JPH08119942A - キノリン−2−イル安息香酸誘導体の製造方法 - Google Patents
キノリン−2−イル安息香酸誘導体の製造方法Info
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- JPH08119942A JPH08119942A JP26412294A JP26412294A JPH08119942A JP H08119942 A JPH08119942 A JP H08119942A JP 26412294 A JP26412294 A JP 26412294A JP 26412294 A JP26412294 A JP 26412294A JP H08119942 A JPH08119942 A JP H08119942A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】キノリン環を有するアンジオテンシンII拮抗剤
の中間体として有用な化合物の新規な製法を提供する。 【構成】イサチン類(1)とアシル安息香酸類(2)を
反応させてカルボキシフェニルキノリンカルボン酸類
(3)を得る(R1 〜R6 はそれぞれ独立に水素原子、
ハロゲン原子、低級アルキル基、アルケニル基、シクロ
低級アルキル基、アリール基、アルアルキル基、アルコ
キシル基、またはハロゲン置換低級アルキル基。Qは−
NH−基を有する有機化合物からその窒素原子に結合し
た水素原子を除いた1価の有機基。)。 【化1】
の中間体として有用な化合物の新規な製法を提供する。 【構成】イサチン類(1)とアシル安息香酸類(2)を
反応させてカルボキシフェニルキノリンカルボン酸類
(3)を得る(R1 〜R6 はそれぞれ独立に水素原子、
ハロゲン原子、低級アルキル基、アルケニル基、シクロ
低級アルキル基、アリール基、アルアルキル基、アルコ
キシル基、またはハロゲン置換低級アルキル基。Qは−
NH−基を有する有機化合物からその窒素原子に結合し
た水素原子を除いた1価の有機基。)。 【化1】
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高血圧治療剤として有
望なアンジオテンシンII拮抗剤、またはその中間原料と
して有用なキノリン−2−イル安息香酸誘導体の製造方
法である。
望なアンジオテンシンII拮抗剤、またはその中間原料と
して有用なキノリン−2−イル安息香酸誘導体の製造方
法である。
【0002】
【従来の技術】生体の血圧は、交感神経系や昇圧系と降
圧系のバランスなどで調節されている。昇圧系に関与す
るものとしてレニン−アンジオテンシン系がある。レニ
ンはアンジオテンシノーゲンに作用してアンジオテンシ
ンI を生成する。アンジオテンシンI はさらにアンジオ
テンシン変換酵素により、アンジオテンシンIIに変換さ
れる。アンジオテンシンIIは強い血管収縮作用を有する
とともに、副腎皮質に作用してアルドステロンの分泌を
促し、血圧の上昇をもたらす。アンジオテンシンIIは細
胞膜上のアンジオテンシンII受容体を介して作用するの
で、その拮抗薬はアンジオテンシン変換酵素阻害剤と同
様アンジオテンシンIIによって引き起こされる高血圧症
の治療薬として使用できる。
圧系のバランスなどで調節されている。昇圧系に関与す
るものとしてレニン−アンジオテンシン系がある。レニ
ンはアンジオテンシノーゲンに作用してアンジオテンシ
ンI を生成する。アンジオテンシンI はさらにアンジオ
テンシン変換酵素により、アンジオテンシンIIに変換さ
れる。アンジオテンシンIIは強い血管収縮作用を有する
とともに、副腎皮質に作用してアルドステロンの分泌を
促し、血圧の上昇をもたらす。アンジオテンシンIIは細
胞膜上のアンジオテンシンII受容体を介して作用するの
で、その拮抗薬はアンジオテンシン変換酵素阻害剤と同
様アンジオテンシンIIによって引き起こされる高血圧症
の治療薬として使用できる。
【0003】これまで、サララシンに代表されるペプチ
ド性アンジオテンシンII拮抗剤が知られていたが、ペプ
チド性であるために経口投与では有効でないことが知ら
れている。最近、非ペプチド性アンジオテンシンII拮抗
剤が報告されており(たとえば、特開昭56−7107
4号公報、特表平3−501020号公報など)、経口
投与で有効であることが確認されている。
ド性アンジオテンシンII拮抗剤が知られていたが、ペプ
チド性であるために経口投与では有効でないことが知ら
れている。最近、非ペプチド性アンジオテンシンII拮抗
剤が報告されており(たとえば、特開昭56−7107
4号公報、特表平3−501020号公報など)、経口
投与で有効であることが確認されている。
【0004】本発明者らは、アンジオテンシンII拮抗作
用を有し、経口投与で有効である非ペプチド性化合物を
鋭意探索し、その結果、新規なキノリン誘導体を見いだ
した(特開平6−16659号公報、特開平6−806
64号公報参照)。また、同時にこれらのキノリン誘導
体を製造するための方法として、新規な中間体やその製
造法を見いだした(特開平6−16641号公報参
照)。
用を有し、経口投与で有効である非ペプチド性化合物を
鋭意探索し、その結果、新規なキノリン誘導体を見いだ
した(特開平6−16659号公報、特開平6−806
64号公報参照)。また、同時にこれらのキノリン誘導
体を製造するための方法として、新規な中間体やその製
造法を見いだした(特開平6−16641号公報参
照)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記公知のキノリン誘
導体において、1H−イミダゾールや3H−イミダゾ
[4,5−b]ピリジンの部分を骨格Aとし、6位のメ
チレン基を含むキノリン骨格部分を骨格Bとし、安息香
酸残基部分を骨格Cとすると、上記公知例記載のキノリ
ン誘導体の製造方法の基本は骨格Bと骨格Cとをまず結
合して骨格B−Cを形成し、次に骨格B−Cに骨格Aを
結合して骨格A−B−Cを完成させる方法にある。
導体において、1H−イミダゾールや3H−イミダゾ
[4,5−b]ピリジンの部分を骨格Aとし、6位のメ
チレン基を含むキノリン骨格部分を骨格Bとし、安息香
酸残基部分を骨格Cとすると、上記公知例記載のキノリ
ン誘導体の製造方法の基本は骨格Bと骨格Cとをまず結
合して骨格B−Cを形成し、次に骨格B−Cに骨格Aを
結合して骨格A−B−Cを完成させる方法にある。
【0006】しかし、この製造方法は場合により以下の
ような問題が生じやすい。すなわち、骨格Aと骨格B−
Cとを結合するためには、キノリン骨格の6位のメチル
基を臭素化する反応を行うが、生成物は目的物である6
−(ブロモメチル)体と、未反応の6−メチル体および
過反応物6−(ジブロモメチル)体の混合物であり、こ
れらを分離することは著しく困難である。また、分離せ
ずに骨格Aとの結合反応を行うと、目的物である骨格A
−B−Cと、上記副生物とを分離しなければならない
が、これも容易ではない。
ような問題が生じやすい。すなわち、骨格Aと骨格B−
Cとを結合するためには、キノリン骨格の6位のメチル
基を臭素化する反応を行うが、生成物は目的物である6
−(ブロモメチル)体と、未反応の6−メチル体および
過反応物6−(ジブロモメチル)体の混合物であり、こ
れらを分離することは著しく困難である。また、分離せ
ずに骨格Aとの結合反応を行うと、目的物である骨格A
−B−Cと、上記副生物とを分離しなければならない
が、これも容易ではない。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の製造方法は上記
の問題点を解決するキノリン−2−イル安息香酸誘導体
の製造方法である。その基本は、骨格Aと骨格Bとをま
ず結合して骨格A−Bを形成し、次に骨格A−Bに骨格
Cを結合して骨格A−B−Cを完成させる方法にある。
本発明者は、骨格Aが存在していても骨格Bに骨格Cを
結合する反応に支障はなく、逆にその反応により骨格A
や骨格A−B間の窒素−炭素結合は影響を受けないこと
を見いだした。また、後述の脱炭素反応においても骨格
