JPH08134041A - ピラゾールアミド類の製造方法 - Google Patents
ピラゾールアミド類の製造方法Info
- Publication number
- JPH08134041A JPH08134041A JP6276505A JP27650594A JPH08134041A JP H08134041 A JPH08134041 A JP H08134041A JP 6276505 A JP6276505 A JP 6276505A JP 27650594 A JP27650594 A JP 27650594A JP H08134041 A JPH08134041 A JP H08134041A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- substituted
- unsubstituted
- mol
- alkyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D231/18—One oxygen or sulfur atom
- C07D231/20—One oxygen atom attached in position 3 or 5
- C07D231/22—One oxygen atom attached in position 3 or 5 with aryl radicals attached to ring nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D231/18—One oxygen or sulfur atom
- C07D231/20—One oxygen atom attached in position 3 or 5
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】３位にカルバモイル基を有するピラゾールアミ
ド類を高収率で合成する工業的に有効な製造方法を提供
する。 【構成】３位にアルコキシカルボニル基を有するピラゾ
ール化合物をルイス酸の存在下、アミン類と反応させる
ことを特徴とする、一般式（Ｃ）で表される３位にカル
バモイル基を有するピラゾールアミド類の製造方法。 （式中、Ｒ１は水素原子、置換もしくは無置換のアルキ
ル基、置換もしくは無置換のアリール基又は置換もしく
は無置換の複素環基を表し、Ｒ２はアルキル基を表す。
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ水素原子、置換もしくは無置換
のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基又は置
換もしくは無置換の複素環基を表し、互いに結合して環
を形成してもよい。）
ド類を高収率で合成する工業的に有効な製造方法を提供
する。 【構成】３位にアルコキシカルボニル基を有するピラゾ
ール化合物をルイス酸の存在下、アミン類と反応させる
ことを特徴とする、一般式（Ｃ）で表される３位にカル
バモイル基を有するピラゾールアミド類の製造方法。 （式中、Ｒ１は水素原子、置換もしくは無置換のアルキ
ル基、置換もしくは無置換のアリール基又は置換もしく
は無置換の複素環基を表し、Ｒ２はアルキル基を表す。
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ水素原子、置換もしくは無置換
のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基又は置
換もしくは無置換の複素環基を表し、互いに結合して環
を形成してもよい。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は染料中間体、医薬、農薬
などに有用な一般式（Ｃ）で表されるピラゾールアミド
類の製造方法に関し、さらに詳しくは、ルイス酸を活性
化剤として用いて、ピラゾールエステル化合物とアミン
類からピラゾールアミド類を製造する方法に関する。
などに有用な一般式（Ｃ）で表されるピラゾールアミド
類の製造方法に関し、さらに詳しくは、ルイス酸を活性
化剤として用いて、ピラゾールエステル化合物とアミン
類からピラゾールアミド類を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】３位にカルバモイル基を有するピラゾー
ルアミド類は例えば、染料中間体、医薬、農薬などの骨
格として有用な化合物であり、なかでも写真用染料中間
体として有用な化合物である。（特開昭５１−７７３２
７号、同６３−１３９９４９号など）
ルアミド類は例えば、染料中間体、医薬、農薬などの骨
格として有用な化合物であり、なかでも写真用染料中間
体として有用な化合物である。（特開昭５１−７７３２
７号、同６３−１３９９４９号など）
【０００３】ピラゾールアミド類の合成方法は、従来、
いくつか知られているが、一般的にはエステルのアミノ
リシスによるものである（特開昭６３−１３９９４９号
など）。しかし、エタノールアミンのような求核性の大
きい一級アルキルアミンの場合、アミノリシスは比較的
容易に進行するが、モルホリンやアニリンのように求核
性が低下した二級アミンやアリールアミンの場合、高
温、長時間の反応条件が必要であり、工業的な製造方法
には適さないものであった。
いくつか知られているが、一般的にはエステルのアミノ
リシスによるものである（特開昭６３−１３９９４９号
など）。しかし、エタノールアミンのような求核性の大
きい一級アルキルアミンの場合、アミノリシスは比較的
容易に進行するが、モルホリンやアニリンのように求核
性が低下した二級アミンやアリールアミンの場合、高
温、長時間の反応条件が必要であり、工業的な製造方法
には適さないものであった。
【０００４】一方、エステルのアミノリシスによらない
ピラゾールアミド類の合成方法もいくつか知られてい
る。例えば、３位カルボキシ体とスルホン酸塩化物誘導
体を反応させ、混合酸無水物を経てアミド化する方法
（特開昭５８−１１１６４１号）、５位の水酸基をエス
テル基として保護した後、アミド化する方法（特開平２
−１９３９７３号、同２−１９３９７４号）などであ
る。しかし、前者の混合酸無水物を経る方法は分子内に
反応性の水酸基を有する場合、副反応が多く収率が低い
という欠点を有し、また、後者の水酸基の保護を伴う方
法は、収率がいいものの、保護と脱保護という二段階の
工程を余分に必要とするため、コストアップにつながる
という欠点を有するものである。
ピラゾールアミド類の合成方法もいくつか知られてい
る。例えば、３位カルボキシ体とスルホン酸塩化物誘導
体を反応させ、混合酸無水物を経てアミド化する方法
（特開昭５８−１１１６４１号）、５位の水酸基をエス
テル基として保護した後、アミド化する方法（特開平２
−１９３９７３号、同２−１９３９７４号）などであ
る。しかし、前者の混合酸無水物を経る方法は分子内に
反応性の水酸基を有する場合、副反応が多く収率が低い
という欠点を有し、また、後者の水酸基の保護を伴う方
法は、収率がいいものの、保護と脱保護という二段階の
工程を余分に必要とするため、コストアップにつながる
という欠点を有するものである。
【０００５】ところで、エステルのアミノリシスによる
アミド化反応にルイス酸を用いる方法は、ルイス酸とア
ミン類が反応し、アミン類が消費されたりルイス酸性が
低下したりするために一般にはあまり用いられる事はな
い。しかし、少数ではあるが次の例が知られている。 １ R.D. Gless, Jr., Synth. Comm., 16, 633 (1986) ２−クロロプロピオン酸エステルのアミノリシス ２ F. Porta, M. Pizzotti, C. Crotti and S. Cenin
i, Gazz. Chim. Ital.,118 , 475 (1988) 酢酸またはプロピオン酸エチルの一級アミンによるアミ
ノリシス ３ J.I. Levin, E. Turos and S.M. Weinreb, Synth.
Comm., 12, 989 (1982) アルキルアルミニウムを用いるアミノリシス
アミド化反応にルイス酸を用いる方法は、ルイス酸とア
ミン類が反応し、アミン類が消費されたりルイス酸性が
低下したりするために一般にはあまり用いられる事はな
い。しかし、少数ではあるが次の例が知られている。 １ R.D. Gless, Jr., Synth. Comm., 16, 633 (1986) ２−クロロプロピオン酸エステルのアミノリシス ２ F. Porta, M. Pizzotti, C. Crotti and S. Cenin
i, Gazz. Chim. Ital.,118 , 475 (1988) 酢酸またはプロピオン酸エチルの一級アミンによるアミ
ノリシス ３ J.I. Levin, E. Turos and S.M. Weinreb, Synth.
