JPH08141532A - バッチ型ブラシ洗浄装置並びに洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ビックサイズ及び微粒子サイズの異物を同時
に、かつ、ハイブリッドに洗浄することができ、洗浄装
置内に具備されているパーツの劣化を促進する虞れがな
いバッチ型ブラシ洗浄装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 バッチ型ブラシ洗浄装置１は、洗浄液を貯溜
するための洗浄槽２と、その洗浄槽２内に配設され複数
枚の被洗浄基板３を固定するための被洗浄基板受け台４
と、洗浄槽２内の側面及び底面に設けられ超音波を被洗
浄基板３に伝播するための超音波振動子５と、洗浄槽２
の上方に配置され被洗浄基板３の表面を洗浄するための
ブラシ６を有するブラシ支持体７とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体デバイス
や液晶表示用ガラス基板などの高集積化に伴う微細加工
品等の高精密洗浄に使用することを目的としたバッチ型
ブラシ洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、上述したような半導体デバイスや
液晶表示用ガラス基板などに対しては、その製造工程中
において表面の汚れを取り除くために、複数の被洗浄基
板を洗浄槽の洗浄液中に浸漬して超音波等で洗浄するバ
ッチ式洗浄方式、あるいは被洗浄基板を一枚ずつ搬送し
ながらブラシ等で洗浄する枚葉式洗浄方式が行われてい
る。

【０００３】ブラシを用いた枚葉式洗浄方式は、一般に
被洗浄基板に付着しているビックサイズダスト及び汚れ
等の除去に効果的である。すなわち、前記枚葉式洗浄方
式は、図３に示すように、被洗浄基板３０を図中の矢印
方向に回転している搬送ローラー１１により挟み、被洗
浄基板３０を一枚ずつ一方向に流す仕組みになってお
り、さらに一定間隔で被洗浄基板３０の上部及び下部に
回転自在な洗浄用ブラシ１２が設けてある。したがっ
て、このブラシ１２が被洗浄基板３０の上部および下部
に設けられていることから、被洗浄基板３０の表面だけ
ではなく裏面に付着したダスト及び汚れも同時に洗浄す
ることができる。

【０００４】また、超音波を用いたバッチ式洗浄方法
は、一般的に、例えば被洗浄物に付着している油脂など
の脱脂洗浄に使用されたりしていたが、昨今では、高集
積化に伴い清浄な表面が要求される半導体デバイスや液
晶表示素子用ガラス基板等の洗浄に使用されている。基
板洗浄プロセスにおいて微粒子等の除去能力の向上が望
まれる中、超音波発振機構を備えたバッチ型超音波洗浄
装置は、微粒子の除去に効果のある方法の一つとして注
目されている。

【０００５】バッチ型超音波洗浄装置の一例を図４に示
す。バッチ型超音波洗浄装置１３には、洗浄液を貯溜す
る洗浄槽１４が備えられており、この洗浄槽１４の底部
及び側面には出力に応じた超音波を発生する超音波振動
子１５が設けられている。また、洗浄槽１４の内部に
は、被洗浄基板１６を固定するための被洗浄基板受け台
１７が配設されている。この被洗浄基板受け台１７は、
超音波振動子１５により発生した超音波が洗浄液を介し
て均一に被洗浄基板１６に伝播するように、被洗浄基板
受け台１７が上下に動くようになっている。

【０００６】そして、洗浄槽１４の外周上部には、洗浄
槽１４からあふれ出る洗浄液を受けるオーバーフロー槽
１８が設けてあり、このオーバーフロー槽１８の底部は
ポンプ１９とフィルター２０とにより洗浄槽１４と連結
して、洗浄液が循環するオーバーフローシステムが構成
されている。このオーバーフローシステムにより洗浄液
中の微粒子等は、効率よくフィルター２０にて濾過さ
れ、清浄な洗浄液は、ポンプ１９の吐出力により再び洗
浄槽１４に戻り、循環するようになっている。

