JPH0811440A - Reversible thermosensitive recording medium - Google Patents

Reversible thermosensitive recording medium

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Publication number
JPH0811440A
JPH0811440A JP6170018A JP17001894A JPH0811440A JP H0811440 A JPH0811440 A JP H0811440A JP 6170018 A JP6170018 A JP 6170018A JP 17001894 A JP17001894 A JP 17001894A JP H0811440 A JPH0811440 A JP H0811440A
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JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
formula
iminohydantoin
divalent linking
Prior art date
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Pending
Application number
JP6170018A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nariyuki Harada
成之 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0811440A publication Critical patent/JPH0811440A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 サーマルヘッド等の加熱体により画像の形成
−消去を繰り返しても画像の劣化及び透明部の透明度低
下のない可逆性感熱記録媒体を提供する。 【構成】 支持体上に、温度に依存して透明度が可逆的
に変化する感熱記録層を設け、更にその上に下記一般式
(1)で表される繰返し単位を有するシリコン含有イミ
ノヒダントイン系重合体から成る オーバーコート層を
設けたことを特徴とする可逆性感熱記録媒体。 【化1】
(57) [Abstract] [PROBLEMS] To provide a reversible thermosensitive recording medium which is free from deterioration of an image and deterioration of transparency of a transparent portion even when an image is repeatedly formed and erased by a heating body such as a thermal head. [Structure] A heat-sensitive recording layer whose transparency reversibly changes depending on temperature is provided on a support, and a silicon-containing iminohydantoin-based heavy chain having a repeating unit represented by the following general formula (1) is further provided thereon. A reversible thermosensitive recording medium having an overcoat layer formed of a united body. Embedded image

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、温度による感熱媒体の
可逆的な透明度の変化を利用して記録及び消去を行う可
逆性感熱記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reversible thermosensitive recording medium for recording and erasing by utilizing the reversible change in transparency of the thermosensitive medium with temperature.

【0002】[0002]

【従来の技術】可逆的な記録及び消去が可能な記録媒体
として、特開昭54−119377号公報及び同55−
154198号公報などにポリエステルなどの樹脂マト
リックス中に高級アルコールや高級脂肪酸などの低分子
有機化合物を分散した感熱記録層を支持体上に設けたも
のが開示されている。その感熱記録層は、温度により透
明度が変化して記録及び消去が可能となる。しかし、従
来の可逆性感熱記録媒体においては、サーマルヘッドな
どの加熱体により加熱して画像形成する際に、それらの
加熱体の熱及び圧力により表面が変形しやすいために画
像形成と消去を繰り返すうちに変形量が増大して透明で
あるべき部分の透明度が低下するという問題があった。
この問題を解決するために、特開昭63−221087
号公報においてシリコン樹脂、シリコンゴムなどのオー
バーコート層を設けて表面の摩擦係数を小さくする方法
が提案されている。しかしこのオーバーコート層は感熱
記録層との接着性が不十分なため、繰り返しの機械的作
用により剥れ、画像が劣化する問題が発生した。
2. Description of the Related Art As a recording medium capable of reversible recording and erasing, JP-A-54-119377 and 55-
Japanese Patent No. 154198 discloses that a thermosensitive recording layer in which a low molecular organic compound such as higher alcohol or higher fatty acid is dispersed in a resin matrix such as polyester is provided on a support. The transparency of the thermosensitive recording layer changes depending on the temperature, and recording and erasing are possible. However, in conventional reversible thermosensitive recording media, when an image is formed by heating with a heating body such as a thermal head, the surface is easily deformed by the heat and pressure of these heating bodies, and therefore image formation and erasing are repeated. There is a problem that the amount of deformation increases and the transparency of the portion that should be transparent decreases.
In order to solve this problem, JP-A-63-221087
In the publication, there is proposed a method of providing an overcoat layer of silicone resin, silicone rubber or the like to reduce the friction coefficient of the surface. However, since this overcoat layer has insufficient adhesion to the heat-sensitive recording layer, there is a problem that the image is deteriorated due to peeling due to repeated mechanical action.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、サーマルヘ
ッドなどの加熱体により画像形成と消去を繰り返し行っ
ても画像の劣化及び透明部の透明度の低下がない可逆性
感熱記録媒体を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a reversible thermosensitive recording medium which is free from deterioration of the image and deterioration of the transparency of the transparent portion even when the image forming and erasing are repeatedly performed by a heating body such as a thermal head. With the goal.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、シリコンを含
有するイミノヒダントイン系重合体からなるオーバーコ
ート層を感熱記録層上に設けることにより上記目的を達
成できることを見出した。すなわち、本発明によれば、
支持体上に、樹脂マトリックス及び該樹脂マトリックス
中に分散させた低分子有機化合物を主成分とし、透明度
が温度変化に依存して可逆的に変化する感熱記録層を設
けた可逆性感熱記録媒体において、該感熱記録層上にシ
リコンを含有するイミノヒダントイン系重合体から成る
オーバーコート層を設けたことを特徴とする可逆性感熱
記録媒体が提供される。また、本発明によれば、前記シ
リコンを含有するイミノヒダントイン系重合体が、下記
一般式(1)で表される繰り返し単位を有する共重合体
であることを特徴とする前記可逆性感熱記録媒体が提供
される。
The present invention has found that the above object can be achieved by providing an overcoat layer composed of an iminohydantoin-based polymer containing silicon on a heat-sensitive recording layer. That is, according to the present invention,
A reversible thermosensitive recording medium comprising, on a support, a thermosensitive recording layer having a resin matrix and a low-molecular organic compound dispersed in the resin matrix as a main component, and the transparency of which reversibly changes depending on temperature changes. There is provided a reversible thermosensitive recording medium characterized in that an overcoat layer comprising an iminohydantoin-based polymer containing silicon is provided on the thermosensitive recording layer. Further, according to the present invention, the reversible thermosensitive recording medium, wherein the silicon-containing iminohydantoin-based polymer is a copolymer having a repeating unit represented by the following general formula (1). Will be provided.

【化1】 (式中、R1、R2、R3及びR4は、ハロゲン原子または
CN基で置換されても良い炭素数1〜12のアルキル
基、又はフェニル基、あるいは炭素数1〜4のアルキル
基又はアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されたフェ
ニル基を表し、同一であっても異なっていても良い。A
は、式−Ph−D−C(L1)(L2)−C(L3
(L4)−又はPh−D−で表される2価の結合基を表
し、この式においてL1、L2、L3及びL4は、水素原子
あるいは炭素数1〜6のアルキル基を表し、同一であっ
ても異なっていても良く、Dは結合手あるいは−E−
(CH2)m−(ただし、mは1〜6の整数を表す)、
−E−Si(CH32−、−E−Si(CH3)(P
h)−及び−E−Si(Ph)2−から選択された2価
の結合基を表し、該Eは結合手あるいは−O−、−S
−、−O−CH2−、−O−CO−及び−NH−CO−
から選択された2価の結合基を表し、Aに含まれるPh
はヒダントイン環の窒素原子と結合している。Bは、炭
素数2以上の2価の結合基を表す。n、y及びzは、1
以上の整数を表す。) また、本発明によれば、前記シリコンを含有するイミノ
ヒダントイン系重合体が、下記一般式(2)で表わされ
る繰り返し単位を有する共重合体であることを特徴とす
る前記可逆性感熱記録媒体が提供される。
Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom or a CN group, a phenyl group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Or a phenyl group substituted with an alkoxy group or a halogen atom, which may be the same or different.
Has the formula -Ph-D-C (L 1 ) (L 2) -C (L 3)
Represents a divalent linking group represented by (L 4 )-or Ph-D-, and in this formula, L 1 , L 2 , L 3 and L 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. And may be the same or different, D is a bond or -E-
(CH 2 ) m- (where m represents an integer of 1 to 6),
-E-Si (CH 3) 2 -, - E-Si (CH 3) (P
h)-and -E-Si (Ph) 2- representing a divalent bonding group, wherein E is a bond or -O-, -S.
-, - O-CH 2 - , - O-CO- and -NH-CO-
Ph which is a divalent linking group selected from
Is bound to the nitrogen atom of the hydantoin ring. B represents a divalent linking group having 2 or more carbon atoms. n, y and z are 1
Represents the above integers. According to the present invention, the reversible thermosensitive recording medium is characterized in that the silicon-containing iminohydantoin-based polymer is a copolymer having a repeating unit represented by the following general formula (2). Will be provided.

【化2】 (式中、R1、R2、R3、R4……Rx+1、Rx+2及びRx+
3は、ハロゲン原子またはCN基で置換されても良い炭
素数1〜12のアルキル基、又はフェニル基、あるいは
炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキシ基又はハロゲ
ン原子で置換されたフェニル基を表し、同一であっても
異なっていても良い。Aは、式−Ph−D−C(L1
(L2)−C(L3)(L4)−又はPh−D−で表され
る2価の結合基を表し、この式においてL1、L2、L3
及びL4は、水素原子あるいは炭素数1〜6のアルキル
基を表し、同一であっても異なっていても良く、Dは結
合手あるいは−E−(CH2)−(ただし、mは1〜6
の整数を示す)、−E−Si(CH32−、−E−Si
(CH3)(Ph)−及び−E−Si(Ph)2−から選
択された2価の結合基を表し、該Eは結合手あるいは−
O−、−S−、−O−CH2−、−O−CO−及び−N
H−CO−から選択された2価の結合基を表し、Aに含
まれるPhはヒダントイン環の窒素原子と結合してい
る。Bは、炭素数2以上の2価の結合基を表す。n1
2、…np、y及びzは、1以上の整数を表し、xは3
以上の整数を表し、pは2以上の整数を表す。) また、本発明によれば、前記シリコンを含有するイミノ
ヒダントイン系重合体が、下記一般式(3)で表わされ
る繰り返し単位を有するマルチブロック共重合体である
ことを特徴とする前記可逆性感熱記録媒体が提供され
る。
Embedded image (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 ... Rx + 1 , Rx + 2 and Rx +
3 represents a halogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a CN group, a phenyl group, an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group substituted with a halogen atom. , May be the same or different. A has the formula -Ph-D-C (L 1 )
It represents a divalent linking group represented by (L 2 ) -C (L 3 ) (L 4 )-or Ph-D-, and in this formula, L 1 , L 2 , L 3
And L 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and may be the same or different, and D is a bond or —E— (CH 2 ) — (where m is 1 to 1). 6
An integer of), - E-Si (CH 3) 2 -, - E-Si
Represents a divalent linking group selected from (CH 3 ) (Ph)-and -E-Si (Ph) 2- , wherein E is a bond or-
O -, - S -, - O-CH 2 -, - O-CO- , and -N
It represents a divalent linking group selected from H-CO-, and Ph contained in A is bound to the nitrogen atom of the hydantoin ring. B represents a divalent linking group having 2 or more carbon atoms. n 1 ,
n 2 , ... Np, y and z represent an integer of 1 or more, and x is 3
The above integers are represented, and p represents an integer of 2 or more. According to the present invention, the reversible thermosensitive material is characterized in that the silicon-containing iminohydantoin-based polymer is a multi-block copolymer having a repeating unit represented by the following general formula (3). A recording medium is provided.

【化3】 (式中、R1、R2、R3及びR4は、ハロゲン原子または
CN基で置換されても良い炭素数1〜12のアルキル
基、又はフェニル基、あるいは炭素数1〜4のアルキル
基又はアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されたフェ
ニル基を表し、同一であっても異なっていても良い。A
は、式−Ph−D−C(L1)(L2)−C(L3
(L4)−又はPh−D−で表される2価の結合基を示
し、この式においてL1、L2、L3及びL4は、水素原子
あるいは炭素数1〜6のアルキル基を表し、同一であっ
ても異なっていても良く、Dは結合手あるいは−E−
(CH2)m−(ただし、mは1〜6の整数を表す)、
−E−Si(CH32−、−E−Si(CH3)(P
h)−及び−E−Si(Ph)2−から選択された2価
の結合基を示し、該Eは結合手あるいは−O−、−S
−、−O−CH2−、−O−CO−及び−NH−CO−
から選択された2価の結合基を示し、Aに含まれるPh
はヒダントイン環の窒素原子と結合している。B1、B2
…Bqは炭素数2以上の2価の結合基を表す。n、y及
びz1、z2…zqは1以上の整数を表し、qは2以上の
整数を表す。) また、本発明によれば、前記シリコンを含有するイミノ
ヒダントイン系重合体が、下記一般式(4)で表わされ
る繰り返し単位を有するマルチブロック共重合体である
ことを特徴とする前記可逆性感熱記録媒体が提供され
る。
Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom or a CN group, a phenyl group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Or a phenyl group substituted with an alkoxy group or a halogen atom, which may be the same or different.
Has the formula -Ph-D-C (L 1 ) (L 2) -C (L 3)
(L 4 )-or Ph-D- represents a divalent linking group, and in this formula, L 1 , L 2 , L 3 and L 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. And may be the same or different, D is a bond or -E-
(CH 2 ) m- (where m represents an integer of 1 to 6),
-E-Si (CH 3) 2 -, - E-Si (CH 3) (P
h)-and -E-Si (Ph) 2- , which represents a divalent linking group, wherein E is a bond or -O-, -S.
-, - O-CH 2 - , - O-CO- and -NH-CO-
A divalent linking group selected from
Is bound to the nitrogen atom of the hydantoin ring. B 1 , B 2
Bq represents a divalent linking group having 2 or more carbon atoms. n, y and z 1 , z 2 ... Zq represent an integer of 1 or more, and q represents an integer of 2 or more. According to the present invention, the reversible thermosensitive material is characterized in that the silicon-containing iminohydantoin-based polymer is a multi-block copolymer having a repeating unit represented by the following general formula (4). A recording medium is provided.