Aの存在は影響されず、かつその脱炭素反応により骨格
Aや骨格A−B間の窒素−炭素結合は影響を受けないこ
とを見いだした。本発明はこの知見に基づく下記の発明
である。
の問題点を解決するキノリン−2−イル安息香酸誘導体
の製造方法である。その基本は、骨格Aと骨格Bとをま
ず結合して骨格A−Bを形成し、次に骨格A−Bに骨格
Cを結合して骨格A−B−Cを完成させる方法にある。
本発明者は、骨格Aが存在していても骨格Bに骨格Cを
結合する反応に支障はなく、逆にその反応により骨格A
や骨格A−B間の窒素−炭素結合は影響を受けないこと
を見いだした。また、後述の脱炭素反応においても骨格
Aの存在は影響されず、かつその脱炭素反応により骨格
Aや骨格A−B間の窒素−炭素結合は影響を受けないこ
とを見いだした。本発明はこの知見に基づく下記の発明
である。
【0008】下記式(1)で表されるイサチン類と下記
式(2)で表されるアシル安息香酸類を反応させて下記
式(3)で表されるカルボキシフェニルキノリンカルボ
ン酸類を製造することを特徴とするキノリン−2−イル
安息香酸誘導体の製造方法。
式(2)で表されるアシル安息香酸類を反応させて下記
式(3)で表されるカルボキシフェニルキノリンカルボ
ン酸類を製造することを特徴とするキノリン−2−イル
安息香酸誘導体の製造方法。
【0009】上記方法で得られたカルボキシフェニルキ
ノリンカルボン酸類を脱炭酸することによりキノリン環
上のカルボキシル基を水素原子に変換することを特徴と
するキノリン−2−イル安息香酸誘導体の製造方法。
ノリンカルボン酸類を脱炭酸することによりキノリン環
上のカルボキシル基を水素原子に変換することを特徴と
するキノリン−2−イル安息香酸誘導体の製造方法。
【0010】
【化4】
【0011】
【化5】
【0012】
【化6】
【0013】ただし、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、低級ア
ルキル基、アルケニル基、シクロ低級アルキル基、アリ
ール基、アルアルキル基、アルコキシル基、またはハロ
ゲン置換低級アルキル基を表し、Qは−NH−基を有す
る有機化合物からその窒素原子に結合した水素原子を除
いた1価の有機基を表す。
R6 はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、低級ア
ルキル基、アルケニル基、シクロ低級アルキル基、アリ
ール基、アルアルキル基、アルコキシル基、またはハロ
ゲン置換低級アルキル基を表し、Qは−NH−基を有す
る有機化合物からその窒素原子に結合した水素原子を除
いた1価の有機基を表す。
【0014】本明細書の以上の説明および以下の説明に
おいて、有機基が「低級」とは炭素原子1〜6個を意味
する。「低級アルキル基」の適当な例としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基などがあげられる。「アルケニル基」としては低級
アルケニル基が好ましく、特に炭素数4以下のアルケニ
ル基が好ましい。その適当な例としては、ビニル基、ア
リル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基などがあげ
られる。また、「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味する。「ハロゲン
置換低級アルキル基」としては、フッ素原子または塩素
原子が1以上置換した低級アルキル基が好ましく、特に
Cm F2m+1(m=1〜6)が好ましい。
おいて、有機基が「低級」とは炭素原子1〜6個を意味
する。「低級アルキル基」の適当な例としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基などがあげられる。「アルケニル基」としては低級
アルケニル基が好ましく、特に炭素数4以下のアルケニ
ル基が好ましい。その適当な例としては、ビニル基、ア
リル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基などがあげ
られる。また、「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味する。「ハロゲン
置換低級アルキル基」としては、フッ素原子または塩素
原子が1以上置換した低級アルキル基が好ましく、特に
Cm F2m+1(m=1〜6)が好ましい。
【0015】「アルコキシル基」としては低級アルコキ
シル基が好ましく、特に炭素数4以下のアルコキシル基
が好ましい。その適当な例としては、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などがあげられる。
「アルキルチオ基」としては低級アルキルチオ基が好ま
しく、その適当な例としては、メチルチオ基やエチルチ
オ基などがあげられる。「シクロ低級アルキル基」とは
環の炭素数が3〜6のシクロアルキル基を意味し、その
適当な例としては、シクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などがあげら
れる。「アリール基」とは、1価の芳香族炭化水素基を
いい、フェニル基やその誘導体が好ましい。その適当な
例としては、フェニル基、トリル基、p−ハロフェニル
基などがあげられる。また、「アルアルキル基」とはア
リール基置換アルキル基をいい、アルキル基の炭素数は
4以下が好ましい。その適当な例としては、ベンジル
基、ベンズヒドリル基、トリチル基、フェネチル基など
があげられる。
シル基が好ましく、特に炭素数4以下のアルコキシル基
が好ましい。その適当な例としては、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などがあげられる。
「アルキルチオ基」としては低級アルキルチオ基が好ま
しく、その適当な例としては、メチルチオ基やエチルチ
オ基などがあげられる。「シクロ低級アルキル基」とは
環の炭素数が3〜6のシクロアルキル基を意味し、その
適当な例としては、シクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などがあげら
れる。「アリール基」とは、1価の芳香族炭化水素基を
いい、フェニル基やその誘導体が好ましい。その適当な
例としては、フェニル基、トリル基、p−ハロフェニル
基などがあげられる。また、「アルアルキル基」とはア
リール基置換アルキル基をいい、アルキル基の炭素数は
4以下が好ましい。その適当な例としては、ベンジル
基、ベンズヒドリル基、トリチル基、フェネチル基など
があげられる。
【0016】Qは、−NH−基を有する有機化合物から
その窒素原子に結合した水素原子を除いた1価の有機基
を表す。この−NH−基を有する有機化合物は複素環系
化合物(−NH−基の窒素原子が環を構成する)が好ま
しく、この複素環系化合物は縮合複素環系化合物であっ
てもよい。また、この−NH−基を有する有機化合物
は、1級あるいは2級のアミノ基を少なくとも1個有す
る脂肪族アミン化合物、脂環族アミン化合物、あるいは
芳香族アミン化合物であってもよい。
その窒素原子に結合した水素原子を除いた1価の有機基
を表す。この−NH−基を有する有機化合物は複素環系
化合物(−NH−基の窒素原子が環を構成する)が好ま
しく、この複素環系化合物は縮合複素環系化合物であっ
てもよい。また、この−NH−基を有する有機化合物
は、1級あるいは2級のアミノ基を少なくとも1個有す
る脂肪族アミン化合物、脂環族アミン化合物、あるいは
芳香族アミン化合物であってもよい。
【0017】好ましいQは、前記特開平6−16659
号公報および特開平6−80664号公報記載のような
置換基を有する複素環系化合物である。Qとしては、た
とえば下記式(4)で表される置換基を有する1H−イ
ミダゾール−1−イル基がより好ましく、また下記式
(5)で表される置換基を有する3H−イミダゾ[4,
5−b]ピリジン−3−イル基がより好ましい。
号公報および特開平6−80664号公報記載のような