【０００７】超音波は被洗浄基板１６に付着した微粒子
を除去するうえで絶大な効果を発揮する。発振器で生成
された高周波電気振動は超音波振動子１５で機械的振動
に変換され、この超音波振動子１５の振動により超音波
が発生する。そして、この振動が洗浄液を介して被洗浄
基板１６に伝播する。周波数が数十ＫＨｚ以下の場合
は、主に侵食効果により、また、メガソニック領域（Ｍ
Ｈｚ域）になると振動加速度効果により被洗浄基板１６
の表面に付着した微粒子を解離する。解離された微粒子
を含む洗浄液は、洗浄槽１４からオーバーフロー槽１８
に排出され、フィルター２０により効率よく濾過され
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
前記枚葉式洗浄方式では、ブラシのギャップ管理（ブラ
シと被洗浄基板との間隔）の徹底が困難、すなわち、常
にブラシが被洗浄基板に均一に当たっているか否かを管
理することが困難であるため、洗浄不良や洗浄ムラが発
生しないよう、定期的にギャップ間隔の測定をして、対
処しなくてはいけないという不都合がある。

【０００９】また、搬送時に搬送ローラーにより進行方
向に対して上部ローラーと下部ローラーとで被洗浄基板
を挟みながら処理しなくてはならない。したがって、搬
送ローラーが汚れている場合、被洗浄基板に搬送ローラ
ーの汚れが付着してしまうことがあり、さらに、上部ロ
ーラー、下部ローラーとの間隔が搬送ローラーの劣化に
より狭くなることがあり、これにより洗浄不良及び洗浄
ムラが発生してしまう可能性があるという問題点があ
る。

【００１０】一方、従来の超音波を用いたバッチ式洗浄
方法は、微小サイズの異物及び汚れを除去するのには適
しているが、ビックサイズダストの除去には、超音波の
強度を上げる必要がある。しかし、超音波強度を上げる
と、超音波振動子の劣化が進み、特に超音波振動子と洗
浄槽の槽壁との密着度が低下する。そのため、被洗浄基
板１６に超音波が十分に伝播しない可能性があり、洗浄
ムラ等が発生するという問題がある。

【００１１】また、超音波の伝播を均一に行うために、
被洗浄基板受け台が振動する仕組みになっているが、上
述したように、超音波強度アップによる超音波振動子と
洗浄槽の槽壁との密着力低下により、洗浄レベルが初期
設定値に対して経時変化し、被洗浄基板を均一に洗浄で
きず洗浄ムラが発生する虞れがあり、洗浄レベルの向上
を図ることができないという問題がある。さらに、一工
程では洗浄レベルが低い場合は、再洗浄を行う必要があ
り、プロセスの簡略化を図ることが困難であるという問
題がある。

【００１２】そこで、本発明は、前記従来の問題点を解
消すべくなされたものであって、バッチ式洗浄方式と枚
葉式洗浄方式を同時に行うことができる、すなわち、ビ
ックサイズ及び微粒子サイズの異物を同時に、または、
ハイブリッドに洗浄することができると共に、洗浄装置
内に具備しているパーツの劣化を促進する虞れがないバ
ッチ型ブラシ洗浄装置を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、次の構成によ
り前記課題を解決するものである。請求項１の発明は、
洗浄液を貯溜するための洗浄槽と、該洗浄槽内に配設さ
れ複数枚の被洗浄基板を固定するための被洗浄基板受け
台と、前記洗浄槽の槽壁に設けられ超音波を発生する超
音波発生手段と、前記洗浄槽の上方に配置され前記被洗
浄基板の表面を洗浄するためのブラシを有するブラシ洗
浄手段とを備えたことを特徴とするバッチ型ブラシ洗浄
装置である。

【００１４】請求項２の発明は、請求項１において、前
記ブラシ洗浄手段は、前記被洗浄基板の基板間に一個又
は二個以上のブラシを備え、かつ、該ブラシは可動であ
ることを特徴とするバッチ型ブラシ洗浄装置である。

