JPH08139117A - 半導体装置の外囲器の形成方法 - Google Patents

半導体装置の外囲器の形成方法

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JPH08139117A
JPH08139117A JP27075894A JP27075894A JPH08139117A JP H08139117 A JPH08139117 A JP H08139117A JP 27075894 A JP27075894 A JP 27075894A JP 27075894 A JP27075894 A JP 27075894A JP H08139117 A JPH08139117 A JP H08139117A
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frame
elastic frame
envelope
mold
sealing resin
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JP27075894A
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Tsutomu Seito
勉 清塘
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  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 型構造が簡単であって、異なる外囲器形状に
対し容易に対応することができる半導体装置の外囲器の
形成方法を提供する。 【構成】 リードフレーム28に搭載された半導体チッ
プ27等の封止部分の周囲を下弾性枠24、上弾性枠3
1で囲い、その内側部分に封止樹脂26を供給して溶融
状態とし、さらに内側の封止樹脂26を下型23と上型
34により下弾性枠24及び上弾性枠31を上下方向に
弾性変形させるようにしながら加圧硬化させる構成とな
っている。そして、封止樹脂26の供給量がばらついた
場合には、下弾性枠24及び上弾性枠31の弾性変形量
が変化することで複雑な型構造をとることなくばらつき
が吸収でき、外囲器の形状が変わる場合には、それに対
応する製作容易な下弾性枠24及び上弾性枠31を切り
換えるだけで簡単に異なる形状に対応することができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、樹脂封止による半導体
装置の外囲器の形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、樹脂封止された半導体装置は、リ
ードフレームやガラスエポキシ樹脂基板あるいはフィル
ム基板に半導体チップを搭載し電気的接続を行った後
に、外囲器がモールド金型を使用したトランスファー成
形や圧縮成形によって形成されていた。
【0003】すなわち、トランスファー成形は図6に示
すように、例えば半導体チップ1をリードフレーム2の
マウント部3に搭載し対応するリード部4との電気的接
続を行う。次に、半導体チップ1を搭載したリードフレ
ーム2をトランスファー成形機の外囲器形状が削設され
たモールド金型5にセットする。
【0004】この後、溶融した樹脂6をモールド金型5
内に成形機の射出部7から供給して硬化させる。そし
て、モールド金型5から外囲器が成形され樹脂封止され
た半導体装置を取り出すようにして成形は行われてい
た。
【0005】また、圧縮成形は図7に示すように圧縮成
形機のモールド金型8が、成形機に固定され外囲器の上
下面を形成する上型9及び下型10と、成形機に発条1
1を介して取り付けられ外囲器の側面を形成する上側型
12及び下側型13とが形成されている。
【0006】そして、半導体チップ1を搭載し電気的接
続がなされたリードフレーム2を、シート状樹脂14が
充填されたモールド金型8の下型10と下側型13にセ
ットする。続いてシート状樹脂14を半導体チップ1等
の上に被せた後、下型10と下側型13とを上昇させて
上型9と上側型12とに型合わせして所定外囲器形状が
得られるようにする。
