JPH08141401A - ニトリル製造用触媒 - Google Patents
ニトリル製造用触媒Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 シリカ、モリブデンおよび/またはバナジウ
ムを含む溶液またはスラリーを、噴霧乾燥した乾燥物を
熱処理することにより得られた、炭化水素をアンモニア
と気相接触酸化反応させてニトリルを製造するのに用い
る複合酸化物触媒であって、シリカ含有量が40〜70
重量%、平均粒径が20〜100μm、圧壊強度が34
MPa以上、かつ、充填密度が1.2g/cm3以下で
あることを特徴とするニトリル製造用触媒。 【効果】 本発明の触媒は炭化水素、特にアルカンより
ニトリルを製造するのに好適であり、かつ、機械的強度
および充填密度が良好なので、触媒の寿命が長く、特に
流動床反応において好適であり、工業的価値が高い。
ムを含む溶液またはスラリーを、噴霧乾燥した乾燥物を
熱処理することにより得られた、炭化水素をアンモニア
と気相接触酸化反応させてニトリルを製造するのに用い
る複合酸化物触媒であって、シリカ含有量が40〜70
重量%、平均粒径が20〜100μm、圧壊強度が34
MPa以上、かつ、充填密度が1.2g/cm3以下で
あることを特徴とするニトリル製造用触媒。 【効果】 本発明の触媒は炭化水素、特にアルカンより
ニトリルを製造するのに好適であり、かつ、機械的強度
および充填密度が良好なので、触媒の寿命が長く、特に
流動床反応において好適であり、工業的価値が高い。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はニトリルの製造用触媒に
関するものである。詳しくは、炭化水素を原料とするニ
トリルの製造用触媒に関するものである。
関するものである。詳しくは、炭化水素を原料とするニ
トリルの製造用触媒に関するものである。
【0002】
【従来の技術】モリブデン及び/又はバナジウムを含有
する酸化物触媒は、炭化水素とアンモニアの気相接触酸
化反応による各種のニトリル化合物の製造、特に、アク
リロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリルを製造
するために工業的に重要なものである。
する酸化物触媒は、炭化水素とアンモニアの気相接触酸
化反応による各種のニトリル化合物の製造、特に、アク
リロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリルを製造
するために工業的に重要なものである。
【0003】炭化水素のアルカンとアンモニアの接触酸
化反応によるニトリル製造用モリブデン及び/又はバナ
ジウムを含有する酸化物触媒の報告例は多数知られてい
る。例えば、モリブデンを必須元素として含む触媒だけ
でも、Mo−Bi−P系触媒(特開昭48−16887
号)、V−Sb−W系酸化物とMo−Bi−Ce−W系
酸化物を機械的に混合して得た触媒(特開昭64−38
051号)、Mo−Ag−Bi−V系触媒(特開平3−
58961号)、Mo−V−Sn−Bi−P系触媒(特
開平4−247060号)、Mo−Cr−Te系触媒
(米国特許5171876号)、MoとMn、Coなど
の元素からなる複合酸化物触媒(特開平5−19434
7号)、Mo−V−Te系触媒(特開平2−257号、
特開平5−148212号、特開平5−208136
号)、Mo−Cr−Bi系触媒(特願平4−26519
2号、特願平5−305361号)、Mo−Te系触媒
(特願平5−309345号)などが例示される。
化反応によるニトリル製造用モリブデン及び/又はバナ
ジウムを含有する酸化物触媒の報告例は多数知られてい
る。例えば、モリブデンを必須元素として含む触媒だけ
でも、Mo−Bi−P系触媒(特開昭48−16887
号)、V−Sb−W系酸化物とMo−Bi−Ce−W系
酸化物を機械的に混合して得た触媒(特開昭64−38
051号)、Mo−Ag−Bi−V系触媒(特開平3−
58961号)、Mo−V−Sn−Bi−P系触媒(特
開平4−247060号)、Mo−Cr−Te系触媒
(米国特許5171876号)、MoとMn、Coなど
の元素からなる複合酸化物触媒(特開平5−19434
7号)、Mo−V−Te系触媒(特開平2−257号、
特開平5−148212号、特開平5−208136
号)、Mo−Cr−Bi系触媒(特願平4−26519
2号、特願平5−305361号)、Mo−Te系触媒
(特願平5−309345号)などが例示される。
【0004】また、バナジウムを必須成分として含むが
モリブデンは必須成分でない触媒として、V−Sb系触
媒(特開昭47−33783号、特公昭50−2301
6号、特開平1−268668号、特開平2−1806
37号)、V−Sb−U−Ni系触媒(特公昭47−1
4371号)、V−Sb−W−P系触媒(特開平2−9
5439号)、V−W−Te系触媒(特願平5−189
18号)などが例示される。
モリブデンは必須成分でない触媒として、V−Sb系触
媒(特開昭47−33783号、特公昭50−2301
6号、特開平1−268668号、特開平2−1806
37号)、V−Sb−U−Ni系触媒(特公昭47−1
4371号)、V−Sb−W−P系触媒(特開平2−9
5439号)、V−W−Te系触媒(特願平5−189
18号)などが例示される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の触媒は一般に強度が不十分であり、例えば、流動床反