Comm., 12, 989 (1982) アルキルアルミニウムを用いるアミノリシス
【０００６】しかし、上記１と２では、基質がごく一部
の脂肪族エステルとアミン類に限られ、また、上記３は
種々のエステル類に応用されているものの、試薬として
用いられるトリメチルアルミニウムが発火性禁水性化合
物であり、工業的製造方法としては問題のある方法であ
った。特に、本発明で基質となる化合物のように、分子
内に、反応性の水酸基や、ルイス酸と配位し得る複素環
基を有する化合物への応用については研究例がなかっ
た。
の脂肪族エステルとアミン類に限られ、また、上記３は
種々のエステル類に応用されているものの、試薬として
用いられるトリメチルアルミニウムが発火性禁水性化合
物であり、工業的製造方法としては問題のある方法であ
った。特に、本発明で基質となる化合物のように、分子
内に、反応性の水酸基や、ルイス酸と配位し得る複素環
基を有する化合物への応用については研究例がなかっ
た。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、染料中間体等として有用なピラゾールアミド類を高
収率で合成する工業的に有効な製造方法を提供すること
にある。
は、染料中間体等として有用なピラゾールアミド類を高
収率で合成する工業的に有効な製造方法を提供すること
にある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者は、ピラゾール
エステルをアミノリシスすることで該ピラゾールアミド
を合成する方法を研究した。その結果、ピラゾールエス
テルのアミン類によるアミノリシスが、ルイス酸を活性
化剤として用いることによって容易に進行し、該ピラゾ
ールアミドが製造できることを見いだした。さらに、本
発明者は、上記活性化に用いられるルイス酸は、触媒と
して作用することを見いだした。このことは、工業的に
製造する上で、反応後の後処理や生産物の取り出し、環
境保全の観点からきわめて有意義なことである。
エステルをアミノリシスすることで該ピラゾールアミド
を合成する方法を研究した。その結果、ピラゾールエス
テルのアミン類によるアミノリシスが、ルイス酸を活性
化剤として用いることによって容易に進行し、該ピラゾ
ールアミドが製造できることを見いだした。さらに、本
発明者は、上記活性化に用いられるルイス酸は、触媒と
して作用することを見いだした。このことは、工業的に
製造する上で、反応後の後処理や生産物の取り出し、環
境保全の観点からきわめて有意義なことである。
【０００９】すなわち、本発明の目的は、下記一般式
（Ａ）で表される化合物をルイス酸の存在下、下記一般
式（Ｂ）で表されるアミン類と反応させることを特徴と
する、下記一般式（Ｃ）で表されるピラゾールアミド類
の製造方法によって達成された。
（Ａ）で表される化合物をルイス酸の存在下、下記一般
式（Ｂ）で表されるアミン類と反応させることを特徴と
する、下記一般式（Ｃ）で表されるピラゾールアミド類
の製造方法によって達成された。
【００１０】
【化２】
【００１１】（各式中、Ｒ1 は水素原子、置換もしくは
無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基
又は置換もしくは無置換の複素環基を表し、Ｒ2 はアル
キル基を表す。Ｒ3 及びＲ4 はそれぞれ水素原子、置換
もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のア
リール基又は置換もしくは無置換の複素環基を表し、互
いに結合して環を形成してもよい。）
無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基
又は置換もしくは無置換の複素環基を表し、Ｒ2 はアル
キル基を表す。Ｒ3 及びＲ4 はそれぞれ水素原子、置換
もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のア
リール基又は置換もしくは無置換の複素環基を表し、互
いに結合して環を形成してもよい。）
【００１２】まず一般式（Ａ）について詳細に説明す
る。Ｒ1 は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル
基、置換もしくは無置換のアリール基又は置換もしくは
無置換の複素環基を表すが、詳しく述べるとアルキル基
は炭素数１から１２の直鎖または分岐鎖のアルキル基で
あり、アリール基は炭素数６から１０のフェニル基また
はナフチル基を表し、複素環基は５から７員環の飽和ま
たは不飽和の複素環基を表す。これらの基は、炭素原
子、酸素原子、窒素原子、または硫黄原子で連結される
有機置換基や水酸基、ハロゲン原子、スルホン酸基など
の置換基を有していてもよい。これらの有機置換基は、
例えば、アルキル基、アリール基、複素環基、シアノ
基、アシル基、カルボキシル基、アリールオキシ基、ア
ルコキシ基、複素環オキシ基、アミノ基、スルファモイ
ルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、複素環チオ基、スルファモイル基、スルホ
ニル基、スルフィニル基が挙げられる。
る。Ｒ1 は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル
基、置換もしくは無置換のアリール基又は置換もしくは
無置換の複素環基を表すが、詳しく述べるとアルキル基
は炭素数１から１２の直鎖または分岐鎖のアルキル基で
あり、アリール基は炭素数６から１０のフェニル基また
はナフチル基を表し、複素環基は５から７員環の飽和ま
たは不飽和の複素環基を表す。これらの基は、炭素原
子、酸素原子、窒素原子、または硫黄原子で連結される
有機置換基や水酸基、ハロゲン原子、スルホン酸基など
の置換基を有していてもよい。これらの有機置換基は、
例えば、アルキル基、アリール基、複素環基、シアノ
基、アシル基、カルボキシル基、アリールオキシ基、ア
ルコキシ基、複素環オキシ基、アミノ基、スルファモイ
ルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、複素環チオ基、スルファモイル基、スルホ
ニル基、スルフィニル基が挙げられる。
【００１３】Ｒ1 で表される置換基を具体的にさらに詳
しく説明する。Ｒ1 で表される置換もしくは無置換のア
ルキル基は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、メトキシエチル、２−ヒドロキシエチ
ル、カルボキシメチル、フェノキシエチル、メタンスル
ホニルエチル、（３−ペンタデシルフェノキシ）プロピ
ル、３−（２，４−ジアミルフェノキシ）プロピル、２
−スルホエチル、４−スルホブチル、２’−スルホベン
ジルなどが挙げられる。
しく説明する。Ｒ1 で表される置換もしくは無置換のア
ルキル基は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、メトキシエチル、２−ヒドロキシエチ
ル、カルボキシメチル、フェノキシエチル、メタンスル
ホニルエチル、（３−ペンタデシルフェノキシ）プロピ
ル、３−（２，４−ジアミルフェノキシ）プロピル、２
−スルホエチル、４−スルホブチル、２’−スルホベン
ジルなどが挙げられる。
【００１４】Ｒ1 で表される置換もしくは無置換のアリ
ール基は、例えば、フェニル、４−トリル、４−メトキ
シフェニル、２，４−キシリル、２−クロロフェニル、
４−カルボキシフェニル、４−スルホフェニル、２，５
−ジスルホフェニル、１−ナフチル、１−（３，５−ジ
スルホナフチル）などが挙げられる。
ール基は、例えば、フェニル、４−トリル、４−メトキ
シフェニル、２，４−キシリル、２−クロロフェニル、
４−カルボキシフェニル、４−スルホフェニル、２，５
−ジスルホフェニル、１−ナフチル、１−（３，５−ジ
スルホナフチル）などが挙げられる。
【００１５】Ｒ1 で表される置換もしくは無置換の複素
環基は、例えば、２−テトラヒドロフラニル、２−テト
ラヒドロチエニル、１−ピペリジノ、２−ピリジル、１
−ピラゾリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−
ベンゾチアゾリル、３−（１，１−ジオキソテトラヒド
ロチエニル）などが挙げられる。
環基は、例えば、２−テトラヒドロフラニル、２−テト
ラヒドロチエニル、１−ピペリジノ、２−ピリジル、１
−ピラゾリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−
ベンゾチアゾリル、３−（１，１−ジオキソテトラヒド
ロチエニル）などが挙げられる。
【００１６】Ｒ1 の置換もしくは無置換のアルキル基
は、好ましくは、炭素数１から７の置換もしくは無置換
のアルキル基であり、さらに好ましくは、カルボキシル
基、スルホ基または水酸基で置換された炭素数１から７
のアルキル基、または無置換のメチル基である。Ｒ1 の
置換もしくは無置換のアリール基は好ましくは、置換も
しくは無置換のフェニル基であり、さらに好ましくは、
カルボキシル基、またはスルホ基で置換されたフェニル