【００１５】請求項３の発明は、請求項１において、前
記被洗浄基板受け台は、前記被洗浄基板を保持した状態
で、可動であることを特徴とするバッチ型ブラシ洗浄装
置である。

【００１６】請求項４の発明は、請求項１又は２におい
て、前記ブラシは、圧電素子と該圧電素子により認識さ
れたブラシ毛の摩耗分に応じて前記ブラシ内部からブラ
シ毛を押し出すブラシ毛押し出し機構とを具備している
ことを特徴とするバッチ型ブラシ洗浄装置である。

【００１７】請求項５の発明は、洗浄槽内に貯溜した洗
浄液中に複数枚の被洗浄基板を浸漬する工程と、前記洗
浄槽内に配設された被洗浄基板受け台に浸漬された前記
被洗浄基板を固定する工程と、前記洗浄槽の上方に設置
され、かつ、複数個のブラシを有するブラシ支持体を下
方に動かし、該ブラシを各被洗浄基板間に挿入する工程
と、前記ブラシ支持体を動かして前記被洗浄基板を洗浄
する工程と、前記洗浄層内の槽壁に設けられた超音波発
生手段に超音波を発生させて被洗浄基板に付着した異物
を取り除く工程とから主になることを特徴とするバッチ
型ブラシ洗浄方法である。

【００１８】

【作用】請求項１の発明によれば、洗浄槽内に配設され
た被洗浄基板受け台に被洗浄基板を固定して、洗浄槽の
上方に被洗浄基板の表面を洗浄するためのブラシを有す
るブラシ洗浄手段を配置することで枚葉式洗浄が行われ
るとともに、超音波によりバッチ式洗浄が行われる。

【００１９】請求項２の発明によれば、ブラシ洗浄手段
は被洗浄基板の基板間に一個又は二個以上のブラシを備
えているので、洗浄力を増強すると同時に、一本のブラ
シが故障した場合においても被洗浄基板を均一に洗浄す
ることができる。また、ブラシは可動であり、例えば基
板の洗浄面に沿って運動するので、基板の端面まで均一
に洗うことができる。また、基板の両面を同時に洗浄す
ることが可能であり、複数の基板を同時に洗浄すること
も可能である。

【００２０】請求項３の発明によれば、被洗浄基板受け
台が、被洗浄基板を保持した状態で可動であり、例えば
上下方向に運動するので、超音波発生手段により発生し
た超音波が洗浄液を介して均一に被洗浄基板に伝播す
る。

【００２１】請求項４の発明によれば、ブラシは圧電素
子と該圧電素子により認識されたブラシ毛の摩耗分に応
じて前記ブラシ内部からブラシ毛を押し出すブラシ毛押
し出し機構とを具備しているので、ブラシ毛の長さは常
に均一保たれる。また、所定長のブラシ毛がブラシ内部
から押し出され、もうそれ以上押し出されなくなり、さ
らにブラシ毛が摩耗した場合には、圧電素子からの出力
が無くなるので、ブラシの交換時期が把握される。

【００２２】請求項５の発明によれば、洗浄工程におい
て、洗浄槽内に固定された被洗浄基板をブラシで洗浄す
る工程と、洗浄槽の槽壁に設けられた超音波発生手段に
より超音波を発生させて被洗浄基板に付着した異物を取
り除く工程とが組み合わされているので、枚葉式洗浄と
バッチ式洗浄とが同時に、または、ハイブリッドに行わ
れる。

【００２３】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図１は本発明の実施例にかかるバッチ型ブ
ラシ洗浄装置の概略断面図である。本装置は、例えば半
導体デバイスや液晶表示素子用ガラス基板等の洗浄など
に用いられる装置である。

【００２４】図１に示すように、本発明の実施例にかか
るバッチ型ブラシ洗浄装置１は、枚葉式洗浄とバッチ式
洗浄とが同時に行えるものである。すなわち、洗浄液を
貯溜するための洗浄槽２内には、複数枚の被洗浄基板３
を固定するための被洗浄基板受け台４が配設され、ま
た、発振器（図示せず）で生成された高周波電気信号を
機械的振動に変換して超音波を発生する超音波振動子５
が、洗浄槽２内の側面及び底面に設けられている。さら
に、洗浄槽２の上方には、被洗浄基板３の表面及び裏面
を洗浄するためのブラシ６を有するブラシ支持体７が配
置されている。なお、ブラシ６はそれ自身モーター等の
駆動力により回転する。

