JPH0813101B2 - 表面電位分布と対応する電気信号の発生装置 - Google Patents

表面電位分布と対応する電気信号の発生装置

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JPH0813101B2
JPH0813101B2 JP63035526A JP3552688A JPH0813101B2 JP H0813101 B2 JPH0813101 B2 JP H0813101B2 JP 63035526 A JP63035526 A JP 63035526A JP 3552688 A JP3552688 A JP 3552688A JP H0813101 B2 JPH0813101 B2 JP H0813101B2
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read head
potential distribution
surface potential
transparent electrode
dielectric mirror
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綾雄 高梨
新太郎 中垣
浩彦 篠永
伝 浅倉
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Victor Company of Japan Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は表面電位分布と対応する電気信号の発生装置
に関する。
(従来の技術) 近年になって高画質・高解像度の再生画像に対する要
望が高まるのに応じて、テレビジョン方式についても、
いわゆるEDTV、HDTVなどの新しい諸方式が提案されて来
ていることも周知のとおりであるが、高画質・高解像度
の再生画像が得られるようにするためには、高画質・高
解像度の再生画像を再生させうるような映像信号を発生
させることのできる撮像装置が必要とされるが、撮像素
子として撮像管が使用されている撮像装置においては、
撮像管における電子ビーム径の微小化に限界があるため
に、電子ビーム径の微小化による高解像度化が望めない
こと、及び、撮像管のターゲット容量はターゲット面積
と対応して増大するものであるために、ターゲット面積
の増大による高解像度化も実現することができないこ
と、また、例えば動画の撮像装置の場合には高解像度化
に伴って映像信号の周波数帯域が数十MHz〜数百MHz以上
にもなるためにS/Nの点で問題になる、等の理由によっ
て、撮像装置により高画質・高解像度の再生画像を再生
させうるような映像信号を発生させることは困難であ
る。
このように、従来の撮像装置はそれの構成のために不
可欠な撮像素子の存在によって、高画質・高解像度の再
生画像を再生させうるような映像信号を良好に発生させ
ることはできなかったが、前記の点を解決するために、
本出願人会社では先に、光−光変換素子を用いた撮像装
置によって高解像度の光学像を得るとともに、その光学
像を光−電荷変換素子を用いて電荷蓄積層を有する記録
媒体に高解像度を有する電荷像として記録させるように
した撮像方式ならびに記録方式についての提案を行っ
た。
(発明が解決しようとする問題点) ところで、前記した光−光変換素子を用いた撮像装置
によって高解像度の光学像を得るとともに、その光学像
を光−電荷変換素子を用いて電荷蓄積層を有する記録媒
体に高解像度を有する電荷像として記録させるようにし
た本出願人会社による撮像方式ならびに記録方式の実施
に際しては、記録媒体に記録された電荷像を電気信号と
して読出すことが必要とされるのであり、そのための手
段が求められた。
(問題点を解決するための手段) 本発明は透明電極と光変調材層部材と誘電体ミラーと
を積層して構成された読取りヘッドを、それの誘電体ミ
ラー側が検出の対象にされている表面電位分布を有する
被検出体に近接させて配置する手段と、前記した読取り
ヘッドにおける透明電極側から所定の方向に偏向されて
いるレーザ光束を入射させる手段と、前記した読取りヘ
ッドから出射したレーザ光束を検光子を介して光電変換
素子に与える手段とを備えてなる表面電位分布と対応す
る電気信号の発生装置と、透明電極と光変調材層部材と