【0007】次にシート状樹脂14を加熱し溶融させた
後、加圧、硬化させる。このとき充填したシート状樹脂
14の重量のばらつきは上型9及び下型10の間隔を調
節して吸収するようにしている。そして、モールド金型
8から外囲器が成形され樹脂封止された半導体装置を取
り出すようにして成形は行われていた。
【0008】しかしながら上記の従来の各技術では、ト
ランスファ成形においては半導体装置の外囲器の形状に
応じてそれぞれ専用のモールド金型5を必要とし、その
モールド金型5は形状が複雑で制作に多くの日数を要す
ると共に型コストが高いものであった。またモールド金
型5は180度前後の温度に常時加熱した状態で使用さ
れるため、製造する半導体装置の品種切り換えで外囲器
形状が異なり別のモールド金型5に切り換える場合、成
形機から取り外す際の金型の冷却と取り付け後の加熱を
伴いモールド金型5の交換は大変な作業であり、交換時
間も長く要するものであった。
【0009】また、圧縮成形においても半導体装置の外
囲器の形状に応じてそれぞれ専用のモールド金型8を必
要とする。さらにモールド金型8は、充填するシート状
樹脂14の重量ばらつきを外囲器の厚みを変えるように
して吸収する構造となるため、トランスファ成形のモー
ルド金型5よりも構造が複雑なものとなり、型コストも
高いものであった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来の技
術では、半導体装置の外囲器を形成するモールド金型は
形状に応じた専用のモールド金型を必要とし、その構造
は複雑なものとなていた。このような状況に鑑みて本発
明はなされたもので、その目的とするところは型構造が
簡単であって、製造する半導体装置の外囲器形状が異な
る場合でも容易に対応することができる半導体装置の外
囲器の形成方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の外
囲器の形成方法は、半導体チップを含む封止部分を、封
止樹脂を成形することによって所定形状の外囲器により
封止するに際し、封止部分の周囲を弾性材料でなる枠で
囲うと共に該枠で囲まれた内側部分に封止樹脂を供給し
溶融状態とし、枠内に封止樹脂を閉じ込めるように設け
た金型により該枠を弾性変形させると共に該封止樹脂を
加圧硬化させることを特徴とするものであり、さらに、
枠が、弾性材料でなる複数の枠体を環状に配置して形成
されていることを特徴とするものであり、また、下金型
の上面に配置された下弾性枠の内側に封止樹脂を充填し
た後に該下弾性枠上に半導体チップが搭載されたリード
フレームを封止部分が内側に位置するよう載置し、さら
に封止部分の上側を囲うように上弾性枠を載置し該上弾
性枠の内側に封止樹脂を充填し該封止樹脂を溶融した
後、上弾性枠の上面に上金型の下面を当接し、その後に
下金型と上金型とで下弾性枠と上弾性枠とを圧縮し弾性
変形させると共に封止樹脂を加圧硬化させることを特徴
するものである。
【0012】
【作用】上記のように構成された半導体装置の外囲器の
形成方法は、半導体チップを含む封止部分の周囲を弾性
材料でなる枠で囲い、該枠の内側部分に封止樹脂を供給
して溶融状態とし、さらに枠内の封止樹脂を金型により
該枠を弾性変形させるようにしながら加圧硬化させるも
ので、封止樹脂の供給量がばらついた場合には、枠の弾
性変形量が変化することでばらつきを吸収することがで
き、複雑な型構造をとる必要が無く、また半導体装置の
品種の切り換え等で外囲器の形状が変わる場合には、そ
の外囲器に対応する枠に切り換えるのみでよいため、製
作容易な枠のみによって種々の異なる外囲器の形状に対
応することができる。さらに、外囲器の開発期間の短縮
や開発コストの低減が図れ、品種の切り換えも長時間を
要することなく簡単に行える。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。先ず、第1の実施例の圧縮成形による外囲器の形
成方法について図1乃至図4により説明する。図1は第
1の工程を示す側面図であり、図2は第2の工程を示す
図で、図2(a)は上面図、図2(b)は要部の側面図
であり、図3は第3の工程を示す側面図であり、図4は