基である。
は、好ましくは、炭素数１から７の置換もしくは無置換
のアルキル基であり、さらに好ましくは、カルボキシル
基、スルホ基または水酸基で置換された炭素数１から７
のアルキル基、または無置換のメチル基である。Ｒ1 の
置換もしくは無置換のアリール基は好ましくは、置換も
しくは無置換のフェニル基であり、さらに好ましくは、
カルボキシル基、またはスルホ基で置換されたフェニル
基である。
【００１７】Ｒ1 は、水素原子、無置換またはカルボキ
シル基、スルホ基もしくは水酸基で置換された炭素数１
から７のアルキル基、無置換またはカルボキシル基もし
くはスルホ基で置換されたフェニル基、または３−
（１，１−ジオキソテトラヒドロチエニル）が好まし
く、水素原子、メチル基、カルボキシメチル基、スルホ
基で置換された炭素数２から４の直鎖アルキル基、２’
−スルホベンジル基、４−スルホフェニル基、２，５−
ジスルホフェニル基、３−（１，１−ジオキソテトラヒ
ドロチエニル）が特に好ましく、メチル基が最も好まし
い。
シル基、スルホ基もしくは水酸基で置換された炭素数１
から７のアルキル基、無置換またはカルボキシル基もし
くはスルホ基で置換されたフェニル基、または３−
（１，１−ジオキソテトラヒドロチエニル）が好まし
く、水素原子、メチル基、カルボキシメチル基、スルホ
基で置換された炭素数２から４の直鎖アルキル基、２’
−スルホベンジル基、４−スルホフェニル基、２，５−
ジスルホフェニル基、３−（１，１−ジオキソテトラヒ
ドロチエニル）が特に好ましく、メチル基が最も好まし
い。
【００１８】Ｒ2 はアルキル基を表すが、詳しくは、炭
素数１から１２の直鎖または分岐鎖のアルキル基であ
り、具体的には、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、１−（２−エチルヘキ
シル）、デシル、ドデシル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル基などである。Ｒ2 は好ましくは、炭素数１から
６のアルキル基であり、さらに好ましくは、炭素数１か
ら４の直鎖アルキル基であり、特に好ましいのはメチル
基またはエチル基である。
素数１から１２の直鎖または分岐鎖のアルキル基であ
り、具体的には、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、１−（２−エチルヘキ
シル）、デシル、ドデシル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル基などである。Ｒ2 は好ましくは、炭素数１から
６のアルキル基であり、さらに好ましくは、炭素数１か
ら４の直鎖アルキル基であり、特に好ましいのはメチル
基またはエチル基である。
【００１９】次に本発明で用いられるピラゾールエステ
ルの具体例を示すが、もちろん、これらに限定されるも
のではない
ルの具体例を示すが、もちろん、これらに限定されるも
のではない
【００２０】
【化３】
【００２１】一般式（Ａ）で表わされるピラゾールエス
テル化合物は、対応するヒドラジン類とオキサロ酢酸エ
ステル類から容易に合成する事が出来る。
テル化合物は、対応するヒドラジン類とオキサロ酢酸エ
ステル類から容易に合成する事が出来る。
【００２２】次に一般式（Ｂ）で表わされるアミン類つ
いて詳細に説明する。本発明で用いられる一般式（Ｂ）
で表わされるアミン類は、一般式（Ｃ）で表されるピラ
ゾールアミド類のＲ3 、Ｒ4 で表わされる基を有する一
級又は二級のアミン類である。
いて詳細に説明する。本発明で用いられる一般式（Ｂ）
で表わされるアミン類は、一般式（Ｃ）で表されるピラ
ゾールアミド類のＲ3 、Ｒ4 で表わされる基を有する一
級又は二級のアミン類である。
【００２３】Ｒ3 、Ｒ4 を詳しく述べる。アルキル基は
好ましくは炭素数１から１２の直鎖または分岐鎖のアル
キル基を表し、Ｒ3 とＲ4 のアルキル基が互いに連結し
て環を形成していてもよく、アリール基は好ましくは炭
素数６から１０のフェニル基またはナフチル基を表し、
複素環基は好ましくは５から７員環の飽和または不飽和
の複素環基を表す。これらの基は、炭素原子、酸素原
子、窒素原子、または硫黄原子で連結される有機置換基
や水酸基、ハロゲン原子、スルホン酸基などの置換基を
有していてもよい。これらの有機置換基は、例えば、ア
ルキル基、アリール基、複素環基、シアノ基、アシル
基、カルボキシル基、アリールオキシ基、アルコキシ
基、複素環オキシ基、アミノ基、スルファモイルアミノ
基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、複素環チオ基、スルファモイル基、スルホニル基、
スルフィニル基などが挙げられる。
好ましくは炭素数１から１２の直鎖または分岐鎖のアル
キル基を表し、Ｒ3 とＲ4 のアルキル基が互いに連結し
て環を形成していてもよく、アリール基は好ましくは炭
素数６から１０のフェニル基またはナフチル基を表し、
複素環基は好ましくは５から７員環の飽和または不飽和
の複素環基を表す。これらの基は、炭素原子、酸素原
子、窒素原子、または硫黄原子で連結される有機置換基
や水酸基、ハロゲン原子、スルホン酸基などの置換基を
有していてもよい。これらの有機置換基は、例えば、ア
ルキル基、アリール基、複素環基、シアノ基、アシル
基、カルボキシル基、アリールオキシ基、アルコキシ
基、複素環オキシ基、アミノ基、スルファモイルアミノ
基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、複素環チオ基、スルファモイル基、スルホニル基、
スルフィニル基などが挙げられる。
【００２４】Ｒ3 、Ｒ4 で表される置換基を具体的にさ
らに詳しく説明する。Ｒ3 、Ｒ4 で表される置換もしく
は無置換のアルキル基は、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、メトキシエチル、２−ヒ
ドロキシエチル、カルボキシメチル、フェノキシエチ
ル、メタンスルホニルエチル、（３−ペンタデシルフェ
ノキシ）プロピル、３−（２，４−ジアミルフェノキ
シ）プロピル、２−スルホエチル、４−スルホブチル、
２’−スルホベンジル基などが挙げられる。
らに詳しく説明する。Ｒ3 、Ｒ4 で表される置換もしく
は無置換のアルキル基は、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、メトキシエチル、２−ヒ
ドロキシエチル、カルボキシメチル、フェノキシエチ
ル、メタンスルホニルエチル、（３−ペンタデシルフェ
ノキシ）プロピル、３−（２，４−ジアミルフェノキ
シ）プロピル、２−スルホエチル、４−スルホブチル、
２’−スルホベンジル基などが挙げられる。
【００２５】Ｒ3 、Ｒ4 で表されるアルキル基が互いに
連結して形成する環は、５、または６員環で、さらに詳
しく説明すれば、例えば、ピロリジン、ピペリジン、４
−メチルピペラジン、４−エチルピペラジン、モルホリ
ンなどが挙げられる。
連結して形成する環は、５、または６員環で、さらに詳
しく説明すれば、例えば、ピロリジン、ピペリジン、４
−メチルピペラジン、４−エチルピペラジン、モルホリ
ンなどが挙げられる。
【００２６】Ｒ3 、Ｒ4 で表される置換もしくは無置換
のアリール基は、例えば、フェニル、４−トリル、４−
メトキシフェニル、２，４−キシリル、２−クロロフェ
ニル、４−カルボキシフェニル、４−スルホフェニル、
２，５−ジスルホフェニル、１−ナフチル、１−（３，
５−ジスルホナフチル）などが挙げられる。
のアリール基は、例えば、フェニル、４−トリル、４−
メトキシフェニル、２，４−キシリル、２−クロロフェ
ニル、４−カルボキシフェニル、４−スルホフェニル、
２，５−ジスルホフェニル、１−ナフチル、１−（３，
５−ジスルホナフチル）などが挙げられる。
【００２７】Ｒ3 、Ｒ4 で表される置換もしくは無置換
の複素環基は、例えば、２−テトラヒドロフラニル、２
−テトラヒドロチエニル、２−ピリジル、２−チエニ
ル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル、３−
（１，１−ジオキソテトラヒドロチエニル）などが挙げ
られる。
の複素環基は、例えば、２−テトラヒドロフラニル、２
−テトラヒドロチエニル、２−ピリジル、２−チエニ
ル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル、３−
（１，１−ジオキソテトラヒドロチエニル）などが挙げ
られる。
【００２８】Ｒ3 、Ｒ4 の置換もしくは無置換のアルキ
ル基は、好ましくは、炭素数１から７の置換もしくは無
置換のアルキル基であり、さらに好ましくは、カルボキ
シル基、スルホ基、アルコキシ基または水酸基で置換さ
れた炭素数１から７のアルキル基か無置換のメチル基で
ある。Ｒ3 、Ｒ4 で表されるアルキル基が互いに連結し
て形成する環は、好ましくはピロリジン、ピペリジン、
４−メチルピペラジン、モルホリンであり、さらに好ま
しくは、モルホリンである。Ｒ3 、Ｒ4 で表される置換
もしくは無置換のアリール基は好ましくは、置換もしく
