹脂を硬化させるように
したものが一般に知られている(特開平4−28422
7号公報、特開平4−305438号公報、特願平6−
88337号、特願平6−120257号) 。
源を用いた従来例の場合、光源からミラー等で反射集光
され液晶シャッタ面に入射する線状光は、平行光でなく
シャッタ面に対して様々な角度成分を有するが、実際に
液晶シャッタのマスクパターンに忠実な光硬化性樹脂の
硬化層形成に利用できる光は、液晶シャッタの視野角依
存性の為に、液晶シャッタ面から垂直に近い角度で出射
する平行光に近い光成分のみで、この光を等倍結像素子
等の光学系で選択的に利用する。この結果、液晶シャッ
タ面に入射する光の大半は非利用光となり、この非利用
光が液晶シャッタの急激な昇温を招き、コントラストを
著しく低下させるばかりか、液晶シャッタを劣化させ、
寿命を短くするという問題があった。
は光源種類やロットの違いによっても光源長さ方向の発
光強度に分布があり、且つその分布がばらつくため、そ
の結果、光硬化性樹脂を硬化する際、硬化樹脂の膜厚が
不均一となり、造形精度の低下を招くという問題があっ
た。
もので、液晶シャッタの昇温によるコントラスト低下や
シャッタ性能の劣化を抑制し、光源照度分布を均一化し
得る光造形装置を提供することを目的とする。
め、本発明は、液状の光硬化性樹脂の上方であって巾方
向に走行自在に配置した線状光源からの光線を、光透過
部と遮光部とからなる液晶シャッタ及び該液晶シャッタ
の透過光を光硬化性樹脂面に結像する等倍結像素子を経
て、前記光硬化性樹脂の液面に照射して、目的立体モデ
ルの断面パターンに対応する薄膜の硬化樹脂層を形成
し、この樹脂層を順次積層して立体モデルを形成するよ
うにした光造形装置において、線状光源と液晶シャッタ
との間に、該液晶シャッタに入射する光を遮光によって
選択的に規制する遮光板組立体を装着したことを特徴と
するものである。
ッタに向かうが、この際、遮光板組立体の調節により、
等倍結像素子の開口角よりも大きい角度をもって液晶シ
ャッタに入射する光、すなわち、光硬化性樹脂の硬化に
利用されない光を遮光することができ、これにより、液
晶シャッタの昇温が防止される。また、遮光板組立体の
調節により光源の長さ方向の光量を均一化することがで
き、この結果、光源の照度分布が均一化される。
する。図1において、付番1は、上方に開口した矩形ボ
ックス状の容器(樹脂槽)で、この容器1の内部には、
光が当たると液体から固体に硬化する液状の光硬化性樹
脂2が満たされている。この光硬化性樹脂2は、光エネ
ルギーによって重合反応を起こして、液体が固体に変化
するという特性を持った樹脂で、例えば光重合性ポリマ
ー、光開始剤、特性改善のための添加剤等を含むことが
できる。
位置して上下に昇降する平板状のエレベータ3を備えた
位置制御可能なエレベータ昇降機構4が配置され、この
エレベータ3の上に光硬化樹脂2が硬化することによっ
て得られる硬化樹脂層2aが順次積層されるようになっ
ている。
拡がって前記容器1内に収容された光硬化性樹脂2の液
面のほぼ全域を覆う液晶シャッタ5を、その一端におい
て水平に保持する液晶シャッタ保持機構6が立設されて
いる。
断面パターンを透過部と遮断部で表示できるものであれ
ば良く、例えば、STN型液晶パネル、TN型液晶パネ
ル、ポリマー分散型液晶パネル等を使用することができ
る。
には、図2に示すように、レール7上をエアー圧やステ
ッピングモータ等の駆動装置によって走行する支柱8を
備えた位置制御可能な一対の直線移動機構9が平行かつ
水平に配置され、この支柱8の上端に、容器1を跨がっ
て直線状に延びる光源ユニット10の端部が連結されて
いる。そして、前記光源ユニット10の内部には、前記
液晶シャッタ5が挿通する矩形枠状の窓部10aが形成
されている。
の上方に位置し、液晶シャッタ5を挟んだ状態で、直線
移動機構9の駆動に伴う支柱8の互いに同期した移動に
伴って、その幅方向に水平に走行し、しかもこの走行が
液晶シャッタ5によって阻害されないようになってい