第4の工程を示す側面図である。
【0014】以下、外囲器の形成を工程順に説明する。
図1に示す第1の工程において、圧縮成形機の下基盤2
1に固定したモールド金型22の下型23上に、角環状
に形成した下弾性枠24を配置する。下弾性枠24は対
象とする半導体装置の外囲器の下側部分の形状、すなわ
ち封止部分の形状に合わせ、縦断面形状が方形状の例え
ばポリイミド樹脂等の耐熱性樹脂からなる4個の弾性枠
部材25を4隅部分に小間隙を設け角環状に配置して形
成してある。
【0015】そして下弾性枠24で囲まれた内側部分
に、外囲器の下側部分の容積に合わせ例えばエポキシ樹
脂等でなるシート状封止樹脂26aを所定量だけ充填す
る。なお、下型23は半導体装置の外囲器の下面を形成
し、下型23上の下弾性枠24は外囲器の下部側面を形
成する。
【0016】一方、半導体チップ27をリードフレーム
28のマウント部29に搭載し対応するリード部30と
の電気的接続を行う。その後、半導体チップ27を搭載
したリードフレーム28を、内側にシート状封止樹脂2
6aが充填されている下弾性枠24上にリード部30が
配置されるように載置する。
【0017】次に、図2に示す第2の工程において、下
弾性枠体24の上面に載置されたリードフレーム28の
リード部30上に、下弾性枠24に対応させ外囲器の上
側部分の形状、すなわち半導体チップ27を含む封止部
分の形状に合わせて角環状に形成した上弾性枠31を配
置する。この上弾性枠31は外囲器の上部側面を形成す
るもので、下弾性枠24と同様にポリイミド樹脂等の耐
熱性樹脂からなる4個の弾性枠部材32を4隅部分に小
間隙を設け角環状に配置して形成してある。また下弾性
枠24の上面と上弾性枠31の下面との間には、図2
(b)に示すようにリード部30を挟持しない部分にリ
ード部30の厚さに相当する間隙が形成された状態とな
る。
【0018】次に、図3に示す第3の工程において、上
弾性枠31で囲まれた内側部分に、外囲器の上側部分の
容積に合わせ例えばエポキシ樹脂等でなるシート状封止
樹脂26bを所定量だけ充填する。そして赤外線の照射
や高温の雰囲気に当てる等して下弾性枠24及び上弾性
枠31の内側に充填されたシート状封止樹脂26a,2
6bを加熱し、溶融状態の封止樹脂26とする。
【0019】次に、図4に示す第4の工程において、封
止樹脂26の加熱を停止し、圧縮成形機の下基盤21を
上昇させ、上基盤33に固定したモールド金型22の上
型34の下面を上弾性枠31の上面に当接させる。これ
により下型23と上型34の間に、半導体チップ27が
設けられたリードフレーム28を保持して下弾性枠24
と上弾性枠31が挟持される。なお、上型34は下型2
3に対応して半導体装置の外囲器の上面を形成する。
【0020】続いて、さらに下型23を上昇させること
により下弾性枠24と上弾性枠31とを所定の外囲器形
状が得られる状態まで圧縮し弾性変形させる。そして、
下弾性枠24及び上弾性枠31内の封止樹脂26を加
圧、硬化させる。
【0021】その後、圧縮成形機の下基盤21を下降さ
せ、モールド金型22から下弾性枠24と上弾性枠31
とが付着したままの成形品を取り出し、さらに成形品か
ら下弾性枠24と上弾性枠31を外す。こうして外囲器
が成形され樹脂封止された半導体装置を得る。
【0022】以上のような各工程を経て半導体装置の外
囲器の成形が行われるが、第4の工程における下弾性枠
24と上弾性枠31とを弾性変形させる過程では、下弾
性枠24及び上弾性枠31の内側に取り込まれた空気
が、下弾性枠24及び上弾性枠31の4隅部分の小間隙
や下弾性枠24と上弾性枠31間のリード部30の厚さ
に相当する間隙から外部に放出される。また、それぞれ
の間隙は下弾性枠24及び上弾性枠31が弾性変形し密
着して閉塞されるか、あるいは微小間隙となり溶融した
封止樹脂26が流れ込んで閉塞される。
【0023】そして、下弾性枠24及び上弾性枠31の
内側に充填されたシート状封止樹脂26a,26bの量
にばらつきが生じた場合には、そのばらつきは、下弾性
枠24と上弾性枠31が変形し下弾性枠24及び上弾性
枠31と下型23及び上型34による内側容積が変わる
ことによって吸収される。