は無置換のフェニル基であり、さらに好ましくは、無置
換のフェニル基またはカルボキシル基もしくはスルホ基
で置換されたフェニル基である。
ル基は、好ましくは、炭素数１から７の置換もしくは無
置換のアルキル基であり、さらに好ましくは、カルボキ
シル基、スルホ基、アルコキシ基または水酸基で置換さ
れた炭素数１から７のアルキル基か無置換のメチル基で
ある。Ｒ3 、Ｒ4 で表されるアルキル基が互いに連結し
て形成する環は、好ましくはピロリジン、ピペリジン、
４−メチルピペラジン、モルホリンであり、さらに好ま
しくは、モルホリンである。Ｒ3 、Ｒ4 で表される置換
もしくは無置換のアリール基は好ましくは、置換もしく
は無置換のフェニル基であり、さらに好ましくは、無置
換のフェニル基またはカルボキシル基もしくはスルホ基
で置換されたフェニル基である。
【００２９】Ｒ3 及びＲ4 は、それぞれ水素原子（但
し、Ｒ3 及びＲ4 が同時に水素原子となることはな
い）、無置換またはカルボキシル基、スルホ基、アルコ
キシ基もしくは水酸基で置換された炭素数１から７のア
ルキル基、無置換またはカルボキシル基もしくはスルホ
基で置換されたフェニル基、またはＲ3 とＲ4 が互いに
連結して形成するモルホリノ基を表わすことが好まし
く、なかでも、水素原子（但し、Ｒ3 及びＲ4 が同時に
水素原子となることはない）、メチル基、カルボキシエ
チル基、スルホ基で置換された炭素数２から４の直鎖ア
ルキル基、フェニル基、４−スルホフェニル基、２，５
−ジスルホフェニル基、または、Ｒ3 とＲ4 が互いに連
結して形成するモルホリノ基が好ましく、Ｒ3 が水素原
子でＲ4 がフェニル基である場合及びＲ3 とＲ4 が互い
に連結して形成するモルホリノ基である場合が特に好ま
しく、Ｒ3 とＲ4 が互いに連結して形成するモルホリノ
基が最も好ましい。
し、Ｒ3 及びＲ4 が同時に水素原子となることはな
い）、無置換またはカルボキシル基、スルホ基、アルコ
キシ基もしくは水酸基で置換された炭素数１から７のア
ルキル基、無置換またはカルボキシル基もしくはスルホ
基で置換されたフェニル基、またはＲ3 とＲ4 が互いに
連結して形成するモルホリノ基を表わすことが好まし
く、なかでも、水素原子（但し、Ｒ3 及びＲ4 が同時に
水素原子となることはない）、メチル基、カルボキシエ
チル基、スルホ基で置換された炭素数２から４の直鎖ア
ルキル基、フェニル基、４−スルホフェニル基、２，５
−ジスルホフェニル基、または、Ｒ3 とＲ4 が互いに連
結して形成するモルホリノ基が好ましく、Ｒ3 が水素原
子でＲ4 がフェニル基である場合及びＲ3 とＲ4 が互い
に連結して形成するモルホリノ基である場合が特に好ま
しく、Ｒ3 とＲ4 が互いに連結して形成するモルホリノ
基が最も好ましい。
【００３０】本発明で用いられるアミン類を具体例で更
に詳しく説明すれば、例えば、アンモニア、メチルアミ
ン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミ
ン、ｎ−ブチルアミン、ｓ−ブチルアミン、シクロペン
チルアミン、シクロヘキシルアミン、メトキシエチルア
ミン、２−ヒドロキシエチルアミン、グリシン、フェノ
キシエチルアミン、メタンスルホニルエチルアミン、
（３−ペンタデシルフェノキシ）プロピルアミン、３−
（２，４−ジアミルフェノキシ）プロピルアミン、２−
スルホエチルアミン、４−スルホブチルアミン、２’−
スルホベンジルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジプロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、ジ（メト
キシエチル）アミン、ジ（２−ヒドロキシエチル）アミ
ン、ピロリジン、ピペリジン、４−メチルピペラジン、
４−エチルピペラジン、モルホリン、アニリン、４−ト
ルイジン、４−アニシジン、２，４−ジメチルアニリ
ン、２−クロロアニリン、４−アミノ安息香酸、４−ア
ミノベンゼンスルホン酸、２−アミノベンゼン−１，４
−ジスルホン酸、１−ナフチルアミン、１−アミノ−ナ
フタレン−３，５−ジスルホン酸、２−テトラヒドロフ
ラニルアミン、２−テトラヒドロチエニルアミン、２−
ピリジルアミン、２−チエニルアミン、２−ピリミジニ
ルアミン、２−ベンゾチアゾリルアミン、３−（１，１
−ジオキソテトラヒドロチエニル）アミンなどが挙げら
れる。
に詳しく説明すれば、例えば、アンモニア、メチルアミ
ン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミ
ン、ｎ−ブチルアミン、ｓ−ブチルアミン、シクロペン
チルアミン、シクロヘキシルアミン、メトキシエチルア
ミン、２−ヒドロキシエチルアミン、グリシン、フェノ
キシエチルアミン、メタンスルホニルエチルアミン、
（３−ペンタデシルフェノキシ）プロピルアミン、３−
（２，４−ジアミルフェノキシ）プロピルアミン、２−
スルホエチルアミン、４−スルホブチルアミン、２’−
スルホベンジルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジプロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、ジ（メト
キシエチル）アミン、ジ（２−ヒドロキシエチル）アミ
ン、ピロリジン、ピペリジン、４−メチルピペラジン、
４−エチルピペラジン、モルホリン、アニリン、４−ト
ルイジン、４−アニシジン、２，４−ジメチルアニリ
ン、２−クロロアニリン、４−アミノ安息香酸、４−ア
ミノベンゼンスルホン酸、２−アミノベンゼン−１，４
−ジスルホン酸、１−ナフチルアミン、１−アミノ−ナ
フタレン−３，５−ジスルホン酸、２−テトラヒドロフ
ラニルアミン、２−テトラヒドロチエニルアミン、２−
ピリジルアミン、２−チエニルアミン、２−ピリミジニ
ルアミン、２−ベンゾチアゾリルアミン、３−（１，１
−ジオキソテトラヒドロチエニル）アミンなどが挙げら
れる。
【００３１】次に一般式（Ｃ）で表されるピラゾールア
ミド類について詳細に説明する。Ｒ1 で表されるアルキ
ル基は一般式（Ａ）で説明したアルキル基と同義であ
る。Ｒ2 、Ｒ3 は一般式（Ｂ）におけるＲ2 、Ｒ3 と同
義である。
ミド類について詳細に説明する。Ｒ1 で表されるアルキ
ル基は一般式（Ａ）で説明したアルキル基と同義であ
る。Ｒ2 、Ｒ3 は一般式（Ｂ）におけるＲ2 、Ｒ3 と同
義である。
【００３２】次に本発明で合成される一般式（Ｃ）で表
されるピラゾールアミド類の具体例を示すが、もちろ
ん、これらに限定されるものではない。
されるピラゾールアミド類の具体例を示すが、もちろ
ん、これらに限定されるものではない。
【００３３】
【化４】
【００３４】次に本発明で用いられるルイス酸について
説明する。電子受容体として働くルイス酸の中心元素
は、ホウ素、アルミニウム、珪素、スズなどの典型元
素、または、チタン、鉄、ニッケル、銅、亜鉛などの第
四周期の遷移金属元素である。
説明する。電子受容体として働くルイス酸の中心元素
は、ホウ素、アルミニウム、珪素、スズなどの典型元
素、または、チタン、鉄、ニッケル、銅、亜鉛などの第
四周期の遷移金属元素である。
【００３５】ルイス酸の配位子は、塩化物イオン、フッ
化物イオンなどのハロゲン化物イオン、エトキシド、プ
ロポキシド、ブトキシドなどのアルコキシイオンであ
り、ルイス酸の中心元素に対し、これらの配位子は、一
種類でもよいが、二種類以上を組み合わせてもよい。ル
イス酸が二種類以上の配位子を持つ場合、そのようなル
イス酸は予め調製してもよいが、よく知られた方法で、
ｉｎ−ｓｉｔｕで配位子交換反応によって合成してもよ
い（富士薫、野出学、有機合成化学、４２，１９４（１
９８４））。
化物イオンなどのハロゲン化物イオン、エトキシド、プ
ロポキシド、ブトキシドなどのアルコキシイオンであ
り、ルイス酸の中心元素に対し、これらの配位子は、一
種類でもよいが、二種類以上を組み合わせてもよい。ル
イス酸が二種類以上の配位子を持つ場合、そのようなル
イス酸は予め調製してもよいが、よく知られた方法で、
ｉｎ−ｓｉｔｕで配位子交換反応によって合成してもよ
い（富士薫、野出学、有機合成化学、４２，１９４（１
９８４））。
【００３６】本発明で用いられるルイス酸は、具体的に
は、三フッ化ホウ素や三塩化ホウ素、三臭化ホウ素など
の三ハロゲン化ホウ素、塩化アルミニウムや臭化アルミ
ニウムなどの三ハロゲン化アルミニウム、四塩化スズな
どの四ハロゲン化スズ、二塩化スズなどの二ハロゲン化
スズ、四塩化チタンなどの四ハロゲン化チタン、三塩化
チタンなどの三ハロゲン化チタン、チタンイソプロポキ
シドなどのチタンアルコキシド、二塩化鉄などの二ハロ
ゲン化鉄、三塩化鉄などの三ハロゲン化鉄、二塩化ニッ
ケルなどの二ハロゲン化ニッケル、塩化亜鉛や臭化亜鉛
などのハロゲン化亜鉛などである。
は、三フッ化ホウ素や三塩化ホウ素、三臭化ホウ素など
の三ハロゲン化ホウ素、塩化アルミニウムや臭化アルミ
ニウムなどの三ハロゲン化アルミニウム、四塩化スズな
どの四ハロゲン化スズ、二塩化スズなどの二ハロゲン化
スズ、四塩化チタンなどの四ハロゲン化チタン、三塩化