る。
て、位置及び速度の制御が比較的容易なエアー圧やステ
ッピングモータ等を使用した例を示しているが、油圧シ
リンダ等、任意のものを使用しても良いことは勿論であ
る。
ャッタ5の上方位置には、この長さ方向に沿ってこのほ
ぼ全長に亘って直線状に延びる線状光源11が前記光硬
化性樹脂2の液面と水平に配置されて収容されている。
プトンロングアークランプ、キセノンロングアークラン
プ、メタルハライドロングアークランプ、水銀ロングア
ークランプ等を使用することができる。
ようにこの線状光源11から出た光を反射して、この反
射光を前記液晶シャッタ5上に集光させる円弧状の反射
ミラー12が、この反射ミラー12の下方で前記液晶シ
ャッタ5の上方位置には、前記線状光源11からの光の
内、等倍結像素子16を通過できない入射角を有する光
成分を遮断し、光量を調節する遮光板組立体13と光硬
化性樹脂の硬化反応に寄与しない波長域の熱エネルギー
や光エネルギーを遮光し、液晶へのダメージを防止する
ための熱線吸収フィルタ14と光の透過と遮光を切り替
えるためのメカニカルシャッタ15とが上下に平行に順
に配置されて前記光源ユニット10内に収容されてい
る。
薄板13aから構成され、等倍結像素子の開口角より大
きな角度成分光を遮光するもので、図4(a)、(b)
に示すように、高さlの長方形の薄板を垂直に立て、該
薄板のそれぞれの面が平行になるように間隔dを置い
て、線状光源の長さ方向にスリット状に、或いは線状光
源の長さ方向と幅方向に格子状に配列され、前記薄板の
高さlと間隔dを調節して、入射角tan-1(d/l)
以上の光線成分を遮光する。
さ方向の光量を均一化する機能をも果たし、高さlの長
方形の薄板を垂直に立て、該薄板のそれぞれの面が平行
になるように間隔dを置いて、線状光源の長さ方向にス
リット状に、或いは線状光源の長さ方向と幅方向に格子
状に配列され、線状光源の長さ方向に並んだ前記薄板の
間隔dを部分的に変えることにより、遮光板を透過する
光量を部分的に調節することができる。
より行うが、高さlを単独で変えることにより行うこと
も可能であり、あるいは間隔dと高さlとの双方を変え
ることにより行うことも可能である。
ト状又は格子状に限らず、ハニカム状であってもよい。
すなわち、本発明においては、遮光板組立体は、液晶シ
ャッタへの入射光を遮光によって選択的に規制するので
あるが、これはより具体的には以下の実施態様のいずれ
かによって達成される。 (1)線状光源から液晶シャッタへ入射する光線のう
ち、入射角が等倍結像素子の開口角より大きな角度成分
を遮光する。 (2)遮光板組立体の調節により、線状光源の長さ方向
の光量を均一化する。 (3)線状光源から液晶シャッタ面へ入射する光線のう
ち、入射角が等倍結像素子の開口角より大きな角度成分
を遮光し、かつ遮光板組立体の調節により、線状光源の
長さ方向の光量を均一化する。
射の少ない、即ち光を吸収し易く且つ透過光のロスを少
なくするためできるだけ薄板であればよく、例えば、黒
アルマイト処理したアルミ板や黒染めした薄い鉄板等が
使用できる。
タ5の下方位置には、光硬化性樹脂2の上方に位置して
前記液晶シャッタ5の透過光を光硬化性樹脂2の液面に
結像する等倍結像素子16が配置されている。
を透過した透過パターン光を効率良く光硬化性樹脂2の
液面に結像できる幅と長さを有するものであれば良く、
例えば、セルホックレンズを列状に並べたセルホックレ
ンズアレー等を使用することができる。
ニット10の走行方向の前後面、即ち幅方向の両側に
は、光源ユニット10の長さ方向に沿ってそのほぼ全長
に亘って直線状に延びて光硬化性樹脂2の液面を平滑化
する一対の平滑板17が取り付けられている。
きる昇降機構を介して上下動自在に構成され、前記光源
ユニット10の進行方向の前方側に位置する一方の平滑
板17をこの下端が光硬化性樹脂2の液面に接触するま
で下降させることにより、光源ユニット10の走行に伴
って、光硬化性樹脂2の液面の平滑化を行うようになっ