誘電体ミラーとを積層して構成された読取りヘッドを、
それの誘電体ミラー側が検出の対象にされている表面電
位分布を有する被検出体に近接させて配置する手段と、
前記した読取りヘッドにおける透明電極側から直線形状
の断面を有するレーザ光束を入射させる手段と、前記し
た読取りヘッドから出射した直線形状の断面を有するレ
ーザ光束を検光子を介してライン・イメージセンサに与
える手段とを備えてなる表面電位分布と対応する電気信
号の発生装置、及び、透明電極と光変調材層部材と誘電
体ミラーとを積層して構成された読取りヘッドを、それ
の誘電体ミラー側が検出の対象にされている表面電位分
布を有する被検出体に近接させて配置する手段と、前記
した読取りヘッドにおける透明電極側からビームエキス
パンダによって拡大した面状断面を有するレーザ光束を
入射させる手段と、前記した読取りヘッドから出射した
レーザ光束を検光子を介して副走査方向に駆動変位され
ているライン・イメージセンサに与える手段とを備えて
なる表面電位分布と対応する電気信号の発生装置、なら
びに透明電極と光変調材層部材と誘電体ミラーとを積層
して構成された読取りヘッドを、それの誘電体ミラー側
が検出の対象にされている表面電位分布を有する被検出
体に近接させて配置する手段と、前記した読取りヘッド
における透明電極側からビームエキスパンダによって拡
大した面状断面を有するレーザ光束を入射させる手段
と、前記した読取りヘッドから出射したレーザ光束を検
光子を介して2次元イメージセンサに与える手段とを備
えてなる表面電位分布と対応する電気信号の発生装置を
提供するものである。
(実施例) 以下、添付図面を参照して本発明の表面電位分布と対
応する電気信号の発生装置の具体的な内容について詳細
に説明する。第1図乃至第4図は本発明の表面電位分布
と対応する電気信号の発生装置の異なる実施例の斜視図
である。
第1図乃至第4図においてLSはレーザ光源、1は必要
に応じて設けられる偏光子、4はビームスプリッタ、5
は必要に応じて設けられる波長板、6は検光子、0は表
面電位の検出が行われるべき被検出体、Hrは読取りヘッ
ドであり、読取りヘッドHrとしては、例えば透明電極Et
と光変調材層部材PML{印加された電圧によって光の状
態を変化させうるような特性を示す光変調材層部材PML
(例えば、電気光学効果を有するニオブ酸リチュウム単
結晶、あるいは電界散乱効果を示すネマチック液晶の層
のような光変調用の材料層などが用いられてよい)}と
誘電体ミラーDMLとを積層して構成した読取りヘッドを
使用することができる。
また、第1図において2は回転鏡車、3はfθレン
ズ、7は集光レンズであって、前記の回転鏡車2は図中
の矢印の方向に連続的に回転することにより、レーザ光
源LSから放射されたレーザ光を一定の方向に偏向させ
る。第1図示の装置におけるレーザ光束の偏向手段とし
ては、図中に示されている回転鏡車2のような機械的な
光偏向手段でなく、電気的な光偏向器が使用されてもよ
いことは勿論である。
さらに第2図において、3はレンズ、8はシリンドリ
カルレンズ、9はラインイメージセンサであり、さらに
また第3図及び第4図における10はビームエキスパン
ダ、第3図中の11はラインイメージセンサ、第4図中の
12は2次元イメージセンサである。
第1図及び第2図に示されている表面電位分布と対応
する電気信号の発生装置においても、被検出体Oと読取
りヘッドHrとを紙面に垂直な方向に相対的に変位させる
ようにすることにより被検出体Oにおける2次元的な電
荷像に対する電気信号を発生させることができる。
まず、第1図に示されている本発明の表面電位分布と
対応する電気信号の発生装置においては、レーザ光源LS
から放射されたレーザ光束が必要に応じて設けられてい
る偏光子1によって所定の偏光面を有する直線偏光とさ
れた後に、回転鏡車2により一定方向に偏向された状態
となされてfθレンズ3に入射される。
fθレンズ3から出射したレーザ光束は、ビームスプ
リッタ4を透過して読取りヘッドHrに入射されるから、
前記したレーザ光束は読取りヘッドHrにおける同一の線
上を一定の線速度で走査することになる。
前記したように読取りヘッドHrは透明電極Etと光変調
材層部材PML{印加された電圧によって光の状態を変化
させうるような特性を示す光変調材層部材PML(例え
ば、電気光学効果を有するニオブ酸リチュウム単結晶、