【0024】さらに、別の品種の半導体装置で外囲器の
形状が異なる場合には、外囲器の上下面を形成する下型
23及び上型34はそのまま同一のものを用い、外囲器
の側面を形成する比較的加工容易な耐熱性樹脂でなる下
弾性枠24、上弾性枠31を対象品種に応じて形成して
用いる。そして下型23と上型34の間隔を外囲器の厚
さに応じて調節し、所定量のシート状封止樹脂を充填す
るようにして上記と同様の工程により成形する。
【0025】この結果、外囲器を形成するモールド金型
22は、簡単な形状の下型23及び上型34と、加工容
易な下弾性枠24及び上弾性枠31によってなり、さら
にシート状封止樹脂26a,26bの充填量のばらつき
が下弾性枠24と上弾性枠31の変形によって吸収され
るため、複雑な構造とならず型コストは安価なものとな
る。
【0026】そして下弾性枠24と上弾性枠31を、製
造する半導体装置の外囲器形状に応じて種々用意するこ
とにより異なる外囲器の形状に対応することができ、ま
た外囲器開発に手間が掛からず開発期間の短縮や開発コ
ストの低減が図れる。さらに製造品種の切り換えに際し
ても、品種に対応する下弾性枠24や上弾性枠31を変
える等するだけでよく、切り換えが長時間を要すること
なく簡単に行え、製造途中でも素早く品種切り換えに対
応できる。
【0027】なお、上記の実施例では半導体チップ27
をリードフレーム28に搭載したものについて説明した
が、ガラスエポキシ基板やフィルム状基板に搭載したも
のであってもよい。さらに上記の実施例ではシート状封
止樹脂26a,26bを充填した後に溶融し外囲器を形
成したが、粉末状あるいは粒状封止樹脂を用いる等して
もよい。
【0028】次に、第2の実施例のトランスファ成形に
よる外囲器の形成方法について図5により説明する。図
5は封止樹脂の射出工程を示す側面図である。
【0029】図5において、41は下型42及び上型4
3を組み合わせてなるモールド金型で、下型42及び上
型43にはそれぞれ凹部44,45が削設されている。
これらの凹部44,45によって下型42と上型43を
組み合わせた際に外囲器を成形するための空所46が形
成される。
【0030】そして空所46内には、製造する半導体装
置の外囲器形状に応じて角環状に形成した下弾性枠47
と上弾性枠48がそれぞれ凹部44,45内に配置され
ている。下弾性枠47と上弾性枠48はポリイミド樹脂
等の耐熱性樹脂からなり、その高さ寸法は凹部44,4
5の深さ寸法より大きなものとなっている。
【0031】このため、下型42と上型43を組み合わ
せた際には下弾性枠47の上面と上弾性枠48の下面の
間に、半導体チップ27を搭載したリードフレーム28
のリード部30を押圧するようにして挟持するようにな
っている。
【0032】さらに空所46にはゲート49を介して射
出部50が接続され、外囲器の成形時には射出部50か
らゲート49を通じ空所46内に設けられた下弾性枠4
7と上弾性枠48の内側部分に例えばエポキシ樹脂等で
なる溶融状態の封止樹脂51が射出される。
【0033】そして、このような型構造を有するモール
ド金型41によるトランスファ成形は次のように行われ
る。先ず、モールド金型41の下型42及び上型43の
凹部44,45内に、対象とする外囲器形状に応じた下
弾性枠47と上弾性枠48をセットする。
【0034】次に、半導体チップ27を搭載したリード
フレーム28を下弾性枠47の上面と上弾性枠48の下
面の間にセットする。続いて下型42と上型43を組み
合わせ、リード部30を押圧するようにして挟持して所
定温度に保持する。
【0035】その後、射出部50からゲート49を介し
て下弾性枠47と上弾性枠48の内側部分に溶融状態の
封止樹脂51を射出し、下弾性枠47と上弾性枠48と
で囲まれた内側部分に充填された封止樹脂51を硬化さ
せる。そして下型42と上型43を離し、下弾性枠47
と上弾性枠48とが付着したままの成形品を取り出し、
さらに成形品から下弾性枠47と上弾性枠48を外す。
こうして外囲器が成形され樹脂封止された半導体装置を
得る。
【0036】その結果、本実施例においても第1の実施
例と同様の作用、効果が得られる。
【0037】なお、上記の実施例では封止樹脂51をエ