置換基を有する複素環系化合物である。Qとしては、た
とえば下記式(4)で表される置換基を有する1H−イ
ミダゾール−1−イル基がより好ましく、また下記式
(5)で表される置換基を有する3H−イミダゾ[4,
5−b]ピリジン−3−イル基がより好ましい。
【0018】
【化7】
【0019】
【化8】
【0020】上記式(4)、(5)において、R10〜R
15、X、Yはそれぞれ下記のものを表す。 R10、R13:それぞれ独立して、低級アルキル基、ハロ
低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、アルケニル
基、アルコキシル基、アルコキシル低級アルキル基、ま
たはアルキルチオ基。 R11、R12:両者は同一でも異なっていてもよく、それ
ぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Cm F
2m+1−、−(CH2 )p R20、−(CH2 )r CO
R21、または、−(CH2 )t NR22COR23。
15、X、Yはそれぞれ下記のものを表す。 R10、R13:それぞれ独立して、低級アルキル基、ハロ
低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、アルケニル
基、アルコキシル基、アルコキシル低級アルキル基、ま
たはアルキルチオ基。 R11、R12:両者は同一でも異なっていてもよく、それ
ぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Cm F
2m+1−、−(CH2 )p R20、−(CH2 )r CO
R21、または、−(CH2 )t NR22COR23。
【0021】R14、R15:両者は同一でも異なっていて
もよく、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、
低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、シクロ低級アル
キル基、アルケニル基、アルコキシル基、Cn F
2n+1−、−(CH2 )q R24、または、−(CH2 )s
COR25。 X、Y:両者は同一でも異なっていてもよく、それぞれ
独立して、CHまたは窒素原子。
もよく、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、
低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、シクロ低級アル
キル基、アルケニル基、アルコキシル基、Cn F
2n+1−、−(CH2 )q R24、または、−(CH2 )s
COR25。 X、Y:両者は同一でも異なっていてもよく、それぞれ
独立して、CHまたは窒素原子。
【0022】なお、上記R20〜R25およびm〜tは以下
のものを表す。 R20、R24:それぞれ独立して、ヒドロキシル基または
アルコキシル基。 R21、R25:それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ
ル基、低級アルキル基、またはアルコキシル基。 R22:水素原子または低級アルキル基。 R23:水素原子、低級アルキル基、またはアルコキシル
基。 m、n:それぞれ独立して、1〜6の整数。 p、q:それぞれ独立して、1〜4の整数。 r、s:それぞれ独立して、0〜4の整数。 t:0〜4の整数。
のものを表す。 R20、R24:それぞれ独立して、ヒドロキシル基または
アルコキシル基。 R21、R25:それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ
ル基、低級アルキル基、またはアルコキシル基。 R22:水素原子または低級アルキル基。 R23:水素原子、低級アルキル基、またはアルコキシル
基。 m、n:それぞれ独立して、1〜6の整数。 p、q:それぞれ独立して、1〜4の整数。 r、s:それぞれ独立して、0〜4の整数。 t:0〜4の整数。
【0023】より好ましくは、R10、R13はそれぞれ独
立して低級アルキル基であり、R11は塩素原子であり、
R12は−(CH2 )p R20(この場合R20はヒドロキシ
ル基でpは1)または−(CH2 )r COR21(この場
合R21は水素原子、ヒドロキシル基または低級アルコキ
シル基でrは0〜1)であり、R14、R15は両者は同一
でも異なっていてもよく、それぞれ独立して、水素原
子、低級アルキル基、−(CH2 )q R24(この場合R
24はヒドロキシル基でqは1)または−(CH2)s C
OR25(この場合R21は水素原子、ヒドロキシル基また
は低級アルコキシル基でsは0〜1)であり、Xは窒素
原子であり、YはCHである。
立して低級アルキル基であり、R11は塩素原子であり、
R12は−(CH2 )p R20(この場合R20はヒドロキシ
ル基でpは1)または−(CH2 )r COR21(この場
合R21は水素原子、ヒドロキシル基または低級アルコキ
シル基でrは0〜1)であり、R14、R15は両者は同一
でも異なっていてもよく、それぞれ独立して、水素原
子、低級アルキル基、−(CH2 )q R24(この場合R
24はヒドロキシル基でqは1)または−(CH2)s C
OR25(この場合R21は水素原子、ヒドロキシル基また
は低級アルコキシル基でsは0〜1)であり、Xは窒素
原子であり、YはCHである。
【0024】本発明の方法は、式(1)で表されるイサ
チン類と式(2)で表されるアシル安息香酸類とを塩基
の存在下反応媒体中で反応させることによって行うこと
ができる。たとえば、イサチン類とアシル安息香酸類と
を塩基水溶液中で加熱して反応させることができる。塩
基としては、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどの
アルカリ金属水酸化物が好ましい。反応媒体としては水
が好ましい。
チン類と式(2)で表されるアシル安息香酸類とを塩基
の存在下反応媒体中で反応させることによって行うこと
ができる。たとえば、イサチン類とアシル安息香酸類と
を塩基水溶液中で加熱して反応させることができる。塩
基としては、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどの
アルカリ金属水酸化物が好ましい。反応媒体としては水
が好ましい。
【0025】アシル安息香酸類はイサチン類に対して
0.5〜10倍モル、特に0.5〜2倍モル使用するこ
とが好ましい。塩基はアシル安息香酸類に対して1〜4
倍モル、特に2〜3倍モル使用することが好ましい。反
応温度は50℃〜反応媒体の還流温度、特に80℃〜反
応媒体の還流温度で行うことが好ましい。反応時間は
0.5〜10時間、特に1〜3時間が適当である。
0.5〜10倍モル、特に0.5〜2倍モル使用するこ
とが好ましい。塩基はアシル安息香酸類に対して1〜4
倍モル、特に2〜3倍モル使用することが好ましい。反
応温度は50℃〜反応媒体の還流温度、特に80℃〜反
応媒体の還流温度で行うことが好ましい。反応時間は
0.5〜10時間、特に1〜3時間が適当である。
【0026】反応終了後の精製等の処理は、特に限定さ
れるものではないが次のように行うことが好ましい。反
応混合物を室温まで放冷した後氷冷水に注ぎ、水層を有
機溶媒、たとえばエーテルで洗浄し、その後希塩酸など
で水層を酸性化して沈殿を生成させ、その沈殿を濾取し
て目的とする式(3)で表されるカルボキシフェニルキ
ノリンカルボン酸類が得られる。
れるものではないが次のように行うことが好ましい。反
応混合物を室温まで放冷した後氷冷水に注ぎ、水層を有
機溶媒、たとえばエーテルで洗浄し、その後希塩酸など
で水層を酸性化して沈殿を生成させ、その沈殿を濾取し
て目的とする式(3)で表されるカルボキシフェニルキ
ノリンカルボン酸類が得られる。
【0027】式(3)で表されるカルボキシフェニルキ
ノリンカルボン酸類を脱炭酸することにより下記式
(6)で表されるカルボキシフェニルキノリン誘導体が
得られる。ただし、式(6)においてR7 は水素原子、