あるいは電界散乱効果を示すネマチック液晶の層のよう
な光変調用の材料層などが用いられてよい)}と誘電体
ミラーDMLとを積層して構成されており、それの誘電体
ミラーDML側が被検出体Oの表面に接近して対面してい
るように配置されていて、読取りヘッドHrにおける光変
調材層部材PMLには前記した誘電体ミラーDMLを介して被
検出体Oによる電界が与えられているから、前記のよう
に読取りヘッドHrに入射したレーザ光束は、前記した電
荷像読取りヘッドHrにおける前記した誘電体ミラーDML
の側に与えられた電荷パターンで生じている電界に応じ
て光変調材層部材PMLを通過する光の状態(前記の例の
場合には偏光面の角度)が変化する。
それで前記のように読取りヘッドHrの透明電極Et側か
ら入射したレーザ光束が、光変調材層部材PMLを通過し
て誘電体ミラーDMLにより反射した後に再び光変調材層
部材PMLを通過して透明電極Etの面から出射した光の状
態(前記の例の場合には偏光面の角度)は、前記した被
検出体Oにおける電荷像の電位分布と対応して変化して
いるものになっている。
前記のように読取りヘッドHrからの出射光は、読取り
ヘッドHrへの入射光が被検出体における表面電位分布に
応じて偏光面の回転量が変化している状態のものであ
る。それで読取りヘッドHrからの出射光がビームスプリ
ッタ4で反射されてから、必要に応じて設けられている
光量調節用の波長板5と、偏光面の回転量を明るさの変
化に変換するための検光子6とを介して、集光レンズ7
に入射させ、前記の集光レンズ7の集光点の位置に光電
変換器PDを配置しておくと、前記の光電変換器PDからは
被検出体Oにおけ一次元的な電荷像の各部分の電荷量に
応じて振幅が変化している電気信号(映像信号)が得ら
れる。被検出体Oと読取りヘッドHrとを相対的に紙面に
対して垂直な方向に移動させれば、前記の光電変換器PD
からは被検出体Oにおける二次元的な電荷像の各部分の
電荷量に応じて振幅が変化している電気信号(映像信
号)が得られる。
前記のように光電変換器PDから出力される映像信号
は、被検出体Oにおける高い精細度を有する二次元的な
電荷像における電荷量分布と対応しているものになって
いる。それで、読出し光として、例えば直径が1ミクロ
ンのレーザ光束を使用した場合には、1000本/1mmという
ような高い解像度と対応する映像信号が発生できる。
次に、第2図に示されている本発明の表面電位分布と
対応する電気信号の発生装置においては、レーザ光源LS
から放射されたレーザ光束が必要に応じて設けられてい
る偏光子1によって所定の偏光面を有する直線偏光とさ
れた後に、シリンドリカルレンズ8によって直線形状の
断面を有する光束になされてレズ3に入射される。
レンズ3から出射したレーザ光束はビームスプリッタ
4を透過して読取りヘッドHrに一本の線状の光束として
入射する。前記したように読取りヘッドHrは透明電極Et
と光変調材層部材PML{印加された電圧によって光の状
態を変化させうるような特性を示す光変調材層部材PML
(例えば、電気光学効果を有するニオブ酸リチュウム単
結晶、あるいは電界散乱効果を示すネマチック液晶の層
のような光変調用の材料層などが用いられてよい)}と
誘電体ミラーDMLとを積層して構成されており、それの
誘電体ミラーDML側が被検出体Oの表面に接近して対面
しているように配置されていて、読取りヘッドHrにおけ
る光変調材層部材PMLには前記した誘電体ミラーDMLを介
して被検出体Oによる電界が与えられているから、前記
のように読取りヘッドHrに入射したレーザ光束は、前記
した電荷像読取りヘッドHrにおける前記した誘電体ミラ
ーDMLの側に与えられた電荷パターンで生じている電界
に応じて光変調材層部材PMLを通過する光の状態(前記
の例の場合には偏光面の角度)が変化する。
それで前記のように読取りヘッドHrの透明電極Et側か
ら入射したレーザ光束が、光変調材層部材PMLを通過し
て誘電体ミラーDMLにより反射した後に再び光変調材層
部材PMLを通過して透明電極Etの面から出射した光の状
態(前記の例の場合には偏光面の角度)は、前記した被
検出体Oにおける電荷像の電位分布と対応して変化して
いるものになっている。
前記のように読取りヘッドHrから出射された一直線状
の断面形状を有するレーザ光は、読取りヘッドHrへ入射