チタンなどの三ハロゲン化チタン、チタンイソプロポキ
シドなどのチタンアルコキシド、二塩化鉄などの二ハロ
ゲン化鉄、三塩化鉄などの三ハロゲン化鉄、二塩化ニッ
ケルなどの二ハロゲン化ニッケル、塩化亜鉛や臭化亜鉛
などのハロゲン化亜鉛などである。
【００３７】ルイス酸としてより好ましくは、三ハロゲ
ン化ホウ素、三ハロゲン化アルミニウム、四ハロゲン化
スズ、四ハロゲン化チタン、チタンアルコキシド、三ハ
ロゲン化鉄、ハロゲン化亜鉛であり、さらに好ましく
は、三塩化鉄、塩化アルミニウム、チタンイソプロポキ
シド、四塩化チタン、塩化亜鉛であり、最も好ましいの
は塩化アルミニウムである。
ン化ホウ素、三ハロゲン化アルミニウム、四ハロゲン化
スズ、四ハロゲン化チタン、チタンアルコキシド、三ハ
ロゲン化鉄、ハロゲン化亜鉛であり、さらに好ましく
は、三塩化鉄、塩化アルミニウム、チタンイソプロポキ
シド、四塩化チタン、塩化亜鉛であり、最も好ましいの
は塩化アルミニウムである。
【００３８】本発明で用いられるルイス酸は任意の量を
用いることができるが、その範囲はアミン類に対し、
０．０００５当量から１当量である。特に、触媒として
用いることが好ましく、その場合、０．０００５当量か
ら０．３５当量が好ましく、０．００５等量から０．２
等量が最も好ましい。
用いることができるが、その範囲はアミン類に対し、
０．０００５当量から１当量である。特に、触媒として
用いることが好ましく、その場合、０．０００５当量か
ら０．３５当量が好ましく、０．００５等量から０．２
等量が最も好ましい。
【００３９】本発明の反応では種々の溶媒を用いること
ができる。例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素溶媒、クロロホルム、クロルベンゼン、ｏ−ジク
ロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素溶媒、テトラヒ
ドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル溶媒、ジ
メチルスルホキシド、スルホランなどである。また、ア
ミン類を過剰に用い、それ自身を溶媒としてもよい。溶
媒のうち、好ましくは、トルエン、キシレン、クメン、
クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン、ジメトキシエ
タン、スルホラン、過剰のアミンそれ自身であり、さら
に好ましくは、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、
または、過剰のアミンそれ自身であり、過剰のアミンを
用いるのが最も好ましい。
ができる。例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素溶媒、クロロホルム、クロルベンゼン、ｏ−ジク
ロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素溶媒、テトラヒ
ドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル溶媒、ジ
メチルスルホキシド、スルホランなどである。また、ア
ミン類を過剰に用い、それ自身を溶媒としてもよい。溶
媒のうち、好ましくは、トルエン、キシレン、クメン、
クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン、ジメトキシエ
タン、スルホラン、過剰のアミンそれ自身であり、さら
に好ましくは、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、
または、過剰のアミンそれ自身であり、過剰のアミンを
用いるのが最も好ましい。
【００４０】反応温度は、０℃から２００℃であり、な
かでも２０℃から１５０℃が好ましく、モルホリンと反
応させる場合、８０℃から１３０℃がさらに好ましい。
反応は、生成物が酸化されることを防ぐために窒素雰囲
気下で行うことが好ましい。
かでも２０℃から１５０℃が好ましく、モルホリンと反
応させる場合、８０℃から１３０℃がさらに好ましい。
反応は、生成物が酸化されることを防ぐために窒素雰囲
気下で行うことが好ましい。
【００４１】本発明において好ましい態様について示す
と、一般式（Ａ）〜（Ｃ）において、Ｒ1 が、水素原
子、無置換またはカルボキシル基、スルホ基もしくは水
酸基で置換された炭素数１から７のアルキル基、無置換
またはカルボキシル基もしくはスルホ基で置換されたフ
ェニル基、または３−（１，１−ジオキソテトラヒドロ
チエニル）を表わし、Ｒ2 が炭素数１から６のアルキル
基を表わし、Ｒ3 及びＲ 4 が、それぞれ水素原子（但
し、Ｒ3 及びＲ4 が同時に水素原子となることはな
い）、無置換またはカルボキシル基、スルホ基、アルコ
キシ基もしくは水酸基で置換された炭素数１から７のア
ルキル基、無置換またはカルボキシル基もしくはスルホ
基で置換されたフェニル基、またはＲ3 とＲ4 が互いに
連結して形成するモルホリノ基を表わし、ルイス酸とし
て、三ハロゲン化ホウ素、三ハロゲン化アルミニウム、
四ハロゲン化スズ、四ハロゲン化チタン、チタンアルコ
キシド、三ハロゲン化鉄またはハロゲン化亜鉛を、触媒
として０．０００５当量から０．３５当量用いる態様で
ある。
と、一般式（Ａ）〜（Ｃ）において、Ｒ1 が、水素原
子、無置換またはカルボキシル基、スルホ基もしくは水
酸基で置換された炭素数１から７のアルキル基、無置換
またはカルボキシル基もしくはスルホ基で置換されたフ
ェニル基、または３−（１，１−ジオキソテトラヒドロ
チエニル）を表わし、Ｒ2 が炭素数１から６のアルキル
基を表わし、Ｒ3 及びＲ 4 が、それぞれ水素原子（但
し、Ｒ3 及びＲ4 が同時に水素原子となることはな
い）、無置換またはカルボキシル基、スルホ基、アルコ
キシ基もしくは水酸基で置換された炭素数１から７のア
ルキル基、無置換またはカルボキシル基もしくはスルホ
基で置換されたフェニル基、またはＲ3 とＲ4 が互いに
連結して形成するモルホリノ基を表わし、ルイス酸とし
て、三ハロゲン化ホウ素、三ハロゲン化アルミニウム、
四ハロゲン化スズ、四ハロゲン化チタン、チタンアルコ
キシド、三ハロゲン化鉄またはハロゲン化亜鉛を、触媒
として０．０００５当量から０．３５当量用いる態様で
ある。
【００４２】
【実施例】次に、実施例によって、本発明を更に詳しく
説明する。 実施例１ ３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシピラゾールの
合成 エタノール４００mlにヒドラジン塩酸塩２０．６ｇ
（０．３０mol ）とオギザロ酢酸ナトリウム塩６３．０
ｇ（０．３３mol ）を加え、室温で２時間攪拌した後、
加熱し、３時間攪拌還流した。エタノールを溜去した
後、残渣に水１００mlを加え、１時間室温で攪拌した。
生成した結晶を濾取し、水で洗浄した。収量３０．２ｇ
（６５％）。融点は１８０〜１８２℃。
説明する。 実施例１ ３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシピラゾールの
合成 エタノール４００mlにヒドラジン塩酸塩２０．６ｇ
（０．３０mol ）とオギザロ酢酸ナトリウム塩６３．０
ｇ（０．３３mol ）を加え、室温で２時間攪拌した後、
加熱し、３時間攪拌還流した。エタノールを溜去した
後、残渣に水１００mlを加え、１時間室温で攪拌した。
生成した結晶を濾取し、水で洗浄した。収量３０．２ｇ
（６５％）。融点は１８０〜１８２℃。
【００４３】化合物Ｃ−１の合成 ３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシピラゾール
１５．６ｇ（０．１０mol ）とモルホリン３５ml（０．
４０mol ）と無水塩化アルミニウム１．３３ｇ（０．０
１mol ）を窒素雰囲気下１００℃で７時間攪拌した。減
圧で過剰のモルホリンを溜去した後、飽和食塩水３０ml
を加え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。生成した結晶を濾
取し、飽和食塩水で洗浄した。収量１６．２ｇ（８３
％）。融点２２０℃〜分解
１５．６ｇ（０．１０mol ）とモルホリン３５ml（０．
４０mol ）と無水塩化アルミニウム１．３３ｇ（０．０
１mol ）を窒素雰囲気下１００℃で７時間攪拌した。減
圧で過剰のモルホリンを溜去した後、飽和食塩水３０ml
を加え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。生成した結晶を濾
取し、飽和食塩水で洗浄した。収量１６．２ｇ（８３
％）。融点２２０℃〜分解
【００４４】実施例２ ３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシ−１−メチル
ピラゾールの合成 エタノール８００mlに硫酸１０８ｇ（１．１mol ）とメ
チルヒドラジン９２．１ｇ（２．０mol ）とオキサロ酢
酸ナトリウム塩４６２．４ｇ（０．３３mol ）を加え、