または低級アルキル基などのカルボキシル基の保護基を
表す。このカルボキシフェニルキノリン誘導体は前記公
知例に記載されているようにアンジオテンシンII拮抗剤
として有用な化合物ないしその中間体である。
ノリンカルボン酸類を脱炭酸することにより下記式
(6)で表されるカルボキシフェニルキノリン誘導体が
得られる。ただし、式(6)においてR7 は水素原子、
または低級アルキル基などのカルボキシル基の保護基を
表す。このカルボキシフェニルキノリン誘導体は前記公
知例に記載されているようにアンジオテンシンII拮抗剤
として有用な化合物ないしその中間体である。
【0028】
【化9】
【0029】式(3)で表されるカルボキシフェニルキ
ノリンカルボン酸類の脱炭酸は、前記特開平6−166
41号公報に記載の脱炭酸反応方法を使用することがで
きる。また、カルボキシフェニルキノリンカルボン酸類
のベンゼン環上のカルボキシル基を保護することなく直
接式(3)で表される化合物を濃硫酸等の酸や塩基の存
在下に脱炭酸することもできる。これら脱炭酸は高沸点
媒体中で150℃〜高沸点媒体の還流温度、好ましくは
180℃〜230℃で行うことが好ましい。高沸点媒体
としては、たとえばジフェニルエーテル、キシレン、キ
ノリン、ポリハロベンゼンなどがある。上記公知例に従
って脱炭酸を行うことによりR7 が低級アルキル基等の
カルボキシル基の保護基である式(6)で表されるカル
ボキシフェニルキノリン誘導体が得られ、ベンゼン環上
のカルボキシル基を保護することなく脱炭酸を行うこと
によりR7 が水素原子である式(6)で表されるカルボ
キシフェニルキノリン誘導体が得られる。
ノリンカルボン酸類の脱炭酸は、前記特開平6−166
41号公報に記載の脱炭酸反応方法を使用することがで
きる。また、カルボキシフェニルキノリンカルボン酸類
のベンゼン環上のカルボキシル基を保護することなく直
接式(3)で表される化合物を濃硫酸等の酸や塩基の存
在下に脱炭酸することもできる。これら脱炭酸は高沸点
媒体中で150℃〜高沸点媒体の還流温度、好ましくは
180℃〜230℃で行うことが好ましい。高沸点媒体
としては、たとえばジフェニルエーテル、キシレン、キ
ノリン、ポリハロベンゼンなどがある。上記公知例に従
って脱炭酸を行うことによりR7 が低級アルキル基等の
カルボキシル基の保護基である式(6)で表されるカル
ボキシフェニルキノリン誘導体が得られ、ベンゼン環上
のカルボキシル基を保護することなく脱炭酸を行うこと
によりR7 が水素原子である式(6)で表されるカルボ
キシフェニルキノリン誘導体が得られる。
【0030】本発明方法における原料である式(1)で
表されるイサチン類はたとえば以下の方法で製造され
る。
表されるイサチン類はたとえば以下の方法で製造され
る。
【0031】式(1)で表されるイサチン類は下記式
(7)で表わされる置換アニリン化合物を包水クロラー
ルおよびヒドロキシルアミン塩酸塩とで酸性水溶液中反
応させてイソニトロソアセトアニリドを形成し、Sandme
yer の方法により環化して得られる。
(7)で表わされる置換アニリン化合物を包水クロラー
ルおよびヒドロキシルアミン塩酸塩とで酸性水溶液中反
応させてイソニトロソアセトアニリドを形成し、Sandme
yer の方法により環化して得られる。
【0032】
【化10】
【0033】式(7)で表わされる置換アニリン化合物
は下記式(8)で表される置換ニトロ化合物を接触水素
添加触媒、たとえばパラジウムまたはラネーニッケルの
存在下、水素雰囲気中で反応することにより得ることが
できる。上記接触水素添加触媒を用いる代わりに金属の
水素化剤によっても同様の反応を行うことができる。
は下記式(8)で表される置換ニトロ化合物を接触水素
添加触媒、たとえばパラジウムまたはラネーニッケルの
存在下、水素雰囲気中で反応することにより得ることが
できる。上記接触水素添加触媒を用いる代わりに金属の
水素化剤によっても同様の反応を行うことができる。
【0034】
【化11】
【0035】式(8)で表される置換ニトロ化合物は、
Q−Hで表される前記−NH−基を有する有機化合物と
下記式(9)で表される化合物とを、塩基、たとえば水
素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナト
リウムメトキシドなどの存在下に、非プロトン性溶媒、
たとえば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジ
メチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン
などの溶媒中、0℃〜溶媒の還流温度で反応させること
により得られる。なお、式(9)中のLは脱離基を表
し、たとえば塩素、臭素またはヨウ素のようなハロゲン
原子あるいはメタンスルホニルオキシまたはp−トルエ
ンスルホニルオキシのような基である。
Q−Hで表される前記−NH−基を有する有機化合物と
下記式(9)で表される化合物とを、塩基、たとえば水
素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナト
リウムメトキシドなどの存在下に、非プロトン性溶媒、
たとえば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジ
メチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン
などの溶媒中、0℃〜溶媒の還流温度で反応させること
により得られる。なお、式(9)中のLは脱離基を表
し、たとえば塩素、臭素またはヨウ素のようなハロゲン
原子あるいはメタンスルホニルオキシまたはp−トルエ
ンスルホニルオキシのような基である。
【0036】
【化12】
【0037】本発明の方法は、特に前記特開平6−16
659号公報および特開平6−80664号公報記載の
キノリン誘導体を製造する場合の中間体〜そのキノリン
誘導体自体を製造する方法として有用である。しかしこ
れに限られるものではなく、他の化学物質製造用の中間
体として使用できる式(3)で表されるカルボキシフェ
ニルキノリンカルボン酸類やそれを脱炭酸して得られる
(6)で表されるカルボキシフェニルキノリン誘導体の
製造方法として有用である。
659号公報および特開平6−80664号公報記載の
キノリン誘導体を製造する場合の中間体〜そのキノリン
誘導体自体を製造する方法として有用である。しかしこ
れに限られるものではなく、他の化学物質製造用の中間
体として使用できる式(3)で表されるカルボキシフェ
ニルキノリンカルボン酸類やそれを脱炭酸して得られる
(6)で表されるカルボキシフェニルキノリン誘導体の
製造方法として有用である。
【0038】以下、実施例により本発明を説明するが、
本発明はこれらに限定されない。
本発明はこれらに限定されない。
【0039】
[参考例1] 2−プロパノイル安息香酸の合成
【0040】無水フタル酸20g(136mmol)、プロピオン酸
無水物35ml(270mmol) 、およびプロピオン酸ナトリウム
2.6g(28mmol)を80℃で45分加熱撹拌した。放冷後、10%
酢酸水溶液に反応液をあけ、生成した固体を濾取し、濾
滓をエタノールを用いて再結晶した。得られた固体を1.
5N水酸化ナトリウム水溶液20mlに溶解し3時間加熱還流
した。放冷後、20%塩酸で反応液を酸性とした後塩化メ
チレンで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥して
濾過し、その後減圧濃縮して2−プロパノイル安息香酸
6.4g(36mmol)を得た。 NMR(270MHz,CDCl3) δ 7.5-8.0(m,4H);3.95(q,J=9.3Hz,
2H);1.38(t,J=9.3Hz,3H)
無水物35ml(270mmol) 、およびプロピオン酸ナトリウム
2.6g(28mmol)を80℃で45分加熱撹拌した。放冷後、10%
酢酸水溶液に反応液をあけ、生成した固体を濾取し、濾
滓をエタノールを用いて再結晶した。得られた固体を1.