応などで工業的に実施することが困難であるという問題
がある。これに対し、触媒担体を多量に用いることによ
り触媒強度が高まると考えられるが、担体成分を多くす
ると触媒充填密度が高くなり、流動性が低下するという
問題がある。
の触媒は一般に強度が不十分であり、例えば、流動床反
応などで工業的に実施することが困難であるという問題
がある。これに対し、触媒担体を多量に用いることによ
り触媒強度が高まると考えられるが、担体成分を多くす
ると触媒充填密度が高くなり、流動性が低下するという
問題がある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等は以上の問題
点に鑑み鋭意検討を行った結果、特定の方法により調製
したシリカ成分を含む触媒が高い触媒活性を維持しつ
つ、強度が高く、かつ、充填密度も小さくなることを見
出し、本発明に到達したものである。すなわち、本発明
の要旨は、シリカ、モリブデンおよび/またはバナジウ
ムを含む溶液またはスラリーを、噴霧乾燥した乾燥物を
熱処理することにより得られた、炭化水素をアンモニア
と気相接触酸化反応させてニトリルを製造するのに用い
る酸化物触媒であって、シリカ含有量が40〜70重量
%、平均粒径が20〜100μm、圧壊強度が34MP
a以上かつ、充填密度が1.2g/cm3以下であるこ
とを特徴とするニトリル製造用触媒に存する。
点に鑑み鋭意検討を行った結果、特定の方法により調製
したシリカ成分を含む触媒が高い触媒活性を維持しつ
つ、強度が高く、かつ、充填密度も小さくなることを見
出し、本発明に到達したものである。すなわち、本発明
の要旨は、シリカ、モリブデンおよび/またはバナジウ
ムを含む溶液またはスラリーを、噴霧乾燥した乾燥物を
熱処理することにより得られた、炭化水素をアンモニア
と気相接触酸化反応させてニトリルを製造するのに用い
る酸化物触媒であって、シリカ含有量が40〜70重量
%、平均粒径が20〜100μm、圧壊強度が34MP
a以上かつ、充填密度が1.2g/cm3以下であるこ
とを特徴とするニトリル製造用触媒に存する。
【0007】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
製造される触媒は、モリブデンおよび/またはバナジウ
ムを含む酸化物よりなり、好ましくは、モリブデンおよ
びバナジウムを含む。更に任意成分として、テルル、ニ
オブ、タンタル、タングステン、チタン、アルミニウ
ム、ジルコニウム、クロム、マンガン、鉄、ルテニウ
ム、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウム、白
金、アンチモン、ビスマス、ホウ素、インジウム、セリ
ウム、リン、銅、アルカリ金属(リチウム、ナトリウ
ム、カリウム等)およびアルカリ土類金属(カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウム、マグネシウム、ベリリ
ウム等)からなる群から選ばれる1以上の元素を含む複
合酸化物よりなる。また、各元素の組成比を考慮した場
合、以下の化学式(1)で表される複合酸化物が好まし
い。
製造される触媒は、モリブデンおよび/またはバナジウ
ムを含む酸化物よりなり、好ましくは、モリブデンおよ
びバナジウムを含む。更に任意成分として、テルル、ニ
オブ、タンタル、タングステン、チタン、アルミニウ
ム、ジルコニウム、クロム、マンガン、鉄、ルテニウ
ム、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウム、白
金、アンチモン、ビスマス、ホウ素、インジウム、セリ
ウム、リン、銅、アルカリ金属(リチウム、ナトリウ
ム、カリウム等)およびアルカリ土類金属(カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウム、マグネシウム、ベリリ
ウム等)からなる群から選ばれる1以上の元素を含む複
合酸化物よりなる。また、各元素の組成比を考慮した場
合、以下の化学式(1)で表される複合酸化物が好まし
い。
【0008】
【化2】 Moa Vb Tec XX On (1) (式(1)において、XはNb、Ta、W、Ti、A
l、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、N
i、Pd、Pt、Sb、Bi、B、In、Ce、P、C
u、アルカリ金属(Na、K、Liなど)およびアルカ
ル土類金属(Be、Mg、Caなど)の中から選ばれた
1つまたはそれ以上の元素を表わし、a=1とすると
き、 b=0.01〜1.0 c=0.01〜1.0 x=0.005〜1.0 であり、また、nは他の元素の酸化状態により決定され
る。) なお、各元素の係数は、a=1とするとき、b=0.1
〜0.6、c=0.05〜0.4、x=0.005〜
0.6が特に好ましい。
l、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、N
i、Pd、Pt、Sb、Bi、B、In、Ce、P、C
u、アルカリ金属(Na、K、Liなど)およびアルカ
ル土類金属(Be、Mg、Caなど)の中から選ばれた
1つまたはそれ以上の元素を表わし、a=1とすると
き、 b=0.01〜1.0 c=0.01〜1.0 x=0.005〜1.0 であり、また、nは他の元素の酸化状態により決定され