した一直線状の断面形状を有するレーザ光が被検出体O
における表面電位分布に応じて偏光面の回転量が変化し
ている状態のものである。それで読取りヘッドHrからの
出射光がビームスプリッタ4で反射されてから、必要に
応じて設けられている光量調節用の波長板5と、偏光面
の回転量を明るさの変化に変換するための検光子6とを
介して、ラインイメージセンサ9に入射させると、前記
のラインイメージセンサ9からは、被検出体Oにおける
一次元的な電荷像の各部分の電荷量に応じて振幅が変化
している電気信号(映像信号)が得られる。それで、被
検出体Oと読取りヘッドHrとを相対的に紙面に対して垂
直な方向に移動させれば、前記のラインイメージセンサ
0からは被検出体Oにおける二次元的な電荷像の各部分
の電荷量に応じて振幅が変化している電気信号(映像信
号)が得られる。
なお、前記したラインイメージセンサ9を画素が配列
されている方向について微小な距離だけ変位させた状態
にして同一の電荷像について複数回の読取り動作を行う
ようにし、その際に得られた出力信号を合成して精細度
の高い映像信号を発生させるようにすることもできる。
次に、第3図に示されている本発明の表面電位分布と
対応する電気信号の発生装置においては、レーザ光源LS
から放射されたレーザ光束が必要に応じて設けられてい
る偏光子1によって所定の偏光面を有する直線偏光とさ
れた後に、ビームエキスパンダ10によって大径のレーザ
光束になされてビームスプリッタ4に入射する。ビーム
スプリッタ4を透過したレーザ光束は読取りヘッドHrに
入射する。
前記したように読取りヘッドHrは透明電極Etと光変調
材層部材PML{印加された電圧によって光の状態を変化
させうるような特性を示す光変調材層部材PML(例え
ば、電気光学効果を有するニオブ酸リチュウム単結晶、
あるいは電界散乱効果を示すネマチック液晶の層のよう
な光変調用の材料層などが用いられてよい)}と誘電体
ミラーDMLとを積層して構成されており、それの誘電体
ミラーDML側が被検出体Oの表面に接近して対面してい
るように配置されていて、読取りヘッドHrにおける光変
調材層部材PMLには前記した誘電体ミラーDMLを介して被
検出体Oによる電界が与えられているから、前記のよう
に読取りヘッドHrに入射したレーザ光束は、前記した電
荷像読取りヘッドHrにおける前記した誘電体ミラーDML
の側に与えられた電荷パターンで生じている電界に応じ
て光変調材層部材PMLを通過する光の状態(前記の例の
場合には偏光面の角度)が変化する。
それで前記のように読取りヘッドHrの透明電極Et側か
ら入射したレーザ光束が、光変調材層部材PMLを通過し
て誘電体ミラーDMLにより反射した後に再び光変調材層
部材PMLを通過して透明電極Etの面から出射した光の状
態(前記の例の場合には偏光面の角度)は、前記した被
検出体Oにおける電荷像の電位分布と対応して変化して
いるものになっている。
前記のように読取りヘッドHrから出射された広い面形
状を有するレーザ光は、読取りヘッドHrへ入射した広い
面形状を有するレーザ光が被検出体Oにおける表面電位
分布に応じて偏光面の回転量が変化している状態のもの
である。それで読取りヘッドHrからの出射光がビームス
プリッタ4で反射されてから、必要に応じて設けられて
いる光量調節用の波長板5と、偏光面の回転量を明るさ
の変化に変換するための検光子6とを介して、第3図中
で太矢印方向に副走査をしているラインイメージセンサ
11に入射させると、前記のラインイメージセンサ9から
は被検出体Oにおける二次元的な電荷像の各部分の電荷
量に応じて振幅が変化している電気信号(映像信号)が
得られる。
なお、前記したラインイメージセンサ9を画素が配列
されている方向について微小な距離だけ変位させた状態
にして同一の電荷像について複数回の読取り動作を行う
ようにし、その際に得られた出力信号を合成して精細度
の高い映像信号を発生させるようにすることもできる。
次に、第4図に示されている本発明の表面電位分布と
対応する電気信号の発生装置においては、レーザ光源LS
から放射されたレーザ光束が必要に応じて設けられてい
る偏光子1によって所定の偏光面を有する直線偏光とさ
れた後に、ビームエキスパンダ10によって大径のレーザ
光束になされてビームスプリッタ4に入射する。ビーム
スプリッタ4を透過したレーザ光束は読取りヘッドHrに
入射する。