5N水酸化ナトリウム水溶液20mlに溶解し3時間加熱還流
した。放冷後、20%塩酸で反応液を酸性とした後塩化メ
チレンで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥して
濾過し、その後減圧濃縮して2−プロパノイル安息香酸
6.4g(36mmol)を得た。 NMR(270MHz,CDCl3) δ 7.5-8.0(m,4H);3.95(q,J=9.3Hz,
2H);1.38(t,J=9.3Hz,3H)
【0041】[参考例2] 3−[(4−ニトロフェニル)メチル]−2−ブチル−
3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジンの合成
3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジンの合成
【0042】2−ブチル−1H−イミダゾ[4,5−
b]ピリジン18.3g(104mmol)をN,N−ジメチルホルム
アミド550ml に溶解し60%水酸化ナトリウム4.58g(115m
mol)水溶液に加えて30分撹拌して得られる溶液にp−ニ
トロベンジルブロミド25g(116mmol)を加えて16時間室温
で撹拌した。減圧下濃縮した後残渣を酢酸エチル300ml
に溶解して有機層を水洗した。有機層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し濾過して減圧濃縮した。残渣を2:1のトル
エン/酢酸エチル混合溶媒を用いたシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーを使用して精製することにより、3−
[(4−ニトロフェニル)メチル]−2−ブチル−3H
−イミダゾ[4,5−b]ピリジン19.1gを得た。
b]ピリジン18.3g(104mmol)をN,N−ジメチルホルム
アミド550ml に溶解し60%水酸化ナトリウム4.58g(115m
mol)水溶液に加えて30分撹拌して得られる溶液にp−ニ
トロベンジルブロミド25g(116mmol)を加えて16時間室温
で撹拌した。減圧下濃縮した後残渣を酢酸エチル300ml
に溶解して有機層を水洗した。有機層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し濾過して減圧濃縮した。残渣を2:1のトル
エン/酢酸エチル混合溶媒を用いたシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーを使用して精製することにより、3−
[(4−ニトロフェニル)メチル]−2−ブチル−3H
−イミダゾ[4,5−b]ピリジン19.1gを得た。
【0043】NMR(270MHz,CDCl3) δ 8.33(dd,J=8.3Hz,1
H);8.17(d,J=8.4Hz,2H);8.04(d,J=8.1Hz,1H);7.22-7.31
(m,3H);5.59(s,2H);2.79(t,J=7.3Hz,2H);1.75-1.86(m,2
H);1.34-1.48(m,2H);0.92(t,J=7.3Hz,3H)
H);8.17(d,J=8.4Hz,2H);8.04(d,J=8.1Hz,1H);7.22-7.31
(m,3H);5.59(s,2H);2.79(t,J=7.3Hz,2H);1.75-1.86(m,2
H);1.34-1.48(m,2H);0.92(t,J=7.3Hz,3H)
【0044】[参考例3] 3−[(4−アミノフェニル)メチル]−2−ブチル−
3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジンの合成
3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジンの合成
【0045】参考例2の方法で得られた3−[(4−ニ
トロフェニル)メチル]−2−ブチル−3H−イミダゾ
[4,5−b]ピリジン19.1g(61.7mmol) をエタノール
250ml に溶解し、5%のパラジウムを担持した活性炭を
1g 加えて水素ガス雰囲気下18時間撹拌した。セライト
で不溶物を濾過してエタノール100ml で洗い、瀘液を減
圧下濃縮することにより、3−[(4−アミノフェニ
ル)メチル]−2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−
b]ピリジン15.7g を得た。
トロフェニル)メチル]−2−ブチル−3H−イミダゾ
[4,5−b]ピリジン19.1g(61.7mmol) をエタノール
250ml に溶解し、5%のパラジウムを担持した活性炭を
1g 加えて水素ガス雰囲気下18時間撹拌した。セライト
で不溶物を濾過してエタノール100ml で洗い、瀘液を減
圧下濃縮することにより、3−[(4−アミノフェニ
ル)メチル]−2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−
b]ピリジン15.7g を得た。
【0046】NMR(270MHz,CDCl3) δ 8.33(dd,J=1.35,4.
86Hz,1H);7.98(dd,J=1.35,7.83Hz,1H);7.2(dd,J=4.86,
7.83Hz,1H);6.97(d,J=8.4Hz,2H);6.58(d,J=8.4Hz,2H);
5.37(s,2H);3.6(bs,NH2);2.8(t,J=7.3Hz,2H);1.72-1.84
(m,2H);1.33-1.47(m,2H);0.92(t,J=7.3Hz,3H)
86Hz,1H);7.98(dd,J=1.35,7.83Hz,1H);7.2(dd,J=4.86,
7.83Hz,1H);6.97(d,J=8.4Hz,2H);6.58(d,J=8.4Hz,2H);
5.37(s,2H);3.6(bs,NH2);2.8(t,J=7.3Hz,2H);1.72-1.84
(m,2H);1.33-1.47(m,2H);0.92(t,J=7.3Hz,3H)
【0047】[参考例4] 5−[(2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピ
リジン−3−イル)メチル]イサチンの合成
リジン−3−イル)メチル]イサチンの合成
【0048】包水クロラール10g(60.6mmol) を水(135m
l) に溶解し、硫酸ナトリウム(135g)を加え、さらに参
考例3の方法で得られた3−[(4−アミノフェニル)
メチル]−2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]
ピリジン15.7g(56.1mmol) の4.4N塩酸溶液40ml、および
ヒドロキシルアミン塩酸塩12.3g(177.4mmol)の水溶液22
0ml を加えて30分加熱還流した。室温まで冷却した後、
水を傾斜法で除き、氷冷水150ml で残渣を洗った。1.5N
水酸化ナトリウム溶液170ml に溶解して、2N塩酸で中和
した。これを濾過した後、瀘液を2N塩酸で酸性にした。
沈殿物を濾取し、氷冷水で洗浄して乾燥した。
l) に溶解し、硫酸ナトリウム(135g)を加え、さらに参
考例3の方法で得られた3−[(4−アミノフェニル)
メチル]−2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]
ピリジン15.7g(56.1mmol) の4.4N塩酸溶液40ml、および
ヒドロキシルアミン塩酸塩12.3g(177.4mmol)の水溶液22
0ml を加えて30分加熱還流した。室温まで冷却した後、
水を傾斜法で除き、氷冷水150ml で残渣を洗った。1.5N
水酸化ナトリウム溶液170ml に溶解して、2N塩酸で中和
した。これを濾過した後、瀘液を2N塩酸で酸性にした。
沈殿物を濾取し、氷冷水で洗浄して乾燥した。
【0049】得られたイソニトロソアセトアニリドを濃
硫酸30mlに50℃で40分かけて加え、さらに90℃で15分間
加熱した。室温に冷却後氷冷水200ml に注ぎ、沈殿物を
濾取して濾滓を乾燥後、酢酸エチル溶媒を用いてシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーを使用して精製すること
により、5−[(2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5
−b]ピリジン−3−イル)メチル]イサチン8.4 g を
得た。
硫酸30mlに50℃で40分かけて加え、さらに90℃で15分間
加熱した。室温に冷却後氷冷水200ml に注ぎ、沈殿物を
濾取して濾滓を乾燥後、酢酸エチル溶媒を用いてシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーを使用して精製すること
により、5−[(2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5
−b]ピリジン−3−イル)メチル]イサチン8.4 g を
得た。
【0050】NMR(270MHz,CD3OD) δ8.45(dd,J=1.35,4.8
6Hz,1H);8.05(dd,J=1.35,8.1Hz,1H);7.51(d,J=1.9Hz,1
H);7.42(dd,J=4.9,8.1Hz,1H);7.28(dd,J=1.9,8.6Hz,1