【化4】 (式中、R1、R2、R3、R4……Rx、Rx+1、Rx+2
びRx+3は、ハロゲン原子またはCN基で置換されても
良い炭素数1〜12のアルキル基、又はフェニル基、あ
るいは炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキシ基又は
ハロゲン原子で置換されたフェニル基を表し、同一であ
っても異なっていてもよい。Aは、式−Ph−D−C
(L1)(L2)−C(L3)(L4)−又はPh−D−で
表わされる2価の結合基を表し、この式においてL1
2、L3及びL4は、水素原子あるいは炭素数1〜6の
アルキル基を表し、同一であっても異なっていても良
く、Dは結合手あるいは−E−(CH2)m−(ただ
し、mは1〜6の整数を示す)、−E−Si(CH32
−、−E−Si(CH3)(Ph)−及び−E−Si
(Ph)2−から選択された2価の結合基を表し、該E
は結合手あるいは−O−、−S−、−O−CH2−、−
O−CO−及び−NH−CO−から選択された2価の結
合基を表し、Aに含まれるPhはヒダントイン環の窒素
原子と結合している。B1、B2…Bqは炭素数2以上の
2価の結合基を表す。n1、n2、…np、y、z1、z2
…zqは1以上の整数を表し、xは3以上の整数を表
し、p及びqは2以上の整数を表す。) また、本発明によれば、前記シリコンを含有するイミノ
ヒダントイン系重合体が、フィルムにしたときに50%
以上の破断伸度を有することを特徴とする前記可逆性感
熱記録媒体が提供される。更に、本発明によれば、前記
シリコンを含有するイミノヒダントイン系重合体が、2
00℃以上のガラス転移点を有することを特徴とする前
記可逆性感熱記録媒体が提供される。更にまた、本発明
によれば、前記シリコンを含有するイミノヒダントイン
系重合体が、0.20以下の動摩擦係数を有することを
特徴とする前記可逆性感熱記録媒体が提供される。
[Chemical 4] (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 ... Rx, Rx + 1 , Rx + 2 and Rx + 3 are an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom or a CN group, or A phenyl group, or an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group substituted with a halogen atom, which may be the same or different, and A is of the formula -Ph-D-C.
(L 1 ) (L 2 ) —C (L 3 ) (L 4 ) — or Ph-D— represents a divalent linking group, and in this formula L 1 ,
L 2 , L 3 and L 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and may be the same or different, and D is a bond or —E— (CH 2 ) m- (. However, m is an integer of 1~6), - E-Si ( CH 3) 2
-, - E-Si (CH 3) (Ph) - and -E-Si
Represents a divalent linking group selected from (Ph) 2
Is a bond or —O—, —S—, —O—CH 2 —, —
It represents a divalent linking group selected from O—CO— and —NH—CO—, and Ph contained in A is bound to the nitrogen atom of the hydantoin ring. B 1 , B 2 ... Bq represent a divalent bonding group having 2 or more carbon atoms. n 1 , n 2 , ... Np, y, z 1 , z 2
... zq represents an integer of 1 or more, x represents an integer of 3 or more, and p and q represent integers of 2 or more. According to the invention, the silicon-containing iminohydantoin-based polymer is 50% when formed into a film.
There is provided the reversible thermosensitive recording medium having the above elongation at break. Further, according to the present invention, the iminohydantoin-based polymer containing silicon is
There is provided the reversible thermosensitive recording medium having a glass transition point of 00 ° C. or higher. Furthermore, according to the present invention, there is provided the reversible thermosensitive recording medium, wherein the silicon-containing iminohydantoin-based polymer has a dynamic friction coefficient of 0.20 or less.

【0005】本発明の可逆性感熱記録媒体は、感熱記録
層の透明度の温度依存性に起因する透明状態から白濁不
透明状態への変化及び白濁不透明状態から透明状態への
変化を利用して、それぞれ記録及び消去することができ
る。この透明状態と白濁不透明状態との相違は次のよう
に推測される。すなわち、(i)透明状態では樹脂母材
中に分散された低分子有機化合物粒子は比較的大きな粒
子として存在して、一方から入射した光は、散乱される
ことなく他方側に透過するため透明に見えること、ま
た、(ii)白濁状態では低分子有機化合物粒子は微細
な結晶が集合した多結晶から成り、それぞれの結晶軸が
いろいろな方向を向いているため一方から入射した光は
低分子有機化合物粒子の結晶界面で何度も屈折し、散乱
されるため白く見えること、などに由来している。
The reversible thermosensitive recording medium of the present invention utilizes the change from the transparent state to the cloudy opaque state and the change from the cloudy opaque state to the transparent state due to the temperature dependence of the transparency of the thermosensitive recording layer, respectively. It can be recorded and erased. The difference between the transparent state and the cloudy opaque state is presumed as follows. That is, (i) in the transparent state, the low-molecular weight organic compound particles dispersed in the resin base material are present as relatively large particles, and the light incident from one side is transmitted without being scattered to the other side, and thus is transparent. In addition, (ii) in the cloudy state, the low-molecular weight organic compound particles are composed of polycrystals of fine crystals, and the crystal axes of each are in various directions, so the light incident from one side is of low molecular weight. It is derived from the fact that the organic compound particles are refracted many times at the crystal interface and appear white because they are scattered.

【0006】図1(熱による透明度の変化)において、
粒子母材とこれに分散された低分子有機化合物とを主成
分とする感熱層は、例えばT0以下の温度では白濁不透
明状態にある。これを温度T2まで加熱すると透明にな
り、この状態からT0以下の常温に戻しても透明状態を
維持する。これは温度T2からT0以下に至るまでに低分
子有機化合物が半溶融状態を経て多結晶から単結晶へと
結晶が成長するためと考えられる。更にT3以上の温度
まで加熱すると、最大透明状態と最大不透明状態の中間
状態になる。次に、この状態から温度を下げていくと、
透明状態にならずに再び最初の白濁不透明状態に戻る。
これは温度T3以上で低分子有機化合物が溶融後、冷却
されることにより多結晶が析出することによると考えら
れる。なお、この不透明状態のものをT1〜T2の温度ま
で加熱した後、常温すなわちT0以下の温度まで冷却す
ると透明と不透明の中間状態になる。また前記常温で透
明になったものを再びT3以上の温度まで加熱した後常
温に戻すと、再び白濁不透明状態に戻る。すなわち、常
温で不透明及び透明状態とその中間状態にすることがで
きる。従って、熱を選択的に与えることにより感熱層を
選択的に透明地に白濁画像を、白濁地に透明画像を形成
することができ、その変化は何回も繰り返すことができ
る。
In FIG. 1 (change in transparency due to heat),
The heat-sensitive layer mainly composed of the particle base material and the low molecular weight organic compound dispersed therein is in a cloudy and opaque state at a temperature of T 0 or lower, for example. When it is heated to a temperature T 2, it becomes transparent, and even if it is returned to normal temperature below T 0, it remains transparent. It is considered that this is because the low-molecular weight organic compound is in a semi-molten state from the temperature T 2 to T 0 or lower and the crystal grows from a polycrystal to a single crystal. Further heating to a temperature of T 3 or higher brings about an intermediate state between the maximum transparent state and the maximum opaque state. Next, when the temperature is lowered from this state,
It returns to the initial cloudy opaque state without becoming transparent.
It is considered that this is because the low-molecular weight organic compound is melted at a temperature of T 3 or higher and then cooled to be cooled, whereby a polycrystal is deposited. The opaque state is heated to a temperature of T 1 to T 2 , and then cooled to room temperature, that is, a temperature equal to or lower than T 0, to be in an intermediate state between transparent and opaque. Further Returning to room temperature after heating what became transparent at the room temperature to again T 3 or more temperature returns to cloudy opaque state again. That is, it can be in an opaque or transparent state and an intermediate state at room temperature. Therefore, by selectively applying heat, the heat-sensitive layer can selectively form a cloudy image on a transparent background and a transparent image on a cloudy background, and the change can be repeated many times.

【0007】以下、本発明更に詳しく説明する。本発明
の可逆性感熱記録媒体は、前記したように、シリコンを
含有するイミノヒダントイン系重合体からなるオーバー
コート層を可逆性記録層上面に設けることを特徴とす
る。本発明で使用するシリコンを含有するイミノヒダン
トイン系重合体としては、特に100回以上の画像形成
と消去の繰り返しによる透明度の低下を防止する点で、
下記一般式(1)及び(2)で示される繰り返し単位を
有するシリコンを含有するイミノヒダントイン共重合
体、又は下記一般式(3)及び(4)で示される繰り返
し単位を有するシリコンを含有するイミノヒダントイン
マルチブロック共重合体が好ましい。
The present invention will be described in more detail below. As described above, the reversible thermosensitive recording medium of the present invention is characterized in that an overcoat layer made of an iminohydantoin-based polymer containing silicon is provided on the upper surface of the reversible recording layer. As the iminohydantoin-based polymer containing silicon used in the present invention, particularly in terms of preventing a decrease in transparency due to repeated image formation and erasing 100 times or more,
A silicon-containing iminohydantoin copolymer having repeating units represented by the following general formulas (1) and (2), or an imino containing silicon having repeating units represented by the following general formulas (3) and (4) Hydantoin multiblock copolymers are preferred.

【化1】 Embedded image

【化2】 Embedded image

【化3】 Embedded image

【化4】 [Chemical 4]

【0008】前記一般式(1)〜(4)において、
1、R2、R3、R4、……Rx+1、Rx+2及びRx+3は、
同一であっても異なっていても良い置換基であり、以下
に示す群から選択されたものである。 (a)炭素数1〜12の直鎖状又は分枝状のアルキル
基。 (b)1個以上のハロゲン原子又はCN基で置換された
炭素数1〜12の直鎖状又は分枝状のアルキル基。この
場合、ハロゲン原子には、Cl、Br、Fなどが包含さ
れる。 (c)フェニル基。 (d)炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキシ基又は
ハロゲン原子で置換されたフェニル基。
In the above general formulas (1) to (4),
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , ... Rx + 1 , Rx + 2 and Rx + 3 are
The substituents may be the same or different and are selected from the groups shown below. (A) A linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. (B) A straight-chain or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, which is substituted with one or more halogen atoms or CN group. In this case, the halogen atom includes Cl, Br, F and the like. (C) Phenyl group. (D) A phenyl group substituted with an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom.