る。) なお、各元素の係数は、a=1とするとき、b=0.1
〜0.6、c=0.05〜0.4、x=0.005〜
0.6が特に好ましい。
【0009】以上の酸化物触媒の調製手段としては、初
めに触媒の構成元素を含有する混合液を調製する。この
混合液は均一の溶液でも、懸濁状のスラリーでもよい。
溶媒としては、一般に水が使用されるが、アルコール
類、エステル類、エーテル類、カルボン酸類等の有機溶
媒を用いることもできる。触媒の構成元素を含有する混
合液の調製方法は特に制限はなく、目的とする酸化物の
組成に応じた原料を所定量準備して、水等の溶媒に混合
すればよい。また、溶媒として水を用いた場合、金属原
料が水に難溶性の場合は、酸あるいはアルカリを使用し
て溶解させてもよいし、50〜90℃程度に加熱して溶
解させてもよい。この混合液の濃度は、通常5〜60重
量%、好ましくは10〜30重量%である。
めに触媒の構成元素を含有する混合液を調製する。この
混合液は均一の溶液でも、懸濁状のスラリーでもよい。
溶媒としては、一般に水が使用されるが、アルコール
類、エステル類、エーテル類、カルボン酸類等の有機溶
媒を用いることもできる。触媒の構成元素を含有する混
合液の調製方法は特に制限はなく、目的とする酸化物の
組成に応じた原料を所定量準備して、水等の溶媒に混合
すればよい。また、溶媒として水を用いた場合、金属原
料が水に難溶性の場合は、酸あるいはアルカリを使用し
て溶解させてもよいし、50〜90℃程度に加熱して溶
解させてもよい。この混合液の濃度は、通常5〜60重
量%、好ましくは10〜30重量%である。
【0010】酸化物触媒の原料としては、各金属成分の
有機酸塩、水素酸塩、アルコキシド、硝酸塩等が用いら
れ、例えば、モリブデン原料としてパラモリブデン酸ア
ンモニウム塩、ペンタエトキシモリブデン 、五塩化モ
リブデン、三塩化モリブデン、モリブデナセチルアセト
ナートなど、バナジウム原料としてメタバナジン酸アン
モニウム塩、五酸化二バナジウム、三酸化二バナジウム
、トリエトキシバナジル、四塩化バナジウム、オキシ
三塩化バナジウムなど、テルル原料としてテルル酸、二
酸化テルルなどが挙げられる。
有機酸塩、水素酸塩、アルコキシド、硝酸塩等が用いら
れ、例えば、モリブデン原料としてパラモリブデン酸ア
ンモニウム塩、ペンタエトキシモリブデン 、五塩化モ
リブデン、三塩化モリブデン、モリブデナセチルアセト
ナートなど、バナジウム原料としてメタバナジン酸アン
モニウム塩、五酸化二バナジウム、三酸化二バナジウム
、トリエトキシバナジル、四塩化バナジウム、オキシ
三塩化バナジウムなど、テルル原料としてテルル酸、二
酸化テルルなどが挙げられる。
【0011】さらに、本発明では混合液の調製段階にお
いて、シリカを酸化物触媒全体の40〜70重量%とな
るように混合液に添加することを特徴とする。シリカ原
料としては、結晶性シリカ、非晶質シリカのいずれも使
用できる。好ましくは、平均粒径1μm以下のシリカや
シリカゾルが用いられる。
いて、シリカを酸化物触媒全体の40〜70重量%とな
るように混合液に添加することを特徴とする。シリカ原
料としては、結晶性シリカ、非晶質シリカのいずれも使
用できる。好ましくは、平均粒径1μm以下のシリカや
シリカゾルが用いられる。
【0012】次いで、上記の混合液を噴霧乾燥して乾燥
物を調製する。ここで、噴霧乾燥とは、溶液又はスラリ
ーを噴霧し、微細な液滴を生じさせる工程を含む乾燥法
をいい、市販の噴霧乾燥機を用いて実施することができ
る。噴霧乾燥の条件は、噴霧乾燥機の仕様、対象物の量
などで適宜設定すればよいが、噴霧乾燥機の乾燥ガスの
出口温度が通常80〜250℃となるよう、加熱した空
気、窒素、アルゴン等の乾燥ガスを流通させる。乾燥ガ
スは、溶液又はスラリー中の水分などを蒸発させるのに
必要な熱量以上を保有すべきであり、乾燥ガスの温度が
低い場合には、より多量のガス量が必要となる。また、
本発明では、給液量とディスクの回転数を調節して、噴
霧乾燥により得られる固体粒子の粒子径を焼成後の平均
粒径が20〜100μmになるよう調節することが望ま
しい。
物を調製する。ここで、噴霧乾燥とは、溶液又はスラリ
ーを噴霧し、微細な液滴を生じさせる工程を含む乾燥法
をいい、市販の噴霧乾燥機を用いて実施することができ
る。噴霧乾燥の条件は、噴霧乾燥機の仕様、対象物の量
などで適宜設定すればよいが、噴霧乾燥機の乾燥ガスの
出口温度が通常80〜250℃となるよう、加熱した空
気、窒素、アルゴン等の乾燥ガスを流通させる。乾燥ガ
スは、溶液又はスラリー中の水分などを蒸発させるのに
必要な熱量以上を保有すべきであり、乾燥ガスの温度が
低い場合には、より多量のガス量が必要となる。また、
本発明では、給液量とディスクの回転数を調節して、噴
霧乾燥により得られる固体粒子の粒子径を焼成後の平均
粒径が20〜100μmになるよう調節することが望ま
しい。
【0013】乾燥物は、次に、熱処理に供される。熱処
理の方法は、その乾燥物の性状や規模により任意に方法
を設定することが可能であるが、蒸発皿上での熱処理、
あるいは、回転炉、流動焼成炉等の加熱炉による熱処理
が一般的である。また、これらの熱処理操作を複数種組
み合わせてもよい。熱処理条件としては、通常350〜
700℃、好ましくは400〜650℃の温度で、通常
0.5〜30時間、好ましくは1〜10時間、熱処理、
焼成する。また、熱処理の温度を段階的に高くしていく
方法も採用でき、350〜700℃で焼成する前に、乾