H);6.76(d,J=8.6Hz,1H);5.5(s,2H);3.0(t,J=7.8Hz,2H);
1.66-1.79(m,2H);1.35-1.49(m,2H);0.93(t,J=7.8Hz,3H)
6Hz,1H);8.05(dd,J=1.35,8.1Hz,1H);7.51(d,J=1.9Hz,1
H);7.42(dd,J=4.9,8.1Hz,1H);7.28(dd,J=1.9,8.6Hz,1
H);6.76(d,J=8.6Hz,1H);5.5(s,2H);3.0(t,J=7.8Hz,2H);
1.66-1.79(m,2H);1.35-1.49(m,2H);0.93(t,J=7.8Hz,3H)
【0051】[実施例1] 2−(2−カルボキシフェニル)−3−メチル−6−
[(2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジ
ン−3−イル)メチル]−4−キノリンカルボン酸の合
成
[(2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジ
ン−3−イル)メチル]−4−キノリンカルボン酸の合
成
【0052】参考例1の方法で得られた2−プロパノイ
ル安息香酸6.4g(36mmol)を1N水酸化ナトリウム水溶液11
0ml に溶解し、ついで参考例4の方法で得られた5−
(2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン
−3−イル)メチルイサチン9.4g(36mmol)を加えて4時
間加熱還流した。水100ml を加え、塩化メチレン100ml
で洗浄した。水層を氷冷下撹拌しながら2N塩酸で酸性に
した。沈殿物を濾取し乾燥して、2−(2−カルボキシ
フェニル)−3−メチル−6−[(2−ブチル−3H−
イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メチル]
−4−キノリンカルボン酸14.2g を得た。
ル安息香酸6.4g(36mmol)を1N水酸化ナトリウム水溶液11
0ml に溶解し、ついで参考例4の方法で得られた5−
(2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン
−3−イル)メチルイサチン9.4g(36mmol)を加えて4時
間加熱還流した。水100ml を加え、塩化メチレン100ml
で洗浄した。水層を氷冷下撹拌しながら2N塩酸で酸性に
した。沈殿物を濾取し乾燥して、2−(2−カルボキシ
フェニル)−3−メチル−6−[(2−ブチル−3H−
イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メチル]
−4−キノリンカルボン酸14.2g を得た。
【0053】NMR(270MHz,CD3COCD3) δ9.2(m,1H);8.2-
8.7(m,3H);7.83(d,J=7.8Hz,1H);7.4-7.9(m,5H);5.74(s,
2H);3.5(s,3H);2.88(t,J=7.8Hz,2H);2.64(s,3H);1.81-
1.89(m,2H);1.38-1.45(m,2H);0.9(t,J=7.3Hz,3H)
8.7(m,3H);7.83(d,J=7.8Hz,1H);7.4-7.9(m,5H);5.74(s,
2H);3.5(s,3H);2.88(t,J=7.8Hz,2H);2.64(s,3H);1.81-
1.89(m,2H);1.38-1.45(m,2H);0.9(t,J=7.3Hz,3H)
【0054】[実施例2] 2−(2−メトキシカルボキシフェニル)−3−メチル
−6−[(2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]
ピリジン−3−イル)メチル]−4−キノリンカルボン
酸メチルの合成
−6−[(2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]
ピリジン−3−イル)メチル]−4−キノリンカルボン
酸メチルの合成
【0055】実施例1の方法で得られた2−(2−カル
ボキシフェニル)−3−メチル−6−[(2−ブチル−
3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メ
チル]−4−キノリンカルボン酸5g(10mmol)をメタノー
ル50mlに溶解し、氷冷下塩化チオニル1.6ml(22mmol) を
滴下した。4時間加熱還流した後室温まで冷却し、メタ
ノールを留去した。残渣に水50mlを加え、ついで飽和重
曹水で中和して酢酸エチル100ml で抽出した。有機層を
硫酸マグネシウムで乾燥し濾過して瀘液を濃縮し、得ら
れた残渣を1:1のヘキサン/酢酸エチル混合溶媒を用
いたシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーを
使用して精製することにより、2−(2−メトキシカル
ボキシフェニル)−3−メチル−6−[(2−ブチル−
3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メ
チル]−4−キノリンカルボン酸メチル3.6gを得た。
ボキシフェニル)−3−メチル−6−[(2−ブチル−
3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メ
チル]−4−キノリンカルボン酸5g(10mmol)をメタノー
ル50mlに溶解し、氷冷下塩化チオニル1.6ml(22mmol) を
滴下した。4時間加熱還流した後室温まで冷却し、メタ
ノールを留去した。残渣に水50mlを加え、ついで飽和重
曹水で中和して酢酸エチル100ml で抽出した。有機層を
硫酸マグネシウムで乾燥し濾過して瀘液を濃縮し、得ら
れた残渣を1:1のヘキサン/酢酸エチル混合溶媒を用
いたシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーを
使用して精製することにより、2−(2−メトキシカル
ボキシフェニル)−3−メチル−6−[(2−ブチル−
3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メ
チル]−4−キノリンカルボン酸メチル3.6gを得た。
【0056】NMR(270MHz,CDCl3) δ8.3(m,1H);8.0-8.1
(m,3H);7.79(d,J=7.8Hz,1H);7.1-7.6(m,5H);5.71(s,2
H);3.5(s,3H);2.87(t,J=7.8Hz,2H);2.6(s,3H);1.80-1.8
8(m,2H);1.4-1.48(m,2H);0.92(t,J=7.3Hz,3H)
(m,3H);7.79(d,J=7.8Hz,1H);7.1-7.6(m,5H);5.71(s,2
H);3.5(s,3H);2.87(t,J=7.8Hz,2H);2.6(s,3H);1.80-1.8
8(m,2H);1.4-1.48(m,2H);0.92(t,J=7.3Hz,3H)
【0057】[実施例3] 2−(2−メトキシカルボキシフェニル)−3−メチル
−6−[(2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]
ピリジン−3−イル)メチル]−4−キノリンカルボン
酸の合成
−6−[(2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]
ピリジン−3−イル)メチル]−4−キノリンカルボン
酸の合成
【0058】実施例2の方法で得られた2−(2−メト
ニルカルボキシフェニル)−3−メチル−6−[(2−
ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−
イル)メチル]−4−キノリンカルボン酸メチル3.6g
(6.9mmol) をメタノール35mlに溶解し、0.5N水酸化ナト
リウム水溶液14mlを加え、室温で16時間撹拌した。反応
液を1N塩酸で中和した後メタノールを留去し、水35mlを
加えて塩化メチレン30mlで抽出した。水層に撹拌下2N塩
酸で酸性とし、沈殿物を濾取、水洗して乾燥して、2−
(2−メトキシカルボキシフェニル)−3−メチル−6
−[(2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリ
ジン−3−イル)メチル]−4−キノリンカルボン酸1.
8gを得た。
ニルカルボキシフェニル)−3−メチル−6−[(2−
ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−
イル)メチル]−4−キノリンカルボン酸メチル3.6g
(6.9mmol) をメタノール35mlに溶解し、0.5N水酸化ナト
リウム水溶液14mlを加え、室温で16時間撹拌した。反応
液を1N塩酸で中和した後メタノールを留去し、水35mlを
加えて塩化メチレン30mlで抽出した。水層に撹拌下2N塩
酸で酸性とし、沈殿物を濾取、水洗して乾燥して、2−
(2−メトキシカルボキシフェニル)−3−メチル−6
−[(2−ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリ
ジン−3−イル)メチル]−4−キノリンカルボン酸1.