【0009】また、前記一般式(1)〜(4)で表わさ
れる繰り返し単位を有する共重合体において、Aは式−
Ph−D−C(L1)(L2)−C(L3)(L4)−又は
−Ph−D−を示している。Aを構成しているL1
2、L3及びL4は同一であっても異なっていても良い
置換基であり、水素原子または炭素数1〜6のアルキル
基を表す。また、Aを構成しているDは結合手あるいは
−E−(CH2)m−(ただし、mは1〜6の整数を示
す)、−E−Si(CH32−、−E−Si(CH3
(Ph)−及び−E−Si(Ph)2−から選択された
2価の結合基を表している。なお、Aに含まれるベンゼ
ン環Phはイミノヒダントインの窒素原子と結合すると
共にそのp位にDと結合しており、Aを構成する前記の
Eが−O−CH2−、−O−CO−又は−NH−CO−
の場合にヘテロ原子は常にベンゼン環と結合している。
また、Phはフェニル基を、−Ph−はフェニレン基を
表す。
In the copolymer having the repeating units represented by the above general formulas (1) to (4), A is represented by the formula-
Ph-D-C (L 1 ) (L 2) -C (L 3) (L 4) - or shows a -Ph-D-. L 1 , which constitutes A,
L 2 , L 3 and L 4 are the same or different substituents and represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Also, the D constituting the A bond or -E- (CH 2) m- (provided that, m is an integer of 1~6), - E-Si ( CH 3) 2 -, - E- Si (CH 3 )
It represents a divalent linking group selected from (Ph)-and -E-Si (Ph) 2- . The benzene ring Ph contained in A is bonded to the nitrogen atom of iminohydantoin and is bonded to D at the p-position thereof, and the above E constituting A is —O—CH 2 —, —O—CO—. Or -NH-CO-
In the case of, the heteroatom is always bound to the benzene ring.
Further, Ph represents a phenyl group and -Ph- represents a phenylene group.

【0010】また、前記一般式(1)〜(4)におい
て、B1、B2、……Bqは炭素数2以上の2価の結合基
を示す。この結合基には、置換基を持っていても良い炭
素数2〜32の2価の脂肪族基、炭素鎖中にヘテロ原子
を持つと共に置換基を持っていても良い炭素数2〜32
の2価の脂肪族基、置換基を持っていても良い炭素数2
〜32の2価の脂環族基、置換基を持っていても良い炭
素数2〜32の2価の芳香族基、2価の多環芳香族基、
置換基を持っていても良い−(CH2)f−Ph−(C
2)g−、置換機を持っていても良い−(CH2)t−P
h−、置換基を持っていても良い−Ph−O−Ph−、
置換基を持っていても良い−Ph−Ph−などの2価の
結合基が含まれるが、ベンゼン環を有する2価の結合基
が好ましい。これらの2価の結合基に存在可能な置換基
も多数あるが、ハロゲン原子、低級アルキル基及びアル
コキシ基が好適である。また、Phはフェニレン基を示
し、f、g及びtは同一であっても異なっていても良
く、1〜16の整数を示している。
In the general formulas (1) to (4), B 1 , B 2 , ... Bq represent a divalent linking group having 2 or more carbon atoms. This bonding group has a divalent aliphatic group having 2 to 32 carbon atoms which may have a substituent, and a carbon number 2 to 32 which has a hetero atom in the carbon chain and may have a substituent.
2 divalent aliphatic groups, which may have a substituent, carbon number 2
To a divalent alicyclic group having 32 to 32, a divalent aromatic group having a carbon number of 2 to 32, which may have a substituent, a divalent polycyclic aromatic group,
It may have a substituent-(CH 2 ) f-Ph- (C
H 2) g-, which may have a substituent machine - (CH 2) t-P
h-, optionally having -Ph-O-Ph-,
A divalent linking group such as -Ph-Ph- which may have a substituent is included, but a divalent linking group having a benzene ring is preferable. Although there are many substituents that can be present in these divalent linking groups, halogen atoms, lower alkyl groups and alkoxy groups are preferred. Further, Ph represents a phenylene group, and f, g and t may be the same or different, and represent an integer of 1 to 16.

【0011】更に前記一般式(1)〜(4)において、
yは本発明のシリコンを含有するイミノヒダントイン系
重合体を構成する繰り返し単位のうち、シリコンを含有
するオリゴマー成分の繰り返し数を表しており、好まし
くは1〜130の整数である。n、n1、n2、n3、…
…npは、前記したシリコンを含有するオリゴマー成分
を構成しているシロキサンモノマーの繰り返し数を表し
ており、好ましくは1〜80の整数である。また、np
に含まれるpは前記のシリコンを含有するオリゴマーを
構成する単量体が何種類あるのかの数を表しており、好
ましくは1〜10の整数である。xはSiに結合する置
換基を特定するための数を表しており、この数は奇数で
あり、前記のpと、p=(x+1)/2で示される関係
を有する。
Further, in the above general formulas (1) to (4),
y represents the repeating number of the silicon-containing oligomer component in the repeating units constituting the silicon-containing iminohydantoin-based polymer of the present invention, and is preferably an integer of 1 to 130. n, n 1 , n 2 , n 3 , ...
... np represents the repeating number of the siloxane monomer that constitutes the above-mentioned silicon-containing oligomer component, and is preferably an integer of 1 to 80. Also, np
The p contained in the above represents the number of kinds of monomers constituting the above-mentioned silicon-containing oligomer, and is preferably an integer of 1-10. x represents a number for specifying a substituent bonded to Si, and this number is an odd number and has a relationship represented by p = (x + 1) / 2 with p described above.

【0012】更にまた、z、z1、z2、……zqは、シ
リコンを含有しないモノマー成分の繰り返し数を示して
おり、好ましくは1〜250の整数である。ここに示し
たzqに含まれるqはシリコンを含有しない成分が何種類
あるかを示す数であり、好ましくは2〜10の整数であ
る。
Furthermore, z, z 1 , z 2 , ... Zq represent the number of repeating monomer components containing no silicon, and are preferably integers from 1 to 250. Q contained in zq shown here is a number indicating how many kinds of components do not contain silicon, and is preferably an integer of 2 to 10.

【0013】以上に詳細に説明したシリコンを含有した
イミノヒダントイン系重合体は、耐熱性が高く機械的特
性も優れており、また必然的に分子量が大きく、一般式
(1)〜(4)で表される繰り返し単位を有するシリコ
ン含有イミノヒダントイン系重合体の数平均分子量も、
5,000〜500,000、好ましくは100,00
0〜500,000である。
The iminohydantoin-based polymer containing silicon, which has been described in detail above, has high heat resistance and excellent mechanical properties, and inevitably has a large molecular weight, and therefore has a general formula (1) to (4). Also the number average molecular weight of the silicon-containing iminohydantoin-based polymer having a repeating unit represented,
5,000 to 500,000, preferably 100,000
It is 0 to 500,000.

【0014】前記一般式(1)で示される繰り返し単位
を有するシリコン含有イミノヒダントイン共重合体は、
シリコンを含有するジイソシアネートとシアン化水素を
環化付加重合する方法によって製造される。この反応に
使用されるシリコンを含有するジイソシアネートとして
は下記一般式(5)の化合物が使用される。
The silicon-containing iminohydantoin copolymer having the repeating unit represented by the general formula (1) is
It is produced by a method of cycloaddition-polymerizing diisocyanate containing silicon and hydrogen cyanide. As the silicon-containing diisocyanate used in this reaction, the compound of the following general formula (5) is used.

【化5】 一般式(5)において、R1、R2、R3、R4、n及びA
は一般式(1)〜(4)の説明で前記したものと同一で
あり、この化合物はUSP4,518,758号に示さ
れた常法に従って製造される。
Embedded image In the general formula (5), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , n and A
Are the same as those described above in the explanation of the general formulas (1) to (4), and this compound is produced according to the conventional method shown in USP 4,518,758.

【0015】前記一般式(1)で示される繰り返し単位を
有する重合体の合成原料となる、シリコンを含有しない
ジイソシアネートとしては、以下に示すジイソシアネー
トが使用される。1,6−ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート、1,12−ジイソシアネートドデカン、イソ
ホロンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネ
ート、m−フェニレンジイソシアネート、トルエン−
2,4−ジイソシアネート、トルエン−2,6−ジイソ
シアネート、4−イソプロピル−1,3−フェニレンジ
イソシアネート、4−クロロ−1,3−フェニレンジイ
ソシアネート、4−ブトキシ−1,3−フェニレンジイ
ソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、4,
4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−
ジイソシアネート−3,3−ジメチルジフェニルメタ
ン、4,4’−ジイソシアネートジフェニルエーテル、
3,4’−ジイソシアネートジフェニルエーテル、4,
4’−ジイソシアネートビフェニル、4,4’−ジイソ
シアネート−3,3’−ジメチルビフェニル及び3,
3’−ジクロロフェニル−4,4’−ジイソシアネート
等。
The diisocyanate shown below is used as the silicon-free diisocyanate that is a raw material for synthesizing the polymer having the repeating unit represented by the general formula (1). 1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 1,12-diisocyanate dodecane, isophorone diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, toluene-
2,4-diisocyanate, toluene-2,6-diisocyanate, 4-isopropyl-1,3-phenylene diisocyanate, 4-chloro-1,3-phenylene diisocyanate, 4-butoxy-1,3-phenylene diisocyanate, m-xylyl Diisocyanate, 4,
4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-
Diisocyanate-3,3-dimethyldiphenylmethane, 4,4′-diisocyanate diphenyl ether,
3,4'-diisocyanate diphenyl ether, 4,
4'-diisocyanate biphenyl, 4,4'-diisocyanate-3,3'-dimethylbiphenyl and 3,
3'-dichlorophenyl-4,4'-diisocyanate and the like.

【0016】シリコンを含有するジイソシアネートおよ
びシリコンを含有しないジイソシアネートとシアン化水
素の環化付加重合反応は、重合溶媒にN,N−ジメチル
ホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミドなどの極
性の高い溶媒を使用し、0〜50℃の反応温度、0.5
分〜24時間の反応時間で、常圧下、N−シクロヘキシ
ルモルホリン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミ
ン、(C452Sn(OC252、((C493
n)2O、(C494Sn、Ph3P,(C493P、
(C8173P、(CH33Pb(OCOCH3),
(C49)Pb(イミダゾール)、NaCN及びトリエ
チルアミンなどの触媒存在下で反応させて得ることがで
きる。この環化反応は、ジイソシアネートとシアン化水
素からイミノヒダントイン類を合成する公知反応(文
献:Poly.Reprnts.,12,162(19
71),20,183(1979))と同種の反応であ
る。また、一般式(1)で表わされる繰り返し単位を有
する重合体を合成する場合に使用されるシリコンを含有
しないジイソシアネートは単一品であり、その混合比は
一般式(1)に示されるyとzによって定まる。
The cycloaddition reaction of silicon-containing diisocyanate and non-silicon-containing diisocyanate with hydrogen cyanide is carried out by using N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoramide as a polymerization solvent. Of a highly polar solvent of 0 to 50 ° C. at a reaction temperature of 0.5
A reaction time in minutes to 24 hours, under normal pressure, N- cyclohexyl morpholine, N, N- dimethylcyclohexylamine, (C 4 H 5) 2 Sn (OC 2 H 5) 2, ((C 4 H 9) 3 S
n) 2 O, (C 4 H 9 ) 4 Sn, Ph 3 P, (C 4 H 9 ) 3 P,
(C 8 H 17) 3 P , (CH 3) 3 Pb (OCOCH 3),
It can be obtained by reacting in the presence of a catalyst such as (C 4 H 9 ) Pb (imidazole), NaCN and triethylamine. This cyclization reaction is a known reaction for synthesizing iminohydantoins from diisocyanate and hydrogen cyanide (Reference: Poly. Reprants., 12, 162 (19).
71), 20, 183 (1979)). Further, the silicon-free diisocyanate used when synthesizing the polymer having the repeating unit represented by the general formula (1) is a single product, and the mixing ratio thereof is y and z represented by the general formula (1). Determined by

【0017】一般式(2)で表わされる繰り返し単位を
有するシリコン含有イミノヒダントイン共重合体の製造
法は、原料に使用するシリコン含有ジイソシアネートに
下記一般式(6)の化合物を使用する以外は、一般式
(1)で表わされる繰り返し単位を有する重合体の合成
法と同様である。
The method for producing the silicon-containing iminohydantoin copolymer having the repeating unit represented by the general formula (2) is generally carried out except that the silicon-containing diisocyanate used as a raw material is the compound of the following general formula (6). This is the same as the method for synthesizing a polymer having a repeating unit represented by the formula (1).

【化6】 一般式(6)において、R1、R2、R3、R4……Rx、
Rx+1、Rx+2、Rx+3、n1、n2、……np、x及びp
は、一般式(1)〜(4)の説明で前記したものと同一
であり、Aは一般式(5)の説明で前記したものと同一
である。また、この化合物は一般式(5)の化合物と同
様な方法で製造することができる。
[Chemical 6] In the general formula (6), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 ... Rx,
Rx + 1 , Rx + 2 , Rx + 3 , n 1 , n 2 , ... Np, x and p
Is the same as that described in the description of the general formulas (1) to (4), and A is the same as that described in the description of the general formula (5). In addition, this compound can be produced in the same manner as the compound of the general formula (5).