室温で２時間攪拌した後、加熱し、３時間攪拌還流し
た。エタノールを溜去した後、残渣に水８００mlを加
え、１晩室温で放置した。生成した結晶を濾取し、水で
洗浄した。収量２７９ｇ（８２％）。融点は１５１〜１
５３℃。
ピラゾールの合成 エタノール８００mlに硫酸１０８ｇ（１．１mol ）とメ
チルヒドラジン９２．１ｇ（２．０mol ）とオキサロ酢
酸ナトリウム塩４６２．４ｇ（０．３３mol ）を加え、
室温で２時間攪拌した後、加熱し、３時間攪拌還流し
た。エタノールを溜去した後、残渣に水８００mlを加
え、１晩室温で放置した。生成した結晶を濾取し、水で
洗浄した。収量２７９ｇ（８２％）。融点は１５１〜１
５３℃。
【００４５】化合物Ｃ−２の合成 ３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシ−１−メチル
ピラゾール １７．０ｇ（０．１０mol ）とモルホリン
３５ml（０．４０mol ）と無水塩化アルミニウム１．３
３ｇ（０．０１mol ）を窒素雰囲気下１１０℃で５時間
攪拌した。減圧で過剰のモルホリンを溜去した後、飽和
食塩水３５mlを加え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。生成
した結晶を濾取し、飽和食塩水で洗浄した。収量１８．
２ｇ（８６％）。融点 １７２〜１７４℃。
ピラゾール １７．０ｇ（０．１０mol ）とモルホリン
３５ml（０．４０mol ）と無水塩化アルミニウム１．３
３ｇ（０．０１mol ）を窒素雰囲気下１１０℃で５時間
攪拌した。減圧で過剰のモルホリンを溜去した後、飽和
食塩水３５mlを加え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。生成
した結晶を濾取し、飽和食塩水で洗浄した。収量１８．
２ｇ（８６％）。融点 １７２〜１７４℃。
【００４６】実施例３ 化合物Ｃ−２の合成 ３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシ−１−メチル
ピラゾール １７．０ｇ（０．１０mol ）とモルホリン
３５ml（０．４０mol ）とチタンイソプロポキシド５．
６９ｇ（０．０２mol ）を、窒素雰囲気下１１０℃で７
時間攪拌した。減圧で過剰のモルホリンを溜去した後、
飽和食塩水３５mlを加え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。
生成した結晶を濾取し、飽和食塩水で洗浄した。収量１
７．３ｇ（８２％）。
ピラゾール １７．０ｇ（０．１０mol ）とモルホリン
３５ml（０．４０mol ）とチタンイソプロポキシド５．
６９ｇ（０．０２mol ）を、窒素雰囲気下１１０℃で７
時間攪拌した。減圧で過剰のモルホリンを溜去した後、
飽和食塩水３５mlを加え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。
生成した結晶を濾取し、飽和食塩水で洗浄した。収量１
７．３ｇ（８２％）。
【００４７】実施例４ 化合物Ｃ−２の合成 ３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシ−１−メチル
ピラゾール １７．０ｇ（０．１０mol ）とモルホリン
３５ml（０．４０mol ）と無水三塩化鉄３．２４ｇ
（０．０２mol ）を窒素雰囲気下１１０℃で５時間攪拌
した。減圧で過剰のモルホリンを溜去した後、飽和食塩
水３５mlを加え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。生成した
結晶を濾取し、飽和食塩水で洗浄した。収量１８．０ｇ
（８５％）。
ピラゾール １７．０ｇ（０．１０mol ）とモルホリン
３５ml（０．４０mol ）と無水三塩化鉄３．２４ｇ
（０．０２mol ）を窒素雰囲気下１１０℃で５時間攪拌
した。減圧で過剰のモルホリンを溜去した後、飽和食塩
水３５mlを加え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。生成した
結晶を濾取し、飽和食塩水で洗浄した。収量１８．０ｇ
（８５％）。
【００４８】実施例５ 化合物Ｃ−２の合成 ３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシ−１−メチル
ピラゾール １７．０ｇ（０．１０mol ）とモルホリン
３５ml（０．４０mol ）と無水塩化亜鉛１．３６ｇ
（０．１０mol ）を窒素雰囲気下１１０℃で５時間攪拌
した。減圧で過剰のモルホリンを溜去した後、飽和食塩
水３５mlを加え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。生成した
結晶を濾取し、飽和食塩水で洗浄した。収量１８．４ｇ
（８７％）。
ピラゾール １７．０ｇ（０．１０mol ）とモルホリン
３５ml（０．４０mol ）と無水塩化亜鉛１．３６ｇ
（０．１０mol ）を窒素雰囲気下１１０℃で５時間攪拌
した。減圧で過剰のモルホリンを溜去した後、飽和食塩
水３５mlを加え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。生成した
結晶を濾取し、飽和食塩水で洗浄した。収量１８．４ｇ
（８７％）。
【００４９】実施例６ ３−（３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシピラゾ
ール）−１−イルプロパンスルホン酸の合成 ３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシピラゾール
３１．４ｇ（０．２mol ）と精製したプロパンサルトン
２４．４ｇ（０．２mol ）及びキシレン１００mlを１５
０℃で２時間加熱攪拌した。二層に分離した上澄みをデ
カントで除き、メタノール５０mlを加え、加熱攪拌しな
がら溶解した。溶解後、氷冷し、結晶が析出し始めたら
アセトン４０mlを加え、さらに一晩、冷蔵庫で内温５℃
以下に保ち、析出した結晶を濾取した。収量２３．３ｇ
（４２％）、融点１０７〜１０９℃。
ール）−１−イルプロパンスルホン酸の合成 ３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシピラゾール
３１．４ｇ（０．２mol ）と精製したプロパンサルトン
２４．４ｇ（０．２mol ）及びキシレン１００mlを１５
０℃で２時間加熱攪拌した。二層に分離した上澄みをデ
カントで除き、メタノール５０mlを加え、加熱攪拌しな
がら溶解した。溶解後、氷冷し、結晶が析出し始めたら
アセトン４０mlを加え、さらに一晩、冷蔵庫で内温５℃
以下に保ち、析出した結晶を濾取した。収量２３．３ｇ
（４２％）、融点１０７〜１０９℃。
【００５０】化合物Ｃ−３の合成 ３−（３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシピラゾ
ール）−１−イルプロパンスルホン酸 １１．１ｇ
（０．０４mol ）とモルホリン２８ml（０．３２mol ）
と無水塩化アルミニウム０．５３ｇ（０．００４mol ）
を窒素雰囲気下１１０℃で５時間攪拌した。減圧で過剰
のモルホリンを溜去した後、飽和食塩水１０mlを加え、
さらに、氷冷しながら濃塩酸１０mlを加え、２４時間、
内温５℃以下に保った。析出した結晶を濾取した。収量
１２．１ｇ。これは、約２０％の食塩を不純物として含
むが、染料中間体として、これ以上精製することなしに
使用できる。
ール）−１−イルプロパンスルホン酸 １１．１ｇ
（０．０４mol ）とモルホリン２８ml（０．３２mol ）
と無水塩化アルミニウム０．５３ｇ（０．００４mol ）
を窒素雰囲気下１１０℃で５時間攪拌した。減圧で過剰
のモルホリンを溜去した後、飽和食塩水１０mlを加え、
さらに、氷冷しながら濃塩酸１０mlを加え、２４時間、
内温５℃以下に保った。析出した結晶を濾取した。収量
１２．１ｇ。これは、約２０％の食塩を不純物として含
むが、染料中間体として、これ以上精製することなしに
使用できる。
【００５１】実施例７ 実施例１と同様にして３−エトキシカルボニル−５−ヒ
ドロキシ−１−スルホラニルピラゾールを合成した。原
料のスルホラニルヒドラジンの合成はAnnalender Chemi
e, 681 , 105(1965) に従った。
ドロキシ−１−スルホラニルピラゾールを合成した。原
料のスルホラニルヒドラジンの合成はAnnalender Chemi
e, 681 , 105(1965) に従った。
【００５２】化合物Ｃ−８の合成 ３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシ−１−スルホ
ラニルピラゾール １１．０ｇ（０．０４mol ）とモル
ホリン３５ml（０．４mol ）と無水塩化アルミニウム
０．５３ｇ（０．００４mol ）を窒素雰囲気下１１０℃
で５時間攪拌した。減圧で過剰のモルホリンを溜去した
後、飽和食塩水２０mlを加え、濃塩酸でｐＨ４に調整し
た。析出した結晶を濾取した。収量１２．５ｇ（９９
％）。融点２２４〜２２７℃。