前記したように読取りヘッドHrは透明電極Etと光変調
材層部材PML{印加された電圧によって光の状態を変化
させうるような特性を示す光変調材層部材PML(例え
ば、電気光学効果を有するニオブ酸リチュウム単結晶、
あるいは電界散乱効果を示すネマチック液晶の層のよう
な光変調用の材料層などが用いられてよい)}と誘電体
ミラーDMLとを積層して構成されており、それの誘電体
ミラーDML側が被検出体Oの表面に接近して対面してい
るように配置されていて、読取りヘッドHrにおける光変
調材層部材PMLには前記した誘電体ミラーDMLを介して被
検出体Oによる電界が与えられているから、前記のよう
に読取りヘッドHrに入射したレーザ光束は、前記した電
荷像読取りヘッドHrにおける前記した誘電体ミラーDML
の側に与えられた電荷パターンで生じている電界に応じ
て光変調材層部材PMLを通過する光の状態(前記の例の
場合には偏光面の角度)が変化する。
それで前記のように読取りヘッドHrの透明電極Et側か
ら入射したレーザ光束が、光変調材層部材PMLを通過し
て誘電体ミラーDMLにより反射した後に再び光変調材層
部材PMLを通過して透明電極Etの面から出射した光の状
態(前記の例の場合には偏光面の角度)は、前記した被
検出体Oにおける電荷像の電位分布と対応して変化して
いるものになっている。
前記のように読取りヘッドHrから出射された広い面形
状を有するレーザ光は、読取りヘッドHrへ入射した広い
面形状を有するレーザ光が被検出体Oにおける表面電位
分布に応じて偏光面の回転量が変化している状態のもの
である。それで読取りヘッドHrからの出射光がビームス
プリッタ4で反射されてから、必要に応じて設けられて
いる光量調節用の波長板5と、偏光面の回転量を明るさ
の変化に変換するための検光子6とを介して、2次元イ
メージセンサ12に入射させると、前記の2次元イメージ
センサ12からは被検出体Oにおける二次元的な電荷像の
各部分の電荷量に応じて振幅が変化している電気信号
(映像信号)が得られる。
なお、前記した2次元イメージセンサ12を画素が配列
されている方向について微小な距離だけ変位させた状態
にして同一の電荷像について複数回の読取り動作を行う
ようにし、その際に得られた出力信号を合成して精細度
の高い映像信号を発生させるようにすることもできる。
(発明の効果) 以上、詳細に説明したところから明らかなように、本
発明の透明電極と光変調材層部材と誘電体ミラーとを積
層して構成された読取りヘッドを、それの誘電体ミラー
側が検出の対象にされている表面電位分布を有する被検
出体に近接させて配置する手段と、前記した読取りヘッ
ドにおける透明電極側から所定の方向に偏向されている
レーザ光束を入射させる手段と、前記した読取りヘッド
から出射したレーザ光束を検光子を介して光電変換素子
に与える手段とを備えてなる表面電位分布と対応する電
気信号の発生装置と、透明電極と光変調材層部材と誘電
体ミラーとを積層して構成された読取りヘッドを、それ
の誘電体ミラー側が検出の対象にされている表面電位分
布を有する被検出体に近接させて配置する手段と、前記
した読取りヘッドにおける透明電極側から直線形状の断
面を有するレーザ光束を入射させる手段と、前記した読
取りヘッドから出射した直線形状の断面を有するレーザ
光束を検光子を介してライン・イメージセンサに与える
手段とを備えてなる表面電位分布と対応する電気信号の
発生装置、及び、透明電極と光変調材層部材と誘電体ミ
ラーとを積層して構成された読取りヘッドを、それの誘
電体ミラー側が検出の対象にされている表面電位分布を
有する被検出体に近接させて配置する手段と、前記した
読取りヘッドにおける透明電極側からビームエキスパン
ダによって拡大した面状断面を有するレーザ光束を入射
させる手段と、前記した読取りヘッドから出射したレー
ザ光束を検光子を介して副走査方向に駆動変位されてい
るライン・イメージセンサに与える手段とを備えてなる
表面電位分布と対応する電気信号の発生装置、ならびに
透明電極と光変調材層部材と誘電体ミラーとを積層して
構成された読取りヘッドを、それの誘電体ミラー側が検
出の対象にされている表面電位分布を有する被検出体に
近接させて配置する手段と、前記した読取りヘッドにお
ける透明電極側からビームエキスパンダによって拡大し
た面状断面を有するレーザ光束を入射させる手段と、前