ポキシ樹脂等で形成したが、熱可塑性樹脂を使用し、溶
融させた樹脂をモールド金型内に射出し充填した後に型
温度を冷却して樹脂を硬化させて樹脂封止された半導体
装置を得るようにしてもよい。
【0038】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明
は、半導体チップを含む封止部分の周囲を弾性材料でな
る枠で囲い、該枠の内側部分に封止樹脂を供給して溶融
状態とし、さらに枠内の封止樹脂を金型により該枠を弾
性変形させるようにしながら加圧硬化させる構成とした
ことにより、型構造が簡単であると共に容易に異なる形
状の外囲器の成形に対応することができる等の効果を奏
する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例における第1の工程を示
す側面図である。
【図2】本発明の第1の実施例における第2の工程を示
す図で、図2(a)は上面図、図2(b)は要部の側面
図である。
【図3】本発明の第1の実施例における第3の工程を示
す側面図である。
【図4】本発明の第1の実施例における第4の工程を示
す側面図である。
【図5】本発明の第2の実施例における封止樹脂の射出
工程を示す側面図である。
【図6】従来のトランスファー成形の概略を示す図であ
る。
【図7】従来の圧縮成形の概略を示す図である。
【符号の説明】
22…モールド金型 23…下型 24…下弾性枠 26…封止樹脂 27…半導体チップ 28…リードフレーム 31…上弾性枠 34…上型

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップを含む封止部分を、封止樹
    脂を成形することによって所定形状の外囲器により封止
    するに際し、前記封止部分の周囲を弾性材料でなる枠で
    囲うと共に該枠で囲まれた内側部分に封止樹脂を供給し
    溶融状態とし、前記枠内に前記封止樹脂を閉じ込めるよ
    うに設けた金型により該枠を弾性変形させると共に該封
    止樹脂を加圧硬化させることを特徴とする半導体装置の
    外囲器の形成方法。
  2. 【請求項2】 枠が、弾性材料でなる複数の枠体を環状
    に配置して形成されていることを特徴とする請求項1記
    載の半導体装置の外囲器の形成方法。
  3. 【請求項3】 下金型の上面に配置された下弾性枠の内
    側に封止樹脂を充填した後に該下弾性枠上に半導体チッ
    プが搭載されたリードフレームを封止部分が内側に位置
    するよう載置し、さらに前記封止部分の上側を囲うよう
    に上弾性枠を載置し該上弾性枠の内側に封止樹脂を充填
    し該封止樹脂を溶融した後、前記上弾性枠の上面に上金
    型の下面を当接し、その後に前記下金型と前記上金型と
    で前記下弾性枠と前記上弾性枠とを圧縮し弾性変形させ
    ると共に前記封止樹脂を加圧硬化させることを特徴とす
    る半導体装置の外囲器の形成方法。
JP27075894A 1994-11-04 1994-11-04 半導体装置の外囲器の形成方法 Pending JPH08139117A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006070197A (ja) * 2004-09-03 2006-03-16 Kyocera Chemical Corp 圧縮成形用樹脂組成物と樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
WO2014123196A1 (ja) * 2013-02-08 2014-08-14 日東電工株式会社 半導体装置の製造方法
JP2015153757A (ja) * 2014-02-10 2015-08-24 アサヒ・エンジニアリング株式会社 樹脂成形するための装置及び方法
JP2019050324A (ja) * 2017-09-12 2019-03-28 富士電機株式会社 半導体装置、半導体装置の積層体、及び、半導体装置の積層体の搬送方法

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