ラニルピラゾール １１．０ｇ（０．０４mol ）とモル
ホリン３５ml（０．４mol ）と無水塩化アルミニウム
０．５３ｇ（０．００４mol ）を窒素雰囲気下１１０℃
で５時間攪拌した。減圧で過剰のモルホリンを溜去した
後、飽和食塩水２０mlを加え、濃塩酸でｐＨ４に調整し
た。析出した結晶を濾取した。収量１２．５ｇ（９９
％）。融点２２４〜２２７℃。
【００５３】実施例８ 化合物Ｃ−７の合成 ３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシ−１−メチル
ピラゾール １．７０ｇ（０．０１０mol ）とアニリン
７．３ml（０．０８０mol ）と無水塩化アルミニウム
０．１３ｇ（０．００１mol ）を窒素雰囲気下１１０℃
で３時間攪拌した。室温に冷却後析出した結晶を濾取
し、イソプロパノールで洗浄した。収量２．３８ｇ（１
００％）。融点 ２５２℃〜分解。
ピラゾール １．７０ｇ（０．０１０mol ）とアニリン
７．３ml（０．０８０mol ）と無水塩化アルミニウム
０．１３ｇ（０．００１mol ）を窒素雰囲気下１１０℃
で３時間攪拌した。室温に冷却後析出した結晶を濾取
し、イソプロパノールで洗浄した。収量２．３８ｇ（１
００％）。融点 ２５２℃〜分解。
【００５４】比較例１ 化合物Ｃ−２の合成 ３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシ−１−メチル
ピラゾール ５６．７ｇ（０．３３mol ）をモルホリン
１１７ｍｌ（１．３２mol ）に加え、生成するエタノー
ルを除きながら窒素雰囲気下１３０℃で１８時間攪拌し
た。減圧で過剰のモルホリンを溜去した後、飽和食塩水
１００mlを加え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。生成した
結晶を濾取し、飽和食塩水で洗浄した。収量５８．１ｇ
（８２％）。
ピラゾール ５６．７ｇ（０．３３mol ）をモルホリン
１１７ｍｌ（１．３２mol ）に加え、生成するエタノー
ルを除きながら窒素雰囲気下１３０℃で１８時間攪拌し
た。減圧で過剰のモルホリンを溜去した後、飽和食塩水
１００mlを加え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。生成した
結晶を濾取し、飽和食塩水で洗浄した。収量５８．１ｇ
（８２％）。
【００５５】比較例２ 比較例Ｃ−３の合成 ３−（３−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシピラゾ
ール）−１−イルプロパンスルホン酸 １７．０ｇ
（０．１０mol ）とモルホリン３５ml（０．４０mol ）
を窒素雰囲気下１１０℃で５時間攪拌した。減圧で過剰
のモルホリンを溜去した後、飽和食塩水１００mlを加
え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。生成した固形物を濾取
し、飽和食塩水で洗浄した。収量１９．９ｇ。得られた
固形物には未反応の原料エステルが４７％含まれてい
た。
ール）−１−イルプロパンスルホン酸 １７．０ｇ
（０．１０mol ）とモルホリン３５ml（０．４０mol ）
を窒素雰囲気下１１０℃で５時間攪拌した。減圧で過剰
のモルホリンを溜去した後、飽和食塩水１００mlを加
え、濃塩酸でｐＨ４に調整した。生成した固形物を濾取
し、飽和食塩水で洗浄した。収量１９．９ｇ。得られた
固形物には未反応の原料エステルが４７％含まれてい
た。
【００５６】
【発明の効果】本発明の製造方法は反応温度を低く設定
でき、また、反応時間も短縮することができ、３位にカ
ルバモイル基を有するピラゾール化合物の合成に広く用
いることが出来る。
でき、また、反応時間も短縮することができ、３位にカ
ルバモイル基を有するピラゾール化合物の合成に広く用
いることが出来る。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年１月３１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３０】本発明で用いられるアミン類を具体例で更
に詳しく説明すれば、例えば、メチルアミン、エチルア
ミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチ
ルアミン、ｓ−ブチルアミン、シクロペンチルアミン、
シクロヘキシルアミン、メトキシエチルアミン、２−ヒ
ドロキシエチルアミン、グリシン、フェノキシエチルア
ミン、メタンスルホニルエチルアミン、（３−ペンタデ
シルフェノキシ）プロピルアミン、３−（２，４−ジア
ミルフェノキシ）プロピルアミン、２−スルホエチルア
ミン、４−スルホブチルアミン、２’−スルホベンジル
アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピル
アミン、ジｎ−ブチルアミン、ジ（メトキシエチル）ア
ミン、ジ（２−ヒドロキシエチル）アミン、ピロリジ
ン、ピペリジン、４−メチルピペラジン、４−エチルピ
ペラジン、モルホリン、アニリン、４−トルイジン、４
−アニシジン、２，４−ジメチルアニリン、２−クロロ
アニリン、４−アミノ安息香酸、４−アミノベンゼンス
ルホン酸、２−アミノベンゼン−１，４−ジスルホン
酸、１−ナフチルアミン、１−アミノ−ナフタレン−
３，５−ジスルホン酸、２−テトラヒドロフラニルアミ
ン、２−テトラヒドロチエニルアミン、２−ピリジルア
ミン、２−チエニルアミン、２−ピリミジニルアミン、
２−ベンゾチアゾリルアミン、３−（１，１−ジオキソ
テトラヒドロチエニル）アミンなどが挙げられる。
に詳しく説明すれば、例えば、メチルアミン、エチルア
ミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチ
ルアミン、ｓ−ブチルアミン、シクロペンチルアミン、
シクロヘキシルアミン、メトキシエチルアミン、２−ヒ
ドロキシエチルアミン、グリシン、フェノキシエチルア
ミン、メタンスルホニルエチルアミン、（３−ペンタデ
シルフェノキシ）プロピルアミン、３−（２，４−ジア
ミルフェノキシ）プロピルアミン、２−スルホエチルア
ミン、４−スルホブチルアミン、２’−スルホベンジル
アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピル
アミン、ジｎ−ブチルアミン、ジ（メトキシエチル）ア
ミン、ジ（２−ヒドロキシエチル）アミン、ピロリジ
ン、ピペリジン、４−メチルピペラジン、４−エチルピ
ペラジン、モルホリン、アニリン、４−トルイジン、４
−アニシジン、２，４−ジメチルアニリン、２−クロロ
アニリン、４−アミノ安息香酸、４−アミノベンゼンス
ルホン酸、２−アミノベンゼン−１，４−ジスルホン
酸、１−ナフチルアミン、１−アミノ−ナフタレン−
３，５−ジスルホン酸、２−テトラヒドロフラニルアミ
ン、２−テトラヒドロチエニルアミン、２−ピリジルア
ミン、２−チエニルアミン、２−ピリミジニルアミン、
２−ベンゾチアゾリルアミン、３−（１，１−ジオキソ
テトラヒドロチエニル）アミンなどが挙げられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３１】次に一般式（Ｃ）で表されるピラゾールア
ミド類について詳細に説明する。Ｒ1 で表されるアルキ
ル基は一般式（Ａ）で説明したアルキル基と同義であ
る。Ｒ3 、Ｒ4 は一般式（Ｂ）におけるＲ3 、Ｒ4 と同
義である。
ミド類について詳細に説明する。Ｒ1 で表されるアルキ
ル基は一般式（Ａ）で説明したアルキル基と同義であ
る。Ｒ3 、Ｒ4 は一般式（Ｂ）におけるＲ3 、Ｒ4 と同
義である。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（Ａ）で表されるピラゾール
エステル化合物をルイス酸の存在下、下記一般式（Ｂ）
で表されるアミン類と反応させることを特徴とする、下
記一般式（Ｃ）で表されるピラゾールアミド類の製造方
法。 【化１】 （各式中、Ｒ1 は水素原子、置換もしくは無置換のアル
キル基、置換もしくは無置換のアリール基又は置換もし
くは無置換の複素環基を表し、Ｒ2 はアルキル基を表
す。Ｒ3 及びＲ4 はそれぞれ水素原子、置換もしくは無
置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基又
は置換もしくは無置換の複素環基を表し、互いに結合し
て環を形成してもよい。） - 【請求項２】 前記ルイス酸を触媒として用いることを
特徴とする請求項１のピラゾールアミド類の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6276505A JPH08134041A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | ピラゾールアミド類の製造方法 |