ている。
構4、直線移動機構9の位置と速度、液晶シャッタ5の
表示、メカニカルシャッタ15のオン・オフ、平滑板1
7の昇降等をそれぞれ独立に制御する制御装置としての
コンピュータ18が備えられ、このコンピュータ(制御
装置)18は、目的立体モデルの断面パターン(造形デ
ータ)を格納したデータファイル19に接続されてい
る。
ファイル19から目的立体モデルの断面パターンを呼出
し、この断面パターンを図形として液晶シャッタ5上に
白黒の2階調のマスクパターンで表示させるようになっ
ている。
により、前記エレベータ3の表面に液状の光硬化性樹脂
2が硬化することによって得られる硬化樹脂層2aを順
次積層して、この硬化樹脂層2aからなる立体モデルを
形成するものであるが、これを以下のようにして行う。
て、最上段に位置する硬化樹脂層2a(またはエレベー
タ4の表面)の上に位置する光硬化性樹脂2が所定の深
さΔhになるようにする。
る目的立体モデルの断面パターン(断面形状データ)を
呼び出して、この断面パターンを図形として白黒の2階
調のマスクパターンで前記液晶シャッタ5に表示させ
る。
き、光源ユニット10を一方の端辺から他方の端辺ま
で、直線移動機構9の駆動によって一定の速度で平行移
動させることにより、光源ユニット10内の線状光源1
1から出射され、遮光板組立体13を介して液晶シャッ
タ5を透過した線状光で光硬化層樹脂2の液面を照射し
て、一層の硬化樹脂層2aを形成する。
2諧調のマスクパターンによって、例えば白色の部分で
光を透過させ、黒色の部分で光を遮断することにより、
液晶シャッタ5に表示されたマスクパターン形状と同様
な形状の硬化樹脂層2aを形成することができる。
ニット10の進行方向の前面側に取り付けられた一方の
平滑板17をこの下端が光硬化性樹脂2の液面に接触す
るよう下降させ、これによって、光源ユニット10の平
行移動に伴って光硬化性樹脂2の液面の平滑化を行い、
この平滑化と同時に硬化樹脂層2aを形成することがで
きる。
により、所定形状の硬化樹脂層2aを順次積層し、所望
の立体像が得られた時に、これを容器1から取り出し、
洗浄し未硬化の光硬化性樹脂を取り除き、しかる後ポス
トキュアを施して立体像を完成させる。
制御し光量を調節する方法について図1を参照して説明
する。線状光源下に、高さがlの薄板を間隔dをおいて
スリット状に配列すれば、線状光源の長さ方向に発散す
る光に対して、このスリットを通過できる光の角度θは
およそtan-1(d/l)以下に制限でき、また、線光
源の長さ方向の照度分布に合わせて、薄板の間隔dを部
分的に変え光量を調節すれば遮光板通過後の光量を均一
化できる。更に、遮光板を光源の長さ及び幅方向に格子
状に配置し、薄板の高さl及び間隔dを光源の長さと幅
方向でそれぞれ調節すれば、光のロスは大きくなるもの
の、スリットを透過する光全般に亘って、つまり、液晶
シャッタへ入射する光の角度成分と光量をより精密に制
御できる。
来例と比較しつつ説明する。図5は、遮光板組立体の有
無をパラメータとして、光源ユニットを一定のインター
バルで移動させたときの液晶シャッタ中央部で測定した
該シャッタ表面温度の時間変化を示し、図6は遮光板組
立体使用前と使用後における光源長さ方向の照度分布を
示すもので、以下に実施条件を示す。
線状光源11に3.5KWの長さ約300mmのメタル
ハライドロングアークランプおよび等倍結像素子16と
して開口角(透過できる入射光の最大角度)が12°の
セルホックアレーを使用し、この時の遮光板組立体11
を使用例においては、該遮光板組立体は、液晶シャッタ
への入射光の角度成分がおよそ12°以下になるよう高
さ17mm、厚さ0.3mmの黒染め鉄板を7mm間隔
で線状光源の長さ方向にスリット状に配列した。
0を連続的に速度15mm/sで液晶シャッタ両端間を
それぞれの端で約20秒のインターバルをおくようにし
て往復移動させた場合の室温雰囲気での液晶シャッタ中
央付近の表面温度を測定したもので、遮光板組立体のな
