JPH08136142A - トンネル型乾燥炉 - Google Patents

トンネル型乾燥炉

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JPH08136142A
JPH08136142A JP27539194A JP27539194A JPH08136142A JP H08136142 A JPH08136142 A JP H08136142A JP 27539194 A JP27539194 A JP 27539194A JP 27539194 A JP27539194 A JP 27539194A JP H08136142 A JPH08136142 A JP H08136142A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inlet
tunnel
drying furnace
exhaust port
type drying
Prior art date
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Pending
Application number
JP27539194A
Other languages
English (en)
Inventor
英之 ▲柳▼瀬
Hideyuki Yanase
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH08136142A publication Critical patent/JPH08136142A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 凝縮異物の落下に起因する被乾燥物の汚損を
確実に防止することができるトンネル式乾燥炉を提供す
ることにある。 【構成】 この乾燥炉1においては、トンネル状をなす
乾燥ゾーン2の入口部4及び出口部5にガス排出用の排
気口11,12が設置されている。入口側の排気口11
は、被乾燥物である基板7が搬送される経路の直上とな
る位置以外の位置、例えば入口部11の側壁に設けられ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、トンネル型乾燥炉に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、プリント配線板の製造プロセスに
おいては、例えば基板に塗布された液状レジストインク
等から溶媒を除去するなど、基板の乾燥を必要とする場
面がいくつかある。
【0003】図3(a)〜図3(c)には、基板20の
乾燥を行う装置の一例としてトンネル型乾燥炉21が示
されている。このトンネル乾燥炉21は、トンネル状を
なす乾燥ゾーン22を備えている。この乾燥ゾーン22
内にはヒータ22aが配置されている。乾燥ゾーン22
の入口部23及び出口部24の天井には、それぞれガス
排出用の排気ファン25,26の排気口25a,26a
が設けられている。また、乾燥ゾーン22と入口部23
との境界には、天井から底部に向かってエアを吹き出す
エアカーテン27が設けられている。乾燥ゾーン22と
出口部24との境界についても同様である。
【0004】被乾燥物である基板20は、台車やコンベ
ア等の搬送手段28によって乾燥炉21内を搬送される
際、主にヒータ22aの熱によって乾燥される。そし
て、乾燥ゾーン22内に溜まった溶剤を含むガスは、各
排気口25a,26aから吸引された後、乾燥炉21の
外部に排出される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、入口部23
においてはまだ基板20が未乾燥状態であるため、基板
20には依然として多くの溶媒が含まれている。従っ
て、入口部23の排気口25aからは、比較的多湿なガ
スが排出されることになる。このため、排気ファン25
のプロペラや排気口25aの周辺には、溶剤の凝縮によ
ってできた異物が付着しやすい。
【0006】しかし、従来のトンネル型乾燥炉21では
入口部23の天井に排気口25aが設置されていたた
め、その下方にある搬送経路上に凝縮異物が落下するこ
とによって、基板20が汚損されることが多かった。ま
た、未乾燥状態(即ち、Bステージ状態)のレジストに
付着した異物の除去は容易ではないため、不良品発生率
の増加の原因となることもあった。
【0007】本発明は上記の課題を解消するためになさ
れたものであり、その目的は、凝縮異物の落下に起因す
る被乾燥物の汚損を確実に防止することができるトンネ
ル式乾燥炉を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項1に記載の発明は、トンネル状をなす乾燥
ゾーンの入口部及び出口部にガス排出用の排気口が設置
された乾燥炉において、少なくとも入口側の排気口を、
被乾燥物が搬送される経路の直上となる位置以外の位置
に設けたトンネル型乾燥炉をその要旨とする。
【0009】請求項2に記載の発明では、請求項1にお
いて、前記入口部の側壁に前記入口側の排気口を設けて
いる。請求項3に記載の発明では、請求項2において、
前記入口部の一方の側壁に前記入口側の排気口を設け、
他方の側壁に吸気口を設けている。
【0010】
【作用】請求項1に記載の発明によると、排気口が搬送
経路の直上に設置されていないため、排気口の周囲等に
付着した凝縮異物が落下したとしても、その凝縮異物が
被乾燥物に付着する可能性が小さい。
【0011】請求項2に記載の発明によると、排気口が
搬送経路の側壁に設置されているため、排気口の周囲等
に付着した凝縮異物が落下したとしても、その凝縮異物
が被乾燥物に付着することはない。
【0012】請求項3に記載の発明によると、入口部の
内部において吸気口から排気口に抜けるエアの流れがで
きるため、乾燥ゾーンに溜まった多湿なガスがスムーズ