【0018】一般式(3)及び(4)で表わされる繰り
返し単位を有するシリコン含有イミノヒダントインマル
チブロック共重合体の製造法は、前記の一般式(1)及
び(2)で表わされる繰り返し単位を有する重合体の製
造法と類似しているが、一般式(3)で表わされる繰り
返し単位を有する重合体の製造には前記一般式(5)で
表わされるシリコン含有ジイソシアネートを、一般式
(4)で表される繰り返し単位を有する重合体の製造に
は前記一般式(6)で表されるシリコン含有ジイソシア
ネートを使用すると共に、2種類以上の前記したシリコ
ンを含有しないジイソシアネートを原料とし、これにシ
アン化水素を加えて環化付加重合する方法で製造され
る。この場合の環化付加重合の条件は、一般式(3)及
び(4)で表わされる繰り返し単位を有する重合体の両
者ともほぼ同一である。なお、一般式(3)及び(4)
で表される繰り返し単位を有するマルチブロック重合体
の製造において、2種類以上使用されるシリコンを含有
しないジイソシアネートの種類の数は、一般式(3)及
び(4)に示されるqによって定まる。
The method for producing the silicon-containing iminohydantoin multiblock copolymer having the repeating units represented by the general formulas (3) and (4) is the same as the repeating units represented by the general formulas (1) and (2). Similar to the method for producing a polymer having the same, but for producing a polymer having a repeating unit represented by the general formula (3), the silicon-containing diisocyanate represented by the general formula (5) is used. The silicon-containing diisocyanate represented by the general formula (6) is used to produce a polymer having a repeating unit represented by the formula (1), and two or more kinds of the above-mentioned silicon-free diisocyanates are used as raw materials. Is added to produce a cycloaddition polymer. The conditions for the cycloaddition polymerization in this case are almost the same for both the polymers having the repeating units represented by the general formulas (3) and (4). The general formulas (3) and (4)
In the production of the multi-block polymer having the repeating unit represented by, the number of types of the silicon-free diisocyanate used in two or more types is determined by q shown in the general formulas (3) and (4).

【0019】本発明のオーバーコート層に使用するシリ
コン含有イミノヒダントイン系重合体は、原料として使
用するシリコンを含有しないジイソシアネートの種類を
変えたり、シリコンを含有するジイソシアネートとシリ
コンを含有しないジイソシアネートとの混合比を変化さ
せることによって得られる共重合体の性能の一部を変化
させることができる。例えば、300回以上の画像形成
と消去の繰り返しによる透明度の低下を防止するために
は、200℃以上のガラス転移点を有する共重合体を使
用するのが望ましく、そのためには下記の芳香族系ジイ
ソシアネートを1種類以上使用し、その使用量は少なく
とも25mol%以上である。
The silicon-containing iminohydantoin-based polymer used in the overcoat layer of the present invention is different in the type of silicon-free diisocyanate used as a raw material, or is a mixture of a silicon-containing diisocyanate and a silicon-free diisocyanate. By changing the ratio, some of the performance of the resulting copolymer can be changed. For example, it is desirable to use a copolymer having a glass transition point of 200 ° C. or higher in order to prevent a decrease in transparency due to repeated image formation and erasure of 300 times or more. One or more kinds of diisocyanates are used, and the amount used is at least 25 mol% or more.

【0020】m−フェニレンジイソシアネート、トルエ
ン−2,4−ジイソシアネート、トルエン−2.6−ジ
イソシアネート、4−イソプロピル−1,3−フェニレ
ンジイソシアネート、4−クロロ−1,3−フェニレン
ジイソシアネート、4−ブトキシ−1,3−フェニレン
ジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート 4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,
4’−ジイソシアネートジフェニルエーテル、4,4’
−ジイソシアネートビフェニル、4,4’−ジイソシア
ネート−3,3’−ジメチルビフェニル、3,3’−ジ
クロロジフェニル−4,4’−ジイソシアネート等。
M-Phenylene diisocyanate, toluene-2,4-diisocyanate, toluene-2.6-diisocyanate, 4-isopropyl-1,3-phenylene diisocyanate, 4-chloro-1,3-phenylene diisocyanate, 4-butoxy- 1,3-phenylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,
4'-diisocyanate diphenyl ether, 4,4 '
-Diisocyanate biphenyl, 4,4'-diisocyanate-3,3'-dimethylbiphenyl, 3,3'-dichlorodiphenyl-4,4'-diisocyanate and the like.

【0021】また、オーバーコート層がサーマルヘッド
との摩擦力によって削られる場合もあり、そのためサー
マルヘッドの発熱部やその近傍にオーバーコート層の構
成物が融着又は付着して画像品質が低下したり、消去が
完全に行われない現象が発生する。この現象を抑制する
ためにフィルムの破断伸度が50%以上である共重合体
を使用するのが望ましく、このような機械的特性を有す
るシリコン含有イミノヒダントイン系共重合体を得るに
は、シリコンを含有しないジイソシアネートとして以下
に示すような柔軟な連結基を有するジイソシアネートを
1種類以上使用するか、又はシリコンを含有するジイソ
シアネートを10mol%以上使用することが望まし
く、両者を併用すれば更に好適である。
Further, the overcoat layer may be scraped by the frictional force with the thermal head, so that the composition of the overcoat layer is fused or adhered to the heat generating portion of the thermal head or in the vicinity thereof, so that the image quality is deteriorated. Or, the phenomenon that the erasure is not performed completely occurs. In order to suppress this phenomenon, it is desirable to use a copolymer having a breaking elongation of 50% or more. In order to obtain a silicon-containing iminohydantoin-based copolymer having such mechanical properties, silicone is used. It is preferable to use one or more kinds of diisocyanates having a flexible linking group as shown below as diisocyanates not containing, or to use 10 mol% or more of diisocyanates containing silicon, and it is more preferable to use both in combination. .

【0022】4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、4,4’−ジイソシアネートジフェニルエーテ
ル、4,4’−ジイソシアネート−3,3’−ジメチル
ジフェニルメタン、2,4,4−トリメチルヘキサメチ
レンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサ
メチレンジイソシアネート、又は1,6−ジイソシアネ
ートヘキサン等。
4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diisocyanate diphenyl ether, 4,4'-diisocyanate-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2,4 -Trimethylhexamethylene diisocyanate, or 1,6-diisocyanate hexane.

【0023】更に、500回以上の画像形成と消去の繰
り返しによる透明度の低下を防止するためにはサーマル
ヘッドなどの発熱体とオーバーコート層との間に発生す
る摩擦力を小さくすることが望ましく、0.20以下の
動摩擦係数を有する共重合体を使用することが好まし
い。このような動摩擦係数を有する共重合体を得るため
には、上記式(5)又は(6)におけるn又はn1+n2
+……npが40以上であるシリコンを含有するジイソ
シアネートを5mol%以上使用することが望ましい。
Further, in order to prevent a decrease in transparency due to repetition of image formation and erasing 500 times or more, it is desirable to reduce the frictional force generated between a heating element such as a thermal head and the overcoat layer. It is preferable to use a copolymer having a dynamic friction coefficient of 0.20 or less. In order to obtain a copolymer having such a dynamic friction coefficient, n or n 1 + n 2 in the above formula (5) or (6) is used.
+ ... It is desirable to use 5 mol% or more of a silicon-containing diisocyanate having np of 40 or more.

【0024】本発明のシリコン含有イミノヒダントイン
系共重合体は、任意の割合で混合使用しても性能劣化の
問題を起こすことがないから、シリコン含有イミノヒダ
ントイン共重合体とそのマルチブロック共重合体を混合
使用することもできる。また、前記のシリコン含有イミ
ノヒダントイン系共重合体は、従来から使用されてい
る、例えばシリコン樹脂、シリコンゴムなど、を混合使
用することも可能である。しかし、特別な場合を除いて
混合使用の利点は少ないから、一般的には前記のように
目的に応じたジイソシアネートを原料として製造した本
発明の共重合体をオーバーコート層に使用すれば良い。
なお、本発明のオーバーコートー層は0.1〜7.5μ
m程度の厚さが良く、好ましくは0.5〜3.5μmの
厚さである。
Since the silicon-containing iminohydantoin-based copolymer of the present invention does not cause a problem of performance deterioration even if it is mixed and used in an arbitrary ratio, the silicon-containing iminohydantoin-copolymer and its multi-block copolymer. Can also be used as a mixture. Further, the silicon-containing iminohydantoin-based copolymer can be used in combination with a conventionally used one such as silicone resin or silicone rubber. However, the advantages of the mixed use are small except for a special case, and therefore, the copolymer of the present invention produced from a diisocyanate according to the purpose as a raw material as described above may be generally used for the overcoat layer.
The overcoat layer of the present invention has a thickness of 0.1 to 7.5 μ.
The thickness is preferably about m, preferably 0.5 to 3.5 μm.

【0025】感熱記録層は、マトリックス樹脂及び低分
子有機化合物等を溶媒に分散又は溶解した溶液を、支持
体上に塗布、乾燥させる方法等により形成できるが、感
熱記録層の形成に使用する溶媒は、マトリックス樹脂及
び低分子有機化合物の種類によって種々選択できるが、
例えばテトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、クロロホルム、四塩化炭素、エタ
ノール、トルエン、ベンゼン、などが挙げられる。な
お、分散液を使用した場合はもちろんであるが、溶液を
使用した場合も得られる感熱層中では低分子有機化合物
は微粒子として析出し、分散状態で存在する。
The thermosensitive recording layer can be formed by a method of coating or drying a solution in which a matrix resin, a low molecular weight organic compound, etc. are dispersed or dissolved in a solvent and dried, and the solvent used for forming the thermosensitive recording layer. Can be variously selected depending on the type of matrix resin and low molecular weight organic compound,
Examples thereof include tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, chloroform, carbon tetrachloride, ethanol, toluene and benzene. The low-molecular weight organic compound is precipitated as fine particles and exists in a dispersed state in the heat-sensitive layer obtained not only when the dispersion is used but also when the solution is used.

【0026】本発明において、可逆性感熱記録媒体の感
熱記録層中のマトリックス樹脂は、膜形成可能であり、
その膜が透明性に優れ機械的に安定であることが好まし
い。このような樹脂としては、ポリ塩化ビニル;塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
マレイン酸共重合体及び塩化ビニル−アクリレート共重
合体などの塩化ビニル系共重合体;ポリ塩化ビニリデ
ン;塩化ビニリエデン−塩化ビニル共重合体及び塩化ビ
ニリデン−アクリロニトリル共重合体などの塩化ビニリ
デン系共重合体;ポリエステル;ポリアミド;ポリアク
リレート;ポリメタクリレート;ポリアクリレート−ポ
リメタクリレート共重合体;シリコーン樹脂などが挙げ
られる。これらは単独あるいは2種類以上混合して使用
される。
In the present invention, the matrix resin in the thermosensitive recording layer of the reversible thermosensitive recording medium can form a film,
It is preferable that the film has excellent transparency and is mechanically stable. As such a resin, polyvinyl chloride; vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-
Vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-
Vinyl chloride-based copolymers such as maleic acid copolymers and vinyl chloride-acrylate copolymers; polyvinylidene chloride; vinylidene chloride-vinyl chloride copolymers and vinylidene chloride-based copolymers such as vinylidene chloride-acrylonitrile copolymers Polyester; polyamide; polyacrylate; polymethacrylate; polyacrylate-polymethacrylate copolymer; silicone resin and the like. These may be used alone or as a mixture of two or more.