燥物を通常150〜350℃で0.5〜5時間程度熱処
理し、その後、温度を高くして焼成する方法も採用でき
る。特に本発明の場合には、焼成時にケーキングを起こ
しやすいので、低めの温度で熱処理してから、さらに焼
成を行うことが好ましい。
理の方法は、その乾燥物の性状や規模により任意に方法
を設定することが可能であるが、蒸発皿上での熱処理、
あるいは、回転炉、流動焼成炉等の加熱炉による熱処理
が一般的である。また、これらの熱処理操作を複数種組
み合わせてもよい。熱処理条件としては、通常350〜
700℃、好ましくは400〜650℃の温度で、通常
0.5〜30時間、好ましくは1〜10時間、熱処理、
焼成する。また、熱処理の温度を段階的に高くしていく
方法も採用でき、350〜700℃で焼成する前に、乾
燥物を通常150〜350℃で0.5〜5時間程度熱処
理し、その後、温度を高くして焼成する方法も採用でき
る。特に本発明の場合には、焼成時にケーキングを起こ
しやすいので、低めの温度で熱処理してから、さらに焼
成を行うことが好ましい。
【0014】上記の熱処理方法については、大気中で行
ってもよいが、活性のより高い触媒を得るためには、焼
成の雰囲気をむしろ実質的に酸素不存在下とすることが
望ましい。具体的には、窒素、アルゴン、ヘリウム等の
不活性ガス雰囲気中、または真空中で行う。
ってもよいが、活性のより高い触媒を得るためには、焼
成の雰囲気をむしろ実質的に酸素不存在下とすることが
望ましい。具体的には、窒素、アルゴン、ヘリウム等の
不活性ガス雰囲気中、または真空中で行う。
【0015】以上の方法で得られる本発明の触媒は特定
の物性を有することを特徴とする。即ち、本発明の触媒
は平均粒径が20〜100μm、圧壊強度が34MPa
以上かつ、充填密度が1.2g/cm3以下である。篩
分法によって測定された平均粒径がこの範囲外では触媒
の流動性が悪く反応の効率が悪くなる。また、微小圧縮
試験機で測定された圧壊強度が34MPaに満たない
と、流動床反応においては、反応系での触媒の壊裂が顕
著であり、触媒の寿命が短くなるので好ましくない。さ
らに静置したメスシリンダーにロートで触媒を充填し、
その重量から算出された充填密度が1.2g/cm3を
超えると、触媒が重すぎるため、流動床反応においては
触媒の流動性に劣る。
の物性を有することを特徴とする。即ち、本発明の触媒
は平均粒径が20〜100μm、圧壊強度が34MPa
以上かつ、充填密度が1.2g/cm3以下である。篩
分法によって測定された平均粒径がこの範囲外では触媒
の流動性が悪く反応の効率が悪くなる。また、微小圧縮
試験機で測定された圧壊強度が34MPaに満たない
と、流動床反応においては、反応系での触媒の壊裂が顕
著であり、触媒の寿命が短くなるので好ましくない。さ
らに静置したメスシリンダーにロートで触媒を充填し、
その重量から算出された充填密度が1.2g/cm3を
超えると、触媒が重すぎるため、流動床反応においては
触媒の流動性に劣る。
【0016】酸化物触媒の組成および噴霧乾燥条件を一
定にし、シリカの含有量のみ変えて平均粒径が約50μ
mの触媒を作成したときの、触媒のシリカ含有量と圧壊
強度および充填密度の関係を図1に示す。噴霧乾燥条件
としては、ディスク型スプレードライヤーを用い、ディ
スクの回転数6600rpm、スラリー供給速度7l/
h、乾燥ガスの出口温度が160℃で行った。図よりシ
リカ含有量が30重量%まではシリカ含有量の増大と共
に圧壊強度および充填密度も増大している。シリカ含有
量10重量%では充填密度は十分だが、圧壊強度が低す
ぎる。また、シリカ含有量30重量%では圧壊強度は十
分だが、充填密度が大きすぎる。シリカ含有量が40重
量%以上ではシリカ含有量の増加に伴い圧壊強度が増大
するが、充填密度は低下する。このように、シリカ含有
量40重量%以上では圧壊強度および充填密度の双方の
条件を満足することができる。シリカ含有量が70重量
%を超えると、触媒中の活性成分が少なすぎ、経済的に
好ましくない。
定にし、シリカの含有量のみ変えて平均粒径が約50μ
mの触媒を作成したときの、触媒のシリカ含有量と圧壊
強度および充填密度の関係を図1に示す。噴霧乾燥条件
としては、ディスク型スプレードライヤーを用い、ディ
スクの回転数6600rpm、スラリー供給速度7l/
h、乾燥ガスの出口温度が160℃で行った。図よりシ
リカ含有量が30重量%まではシリカ含有量の増大と共
に圧壊強度および充填密度も増大している。シリカ含有
量10重量%では充填密度は十分だが、圧壊強度が低す
ぎる。また、シリカ含有量30重量%では圧壊強度は十
分だが、充填密度が大きすぎる。シリカ含有量が40重
量%以上ではシリカ含有量の増加に伴い圧壊強度が増大
するが、充填密度は低下する。このように、シリカ含有
量40重量%以上では圧壊強度および充填密度の双方の
条件を満足することができる。シリカ含有量が70重量
%を超えると、触媒中の活性成分が少なすぎ、経済的に
好ましくない。
【0017】なお、本発明の触媒においては酸処理を行
うことにより、さらに触媒活性を高めることができる。
酸処理の方法としては、例えば、酸化物触媒を、無機酸
又は有機酸の通常0.1〜50重量%程度の水溶液中
に、室温〜90℃で浸漬処理する。酸処理に使用される
無機酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸な
どが有効である。また、有機酸として、炭素数1〜12