に排出される。
【0013】
【実施例】
〔実施例1〕以下、本発明をプリント配線板製造プロセ
スにおいて使用されるトンネル型乾燥炉1に具体化した
実施例1を図1(a)〜図1(c)に基づき詳細に説明
する。
【0014】本実施例のトンネル型乾燥炉1は、トンネ
ル状をなす断面略長方形状の乾燥ゾーン2を備えてい
る。この乾燥ゾーン2内には、内部を約100℃〜20
0℃程度に加熱することができる電気ヒータ3が配置さ
れている。乾燥ゾーン2の前段には、その乾燥ゾーン2
よりも長さが短くかつ断面略長方形状をした入口部4が
設けられている。また、乾燥ゾーン2の後段には、同じ
くその乾燥ゾーン2よりも長さが短くかつ断面略長方形
状をした出口部5が設けられている。
【0015】前記トンネル型乾燥炉1の内部には、搬送
手段としてのコンベア6が敷設されている。このコンベ
ア6は、被乾燥物としての基板7を入口部4、乾燥ゾー
ン2及び出口部5の順に一定速度で搬送する。なお、各
基板7は同コンベア6に設けられた図示しないラックに
立て掛けられる。
【0016】乾燥ゾーン2と入口部4との境界には、天
井から底部に向かってエアを吹き出す長尺状のエアカー
テン8が設けられている。乾燥ゾーン2と出口部5との
境界についても、同様のエアカーテン8が設けられてい
る。各々のエアカーテン8から供給されるエアの流量
は、0.5m3 /分〜3.0m3 /分程度である。その
エアの流れ方向は、図中において矢印A2 で示されるよ
うに垂直方向である。
【0017】入口部4及び出口部5の第1の側壁(進行
方向に向かって左側となる側壁)S1 の外面には、それ
ぞれガス排出用の排気ファン9,10が設置されてい
る。また、前記第1の側壁S1 には、排気ファン9,1
0と搬送空間とをつなぐ排気口11,12が貫設されて
いる。
【0018】一方、第2の側壁(進行方向に向かって右
側となる側壁)S2 の外面には、それぞれ搬送空間内に
エアを供給するための吸気ファン13,14が設置され
ている。また、各吸気ファン13,14には、図示しな
いエアフィルタが設けられている。前記第2の側壁S2
には、吸気ファン13,14と搬送空間とをつなぐ吸気
口15,16が貫設されている。なお、入口側の吸気口
15は前記排気口11と対向する位置に配設されてお
り、出口側の吸気口16は前記排気口12と対向する位
置に配設されている。各々の吸気ファン13,14から
供給されるエアの流量は、10m3 /分〜30m3 /分
程度である。そのエアの流れ方向は、図中において矢印
A1 で示されるように水平方向である。
【0019】入口部4から搬入された基板7は、乾燥ゾ
ーン2を所定の時間をかけて通過した後に出口部5から
搬出される。乾燥ゾーン2内には電気ヒータ3が設けら
れていることから、基板7に塗布された液状レジストの
溶剤は、乾燥ゾーン2の通過時に電気ヒータ3の熱によ
ってガス化する。乾燥ゾーン2内に溜まった溶剤を含む
ガスは、乾燥ゾーン2の長手方向に沿って移動し、入口
部4または出口部5へ到る。入口部4または出口部5へ
到ったガスは、各排気ファン9,10の回転によって各
排気口11,12に吸引される。吸引されたガスは、図
示しない配管に集められた後、処理施設等を経て建物の
外部に排出される。基板7は、以上のようなプロセスを
経て乾燥される。
【0020】さて、本実施例のトンネル型乾燥炉1によ
ると、入口側の排気口11が搬送経路の第1の側壁S1
に、即ち搬送経路の直上ではない位置に設けられてい
る。このため、同排気口11の周囲等に付着した凝縮異
物が落下したとしても、その凝縮異物が基板7に付着す
ることがない。従って、基板7の汚損が確実に防止さ
れ、不良品発生率の低減が図られる。
【0021】また、この実施例では排気口11に対向し
て吸気口15を設けているため、入口部4の搬送空間内
部に、吸気口15から排気口11に抜ける水平方向に沿
ったエアの流れができる。このため、乾燥ゾーン2に溜
まった多湿なガスがスムーズにかつムラなく排出され
る。従って、従来に比べて乾燥効率も向上する。
【0022】なお、本実施例では入口部4のみならず出
口部5にも同様の構造を設けている。このため、出口部
5における凝縮異物の落下防止も図ることができる。 〔実施例2〕次に、図2(a)〜図2(c)に基づき実
施例2のトンネル型乾燥炉18を説明する。なお、この
トンネル型乾燥炉18は、実施例1のトンネル型乾燥炉
1とほとんど同じ構成を備えるものであるため、ここで
は両者の相違点を中心に説明する。なお、両者の共通点
については、図中において実施例1と共通の部材番号を
付す。
【0023】図2(a)〜図2(c)に示されるよう
に、本実施例のトンネル型乾燥炉18では、実施例1の
ときとエアカーテン8の配設位置が異なっている。即
ち、実施例1ではエアカーテン8が天井に配設されてい
たのに対し、この実施例ではそれらが第2の側壁S2 に
設けられている。従って、エアカーテン8のエア流れ方
向A2 は、吸気ファン9,10と排気ファン13,14
とによるエアの流れ方向A1 とほぼ同一になる。ゆえ
に、両者のエアの流れ方向が同一でないときと比較し
て、乱流の発生等によるエアの流れのロスが少なくな
る。従って、多湿なガスの排出をよりスムーズにかつ省
力的に行うことができる。
【0024】なお、本発明は例えば次のように変更する
ことが可能である。 (1)排気口11,12を入口部4または出口部5の底
部に設けてもかまわない。また、排気口11,12 の
配設位置がたとえ天井であっても、搬送経路の直上でな
い位置(例えば、側壁に近い位置)であれば、ある程度
凝縮異物の付着防止を図ることができる。
【0025】(2)第2の側壁S2 以外の位置、即ち天
井、底面または第1の側壁S1 に吸気口15,16を設
けてもよい。また、吸気口15,16と排気口11,1
2とは、必ずしも対向していなくてもよい。
【0026】(3)出口側の吸気口12を省略したり、