8gを得た。
【0059】NMR(270MHz,CDCl3) δ8.3(m,1H);8.0-8.1
(m,3H);7.79(d,J=7.8Hz,1H);7.1-7.6(m,5H);5.71(s,2
H);3.5(s,3H);2.87(t,J=7.8Hz,2H);2.6(s,3H);1.80-1.8
8(m,2H);1.4-1.48(m,2H);0.92(t,J=7.3Hz,3H)
(m,3H);7.79(d,J=7.8Hz,1H);7.1-7.6(m,5H);5.71(s,2
H);3.5(s,3H);2.87(t,J=7.8Hz,2H);2.6(s,3H);1.80-1.8
8(m,2H);1.4-1.48(m,2H);0.92(t,J=7.3Hz,3H)
【0060】[実施例4] 2−{3−メチル−6−[(2−ブチル−3H−イミダ
ゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メチル]}キノ
リン−2−イル}安息香酸メチルの合成
ゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メチル]}キノ
リン−2−イル}安息香酸メチルの合成
【0061】実施例3の方法で得られた2−(2−メト
キシカルボキシフェニル)−3−メチル−6−[(2−
ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−
イル)メチル]−4−キノリンカルボン酸1.8g(3.5mmo
l) をジフェニルエーテル18mlに懸濁し、185 ℃で1時
間加熱した。室温まで放冷後、1:1のヘキサン/酢酸
エチル混合溶媒を用いたシリカゲルフラッシュカラムク
ロマトグラフィーを使用して精製することにより、2−
{3−メチル−6−[(2−ブチル−3H−イミダゾ
[4,5−b]ピリジン−3−イル)メチル]キノリン
−2−イル}安息香酸メチル0.97g を得た。
キシカルボキシフェニル)−3−メチル−6−[(2−
ブチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−
イル)メチル]−4−キノリンカルボン酸1.8g(3.5mmo
l) をジフェニルエーテル18mlに懸濁し、185 ℃で1時
間加熱した。室温まで放冷後、1:1のヘキサン/酢酸
エチル混合溶媒を用いたシリカゲルフラッシュカラムク
ロマトグラフィーを使用して精製することにより、2−
{3−メチル−6−[(2−ブチル−3H−イミダゾ
[4,5−b]ピリジン−3−イル)メチル]キノリン
−2−イル}安息香酸メチル0.97g を得た。
【0062】NMR(270MHz,CDCl3) δ8.3(m,1H);8.0-8.1
(m,3H);7.79(d,J=7.8Hz,1H);7.1-7.6(m,6H);5.71(s,2
H);3.5(s,3H);2.87(t,J=7.8Hz,2H);2.6(s,3H)1.80-1.88
(m,2H);1.4-1.48(m,2H);0.92(t,J=7.3Hz,3H)
(m,3H);7.79(d,J=7.8Hz,1H);7.1-7.6(m,6H);5.71(s,2
H);3.5(s,3H);2.87(t,J=7.8Hz,2H);2.6(s,3H)1.80-1.88
(m,2H);1.4-1.48(m,2H);0.92(t,J=7.3Hz,3H)
【0063】[参考例5] 3−[(4−ニトロフェニル)メチル]−5,7−ジメ
チル−2−エチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリ
ジンの合成
チル−2−エチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリ
ジンの合成
【0064】2−ブチル−1H−イミダゾ[4,5−
b]ピリジンの代わりに5,7−ジメチル−2−エチル
−1H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン200mg を用い
て参考例2と同様の操作を行うことにより、3−[(4
−ニトロフェニル)メチル]−5,7−ジメチル−2−
エチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン205mg
を得た。 NMR(270MHz,CDCl3) δ7.2-8.3(m,5H); 5.6(s,2H); 2.8
(q,J=8Hz,2H); 2.7(s,3H); 2.6(s,3H); 1.3(t,J=8Hz,3
H)
b]ピリジンの代わりに5,7−ジメチル−2−エチル
−1H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン200mg を用い
て参考例2と同様の操作を行うことにより、3−[(4
−ニトロフェニル)メチル]−5,7−ジメチル−2−
エチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン205mg
を得た。 NMR(270MHz,CDCl3) δ7.2-8.3(m,5H); 5.6(s,2H); 2.8
(q,J=8Hz,2H); 2.7(s,3H); 2.6(s,3H); 1.3(t,J=8Hz,3
H)
【0065】[参考例6] 3−[(4−アミノフェニル)メチル]−5,7−ジメ
チル−2−エチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリ
ジンの合成
チル−2−エチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリ
ジンの合成
【0066】参考例5の方法で得られた3−[(4−ニ
トロフェニル)メチル]−5,7−ジメチル−2−エチ
ル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン 202mgから
参考例3と同様の方法によって、3−[(4−アミノフ
ェニル)メチル]−5,7−ジメチル−2−エチル−3
H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン 162mgを合成し
た。 NMR(270MHz,CDCl3) δ7.0-8.3(m,4H); 6.6(s,1H); 5.4
(s,2H); 3.6(bs,2H); 2.8(q,J=8Hz,2H); 2.7(s,3H); 2.
6(s,3H); 1.3(t,J=8Hz,3H)
トロフェニル)メチル]−5,7−ジメチル−2−エチ
ル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン 202mgから
参考例3と同様の方法によって、3−[(4−アミノフ
ェニル)メチル]−5,7−ジメチル−2−エチル−3
H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン 162mgを合成し
た。 NMR(270MHz,CDCl3) δ7.0-8.3(m,4H); 6.6(s,1H); 5.4
(s,2H); 3.6(bs,2H); 2.8(q,J=8Hz,2H); 2.7(s,3H); 2.