程度の脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸が例示され
るが、特にシュウ酸、クエン酸、酒石酸、マロン酸、コ
ハク酸、マレイン酸などの脂肪族多塩基酸が有効であ
る。これらの酸は単独でもあるいは複数種を任意に混合
して使用してもよい。
うことにより、さらに触媒活性を高めることができる。
酸処理の方法としては、例えば、酸化物触媒を、無機酸
又は有機酸の通常0.1〜50重量%程度の水溶液中
に、室温〜90℃で浸漬処理する。酸処理に使用される
無機酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸な
どが有効である。また、有機酸として、炭素数1〜12
程度の脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸が例示され
るが、特にシュウ酸、クエン酸、酒石酸、マロン酸、コ
ハク酸、マレイン酸などの脂肪族多塩基酸が有効であ
る。これらの酸は単独でもあるいは複数種を任意に混合
して使用してもよい。
【0018】酸処理した後は、酸溶液から、酸化物触媒
を濾過または遠心分離などの方法で分離する。そして、
通常は水で酸化物触媒をある程度洗浄し、次いで、乾燥
してから触媒として使用する。また、必要に応じて、1
00〜7000℃程度の範囲で加熱処理を行ってから触
媒として使用してもよい。
を濾過または遠心分離などの方法で分離する。そして、
通常は水で酸化物触媒をある程度洗浄し、次いで、乾燥
してから触媒として使用する。また、必要に応じて、1
00〜7000℃程度の範囲で加熱処理を行ってから触
媒として使用してもよい。
【0019】このように調製した本発明の触媒の存在下
で、炭化水素をアンモニアと気相接触酸化反応させるこ
とによりニトリルを製造することができる。炭化水素と
しては、炭素数1〜8程度のアルカン又はアルケンなど
が挙げられる。特に、アルカンとしては、得られるニト
リルの工業的用途を考慮すると、炭素数1〜4の低級ア
ルカン、特にプロパン、ブタン類を用いるのがよい。な
お、本発明の触媒は、プロピレン、イソブテン等のアル
ケンをアンモニアと気相接触酸化反応させることにより
ニトリルを製造することもできるので、上記のアルカン
中に少量のアルケンが含有されていても何ら支障はな
い。
で、炭化水素をアンモニアと気相接触酸化反応させるこ
とによりニトリルを製造することができる。炭化水素と
しては、炭素数1〜8程度のアルカン又はアルケンなど
が挙げられる。特に、アルカンとしては、得られるニト
リルの工業的用途を考慮すると、炭素数1〜4の低級ア
ルカン、特にプロパン、ブタン類を用いるのがよい。な
お、本発明の触媒は、プロピレン、イソブテン等のアル
ケンをアンモニアと気相接触酸化反応させることにより
ニトリルを製造することもできるので、上記のアルカン
中に少量のアルケンが含有されていても何ら支障はな
い。
【0020】気相接触酸化反応の機構の詳細は明らかで
はないが、上述の触媒中に存在する酸素原子、あるいは
供給ガス中に存在させる分子状酸素によって行なわれ
る。供給ガス中に分子状酸素を存在させる場合、分子状
酸素は純酸素ガスでもよいが、特に純度は要求されない
ので、一般には空気のような酸素含有ガスを使用するの
が経済的である。供給ガスとしては、通常、炭化水素、
アンモニアと酸素含有ガスの混合ガスを使用するが、炭
化水素とアンモニアの混合ガスと酸素含有ガスとを交互
に供給してもよい。
はないが、上述の触媒中に存在する酸素原子、あるいは
供給ガス中に存在させる分子状酸素によって行なわれ
る。供給ガス中に分子状酸素を存在させる場合、分子状
酸素は純酸素ガスでもよいが、特に純度は要求されない
ので、一般には空気のような酸素含有ガスを使用するの
が経済的である。供給ガスとしては、通常、炭化水素、
アンモニアと酸素含有ガスの混合ガスを使用するが、炭
化水素とアンモニアの混合ガスと酸素含有ガスとを交互
に供給してもよい。
【0021】なお、実質的に分子状酸素が存在しない炭
化水素とアンモニアのみを供給ガスとして気相接触反応
させることもできる。かかる場合は、反応帯域より触媒
の一部を適宜、抜き出して、該触媒を酸化再生器に送り
込み、再生後、触媒を反応帯域に再供給する方法が好ま
しい。触媒の再生方法としては、触媒を、酸素、空気、
酸化窒素等の酸化性ガスを再生器内の触媒に対して、通
常300〜600℃で流通させる方法が例示される。
化水素とアンモニアのみを供給ガスとして気相接触反応
させることもできる。かかる場合は、反応帯域より触媒
の一部を適宜、抜き出して、該触媒を酸化再生器に送り
込み、再生後、触媒を反応帯域に再供給する方法が好ま
しい。触媒の再生方法としては、触媒を、酸素、空気、
酸化窒素等の酸化性ガスを再生器内の触媒に対して、通
常300〜600℃で流通させる方法が例示される。
【0022】本発明の触媒、特に化学式(1)で表され
る触媒を、炭化水素としてプロパンを、酸素源として空
気を使用する場合について更に詳細に説明するに、反応
器方式は固定床、流動床等いずれも採用できるが、本発
明の触媒はその物性から流動床方式に適している。反応
に供給する空気の割合は、生成するアクリロニトリルの
選択率に関して重要であり、空気は、通常プロパンに対
して25モル倍量以下、特に1〜18モル倍量の範囲が
高いアクリロニトリル選択率を示す。また、反応に供与
するアンモニアの割合は、プロパンに対して0.2〜5
モル倍量、特に0.5〜3モル倍量の範囲が好適であ