【0027】一方、低分子有機化合物としては記録層中
で熱により多結晶から単結晶に変化するものであればよ
く、一般に30〜200℃の融点を、好ましくは50〜
150℃の融点を有する低分子有機化合物が使用され
る。このような低分子有機化合物としてはアルカノー
ル;アルカンジオール;ハロゲン化アルカノール;ハロ
ゲン化アルカンジオール;アルキルアミン;アルカン;
アルケン;アルキン;ハロゲン化アルカン;ハロゲン化
アルケン;ハロゲン化アルキン;シクロアルカン;シク
ロアルケン;シクロアルキン;飽和又は不飽和モノ又は
ジカルボン酸又はこれらのエステル、アミド又は塩;飽
和又は不飽和ハロゲン化脂肪酸又はこれらのエステル、
アミド又は塩;アリルカルボン酸又はこれらのエステ
ル、アミド又は塩;ハロゲン化アリルカルボン酸又はこ
れらのエステル、アミド又は塩;チオアルコール;チオ
カルボン酸又はこれらのエステル、アミド又は塩;チオ
アルコールのカルボン酸エステルなどが挙げられる。こ
れらは単独で又は2種類以上混合して使用される。これ
らの化合物の炭素数は10〜60、好ましくは10〜3
8、特に10〜30が好ましい。エステル中のアルコー
ル基部分は飽和していてもよく、飽和していなくてもよ
く、またハロゲン置換されていてもよい。いずれにして
も低分子有機化合物は分子中に少なくても1個の酸素、
窒素、硫黄またはハロゲンを含有する基、例えば−OH
−、−COOH、−CONH、−COOR、−NH−、
−S−、−S−S−または−O−などの有する化合物で
あることが好ましい。
On the other hand, the low molecular weight organic compound may be any one that can change from polycrystal to single crystal by heat in the recording layer, and generally has a melting point of 30 to 200 ° C., preferably 50 to 50 ° C.
A low molecular weight organic compound having a melting point of 150 ° C. is used. Such low molecular weight organic compounds include alkanols; alkanediols; halogenated alkanols; halogenated alkanediols; alkylamines; alkanes;
Alkenes; alkynes; halogenated alkanes; halogenated alkenes; halogenated alkynes; cycloalkanes; cycloalkenes; cycloalkynes; saturated or unsaturated mono- or dicarboxylic acids or their esters, amides or salts; saturated or unsaturated halogenated fatty acids or These esters,
Amides or salts; allylcarboxylic acids or their esters, amides or salts; halogenated allylcarboxylic acids or their esters, amides or salts; thioalcohols; thiocarboxylic acids or their esters, amides or salts; carboxylic esters of thioalcohols And so on. These may be used alone or as a mixture of two or more. The carbon number of these compounds is 10 to 60, preferably 10 to 3
8 and especially 10-30 are preferable. The alcohol group moiety in the ester may be saturated or unsaturated, and may be halogen-substituted. In any case, the low molecular weight organic compound contains at least one oxygen,
Groups containing nitrogen, sulfur or halogen, eg -OH
-, -COOH, -CONH, -COOR, -NH-,
A compound having —S—, —S—S— or —O— is preferable.

【0028】さらに具体的には、これらの化合物として
は、ラウリン酸、ドデカン酸、ミリスチン酸、ペンタデ
カン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ノナ
デカン酸、アラキン酸、ヘンエイコサン酸、トリコサン
酸、リグノセリン酸、ペンタコサン酸、セロチン酸、ヘ
プタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸及びオレイン酸
などの高級脂肪酸;ステアリン酸メチル、ステアリン酸
テトラデシル、ステアリン酸オクタデシル、ラウリン酸
オクタデシル、パルミチン酸テトラデシル及びベヘン酸
ドデシルなどの高級脂肪酸のエステル; C1633−O−C1633, C1633−S−C16331837−S−C1837, C1225−S−C12251939−S−C1939, C1225−S−S−C1225 などのエーテル又はチオエーテルなどが挙げられる。中
でも本発明では高級脂肪酸、特にパルミチン酸、ペンタ
デカン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ヘンエイコサン
酸、トリコサン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、リグノセ
リン酸、などの16以上の炭素数を有する高級脂肪酸が
好ましく、16〜24の炭素数を有する高級脂肪酸が更
に好ましい。
More specifically, as these compounds
Is lauric acid, dodecanoic acid, myristic acid, pentade
Canic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, nona
Decanoic acid, arachidic acid, heneicosanoic acid, tricosane
Acid, lignoceric acid, pentacosanoic acid, cerotic acid,
Putacosanoic acid, montanic acid, melissic acid and oleic acid
Higher fatty acids such as; methyl stearate, stearic acid
Tetradecyl, octadecyl stearate, lauric acid
Octadecyl, tetradecyl palmitate and behenic acid
Esters of higher fatty acids such as dodecyl; C16H33-OC16H33, C16H33-SC16H33 C18H37-SC18H37, C12Htwenty five-SC12Htwenty five C19H39-SC19H39, C12Htwenty five-S-S-C12Htwenty five   And ether or thioether. During ~
However, in the present invention, higher fatty acids, especially palmitic acid, penta
Decanoic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, heneicosane
Acid, tricosanoic acid, stearic acid, behenic acid, lignose
Higher fatty acids having 16 or more carbon atoms such as phosphoric acid
Higher fatty acids having 16 to 24 carbon atoms are preferred.
Preferred.

【0029】また、透明化できる温度の幅を広げるに
は、上記に示した低分子有機化合物を適宜組み合わせる
か、又はそのような低分子有機化合物と融点の異なる他
の材料とを組み合わせればよい。これらは例えば特開昭
63−39378号公報、特開昭63−130380号
公報、特願昭63−14754号公報及び特願平1−1
40109号公報などに記載されているが、これらに限
定されるものではない。
Further, in order to widen the temperature range in which the material can be made transparent, the low-molecular weight organic compounds shown above may be appropriately combined, or such a low-molecular weight organic compound may be combined with another material having a different melting point. . These are described, for example, in JP-A-63-39378, JP-A-63-130380, Japanese Patent Application No. 63-14754 and Japanese Patent Application No. 1-1.
However, the present invention is not limited to these.

【0030】なお、感熱層中の低分子有機化合物と樹脂
母材との割合は、重量比で約2:1〜1:16が好まし
く、1:2〜1:6が更に好ましい。樹脂母材の比率が
これ以下になると低分子有機化合物を樹脂母材中に保持
した膜を形成することが困難となり、またこれ以上にな
ると低分子有機化合物の量が少ないため不透明化が困難
になる。
The weight ratio of the low molecular weight organic compound to the resin base material in the heat sensitive layer is preferably about 2: 1 to 1:16, more preferably 1: 2 to 1: 6. When the ratio of the resin base material is less than this, it becomes difficult to form a film in which the low molecular weight organic compound is held in the resin base material, and when it is more than this, it is difficult to make the opacity because the amount of the low molecular weight organic compound is small. Become.

【0031】感熱層の厚みは1〜30μmが好ましく、
2〜20μmが更に好ましい。感熱層が厚すぎると熱感
度が低下して均一に透明化することが困難となる。ま
た、感熱層が薄すぎると白濁度が低下してコントラスト
が低くなる。更に、感熱層中の低分子有機化合物の量を
増加させて白濁度を増すことができる。
The thickness of the heat sensitive layer is preferably 1 to 30 μm,
2 to 20 μm is more preferable. If the heat-sensitive layer is too thick, the heat sensitivity will decrease and it will be difficult to make it transparent uniformly. On the other hand, if the heat-sensitive layer is too thin, the white turbidity is lowered and the contrast is lowered. Further, the amount of low molecular weight organic compounds in the heat-sensitive layer can be increased to increase the white turbidity.

【0032】感熱層には以上の成分のほかに、透明画像
の形成を容易にするために高融点溶剤及び界面活性剤な
どの添加剤を添加することができる。高融点溶剤とし
て、リン酸トリブチル、リン酸トリ−2−エチルヘキシ
ル、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、オレイ
ン酸ブチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−n
−オクチル、フタル酸ジ−2−エチルヘキシル、フタル
酸ジイソノニル、フタル酸ジオクチルデシル、フタル酸
ジイソデシル、フタル酸ブチルベンジル、アジピン酸ジ
ブチル、アジピン酸ジ−n−ヘキシル、アジピン酸ジ−
2−エチルヘキシル、アゼライン酸ジ−2−エチルヘキ
シル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−2−エチル
ヘキシル、ジエチレングリコールジベンゾエート、トリ
エチレングリコールジ−2−エチルブチラート、アセチ
ルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル、
ブチルフタリルブチルグリコレート及びアセチルクエン
酸トリブチルなどが挙げられる。
In addition to the above components, the heat-sensitive layer may contain additives such as a high melting point solvent and a surfactant in order to facilitate the formation of a transparent image. As a high melting point solvent, tributyl phosphate, tri-2-ethylhexyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, butyl oleate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, di-phthalate. n
-Octyl, di-2-ethylhexyl phthalate, diisononyl phthalate, dioctyl decyl phthalate, diisodecyl phthalate, butylbenzyl phthalate, dibutyl adipate, di-n-hexyl adipate, di-adipate
2-ethylhexyl, di-2-ethylhexyl azelate, dibutyl sebacate, di-2-ethylhexyl sebacate, diethylene glycol dibenzoate, triethylene glycol di-2-ethyl butyrate, methyl acetylricinoleate, butyl acetylricinoleate,
Butyl phthalyl butyl glycolate and acetyl citrate tributyl etc. are mentioned.

【0033】界面活性剤及びその他の添加剤として、多
価アルコール高級脂肪酸エステル;多価アルコール高級
アルキルエーテル;多価アルコール高級脂肪酸エステ
ル、高級アルコール、高級アルキルフェノール、高級脂
肪酸高級アルキルアミン、高級脂肪酸アミド、油脂又は
ポリプロピレングリコールの低級オレフィンオキサイド
付加物;アセチレングリコール;高級アルキルベンゼン
スルホン酸のNa、Ba、Ca又はMg塩;高級脂肪
酸、芳香族カルボン酸、高級脂肪族スルホン酸、芳香族
スルホン酸、硫酸モノエステル又はリン酸モノ又はジエ
ステルのCa、Ba又はMg塩;低度硫酸化油;ポリ長
鎖アルキルアクリレート;アクリル系オリゴマー;ポリ
長鎖アルキルメタクリレート;長鎖アルキルメタクリレ
ート−アミン含有モノマー共重合体;スチレン−無水マ
レイン酸共重合体及びオレフィン−無水マレイン酸共重
合体などが挙げられる。
As the surfactant and other additives, polyhydric alcohol higher fatty acid ester; polyhydric alcohol higher alkyl ether; polyhydric alcohol higher fatty acid ester, higher alcohol, higher alkylphenol, higher fatty acid higher alkylamine, higher fatty acid amide, Lower olefin oxide adduct of fats and oils or polypropylene glycol; acetylene glycol; Na, Ba, Ca or Mg salt of higher alkylbenzene sulfonic acid; higher fatty acid, aromatic carboxylic acid, higher aliphatic sulfonic acid, aromatic sulfonic acid, sulfuric acid monoester Or Ca, Ba or Mg salt of phosphoric acid mono- or diester; low degree of sulfated oil; poly long chain alkyl acrylate; acrylic oligomer; poly long chain alkyl methacrylate; long chain alkyl methacrylate-amine-containing mono Over copolymer; a styrene - maleic acid copolymer and olefin anhydride - like maleic anhydride copolymer.

【0034】本発明において、可逆性感熱記録材料の支
持体としては前記したようにプラスチックフィルム、ガ
ラス板及び金属板などが用いられる。
In the present invention, a plastic film, a glass plate, a metal plate or the like is used as the support of the reversible thermosensitive recording material as described above.

【0035】この記録材料の画像コントラストを向上さ
せるために記録層の背面に光反射層を設けることも可能
である。この場合には記録層の厚みを薄くしても高いコ
ントラストが得られる。具体的には特開昭64−140
79号に記載されたAl、Ni、Sn、Au及びAgな
どを蒸着する方法が挙げられる。
In order to improve the image contrast of this recording material, it is possible to provide a light reflecting layer on the back surface of the recording layer. In this case, high contrast can be obtained even if the thickness of the recording layer is reduced. Specifically, JP-A 64-140
The method of vapor-depositing Al, Ni, Sn, Au, Ag, etc. described in No. 79 can be mentioned.

【0036】支持体がAl蒸着層のような樹脂との接着
力に乏しい材料には、特開昭64−14079号公報に
記載された感熱層との間に接着層を設ける方法を用いて
もよい。更に、オーバーコート層形成液の溶剤やモノマ
ー成分などから可逆性記録材料を保護するために、特開
平1−133781号に記載されたオーバーコート層と
可逆性記録材料との間に中間層を設ける方法を用いても
よい。中間層の材料としては感熱層中に樹脂母材として
挙げたものの他に下記のような熱硬化性樹脂及び熱可塑
性樹脂を使用することができる。すなわち、具体的に
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリウレ
タン、飽和ポリエステル、不飽和ポリエステル、エポキ
シ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート、ポリアミ
ドなどが挙げられる。中間層の厚さは用途により異なる
が約0.1〜2μmが好ましい。これ以下になると保護
効果が減少し、それ以上になると熱感度が低下する。
For a material whose support has a poor adhesion to a resin such as an Al vapor deposition layer, a method of providing an adhesion layer between the support and the heat sensitive layer may be used. Good. Furthermore, an intermediate layer is provided between the overcoat layer and the reversible recording material described in JP-A-1-133781 in order to protect the reversible recording material from the solvent and monomer components of the overcoat layer forming liquid. Any method may be used. As the material of the intermediate layer, the following thermosetting resins and thermoplastic resins can be used in addition to those listed as the resin base material in the heat sensitive layer. That is, specifically, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polyurethane, saturated polyester, unsaturated polyester, epoxy resin, phenol resin, polycarbonate, polyamide and the like can be mentioned. Although the thickness of the intermediate layer varies depending on the use, it is preferably about 0.1 to 2 μm. If it is less than this, the protective effect is reduced, and if it is more than this, the thermal sensitivity is lowered.