い場合、温度は経時的に液晶の等方性温度付近まで上昇
し、且つ光源の通過に伴い局所的に急激な温度上昇の為
に液晶シャッタのコントラストが低下するばかりか、シ
ャッタとして使用できなくなる一方、遮光板組立体を使
用した場合、温度上昇はほとんど見られず、局所的温度
上昇も穏やかである。遮光板組立体を用いずに造形をす
る場合、よりパワーの小さい光源を使用しなければなら
ず、造形に長時間を要していたが、簡便な遮光板を使用
するだけで、よりパワーの大きな光源の使用が可能にな
り造形時間短縮ができる。
ズを透過し光硬化性樹脂2の位置に届く光の照度分布を
光源の長さ方向で測定したもので、遮光板がある場合の
照度分布は、遮光板のない場合の照度分布に応じて、遮
光板の初期の間隔7mmから場所により間隔を変え、光
量を調節することによって照度の均一化を実現したもの
で、全体的に照度は低下するもののこの実施例では約1
5%あった照度のばらつきを2%程度に抑えられた。
源と液晶シャッタの間に、簡便な、遮光板を用いた遮光
板組立体を配置することにより、光硬化性樹脂の硬化に
利用されない角度成分を有する光成分を遮光することに
よって、液晶シャッタの昇温によるコントラスト低下や
シャッタ性能の劣化を抑制し得るとともにより高出力光
源の使用が可能になるため、造形時間の短縮が実現でき
る。また、遮光板組立体を調節することにより、光源照
度分布を均一化し、目的立体モデルを精度よく造形する
ことができる。
図。
方法を示すもので、図3の側面からみた説明図。図4
(b)は、図3の正面からみた説明図。
す測定結果図。
効果を示す測定結果図。
Claims (1)
- 【請求項1】 液状の光硬化性樹脂の上方であって巾方
向に走行自在に配置した線状光源からの光線を、光透過
部と遮光部とからなる液晶シャッタ及び該液晶シャッタ
の透過光を光硬化性樹脂面に結像する等倍結像素子を経
て、前記光硬化性樹脂の液面に照射して、目的立体モデ
ルの断面パターンに対応する薄膜の硬化樹脂層を形成
し、この樹脂層を順次積層して立体モデルを形成するよ
うにした光造形装置において、線状光源と液晶シャッタ
との間に、該液晶シャッタに入射する光を遮光によって
選択的に規制する遮光板組立体を装着したことを特徴と
する光造形装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25107194A JP3578176B2 (ja) | 1994-10-17 | 1994-10-17 | 光造形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25107194A JP3578176B2 (ja) | 1994-10-17 | 1994-10-17 | 光造形装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08112862A true JPH08112862A (ja) | 1996-05-07 |
| JP3578176B2 JP3578176B2 (ja) | 2004-10-20 |
Family
ID=17217201
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25107194A Expired - Lifetime JP3578176B2 (ja) | 1994-10-17 | 1994-10-17 | 光造形装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3578176B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1994
- 1994-10-17 JP JP25107194A patent/JP3578176B2/ja not_active Expired - Lifetime
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