る。なお、本反応は通常大気圧下で実施されるが、低度
の加圧下または減圧下で行なうこともできる。他のアル
カンについても、プロパンの場合の条件に準じて供給ガ
スの組成が選択される。
る触媒を、炭化水素としてプロパンを、酸素源として空
気を使用する場合について更に詳細に説明するに、反応
器方式は固定床、流動床等いずれも採用できるが、本発
明の触媒はその物性から流動床方式に適している。反応
に供給する空気の割合は、生成するアクリロニトリルの
選択率に関して重要であり、空気は、通常プロパンに対
して25モル倍量以下、特に1〜18モル倍量の範囲が
高いアクリロニトリル選択率を示す。また、反応に供与
するアンモニアの割合は、プロパンに対して0.2〜5
モル倍量、特に0.5〜3モル倍量の範囲が好適であ
る。なお、本反応は通常大気圧下で実施されるが、低度
の加圧下または減圧下で行なうこともできる。他のアル
カンについても、プロパンの場合の条件に準じて供給ガ
スの組成が選択される。
【0023】本発明の触媒を用いた場合、従来のアルカ
ンのアンモ酸化反応におけるよりも低い温度、例えば、
340〜480℃で実施することができ、特に好ましい
のは400〜450℃程度である。このような低温にお
いても従来からの技術に比べ、高収率でニトリル類を製
造することができる。また、気相反応におけるガス空間
速度SVは、通常100〜10000h-1、好ましくは
300〜2000h-1の範囲である。なお、空間速度と
酸素分圧を調整するための希釈ガスとして、窒素、アル
ゴン、ヘリウム等の不活性ガスを用いることができる。
ンのアンモ酸化反応におけるよりも低い温度、例えば、
340〜480℃で実施することができ、特に好ましい
のは400〜450℃程度である。このような低温にお
いても従来からの技術に比べ、高収率でニトリル類を製
造することができる。また、気相反応におけるガス空間
速度SVは、通常100〜10000h-1、好ましくは
300〜2000h-1の範囲である。なお、空間速度と
酸素分圧を調整するための希釈ガスとして、窒素、アル
ゴン、ヘリウム等の不活性ガスを用いることができる。
【0024】
【実施例】以下、本発明を、実施例を挙げてさらに詳細
に説明するが、本発明はその要旨を超えないかぎりこれ
らの実施例に限定されるものではない。なお、以下の実
施例における収率(%)は、各々次式で示される。
に説明するが、本発明はその要旨を超えないかぎりこれ
らの実施例に限定されるものではない。なお、以下の実
施例における収率(%)は、各々次式で示される。
【0025】
【数1】アクリロニトリルの収率(%)=(アクリロニ
トリルのモル数/供給プロパンのモル数)×100
トリルのモル数/供給プロパンのモル数)×100
【0026】実施例1 実験組成Mo1 V0.30Te0.23Nb0.12 On とSiO
2 の混合物(重量比50:50)を次のように調製し
た。温水1623gに、パラモリブデン酸アンモニウム
塩394g、メタバナジン酸アンモニウム塩78.4
g、テルル酸118gを溶解し、均一な水溶液を調製し
た。これに、シリカ含量が20重量%のシリカゾル25
00gおよび温水481gにシュウ酸ニオブアンモニウ
ム120gを加えた水溶液を混合し、スラリーを調製し
た。
2 の混合物(重量比50:50)を次のように調製し
た。温水1623gに、パラモリブデン酸アンモニウム
塩394g、メタバナジン酸アンモニウム塩78.4
g、テルル酸118gを溶解し、均一な水溶液を調製し
た。これに、シリカ含量が20重量%のシリカゾル25
00gおよび温水481gにシュウ酸ニオブアンモニウ
ム120gを加えた水溶液を混合し、スラリーを調製し
た。
【0027】このスラリーを約120ml/minの速
度で噴霧乾燥機に供給し、出口温度約160℃で噴霧乾
燥し、乾燥物を得た。この乾燥物をアンモニア臭がなく
なるまで約270℃で熱処理した後、窒素気流中、60
0℃、2時間焼成を2回行い触媒を得た。次いで、この
触媒600gを60℃に加温した5重量%シュウ酸水溶
液6000gに添加し、撹拌を行いながら、60℃で
1.5時間保持した。室温まで放冷後、固体を濾過分離
した。このロート上の固体に脱イオン水1200mlを
かける洗浄操作を6回繰り返した。洗浄後、固体は50
℃で乾燥後、窒素気流中、600℃で2時間焼成し、平
均粒径約50μmの酸処理触媒を得た。
度で噴霧乾燥機に供給し、出口温度約160℃で噴霧乾
燥し、乾燥物を得た。この乾燥物をアンモニア臭がなく
なるまで約270℃で熱処理した後、窒素気流中、60
0℃、2時間焼成を2回行い触媒を得た。次いで、この
触媒600gを60℃に加温した5重量%シュウ酸水溶
液6000gに添加し、撹拌を行いながら、60℃で
1.5時間保持した。室温まで放冷後、固体を濾過分離
した。このロート上の固体に脱イオン水1200mlを
かける洗浄操作を6回繰り返した。洗浄後、固体は50
℃で乾燥後、窒素気流中、600℃で2時間焼成し、平
均粒径約50μmの酸処理触媒を得た。
【0028】得られた酸処理触媒は、25ccメスシリ
ンダー中にロートで触媒を充填し、重量を測定すること
により充填密度を求め、微小圧縮試験機(島津製作所
製、MCTM−500)により圧壊強度を測定した。結
果を表−1に示す。なお、該触媒の組成は、ICP発行
分光分析計を用いて確認した。以上のように調製された
酸処理触媒990mgを反応器に充填し、反応温度41
0℃、反応ガスの流量500cc/hに固定して、プロ