【0037】また、実開平2−3876号に記載された
ように磁気記録層を設け、磁気及び熱によって記録でき
る磁気可逆性感熱記録媒体として使用することも可能で
ある。
It is also possible to provide a magnetic recording layer as described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 2-3876 and use it as a magnetic reversible thermosensitive recording medium capable of recording by magnetism and heat.

【0038】[0038]

【実施例】次に、実施例及び比較例を示す。なお、実施
例中、固有粘度は、ジメチルホルムアミド中、重合体の
濃度0.5g/dL、30℃で測定した価である。また
以下に示す部及び%はすべて重量基準である。
EXAMPLES Next, examples and comparative examples will be shown. In addition, in the examples, the intrinsic viscosity is a value measured at 30 ° C. in dimethylformamide at a polymer concentration of 0.5 g / dL. All parts and percentages shown below are based on weight.

【0039】実施例1 49mol%のイソホロンジイソシアネート、50.5
mol%のシアン化水素および0.5mol%の下記式
(7)で示されるシリコン含有ジイソシアネートを、N
−メチルピロリドンを溶媒にしてNaCNの存在下15
℃の反応温度で20時間反応させて、シリコン含有イミ
ノヒダントイン共重合体を得た。この共重合体は下記式
(8)で示される繰り返し単位を有し、固有粘度は0.
6dL/gであった。
Example 1 49 mol% isophorone diisocyanate, 50.5
mol% hydrogen cyanide and 0.5 mol% of a silicon-containing diisocyanate represented by the following formula (7)
-Methylpyrrolidone as solvent in the presence of NaCN 15
The reaction was carried out at a reaction temperature of ° C for 20 hours to obtain a silicon-containing iminohydantoin copolymer. This copolymer has a repeating unit represented by the following formula (8) and has an intrinsic viscosity of 0.
It was 6 dL / g.

【化7】 [Chemical 7]

【化8】 75μm厚のポリエチレンテレフタレート(RET)フ
ィルム上に、8部のベヘン酸、2部のステアリン酸ステ
アリル、3部のフタル酸ジ(2−エチルヘキシル)、2
8部の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(UCC社製、
VYHH)及び200部のテトラヒドロフランからなる
溶液をワイヤーバーで塗工し、80℃で3分間乾燥して
15μm厚の感熱記録層を設けた。この記録層上に10
部のポリアミド樹脂(東レ社製、CM8000)と90
部のメチルアルコールからなる溶液をワイヤーバーで塗
工し、80℃で1分間乾燥して0.5μm厚の中間層を
設けた。この中間層上に前記式(8)で表されるイミノ
ヒダントイン共重合体の8%のシクロヘキサノン溶液を
ワイヤーバーで塗工し、80℃で1分間、90℃で1分
間及び110℃で1分間強風乾燥して2.5μm厚のオ
ーバーコート層を設け、可逆性感熱記録媒体を得た。オ
ーバーコート層の動摩擦係数は0.26であった。
Embedded image On a 75 μm thick polyethylene terephthalate (RET) film, 8 parts behenic acid, 2 parts stearyl stearate, 3 parts di (2-ethylhexyl) phthalate, 2 parts
8 parts of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (UCC,
A solution consisting of VYHH) and 200 parts of tetrahydrofuran was applied with a wire bar and dried at 80 ° C. for 3 minutes to provide a heat-sensitive recording layer having a thickness of 15 μm. 10 on this recording layer
90 parts of polyamide resin (CM8000 made by Toray)
A solution consisting of a part of methyl alcohol was applied with a wire bar and dried at 80 ° C. for 1 minute to form an intermediate layer having a thickness of 0.5 μm. An 8% cyclohexanone solution of the iminohydantoin copolymer represented by the formula (8) was applied onto this intermediate layer with a wire bar, and the coating was performed at 80 ° C. for 1 minute, 90 ° C. for 1 minute, and 110 ° C. for 1 minute. A reversible thermosensitive recording medium was obtained by drying with strong wind to provide an overcoat layer having a thickness of 2.5 μm. The dynamic friction coefficient of the overcoat layer was 0.26.

【0040】実施例2 37.6mol%の1,6ジイソシアネートヘキサン、
11.4mol%の4,4′−ジイソシアネートビフェ
ニル、50.5mol%のシアン化水素及び0.5mo
l%の下記式(9)で示されるシリコン含有ジイソシア
ネートを用いて、実施例1と全く同様に処理してシリコ
ン含有イミノヒダントイン共重合体を合成した。この共
重合体は下記式(10)で示される繰り返し単位を有
し、固有粘度は0.7dL/gであった。
Example 2 37.6 mol% of 1,6 diisocyanate hexane,
11.4 mol% 4,4'-diisocyanate biphenyl, 50.5 mol% hydrogen cyanide and 0.5 mo
Using 1% of a silicon-containing diisocyanate represented by the following formula (9), the same treatment as in Example 1 was carried out to synthesize a silicon-containing iminohydantoin copolymer. This copolymer had a repeating unit represented by the following formula (10) and had an intrinsic viscosity of 0.7 dL / g.

【化9】 [Chemical 9]

【化10】 上記式(10)で表されるシリコン含有イミノヒダント
イン共重合体を使用する以外は実施例1と同様にして可
逆性記録媒体を得た。オーバーコート層の摩擦係数は
0.27であった。
[Chemical 10] A reversible recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silicon-containing iminohydantoin copolymer represented by the above formula (10) was used. The coefficient of friction of the overcoat layer was 0.27.

【0041】実施例3 45.5mol%の3,3′−ジクロロ−4,4′−ジ
フェニルジイソシアネート、50.5mol%のシアン
化水素及び4mol%の下記式(11)で表されるシリ
コン含有ジイソシアネートを用いて、実施例1と全く同
様に処理してシリコン含有イミノヒダントイン共重合体
を合成した。この共重合体は下記式(12)で示される
繰り返し単位を有し、固有粘度は1.1dL/g、ガラ
ス転移点は200℃以上であった。
Example 3 45.5 mol% of 3,3'-dichloro-4,4'-diphenyl diisocyanate, 50.5 mol% of hydrogen cyanide and 4 mol% of a silicon-containing diisocyanate represented by the following formula (11) were used. Then, the same treatment as in Example 1 was carried out to synthesize a silicon-containing iminohydantoin copolymer. This copolymer had a repeating unit represented by the following formula (12), had an intrinsic viscosity of 1.1 dL / g and a glass transition point of 200 ° C. or higher.

【化11】 [Chemical 11]

【化12】 上記式(12)で示されるシリコン含有イミノヒダント
イン共重合体を使用する以外は実施例1と同様にして可
逆性記録媒体を得た。オーバーコート層の摩擦係数は
0.12であった。
[Chemical 12] A reversible recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silicon-containing iminohydantoin copolymer represented by the above formula (12) was used. The coefficient of friction of the overcoat layer was 0.12.

【0042】実施例4 46mol%の4,4′−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、50.5mol%のシアン化水素及び3.5m
ol%の下記式(13)で表されるシリコン含有ジイソ
シアネートを用いて、実施例1と全く同様に処理してシ
リコン含有イミノヒダントイン共重合体を合成した。こ
の共重合体は下記式(14)で表される繰り返し単位を
有し、固有粘度は1.2dL/g、ガラス転移点は20
0℃以上であった。
Example 4 46 mol% 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 50.5 mol% hydrogen cyanide and 3.5 m
Using silicon-containing diisocyanate represented by the following formula (13) in ol%, the same treatment as in Example 1 was carried out to synthesize a silicon-containing iminohydantoin copolymer. This copolymer has a repeating unit represented by the following formula (14), an intrinsic viscosity of 1.2 dL / g and a glass transition point of 20.
It was 0 ° C or higher.

【化13】 [Chemical 13]

【化14】 上記式(14)で示されるシリコン含有イミノヒダント
イン共重合体を使用する以外は実施例1と同様にして可
逆性記録媒体を得た。オーバーコート層の摩擦係数は
0.14であった。
Embedded image A reversible recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silicon-containing iminohydantoin copolymer represented by the above formula (14) was used. The coefficient of friction of the overcoat layer was 0.14.

【0043】実施例5 46mol%の4,4′−ジイソシアネートジフェニル
エーテル、50.5mol%のシアン化水素及び3.5
mol%の下記式(15)で表されるシリコン含有ジイ
ソシアネートを用いて、実施例1と全く同様に処理して
シリコン含有イミノヒダントイン共重合体を合成した。
この共重合体は下記式(16)で表される繰り返し単位
を有し、固有粘度は1.2dL/g、ガラス転移点は2
00℃以上であった。
Example 5 46 mol% 4,4'-diisocyanate diphenyl ether, 50.5 mol% hydrogen cyanide and 3.5
A silicon-containing iminohydantoin copolymer was synthesized by treating in exactly the same manner as in Example 1 using mol% of the silicon-containing diisocyanate represented by the following formula (15).
This copolymer has a repeating unit represented by the following formula (16), an intrinsic viscosity of 1.2 dL / g and a glass transition point of 2
It was at least 00 ° C.

【化15】 [Chemical 15]

【化16】 上記式(16)で示されるシリコン含有イミノヒダント
イン共重合体を使用する以外は実施例1と同様にして可
逆性記録媒体を得た。オーバーコート層の摩擦係数は
0.14であった。
Embedded image A reversible recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silicon-containing iminohydantoin copolymer represented by the above formula (16) was used. The coefficient of friction of the overcoat layer was 0.14.

【0044】実施例6 29.7mol%の4,4′−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、50.5mol%のシアン化水素及び1
9.8mol%の下記式(17)で示されるシリコン含
有ジイソシアネートを用いて、実施例1と全く同様に処
理してシリコン含有イミノヒダントイン共重合体を合成
した。この共重合体は下記式(18)で示される繰り返
し単位を有し、固有粘度は0.9dL/g、破断伸度は
50%以上であった。
Example 6 29.7 mol% 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 50.5 mol% hydrogen cyanide and 1
A silicon-containing iminohydantoin copolymer was synthesized in the same manner as in Example 1 except that 9.8 mol% of the silicon-containing diisocyanate represented by the following formula (17) was used. This copolymer had a repeating unit represented by the following formula (18), had an intrinsic viscosity of 0.9 dL / g and an elongation at break of 50% or more.

【化17】 [Chemical 17]

【化18】 上記式(18)で示されるシリコン含有イミノヒダント
イン共重合体を使用する以外は実施例1と同様にして可
逆性記録媒体を得た。オーバーコート層の摩擦係数は
0.05であった。
Embedded image A reversible recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silicon-containing iminohydantoin copolymer represented by the above formula (18) was used. The coefficient of friction of the overcoat layer was 0.05.

【0045】実施例7 44.5mol%の4,4′−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、50.5mol%のシアン化水素及び5.
0mol%の前記式(7)で示されるシリコン含有ジイ
ソシアネートを用いて、実施例1と全く同様に処理して
シリコン含有イミノヒダントイン共重合体を合成した。
この共重合体は下記式(19)で示される繰り返し単位
を有し、固有粘度は1.4dL/g、ガラス転移点は2
00℃以上、破断伸度は50%以上であった。
Example 7 44.5 mol% 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 50.5 mol% hydrogen cyanide and 5.
The same treatment as in Example 1 was carried out using 0 mol% of the silicon-containing diisocyanate represented by the above formula (7) to synthesize a silicon-containing iminohydantoin copolymer.
This copolymer has a repeating unit represented by the following formula (19), an intrinsic viscosity of 1.4 dL / g and a glass transition point of 2
The elongation at break was 00 ° C or more and 50% or more.