【００２５】被洗浄基板３の各基板間に回転自在なブラ
シ６が挿入されているので、被洗浄基板３の表面に付着
したビッグサイズの異物を効果的に除去することがで
き、また、被洗浄基板３の表面だけではなく裏面まで均
一に洗浄することができる。図１には、ブラシ６は各基
板間に一個しか記載されていないが、二個以上であって
もよく、この場合は、洗浄力がさらに増強され、その
上、一本のブラシが故障した場合においても被洗浄基板
を均一に洗浄することができる。また、ブラシ６を備え
たブラシ支持体７は可動であり、例えば基板の洗浄面に
沿って上下方向に運動するように構成されているので、
被洗浄基板３の端面まで均一に洗浄することができる。
ブラシ支持台７の運動方向は、上記に限定されるもので
はなく、例えば上下、左右あるいはさらに斜め等でもよ
い。

【００２６】上述したように、超音波振動子５が洗浄槽
２内の側面及び底面に取り付けられているので、従来の
バッチ式洗浄と同様に、被洗浄基板３に付着した微粒子
サイズの異物を除去できるので、上記ブラシ洗浄と相俟
って、ハイブリッド洗浄が可能となる。また、超音波振
動子５からの超音波振動が洗浄液を介して被洗浄基板に
均一に伝播するように、被洗浄基板受け台４は可動であ
り、例えば上下方向に運動するように構成されている。
これにより、微粒子等の洗浄がより効率的に行われる。
被洗浄基板受け台４の運動方向は、上記に限定されるも
のではなく、例えば水平方向の運動が加わってもよい。

【００２７】図２は本発明にかかるバッチ型ブラシ洗浄
装置に用いられるブラシの経時変化を示す説明図であ
る。ブラシ６には、図２に示すように、圧電素子６ｄと
ブラシ毛取り付け台６ｃに備えられたブラシ毛６ａをブ
ラシ回転軸６ｂ内部から押し出すブラシ毛押し出し機６
ｅとが内蔵されており、ブラシ６はブラシ回転軸６ｂを
中心にしてモーター等の駆動力（図示せず）により回転
する。図２から明らかなように、ブラシ毛６ａの長さは
被洗浄基板との摩耗により不均一となる。このままで
は、被洗浄基板に対して安定した洗浄レベルを提供する
ことができなくなる。そこで、ブラシ回転軸６ｂ内部に
圧電素子６ｄを設け、被洗浄基板とブラシ６との当たり
具合を認識している。両者の当たり具合に問題が発生し
た場合には、ブラシ毛押し出し機６ｅが作動して（回転
動作）、ブラシ毛６ａはブラシ回転軸６ｂ内部から摩耗
分のみ押し出される。これにより、ブラシと被洗浄基板
とのギャップ（離間距離）を管理している。その結果、
ブラシ毛の長さは常に一定に保たれ、安定した洗浄レベ
ルを提供することができる。

【００２８】また、ブラシ毛６ａの摩耗により生じたギ
ャップ間の不足分を補うために、ブラシ毛押し出し機６
ｅによりブラシ毛６ａがブラシ回転軸６ｂ内部から摩耗
分のみ押し出されるが、ブラシ毛６ａの長さは有限であ
るため、所定長押し出された後にさらにブラシ毛６ａが
摩耗した場合には、ギャップ管理が不可能となる。この
時、ブラシ回転軸６ｂの内部にある圧電素子６ｄからの
出力が無くなるため、ブラシの交換時期を把握すること
ができ、より安定した洗浄レベルを確保することができ
る。