6(s,3H); 1.3(t,J=8Hz,3H)
【0067】[参考例7] 5−[(5,7−ジメチル−2−エチル−3H−イミダ
ゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メチル]イサチ
ンの合成
ゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メチル]イサチ
ンの合成
【0068】参考例6で得た3−[(4−アミノフェニ
ル)メチル]−5,7−ジメチル−2−エチル−3H−
イミダゾ[4,5−b]ピリジン160mg から参考例4と
同様の方法によって、5−[(5,7−ジメチル−2−
エチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−
イル)メチル]イサチン84mgを得た。 NMR(270MHz,CD3OD) δ7.3-8.5(m,4H); 6.8(s,1H); 5.5
(s,2H); 2.9(q,J=8Hz,2H); 2.7(s,3H); 2.6(s,3H); 1.5
(t,J=8Hz,3H)
ル)メチル]−5,7−ジメチル−2−エチル−3H−
イミダゾ[4,5−b]ピリジン160mg から参考例4と
同様の方法によって、5−[(5,7−ジメチル−2−
エチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−
イル)メチル]イサチン84mgを得た。 NMR(270MHz,CD3OD) δ7.3-8.5(m,4H); 6.8(s,1H); 5.5
(s,2H); 2.9(q,J=8Hz,2H); 2.7(s,3H); 2.6(s,3H); 1.5
(t,J=8Hz,3H)
【0069】[実施例5] 2−(2−カルボキシフェニル)−6−[(5,7−ジ
メチル−2−エチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピ
リジン−3−イル)メチル]−4−キノリンカルボン酸
の合成
メチル−2−エチル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピ
リジン−3−イル)メチル]−4−キノリンカルボン酸
の合成
【0070】アセチル安息香酸および参考例7で得られ
た5−[(5,7−ジメチル−2−エチル−3H−イミ
ダゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メチル]イサ
チン19mgを用いて実施例1と同様の操作を行うことによ
り、2−(2−カルボキシフェニル)−6−[(5,7
−ジメチル−2−エチル−3H−イミダゾ[4,5−
b]ピリジン−3−イル)メチル]−4−キノリンカル
ボン酸27mgを得た。 NMR(270MHz,CDCl3) δ7.4-8.2(m,8H); 7.0(s,1H); 5.7
(s,2H); 2.8(q,J=8Hz,2H); 2.7(s,3H); 2.6(s,3H); 1.7
(t,J=8Hz,3H)
た5−[(5,7−ジメチル−2−エチル−3H−イミ
ダゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メチル]イサ
チン19mgを用いて実施例1と同様の操作を行うことによ
り、2−(2−カルボキシフェニル)−6−[(5,7
−ジメチル−2−エチル−3H−イミダゾ[4,5−
b]ピリジン−3−イル)メチル]−4−キノリンカル
ボン酸27mgを得た。 NMR(270MHz,CDCl3) δ7.4-8.2(m,8H); 7.0(s,1H); 5.7
(s,2H); 2.8(q,J=8Hz,2H); 2.7(s,3H); 2.6(s,3H); 1.7
(t,J=8Hz,3H)
【0071】[実施例6] 2−{6−[5,7−ジメチル−2−エチル−3H−イ
ミダゾ[4,5−b]ピリジン3−イル)メチル]キノ
リン−2−イル}安息香酸
ミダゾ[4,5−b]ピリジン3−イル)メチル]キノ
リン−2−イル}安息香酸
【0072】実施例5で得られた2−(2−カルボキシ
フェニル)−6−[(5,7−ジメチル−2−エチル−
3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メ
チル]−4−キノリンカルボン酸18mgをキノリン5mlに
溶かし、濃硫酸0.5ml を加えて170 ℃で1時間加熱し
た。反応混合物を水に注ぎ、炭酸ナトリウムを加えてア
ルカリ性にした後トルエンで洗浄し、水層を3N塩酸で沈
殿が析出するまで中和した。析出した沈殿を瀘取し、ク
ロロホルム−メタノールを使用したシリカゲル上のフラ
ッシュクロマトグラフィーで精製することにより、2−
{6−[5,7−ジメチル−2−エチル−3H−イミダ
ゾ[4,5−b]ピリジン3−イル)メチル]キノリン
−2−イル}安息香酸12mgを得た。 NMR(270MHz,CDCl3) δ7.5-8.2(m,8H); 7.4(s,1H); 7.0
(s,1H); 5.7(s,2H); 2.8(q,J=8Hz,2H); 2.7(s,3H); 2.6
(s,3H); 1.7(t,J=8Hz,3H)
フェニル)−6−[(5,7−ジメチル−2−エチル−
3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−3−イル)メ
チル]−4−キノリンカルボン酸18mgをキノリン5mlに
溶かし、濃硫酸0.5ml を加えて170 ℃で1時間加熱し
た。反応混合物を水に注ぎ、炭酸ナトリウムを加えてア
ルカリ性にした後トルエンで洗浄し、水層を3N塩酸で沈
殿が析出するまで中和した。析出した沈殿を瀘取し、ク
ロロホルム−メタノールを使用したシリカゲル上のフラ
ッシュクロマトグラフィーで精製することにより、2−
{6−[5,7−ジメチル−2−エチル−3H−イミダ
ゾ[4,5−b]ピリジン3−イル)メチル]キノリン
−2−イル}安息香酸12mgを得た。 NMR(270MHz,CDCl3) δ7.5-8.2(m,8H); 7.4(s,1H); 7.0
(s,1H); 5.7(s,2H); 2.8(q,J=8Hz,2H); 2.7(s,3H); 2.6
(s,3H); 1.7(t,J=8Hz,3H)
【0073】
【発明の効果】カルボキシフェニルキノリンカルボン酸
類の骨格形成の順を変えたことにより、従来の方法では
分離が困難であった副生物の分離が容易となり、それに
よって目的物の収率を向上することができる。
類の骨格形成の順を変えたことにより、従来の方法では
分離が困難であった副生物の分離が容易となり、それに
よって目的物の収率を向上することができる。
フロントページの続き (72)発明者 森澤 義富 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内
Claims (5)
- 【請求項1】下記式(1)で表されるイサチン類と下記
式(2)で表されるアシル安息香酸類を反応させて下記
式(3)で表されるカルボキシフェニルキノリンカルボ
ン酸類を製造することを特徴とするキノリン−2−イル
安息香酸誘導体の製造方法。 【化1】 【化2】 【化3】 ただし、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 はそれぞ
れ独立に水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ア
ルケニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、アル
アルキル基、アルコキシル基、またはハロゲン置換低級
アルキル基を表し、Qは−NH−基を有する有機化合物
からその窒素原子に結合した水素原子を除いた1価の有
機基を表す。 - 【請求項2】請求項1の方法で得られたカルボキシフェ
ニルキノリンカルボン酸類を脱炭酸することによりキノ
リン環上のカルボキシル基を水素原子に変換することを
特徴とするキノリン−2−イル安息香酸誘導体の製造方
法。 - 【請求項3】Qが、水素原子が結合しかつ環を構成する
窒素原子を有する複素環系化合物からその窒素原子に結
合した水素原子を除いた1価の有機基である、請求項1
または2の方法。 - 【請求項4】Qが、置換基を有する1H−イミダゾール
−1−イル基、または置換基を有する3H−イミダゾ
[4,5−b]ピリジン−3−イル基である、請求項1
または2の方法。 - 【請求項5】R1 、R2 、R3 がそれぞれ独立に水素原
子または低級アルキル基であり、R4 が水素原子、低級
アルキル基、またはアリール基であり、R5 、R6 がそ
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、または低級アル
キル基である、請求項1の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26412294A JPH08119942A (ja) | 1994-10-27 | 1994-10-27 | キノリン−2−イル安息香酸誘導体の製造方法 |
| ES95116957T ES2136782T3 (es) | 1994-10-27 | 1995-10-27 | Procedimiento para producir compuestos de acido quinolin-2-il-benzoico. |
| US08/549,142 US5780634A (en) | 1992-05-08 | 1995-10-27 | Process for producing 2-(carboxyphenyl)-4-quinolinecarboxylic acid compounds |
| EP19950116957 EP0709377B1 (en) | 1994-10-27 | 1995-10-27 | Process for producing quinolin-2-yl benzoic acid compounds |
| DE1995612495 DE69512495T2 (de) | 1994-10-27 | 1995-10-27 | Verfahren zur Herstellung von Chinolin-2-yl-benzoesäure |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26412294A JPH08119942A (ja) | 1994-10-27 | 1994-10-27 | キノリン−2−イル安息香酸誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08119942A true JPH08119942A (ja) | 1996-05-14 |
Family
ID=17398791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26412294A Pending JPH08119942A (ja) | 1992-05-08 | 1994-10-27 | キノリン−2−イル安息香酸誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08119942A (ja) |
-
1994
- 1994-10-27 JP JP26412294A patent/JPH08119942A/ja active Pending
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