【化19】 上記式(19)で示されるシリコン含有イミノヒダント
イン共重合体を使用する以外は実施例1と同様にして可
逆性記録媒体を得た。オーバーコート層の摩擦係数は
0.11であった。
[Chemical 19] A reversible recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silicon-containing iminohydantoin copolymer represented by the above formula (19) was used. The coefficient of friction of the overcoat layer was 0.11.

【0046】実施例8 34.7mol%の2,4−トルエンジイソシアネー
ト、50.5mol%のシアン化水素及び14.8mo
l%の前記式(9)で示されるシリコン含有ジイソシア
ネートを用いて、実施例1と全く同様に処理してシリコ
ン含有イミノヒダントイン共重合体を合成した。この共
重合体は下記式(20)で示される繰り返し単位を有
し、固有粘度は0.6dL/g、ガラス転移点は200
℃以上であった。
Example 8 34.7 mol% 2,4-toluene diisocyanate, 50.5 mol% hydrogen cyanide and 14.8 mo
Using 1% of the silicon-containing diisocyanate represented by the above formula (9), the same treatment as in Example 1 was carried out to synthesize a silicon-containing iminohydantoin copolymer. This copolymer has a repeating unit represented by the following formula (20), an intrinsic viscosity of 0.6 dL / g, and a glass transition point of 200.
It was above ℃.

【化20】 上記式(20)で表されるシリコン含有イミノヒダント
イン共重合体を使用する以外は実施例1と同様にして可
逆性記録媒体を得た。オーバーコート層の摩擦係数は
0.11であった。
Embedded image A reversible recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silicon-containing iminohydantoin copolymer represented by the above formula (20) was used. The coefficient of friction of the overcoat layer was 0.11.

【0047】実施例9 44.5mol%の3,4′−ジイソシアネートジフェ
ニルエーテル、50.5mol%のシアン化水素及び
5.0mol%の前記式(11)で表されるシリコン含
有ジイソシアネートを用いて、実施例1と全く同様に処
理してシリコン含有イミノヒダントイン共重合体を合成
した。この共重合体は下記式(21)で表される繰り返
し単位を有し、固有粘度は1.3dL/g、ガラス転移
点は200℃以上、破断伸度は50%であった。
Example 9 Example 1 was performed using 44.5 mol% of 3,4'-diisocyanate diphenyl ether, 50.5 mol% of hydrogen cyanide and 5.0 mol% of the silicon-containing diisocyanate represented by the above formula (11). A silicon-containing iminohydantoin copolymer was synthesized in the same manner as described above. This copolymer had a repeating unit represented by the following formula (21), had an intrinsic viscosity of 1.3 dL / g, a glass transition point of 200 ° C. or higher, and a breaking elongation of 50%.

【化21】 上記式(21)で示されるシリコン含有イミノヒダント
イン共重合体を使用する以外は実施例1と同様にして可
逆性記録媒体を得た。オーバーコート層の摩擦係数は
0.18であった。
[Chemical 21] A reversible recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silicon-containing iminohydantoin copolymer represented by the above formula (21) was used. The coefficient of friction of the overcoat layer was 0.18.

【0048】実施例10 29.7mol%のm−フェニレンジイソシアネート、
16.3mol%の2,4−トルエンジイソシアネー
ト、50.5mol%のシアン化水素及び3.5mol
%の下記式(22)で表されるシリコン含有ジイソシア
ネートを用いて、実施例1と全く同様に処理してシリコ
ン含有イミノヒダントインマルチブロック共重合体を合
成した。この共重合体は下記式(23)で表される繰り
返し単位を有し、固有粘度は0.7dL/g、ガラス転
移点は200℃以上であった。
Example 10 29.7 mol% m-phenylene diisocyanate,
16.3 mol% 2,4-toluene diisocyanate, 50.5 mol% hydrogen cyanide and 3.5 mol
% Of the silicon-containing diisocyanate represented by the following formula (22) was treated in the same manner as in Example 1 to synthesize a silicon-containing iminohydantoin multiblock copolymer. This copolymer had a repeating unit represented by the following formula (23), had an intrinsic viscosity of 0.7 dL / g and a glass transition point of 200 ° C. or higher.

【化22】 上記式(23)で示されるシリコン含有イミノヒダント
インマルチブロック共重合体を使用する以外は実施例1
と同様にして可逆性記録媒体を得た。オーバーコート層
の摩擦係数は0.06であった。
[Chemical formula 22] Example 1 except that the silicon-containing iminohydantoin multiblock copolymer represented by the above formula (23) was used.
A reversible recording medium was obtained in the same manner as in. The coefficient of friction of the overcoat layer was 0.06.

【0049】実施例11 39.6mol%の4,4′−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、2.5mol%のm−キシレンジイソシア
ネート、50.5mol%のシアン化水素及び7.4m
ol%の前記式(7)で表されるシリコン含有ジイソシ
アネートを用いて、実施例1と全く同様に処理してシリ
コン含有イミノヒダントインマルチブロック共重合体を
合成した。この共重合体は下記式(24)で表される繰
り返し単位を有し、固有粘度は1.3dL/g、ガラス
転移点は200℃以上、破断伸度は50%であった。
Example 11 39.6 mol% 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 2.5 mol% m-xylene diisocyanate, 50.5 mol% hydrogen cyanide and 7.4 m
The silicon-containing iminohydantoin multi-block copolymer was synthesized in the same manner as in Example 1 using ol% of the silicon-containing diisocyanate represented by the above formula (7). The copolymer had a repeating unit represented by the following formula (24), an intrinsic viscosity of 1.3 dL / g, a glass transition point of 200 ° C. or higher, and a breaking elongation of 50%.

【化24】 上記式(24)で表されるシリコン含有イミノヒダント
イン共重合体を使用する以外は実施例1と同様にして可
逆性記録媒体を得た。オーバーコート層の摩擦係数は
0.13であった。
[Chemical formula 24] A reversible recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silicon-containing iminohydantoin copolymer represented by the above formula (24) was used. The coefficient of friction of the overcoat layer was 0.13.

【0050】実施例12 39.6mol%の4,4′−ジイソシアネートジフェ
ニルエーテル、5.0mol%の2,4−トルエンジイ
ソシアネート、50.5mol%のシアン化水素及び
5.0mol%の前記式(22)で表されるシリコン含
有ジイソシアネートを用いて、実施例1と全く同様に処
理してシリコン含有イミノヒダントインマルチブロック
共重合体を合成した。この共重合体は下記式(25)で
表される繰り返し単位を有し、固有粘度は0.8dL/
g、ガラス転移点は200℃以上、破断伸度は50%で
あった。
Example 12 39.6 mol% 4,4'-diisocyanate diphenyl ether, 5.0 mol% 2,4-toluene diisocyanate, 50.5 mol% hydrogen cyanide and 5.0 mol% represented by the above formula (22). A silicon-containing iminohydantoin multiblock copolymer was synthesized by treating the silicon-containing diisocyanate prepared in the same manner as in Example 1. This copolymer has a repeating unit represented by the following formula (25) and has an intrinsic viscosity of 0.8 dL /
g, the glass transition point was 200 ° C. or higher, and the breaking elongation was 50%.

【化25】 上記式(25)で表されるシリコン含有イミノヒダント
インマルチブロック共重合体を使用する以外は実施例1
と同様にして可逆性記録媒体を得た。オーバーコート層
の摩擦係数は0.05であった。
[Chemical 25] Example 1 except that the silicon-containing iminohydantoin multiblock copolymer represented by the above formula (25) was used.
A reversible recording medium was obtained in the same manner as in. The coefficient of friction of the overcoat layer was 0.05.

【0051】比較例1 実施例1と同様にして可逆性感熱記録層を設け、中間層
とオーバーコート層は設けないで可逆性感熱記録媒体を
得た。
Comparative Example 1 A reversible thermosensitive recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reversible thermosensitive recording layer was provided and the intermediate layer and the overcoat layer were not provided.

【0052】比較例2 実施例1と同様にして可逆性感熱記録層と中間層を設
け、その中間層上に3部のオルガノポリシロキサン(信
越シリコン社製、KS−779H)、0.01部の触媒
(信越シリコン社製、PL−8)及び97部のトルエン
から成る溶液をワイヤーバーで塗布し、80℃で1分間
乾燥して0.12μm厚のオーバーコート層を設けて可
逆性感熱記録媒体を得た。
Comparative Example 2 A reversible thermosensitive recording layer and an intermediate layer were provided in the same manner as in Example 1, and 3 parts of organopolysiloxane (KS-779H, manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd.), 0.01 part, were provided on the intermediate layer. Solution (PL-8, manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd.) and 97 parts of toluene was coated with a wire bar and dried at 80 ° C. for 1 minute to form an overcoat layer having a thickness of 0.12 μm. The medium was obtained.

【0053】(評価方法)以上のように作成した可逆性
感熱記録媒体を薄膜サーマルヘッドを用いて0.5μJ
/dotの印字エネルギーで画像を形成した後、65℃
まで再加熱して画像を消去する操作を500回繰り返し
た。1回目、100回目、300回目及び500回目の
画像部と非画像部の濃度を、裏面に黒色紙をおいてマク
ベス濃度計RD514で測定し、その結果を表1に示し
た。
(Evaluation Method) The reversible thermosensitive recording medium prepared as described above was applied to a thin film thermal head at 0.5 μJ.
After forming an image with the printing energy of / dot, 65 ° C
The operation of reheating until the image is erased was repeated 500 times. The densities of the image part and the non-image part at the 1st, 100th, 300th and 500th times were measured with a Macbeth densitometer RD514 with a black paper on the back surface, and the results are shown in Table 1.

【0054】[0054]

【表1】 [Table 1]