パン:アンモニア:空気=1:1.2:15の比でガス
を供給し気相接触反応を行った。反応結果を表−1に示
す。
ンダー中にロートで触媒を充填し、重量を測定すること
により充填密度を求め、微小圧縮試験機(島津製作所
製、MCTM−500)により圧壊強度を測定した。結
果を表−1に示す。なお、該触媒の組成は、ICP発行
分光分析計を用いて確認した。以上のように調製された
酸処理触媒990mgを反応器に充填し、反応温度41
0℃、反応ガスの流量500cc/hに固定して、プロ
パン:アンモニア:空気=1:1.2:15の比でガス
を供給し気相接触反応を行った。反応結果を表−1に示
す。
【0029】比較例1 実験組成Mo1 V0.30Te0.23Nb0.12 On とSi
O2 の混合物(重量比90:10)を次のように調製し
た。温水2921gに、パラモリブデン酸アンモニウム
塩709g、メタバナジン酸アンモニウム塩141g、
テルル酸212gを溶解し、均一な水溶液を調製した。
これに、シリカ含量が20重量%のシリカゾル500g
および温水866gにシュウ酸ニオブアンモニウム21
6gを加えた水溶液を混合し、スラリーを調製した他は
実施例1と同様に触媒を調製した。得られた触媒は実施
例1と同様に酸処理を行い、酸処理触媒を得た。実施例
1と同様の方法で酸処理触媒の充填密度、圧壊強度を測
定した。この酸処理触媒550mgを反応器に充填した
他は実施例1と同様にプロパンの気相接触反応を行っ
た。結果をまとめて表−1に示す。
O2 の混合物(重量比90:10)を次のように調製し
た。温水2921gに、パラモリブデン酸アンモニウム
塩709g、メタバナジン酸アンモニウム塩141g、
テルル酸212gを溶解し、均一な水溶液を調製した。
これに、シリカ含量が20重量%のシリカゾル500g
および温水866gにシュウ酸ニオブアンモニウム21
6gを加えた水溶液を混合し、スラリーを調製した他は
実施例1と同様に触媒を調製した。得られた触媒は実施
例1と同様に酸処理を行い、酸処理触媒を得た。実施例
1と同様の方法で酸処理触媒の充填密度、圧壊強度を測
定した。この酸処理触媒550mgを反応器に充填した
他は実施例1と同様にプロパンの気相接触反応を行っ
た。結果をまとめて表−1に示す。
【0030】実施例2 シュウ酸処理を行わない以外は実施例1と同様に調製を
行ない、実験組成Mo 1 V0.30Te0.23Nb0.12 On
とSiO2 (重量比50:50)を有する触媒を得、実
施例1と同様に充填密度、圧壊強度を測定した。この触
媒を使用し、実施例1と同様にプロパンの気相接触酸化
反応を行なった。結果をまとめて表−1に示す。
行ない、実験組成Mo 1 V0.30Te0.23Nb0.12 On
とSiO2 (重量比50:50)を有する触媒を得、実
施例1と同様に充填密度、圧壊強度を測定した。この触
媒を使用し、実施例1と同様にプロパンの気相接触酸化
反応を行なった。結果をまとめて表−1に示す。
【0031】実施例3 実験組成Mo1 V0.30Te0.23Nb0.12 On とSi
O2 の混合物(重量比60:40)を次のように調製し
た。温水1948gに、パラモリブデン酸アンモニウム
塩473g、メタバナジン酸アンモニウム塩94.1
g、テルル酸142gを溶解し、均一な水溶液を調製し
た。これに、シリカ含量が20重量%のシリカゾル20
0gおよび温水577gにシュウ酸ニオブアンモニウム
144gを加えた水溶液を混合し、スラリーを調製した
他は実施例1と同様に触媒を調製し、実施例1と同様に
充填密度、圧壊強度を測定した。この触媒830mgを
反応器に充填した他は実施例1と同様にプロパンの気相
接触反応を行った。結果をまとめて表−1に示す。
O2 の混合物(重量比60:40)を次のように調製し
た。温水1948gに、パラモリブデン酸アンモニウム
塩473g、メタバナジン酸アンモニウム塩94.1
g、テルル酸142gを溶解し、均一な水溶液を調製し
た。これに、シリカ含量が20重量%のシリカゾル20
0gおよび温水577gにシュウ酸ニオブアンモニウム
144gを加えた水溶液を混合し、スラリーを調製した
他は実施例1と同様に触媒を調製し、実施例1と同様に
充填密度、圧壊強度を測定した。この触媒830mgを
反応器に充填した他は実施例1と同様にプロパンの気相
接触反応を行った。結果をまとめて表−1に示す。
【0032】比較例2 実験組成Mo1 V0.30Te0.23Nb0.12 On とSiO
2 の混合物(重量比70:30)を次のように調製し
た。温水2272gに、パラモリブデン酸アンモニウム
塩552g、メタバナジン酸アンモニウム塩110g、
テルル酸165gを溶解し、均一な水溶液を調製した。
さらに、シリカ含有量が20%のシリカゾル1500g
および温水673gにシュウ酸ニオブアンモニウム16
8gを加えた水溶液を混合し、スラリーを調製した他は
実施例1と同様に触媒を調製し、実施例1と同様に充填
密度、圧壊強度を測定した。結果を表−1に示す。この
触媒710mgを反応器に充填した他は実施例1と同様
にプロパンの気相接触反応を行った。反応結果を表−1
に示す。
2 の混合物(重量比70:30)を次のように調製し
た。温水2272gに、パラモリブデン酸アンモニウム
塩552g、メタバナジン酸アンモニウム塩110g、
テルル酸165gを溶解し、均一な水溶液を調製した。
さらに、シリカ含有量が20%のシリカゾル1500g
および温水673gにシュウ酸ニオブアンモニウム16