【００２９】次に、本実施例にかかるバッチ型ブラシ洗
浄装置を用いた基板洗浄を概説する。まず、洗浄槽２に
溜めた洗浄液中に複数枚の被洗浄基板３を浸漬して、そ
の先端を被洗浄基板受け台４に固定する。そして、洗浄
槽２の上方に配置されたブラシ支持体７を下方に動かし
て、ブラシ支持体７に備えられたブラシ６が各基板間に
それぞれ挿入されるようにブラシ６を洗浄液中に浸漬さ
せる。

【００３０】ブラシ６は自ら回転すると同時に、例えば
被洗浄基板３の洗浄面に沿って上下あるいは上下左右に
動くので、被洗浄基板３の表面に付着していたビッグサ
イズダストを除去し、被洗浄基板３の表面及び裏面をム
ラなく洗浄を行う。この洗浄後、一定時間が経過したあ
と洗浄槽２内に浮遊している異物を含んだ洗浄液を洗浄
槽２からオーバーフロー槽８に排出する。オーバーフロ
ー槽８の底部はポンプ９とフィルター１０とにより洗浄
槽２の底部と連結して、洗浄液が循環するオーバーフロ
ーシステムが構成されている。したがって、その異物等
を含んだ洗浄液は配管を通ってポンプ９及びフィルター
１０を通過することにより、効果的にその異物等が除去
され、清浄な洗浄液が槽内に戻る。

【００３１】ブラシ６によりビックサイズの異物を除去
した後、洗浄槽２内に設けてある超音波振動子５から超
音波を発生させる。この超音波が被洗浄基板３に伝播し
て、被洗浄基板３の表面に付着している微粒子サイズの
異物が基板表面から除去される。しかしながら、これだ
けでは超音波が必ずしも被洗浄基板３に均一に当たって
いるとはかぎらない。このため、より洗浄レベルの向上
を図ることを目的として、被洗浄基板受け台４を例えば
上下に動かす。その結果、超音波が被洗浄基板３に均一
に伝播し、微粒子等の除去がより効率的に行われ、基板
洗浄が完結する。

【００３２】このようにバッチ式洗浄及び枚葉式洗浄を
交互に又は同時、または、ハイブリッドに行うことによ
り、プロセスにおける洗浄レベルが向上し、また、プロ
セスの短縮が図れる。すなわち、従来のブラシ洗浄方式
では、一枚づつ被洗浄物を洗浄ローラーにて洗浄を行っ
ているが、この方式によって洗浄を行った場合、空気中
のダストが被洗浄物に付着した状態で洗浄を行うため、
例えば高精細デバイスの洗浄においては、デバイス表面
にキズ等が発生し、また酸化速度が速い物質において
は、デバイス表面が例えばトランジスタとしての機能が
低下してしまう等、品質面において不安が残る。また、
枚葉式なので洗浄に時間がかかり、量産時においてはロ
スを生じる。

【００３３】本発明によれば、従来行うことができなか
った槽内での枚葉式とバッチ式（超音波）を同時に行
え、またハイブリッド方式にて洗浄ができるので、この
ような問題はなく、種々の条件のもとにおかれている被
洗浄物をムラなく、高レベルの洗浄を行うことができ
る。また、本発明によれば、被洗浄物の数に応じた複数
のブラシを有し、また槽内にて、枚葉式、バッチ式（超
音波）を同時もしくはハイブリッドに行うことができる
ので、プロセスの安定性、洗浄力の向上及び処理時間の
短縮が図られる。

【００３４】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、洗浄槽内に配
設された被洗浄基板受け台に被洗浄基板を固定して、超
音波によりバッチ式洗浄を行うことができると同時に、
洗浄槽の上方に被洗浄基板の表面を洗浄するためのブラ
シを有するブラシ洗浄手段を配置することで枚葉式洗浄
を行うことができる機構を備えているので、被洗浄基板
に付着したビッグサイズ及び微粒子サイズの異物を同時
に、または、ハイブリッドに取り除くことができ、洗浄
力が向上し、被洗浄基板を均一に洗浄することができ
る。したがって、洗浄レベル向上のために超音波のパワ
ーを過大にあげることを要せず、本洗浄装置内に具備さ
れているパーツの劣化を促進する虞れがない。また、上
述したように、短時間でビックサイズ及び微粒子サイズ
の異物の除去が可能となることから、プロセスの短縮も
図れ、且つコストダウンも図れる。また、洗浄方法の選
択や変更が可能となり、プロセスの簡略化が図れる。