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明の可逆性感熱記録媒体は、前記特
定構造のシリコン含有イミノヒダントイン系重合体から
なるオーバーコート層を可逆性感熱記録層上面に設ける
ことによって、サーマルヘッドなどの発熱体による画像
形成と消去の繰り返しにおける非画像部の透明度の低下
を抑制することが可能となる。また、該重合体として、
フィルムにしたときの破断伸度が50%以上であるシリ
コン含有イミノヒダントイン系共重合体を使用すること
によりオーバーコート層構成物がサーマルヘッドなどの
発熱体やその近傍に融着又は付着して画像品質を低下さ
せたり不完全な消去の発生を防止することができる。更
に、該重合体として、200℃以上のガラス転移点を有
するシリコン含有イミノヒダントイン系共重合体を使用
することにより、上記の透明度の低下をさらに抑制する
ことが可能となる。更にまた、該重合体として、0.2
0以下の動摩擦係数を有するシリコン含有イミノヒダン
トイン系共重合体を使用することにより、サーマルヘッ
ドなどの発熱体とオーバーコート層との間に発生する磨
擦力が小さくなり、オーバーコート層の変形が抑制され
て、上記の透明度の低下をさらに防止することが可能と
なる。
The reversible thermosensitive recording medium of the present invention is provided with a heating element such as a thermal head by providing an overcoat layer comprising the silicon-containing iminohydantoin-based polymer having the above-mentioned specific structure on the reversible thermosensitive recording layer. It is possible to suppress the decrease in the transparency of the non-image portion due to the repetition of image formation and deletion. Further, as the polymer,
By using a silicon-containing iminohydantoin-based copolymer having a breaking elongation of 50% or more when formed into a film, the overcoat layer composition is fused or adhered to a heating element such as a thermal head or the vicinity thereof to form an image. It is possible to prevent the deterioration of quality and the occurrence of incomplete erasure. Furthermore, by using a silicon-containing iminohydantoin-based copolymer having a glass transition point of 200 ° C. or higher as the polymer, it is possible to further suppress the above-mentioned decrease in transparency. Furthermore, as the polymer, 0.2
By using the silicon-containing iminohydantoin-based copolymer having a dynamic friction coefficient of 0 or less, the rubbing force generated between the heating element such as a thermal head and the overcoat layer is reduced, and the deformation of the overcoat layer is suppressed. As a result, it is possible to further prevent the above-mentioned decrease in transparency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係わる感熱層で画像の形成・消去を行
なう場合の説明図。
FIG. 1 is an explanatory diagram when an image is formed / erased by a heat-sensitive layer according to the present invention.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、樹脂マトリックス及び該樹
脂マトリックス中に分散させた低分子有機化合物を主成
分とし、透明度が温度変化に依存して可逆的に変化する
感熱記録層を設けた可逆性感熱記録媒体において、該感
熱記録層上にシリコンを含有するイミノヒダントイン系
重合体から成るオーバーコート層を設けたことを特徴と
する可逆性感熱記録媒体。
1. A reversible recording medium comprising a resin matrix and a low-molecular organic compound dispersed in the resin matrix as a main component, and a thermosensitive recording layer whose transparency reversibly changes depending on a temperature change. A reversible thermosensitive recording medium, characterized in that an overcoat layer made of an iminohydantoin-based polymer containing silicon is provided on the thermosensitive recording layer.
【請求項2】 前記シリコンを含有するイミノヒダント
イン系重合体が、下記一般式(1)で表される繰り返し
単位を有する共重合体であることを特徴とする請求項1
記載の可逆性感熱記録媒体。 【化1】 (式中、R1、R2、R3及びR4は、ハロゲン原子または
CN基で置換されても良い炭素数1〜12のアルキル
基、又はフェニル基、あるいは炭素数1〜4のアルキル
基又はアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されたフェ
ニル基を表し、同一であっても異なっていても良い。A
は、式−Ph−D−C(L1)(L2)−C(L3
(L4)−又はPh−D−で表される2価の結合基を表
し、この式においてL1、L2、L3及びL4は、水素原子
あるいは炭素数1〜6のアルキル基を表し、同一であっ
ても異なっていても良く、Dは結合手あるいは−E−
(CH2)m−(ただし、mは1〜6の整数を表す)、
−E−Si(CH32−、−E−Si(CH3)(P
h)−及び−E−Si(Ph)2−から選択された2価
の結合基を表し、該Eは結合手あるいは−O−、−S
−、−O−CH2−、−O−CO−及び−NH−CO−
から選択された2価の結合基を表し、Aに含まれるPh
はヒダントイン環の窒素原子と結合している。Bは、炭
素数2以上の2価の結合基を表す。n、y及びzは、1
以上の整数を表す。)
2. The iminohydantoin-based polymer containing silicon is a copolymer having a repeating unit represented by the following general formula (1).
The reversible thermosensitive recording medium described. Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom or a CN group, a phenyl group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Or a phenyl group substituted with an alkoxy group or a halogen atom, which may be the same or different.
Has the formula -Ph-D-C (L 1 ) (L 2) -C (L 3)
Represents a divalent linking group represented by (L 4 )-or Ph-D-, and in this formula, L 1 , L 2 , L 3 and L 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. And may be the same or different, D is a bond or -E-
(CH 2 ) m- (where m represents an integer of 1 to 6),
-E-Si (CH 3) 2 -, - E-Si (CH 3) (P
h)-and -E-Si (Ph) 2- representing a divalent bonding group, wherein E is a bond or -O-, -S.
-, - O-CH 2 - , - O-CO- and -NH-CO-
Ph which is a divalent linking group selected from
Is bound to the nitrogen atom of the hydantoin ring. B represents a divalent linking group having 2 or more carbon atoms. n, y and z are 1
Represents the above integers. )
【請求項3】 前記シリコンを含有するイミノヒダント
イン系重合体が、下記一般式(2)で表わされる繰り返
し単位を有する共重合体であることを特徴とする請求項
1記載の可逆性感熱記録媒体。 【化2】 (式中、R1、R2、R3、R4……Rx+1、Rx+2及びRx+
3は、ハロゲン原子またはCN基で置換されても良い炭
素数1〜12のアルキル基、又はフェニル基、あるいは
炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキシ基又はハロゲ
ン原子で置換されたフェニル基を表し、同一であっても
異なっていても良い。Aは、式−Ph−D−C(L1
(L2)−C(L3)(L4)−又はPh−D−で表され
る2価の結合基を表し、この式においてL1、L2、L3
及びL4は、水素原子あるいは炭素数1〜6のアルキル
基を表し、同一であっても異なっていても良く、Dは結
合手あるいは−E−(CH2)m−(ただし、mは1〜
6の整数を示す)、−E−Si(CH32−、−E−S
i(CH3)(Ph)−及び−E−Si(Ph)2−から
選択された2価の結合基を表し、該Eは結合手あるいは
−O−、−S−、−O−CH2−、−O−CO−及び−
NH−CO−から選択された2価の結合基を表し、Aに
含まれるPhはヒダントイン環の窒素原子と結合してい
る。Bは、炭素数2以上の2価の結合基を表す。n1
2、…np、y及びzは、1以上の整数を表し、xは3
以上の整数を表し、pは2以上の整数を表す。)
3. The reversible thermosensitive recording medium according to claim 1, wherein the iminohydantoin-based polymer containing silicon is a copolymer having a repeating unit represented by the following general formula (2). . Embedded image (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 ... Rx + 1 , Rx + 2 and Rx +
3 represents a halogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a CN group, a phenyl group, an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group substituted with a halogen atom. , May be the same or different. A has the formula -Ph-D-C (L 1 )
It represents a divalent linking group represented by (L 2 ) -C (L 3 ) (L 4 )-or Ph-D-, and in this formula, L 1 , L 2 , L 3
And L 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and may be the same or different, and D is a bond or —E— (CH 2 ) m— (where m is 1 ~
6 represents an integer of), - E-Si (CH 3) 2 -, - E-S
i (CH 3) (Ph) - and -E-Si (Ph) 2 - represents a divalent linking group selected from the E represents a bond or -O -, - S -, - O-CH 2 -, -O-CO- and-
It represents a divalent linking group selected from NH-CO-, and Ph contained in A is bound to the nitrogen atom of the hydantoin ring. B represents a divalent linking group having 2 or more carbon atoms. n 1 ,
n 2 , ... Np, y and z represent an integer of 1 or more, and x is 3
The above integers are represented, and p represents an integer of 2 or more. )
【請求項4】 前記シリコンを含有するイミノヒダント
イン系重合体が、下記一般式(3)で表わされる繰り返
し単位を有するマルチブロック共重合体であることを特
徴とする請求項1記載の可逆性感熱記録媒体。 【化3】 (式中、R1、R2、R3及びR4は、ハロゲン原子または
CN基で置換されても良い炭素数1〜12のアルキル
基、又はフェニル基、あるいは炭素数1〜4のアルキル
基又はアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されたフェ
ニル基を表し、同一であっても異なっていても良い。A
は、式−Ph−D−C(L1)(L2)−C(L3
(L4)−又はPh−D−で表される2価の結合基を示
し、この式においてL1、L2、L3及びL4は、水素原子
あるいは炭素数1〜6のアルキル基を表し、同一であっ
ても異なっていても良く、Dは結合手あるいは−E−
(CH2)m−(ただし、mは1〜6の整数を表す)、
−E−Si(CH32−、−E−Si(CH3)(P
h)−及び−E−Si(Ph)2−から選択された2価
の結合基を示し、該Eは結合手あるいは−O−、−S
−、−O−CH2−、−O−CO−及び−NH−CO−
から選択された2価の結合基を示し、Aに含まれるPh
はヒダントイン環の窒素原子と結合している。B1、B2
…Bqは炭素数2以上の2価の結合基を表す。n、y及
びz1、z2…zqは1以上の整数を表し、qは2以上の
整数を表す。)
4. The reversible thermosensitive material according to claim 1, wherein the iminohydantoin-based polymer containing silicon is a multi-block copolymer having a repeating unit represented by the following general formula (3). recoding media. Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom or a CN group, a phenyl group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Or a phenyl group substituted with an alkoxy group or a halogen atom, which may be the same or different.
Has the formula -Ph-D-C (L 1 ) (L 2) -C (L 3)
(L 4 )-or Ph-D- represents a divalent linking group, and in this formula, L 1 , L 2 , L 3 and L 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. And may be the same or different, D is a bond or -E-
(CH 2 ) m- (where m represents an integer of 1 to 6),
-E-Si (CH 3) 2 -, - E-Si (CH 3) (P
h)-and -E-Si (Ph) 2- , which represents a divalent linking group, wherein E is a bond or -O-, -S.
-, - O-CH 2 - , - O-CO- and -NH-CO-
A divalent linking group selected from
Is bound to the nitrogen atom of the hydantoin ring. B 1 , B 2
Bq represents a divalent linking group having 2 or more carbon atoms. n, y and z 1 , z 2 ... Zq represent an integer of 1 or more, and q represents an integer of 2 or more. )
【請求項5】 前記シリコンを含有するイミノヒダント
イン系重合体が、下記一般式(4)で表わされる繰り返
し単位を有するマルチブロック共重合体であることを特
徴とする請求項1記載の可逆性感熱記録媒体。 【化4】 (式中、R1、R2、R3、R4……Rx、Rx+1、Rx+2
びRx+3は、ハロゲン原子またはCN基で置換されても
良い炭素数1〜12のアルキル基、又はフェニル基、あ
るいは炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキシ基又は
ハロゲン原子で置換されたフェニル基を表し、同一であ
っても異なっていてもよい。Aは、式−Ph−D−C
(L1)(L2)−C(L3)(L4)−又はPh−D−で
表わされる2価の結合基を表し、この式においてL1
2、L3及びL4は、水素原子あるいは炭素数1〜6の
アルキル基を表し、同一であっても異なっていても良
く、Dは結合手あるいは−E−(CH2)m−(ただ
し、mは1〜6の整数を示す)、−E−Si(CH32
−、−E−Si(CH3)(Ph)−及び−E−Si
(Ph)2−から選択された2価の結合基を表し、該E
は結合手あるいは−O−、−S−、−O−CH2−、−
O−CO−及び−NH−CO−から選択された2価の結
合基を表し、Aに含まれるPhはヒダントイン環の窒素
原子と結合している。B1、B2…Bqは炭素数2以上の
2価の結合基を表す。n1、n2、…np、y、z1、z2
…zqは1以上の整数を表し、xは3以上の整数を表
し、p及びqは2以上の整数を表す。)
5. The reversible thermosensitive material according to claim 1, wherein the iminohydantoin-based polymer containing silicon is a multi-block copolymer having a repeating unit represented by the following general formula (4). recoding media. [Chemical 4] (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 ... Rx, Rx + 1 , Rx + 2 and Rx + 3 are an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom or a CN group, or A phenyl group, or an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group substituted with a halogen atom, which may be the same or different, and A is of the formula -Ph-D-C.
(L 1 ) (L 2 ) —C (L 3 ) (L 4 ) — or Ph-D— represents a divalent linking group, and in this formula L 1 ,
L 2 , L 3 and L 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and may be the same or different, and D is a bond or —E— (CH 2 ) m- (. However, m is an integer of 1~6), - E-Si ( CH 3) 2
-, - E-Si (CH 3) (Ph) - and -E-Si
Represents a divalent linking group selected from (Ph) 2
Is a bond or —O—, —S—, —O—CH 2 —, —
It represents a divalent linking group selected from O—CO— and —NH—CO—, and Ph contained in A is bound to the nitrogen atom of the hydantoin ring. B 1 , B 2 ... Bq represent a divalent bonding group having 2 or more carbon atoms. n 1 , n 2 , ... Np, y, z 1 , z 2
... zq represents an integer of 1 or more, x represents an integer of 3 or more, and p and q represent integers of 2 or more. )
【請求項6】 前記シリコンを含有するイミノヒダント
イン系重合体が、フィルムにしたときに50%以上の破
断伸度を有することを特徴とする請求項1、2、3、4
又は5に記載の可逆性感熱記録媒体。
6. The iminohydantoin-based polymer containing silicon has a breaking elongation of 50% or more when formed into a film.
Or the reversible thermosensitive recording medium according to item 5.
【請求項7】 前記シリコンを含有するイミノヒダント
イン系重合体が、200℃以上のガラス転移点を有する
ことを特徴とする請求項1、2、3、4又は5に記載の
可逆性感熱記録媒体。
7. The reversible thermosensitive recording medium according to claim 1, wherein the silicon-containing iminohydantoin-based polymer has a glass transition point of 200 ° C. or higher. .
【請求項8】 前記シリコンを含有するイミノヒダント
イン系重合体が0.20以下の動摩擦係数を有すること
を特徴とする請求項1、2、3、4又は5に記載の可逆
性感熱記録媒体。
8. The reversible thermosensitive recording medium according to claim 1, wherein the iminohydantoin-based polymer containing silicon has a dynamic friction coefficient of 0.20 or less.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US10640614B2 (en) 2016-07-28 2020-05-05 3M Innovative Properties Company Segmented silicone polyamide block copolymers and articles containing the same
US10865330B2 (en) 2016-07-28 2020-12-15 3M Innovative Properties Company Segmented silicone polyamide block copolymers and articles containing the same

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US10640614B2 (en) 2016-07-28 2020-05-05 3M Innovative Properties Company Segmented silicone polyamide block copolymers and articles containing the same
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