| US08/548,266 US5556987A (en) | 1994-11-10 | 1995-10-25 | Process for producing pyrazolecarboxamide derivative |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6276505A JPH08134041A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | ピラゾールアミド類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08134041A true JPH08134041A (ja) | 1996-05-28 |
Family
ID=17570405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6276505A Pending JPH08134041A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | ピラゾールアミド類の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5556987A (ja) |
| JP (1) | JPH08134041A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006117625A (ja) * | 2004-09-27 | 2006-05-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | アミド化合物の製造方法 |
| JP2015516959A (ja) * | 2012-04-02 | 2015-06-18 | ベーリンガー インゲルハイム インターナショナル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Ｃｃｒ３阻害薬の製造方法 |
| CN111217745A (zh) * | 2020-02-25 | 2020-06-02 | 漯河医学高等专科学校 | 卡博替尼的制备方法 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0979228A4 (en) * | 1997-03-18 | 2000-05-03 | Smithkline Beecham Corp | CANNABINOID RECEPTOR AGONISTS |
| RU2332412C2 (ru) * | 2003-02-07 | 2008-08-27 | Дайити Фармасьютикал Ко., Лтд. | Производные пиразола |
| ATE516278T1 (de) * | 2004-09-27 | 2011-07-15 | Fujifilm Corp | Verfahren zur herstellung von amidverbindungen |
| EP2980078A1 (en) | 2014-07-29 | 2016-02-03 | Solvay SA | Process for the preparation of pyrazole-4-carboxamides |
| CN119264054B (zh) * | 2024-09-10 | 2025-04-01 | 安徽中医药大学 | 一种吡唑羧酸冰片酯类化合物及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2486940A1 (fr) * | 1980-07-18 | 1982-01-22 | Ugine Kuhlmann | Procede de preparation de phenyl-1 carbamoyl-3 pyrazolones-5 |
| JPS63139949A (ja) * | 1986-12-02 | 1988-06-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 新規ピラゾロン染料 |
-
1994
- 1994-11-10 JP JP6276505A patent/JPH08134041A/ja active Pending
-
1995
- 1995-10-25 US US08/548,266 patent/US5556987A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006117625A (ja) * | 2004-09-27 | 2006-05-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | アミド化合物の製造方法 |
| JP2015516959A (ja) * | 2012-04-02 | 2015-06-18 | ベーリンガー インゲルハイム インターナショナル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Ｃｃｒ３阻害薬の製造方法 |
| CN111217745A (zh) * | 2020-02-25 | 2020-06-02 | 漯河医学高等专科学校 | 卡博替尼的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5556987A (en) | 1996-09-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH09143163A (ja) | 含窒素ヘテロ芳香族アミド類の製造方法 | |
| IE41482B1 (en) | The preparation of esters of aminocarboxylic acids | |
| US5556987A (en) | Process for producing pyrazolecarboxamide derivative | |
| IL153509A (en) | Process for making zylates from piperazine derivatives | |
| KR20140128926A (ko) | 벤다무스틴 알킬 에스테르, 벤다무스틴, 및 이의 유도체의 제조 방법 | |
| EP1026163B1 (en) | Process for producing substituted alkylamines or salts thereof | |
| US6420568B1 (en) | Process for making 1,3-disubstituted-4-oxocyclic ureas | |
| JPH11106376A (ja) | ビオローゲン誘導体の製造方法 | |
| JPWO2004103979A1 (ja) | Ｎ−（２−アミノ−４，６−ジクロロピリミジン−５−イル）ホルムアミドの製造方法 | |
| US3960926A (en) | Process for preparing azasulfonium halide salts | |
| CN1756739A (zh) | 硫代乙酸及其盐的制备方法 | |
| JPH0217163A (ja) | ジアミノマレオニトリル及びジアミノアクリロニトリル誘導体の製造方法 | |
| RU2266288C2 (ru) | Способ получения замещенного алкиламинового производного | |
| US4897495A (en) | Process for the preparation of pyrrolizine derivatives | |
| SU1011638A1 (ru) | Способ получени замещенных 9,10-тиоантраценов | |
| JP3810820B2 (ja) | オキサジン誘導体の製造方法 | |
| JP4116103B2 (ja) | ペンタメチン化合物及び４級塩化合物の製造方法 | |
| JP3044383B2 (ja) | 含窒素６員環化合物の製造方法 | |
| US6084134A (en) | Process for preparing 9-anthracenecarbaldehyes | |
| KR20230174902A (ko) | 벤조아민 유도체의 제조방법 | |
| JPH09278758A (ja) | Ｎ−ピラゾリルアミドオキシム化合物の製造方法 | |
| JPS5839675A (ja) | ２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾ−ルの製法 | |
| CA1038866A (en) | Process for the production of 4-(3-(10-(2-trifluoromethyl)-phenothiazinyl)propy)-1-piperazineethanol, 1-adamantane carboxylic acid ester | |
| KR20030089095A (ko) | 아미노기 보호기, 이 보호기의 제조방법 및 이 보호기를이용한 펩티드 합성방법 | |
| JPS63179853A (ja) | ベンゾインスルホネートの製造方法 |