記した読取りヘッドから出射したレーザ光束を検光子を
介して2次元イメージセンサに与える手段とを備えてな
る表面電位分布と対応する電気信号の発生装置であるか
ら、この本発明の表面電位分布と対応する電気信号の発
生装置では電荷像として記録されている電荷像を光学的
な読取り手段によって高画質・高解像度の再生画像を再
生させることの可能な映像信号を容易に発生させること
ができるのであり、本発明の表面電位分布と対応する電
気信号の発生装置によれば従来の問題点を良好に解決で
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第4図は本発明の表面電位分布と対応する電
気信号の発生装置の異なる実施例の斜視図である。 LS……レーザ光源、1……偏光子、4……ビームスプリ
ッタ、5……波長板、6……検光子、O……表面電位の
検出が行われるべき被検出体、Hr……読取りヘッド、Et
……透明電極、PML……光変調材層部材、DML……誘電体
ミラー、2……回転鏡車、3……レンズ、7……集光レ
ンズ、8……シリンドリカルレンズ、9……ラインイメ
ージセンサ、10……ビームエキスパンダ、11……ライン
イメージセンサ、12……2次元イメージセンサ、
フロントページの続き (72)発明者 浅倉 伝 神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番 地 日本ビクター株式会社内 (72)発明者 古屋 正人 神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番 地 日本ビクター株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明電極と光変調材層部材と誘電体ミラー
    とを積層して構成された読取りヘッドを、それの誘電体
    ミラー側が検出の対象にされている表面電位分布を有す
    る被検出体に近接させて配置する手段と、前記した読取
    りヘッドにおける透明電極側から所定の方向に偏向され
    ているレーザ光束を入射させる手段と、前記した読取り
    ヘッドから出射したレーザ光束を検光子を介して光電変
    換素子に与える手段とを備えてなる表面電位分布と対応
    する電気信号の発生装置
  2. 【請求項2】透明電極と光変調材層部材と誘電体ミラー
    とを積層して構成された読取りヘッドを、それの誘電体
    ミラー側が検出の対象にされている表面電位分布を有す
    る被検出体に近接させて配置する手段と、前記した読取
    りヘッドにおける透明電極側から直線形状の断面を有す
    るレーザ光束を入射させる手段と、前記した読取りヘッ
    ドから出射した直線形状の断面を有するレーザ光束を検
    光子を介してライン・イメージセンサに与える手段とを
    備えてなる表面電位分布と対応する電気信号の発生装置
  3. 【請求項3】透明電極と光変調材層部材と誘電体ミラー
    とを積層して構成された読取りヘッドを、それの誘電体
    ミラー側が検出の対象にされている表面電位分布を有す
    る被検出体に近接させて配置する手段と、前記した読取
    りヘッドにおける透明電極側からビームエキスパンダに
    よって拡大した面状断面を有するレーザ光束を入射させ
    る手段と、前記した読取りヘッドから出射したレーザ光
    束を検光子を介して副走査方向に駆動変位されているラ
    イン・イメージセンサに与える手段とを備えてなる表面
    電位分布と対応する電気信号の発生装置
  4. 【請求項4】透明電極と光変調材層部材と誘電体ミラー
    とを積層して構成された読取りヘッドを、それの誘電体
    ミラー側が検出の対象にされている表面電位分布を有す
    る被検出体に近接させて配置する手段と、前記した読取
    りヘッドにおける透明電極側からビームエキスパンダに
    よって拡大した面状断面を有するレーザ光束を入射させ
    る手段と、前記した読取りヘッドから出射したレーザ光
    束を検光子を介して2次元イメージセンサに与える手段
    とを備えてなる表面電位分布と対応する電気信号の発生
    装置
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