各エアカーテン8等を省略したりしてもよい。このよう
にすると全体構造の簡略化が図られる。また、入口部4
のみを実施例1,2のような構成とし、出口部5を従来
通りの構成としてもよい。
【0027】(4)入口部4において複数の排気口11
を設けてもよい。この場合、入口部4の両方の側壁S1
,S2 に排気口11を設けたり、側壁S1 と底部とに
設けたりしてもよい。なお、出口部5についてもこれと
同様のことがいえる。
【0028】(5)吸気ファン13,14以外の吸気手
段を使用してもよい。 (6)電気式ヒータ3のほか、例えば熱風式ヒータ等を
使用してもよい。 ここで、特許請求の範囲に記載された技術的思想のほか
に、前述した実施例及び別例によって把握される技術的
思想をその効果とともに以下に列挙する。
【0029】(1) 請求項3において、乾燥ゾーンと
入口部との境界にエアカーテンを設けるとともに、その
エアカーテンのエア流れ方向を、入口部内において吸気
ファンと排気ファンとによるエアの流れ方向に沿わせる
こと。この構成であると、両者のエアの流れのロスが極
めて少なくなる。
【0030】なお、本明細書中において使用した技術用
語を次のように定義する。 「乾燥ゾーン: トンネル型乾燥炉の主要部分であって
ヒータを備える領域をいう。」
【0031】
【発明の効果】以上詳述したように、請求項1に記載の
発明によれば、凝縮異物の落下に起因する被乾燥物の汚
損を確実に防止することができる。請求項2に記載の発
明によれば、前記の汚損をさらに確実に防止することが
できる。請求項3に記載の発明によれば、乾燥ゾーンに
溜まった多湿なガスがスムーズに排出されるため、乾燥
効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は実施例1のトンネル型乾燥炉を示す部
分破断概略断面図、(b)はその概略平面図、(c)は
(a)のA−A線における断面図。
【図2】(a)は実施例2のトンネル型乾燥炉を示す部
分破断概略断面図、(b)はその概略平面図、(c)は
(a)のB−B線における断面図。
【図3】(a)は従来のトンネル型乾燥炉の問題点を説
明するための部分破断概略断面図、(b)はその概略平
面図、(c)は(a)のC−C線における断面図。
【符号の説明】
1,18…トンネル型乾燥炉、2…乾燥ゾーン、4…入
口部、5…出口部、7…被乾燥物としての基板、11,
12…排気口、15,16…吸気口、S1 …第1の側
壁、S2 …第2の側壁。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】トンネル状をなす乾燥ゾーンの入口部及び
    出口部にガス排出用の排気口が設置された乾燥炉におい
    て、少なくとも入口側の排気口を、被乾燥物が搬送され
    る経路の直上となる位置以外の位置に設けたトンネル型
    乾燥炉。
  2. 【請求項2】前記入口部の側壁に前記入口側の排気口を
    設けた請求項1に記載のトンネル型乾燥炉。
  3. 【請求項3】前記入口部の一方の側壁に前記入口側の排
    気口を設け、他方の側壁に吸気口を設けた請求項2に記
    載のトンネル型乾燥炉。
JP27539194A 1994-11-09 1994-11-09 トンネル型乾燥炉 Pending JPH08136142A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27539194A JPH08136142A (ja) 1994-11-09 1994-11-09 トンネル型乾燥炉

Applications Claiming Priority (1)

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JP27539194A JPH08136142A (ja) 1994-11-09 1994-11-09 トンネル型乾燥炉

Publications (1)

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JPH08136142A true JPH08136142A (ja) 1996-05-31

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ID=17554848

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JP27539194A Pending JPH08136142A (ja) 1994-11-09 1994-11-09 トンネル型乾燥炉

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JP (1) JPH08136142A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002162163A (ja) * 2000-11-24 2002-06-07 Nec Kagoshima Ltd 溶剤乾燥装置
JP2013103824A (ja) * 2011-11-15 2013-05-30 New Sanwa:Kk ウレタン加硫コントロールコンベヤー装置

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Effective date: 20040511

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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040712

A02 Decision of refusal

Effective date: 20040803

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