8gを加えた水溶液を混合し、スラリーを調製した他は
実施例1と同様に触媒を調製し、実施例1と同様に充填
密度、圧壊強度を測定した。結果を表−1に示す。この
触媒710mgを反応器に充填した他は実施例1と同様
にプロパンの気相接触反応を行った。反応結果を表−1
に示す。
【0033】比較例3 酸処理を行わない以外は比較例1と同様に調製を行な
い、実験組成Mo1 V0. 30Te0.23Nb0.12 On とS
iO2 (重量比90:10)を有する触媒を得、実施例
1と同様に充填密度、圧壊強度を測定した。
い、実験組成Mo1 V0. 30Te0.23Nb0.12 On とS
iO2 (重量比90:10)を有する触媒を得、実施例
1と同様に充填密度、圧壊強度を測定した。
【0034】この触媒を使用し、比較例1と同様にプロ
パンの気相接触酸化反応を行なった。結果をまとめて表
−1に示す。
パンの気相接触酸化反応を行なった。結果をまとめて表
−1に示す。
【0035】
【表1】
【0036】
【発明の効果】本発明の触媒は炭化水素、特にアルカン
よりニトリルを製造するのに好適であり、かつ、機械的
強度および充填密度が良好なので、触媒の寿命が長く、
特に流動床反応において好適であり、工業的価値が高
い。
よりニトリルを製造するのに好適であり、かつ、機械的
強度および充填密度が良好なので、触媒の寿命が長く、
特に流動床反応において好適であり、工業的価値が高
い。
【図1】本発明の触媒におけるシリカの含有量と充填密
度および圧壊強度の関係の一例を示す。
度および圧壊強度の関係の一例を示す。
Claims (6)
- 【請求項1】 シリカ、モリブデンおよび/またはバナ
ジウムを含む溶液またはスラリーを、噴霧乾燥した乾燥
物を熱処理することにより得られた、炭化水素をアンモ
ニアと気相接触酸化反応させてニトリルを製造するため
の酸化物触媒であって、シリカ含有量が40〜70重量
%、平均粒径が20〜100μm、圧壊強度が34MP
a以上、かつ、充填密度が1.2g/cm3以下である
ことを特徴とするニトリル製造用触媒。 - 【請求項2】 テルル、ニオブ、タンタル、タングステ
ン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム、クロム、マ
ンガン、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、ニッケ
ル、パラジウム、白金、アンチモン、ビスマス、ホウ
素、インジウム、セリウム、リン、銅、アルカリ金属お
よびアルカリ土類金属からなる群から選ばれる1以上の
元素を含むことを特徴とする請求項1に記載の触媒。 - 【請求項3】 酸化物触媒が化学式(1)で表される複
合酸化物とシリカからなることを特徴とする請求項1ま
たは2に記載の触媒。 【化1】 Moa Vb Tec XX On (1) (式(1)において、XはNb、Ta、W、Ti、A
l、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、N
i、Pd、Pt、Sb、Bi、B、In、Ce、P、C
u、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の中から選ば
れた1つまたはそれ以上の元素を表わし、 a=1とするとき、 b=0.01〜1.0 c=0.01〜1.0 x=0.005〜1.0 であり、また、nは他の元素の酸化状態により決定され
る数を表す。) - 【請求項4】 シリカとして粒径1μm以下のシリカを
用いることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに
記載の触媒。 - 【請求項5】 シリカとしてシリカゾルを用いることを
特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の触媒。 - 【請求項6】 請求項1ないし5いずれか1項に記載の
触媒を更に酸処理して得られた触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6283661A JPH08141401A (ja) | 1994-11-17 | 1994-11-17 | ニトリル製造用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6283661A JPH08141401A (ja) | 1994-11-17 | 1994-11-17 | ニトリル製造用触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08141401A true JPH08141401A (ja) | 1996-06-04 |
Family
ID=17668429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6283661A Pending JPH08141401A (ja) | 1994-11-17 | 1994-11-17 | ニトリル製造用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08141401A (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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