【００３５】請求項２の発明によれば、ブラシ洗浄手段
に被洗浄基板の基板間に一個又は二個以上のブラシを備
えることにより、洗浄力を増強すると同時に、一本のブ
ラシが故障した場合においても被洗浄基板を均一に洗浄
することができるので、洗浄不良及び洗浄ムラの発生を
防止することができる。また、被洗浄基板の膜面だけで
はなく裏面まで均一に洗浄することができる。さらに、
ブラシを可動とし、被洗浄基板の洗浄面に沿って運動さ
せることにより、基板の端面まで均一に洗うことがで
き、洗浄ムラ及び洗浄不良といった不具合を防ぐことが
できる。また、複数の基板の洗浄を同時に処理できるの
で、洗浄時間の短縮が図れる。

【００３６】請求項３の発明によれば、被洗浄基板受け
台を被洗浄基板を保持した状態で可動とし、例えば上下
に運動させることにより、超音波発生手段により発生し
た超音波が洗浄液を介して均一に被洗浄基板に伝播し、
微粒子等をより効果的に除去することができ、洗浄レベ
ルの向上が図られる。

【００３７】請求項４の発明によれば、ブラシに圧電素
子と該圧電素子により認識されたブラシ毛の摩耗分に応
じて前記ブラシ内部からブラシ毛を押し出すブラシ毛押
し出し機構とを具備させることにより、圧電素子が被洗
浄基板に対するブラシの当たり具合を認識し、その当た
り具合に問題が発生した場合には、ブラシ押し出し機構
が作動してブラシ毛の摩耗分を補い、ブラシ毛の長さを
常に均一保つことができ、ブラシと被洗浄基板とのギャ
ップ管理を行うことができる。その結果、被洗浄基板に
常に均一にブラシがあたるので、洗浄不良及び洗浄ムラ
の発生を防止することができる。また、所定長のブラシ
毛がブラシ内部から押し出され、もうそれ以上押し出さ
れなくなり、さらにブラシ毛が摩耗した場合には、圧電
素子からの出力が無くなるので、ブラシの交換時期を把
握することができ、安定した洗浄レベルを確保すること
ができる。

【００３８】請求項５の発明によれば、洗浄槽内に固定
された被洗浄基板をブラシで洗浄する工程と、洗浄槽の
槽壁に設けられた超音波発生手段により超音波を発生さ
せて被洗浄基板に付着した異物を取り除く工程とを洗浄
工程に組み込むことにより、被洗浄基板に付着したビッ
グサイズ及び微粒子サイズの異物を同時に、または、ハ
イブリッドに取り除くことができ、洗浄力が向上し、被
洗浄基板を均一に洗浄することができる。したがって、
洗浄レベル向上のために超音波のパワーを過大にあげる
ことを要せず、本洗浄装置内に具備されているパーツの
劣化を促進する虞れがない。また、上述したように、短
時間でビックサイズ及び微粒子サイズの異物の除去が可
能となることから、プロセスの短縮も図れ、且つコスト
ダウンも図れる。また、洗浄方法の選択や変更が可能と
なり、プロセスの簡略化が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例にかかるバッチ型ブラシ洗浄装
置の概略断面図である。

【図２】図１のブラシの経時変化を示す説明図である。

【図３】（ａ）は、従来の枚葉式洗浄装置を用いた洗浄
工程を示す概略側面図である。（ｂ）は、（ａ）の平面
図である。

【図４】従来のバッチ式洗浄装置の概略断面図である。

【符号の説明】

１ バッチ型ブラシ洗浄装置 ２ 洗浄槽 ３ 被洗浄基板 ４ 被洗浄基板受け台 ５ 超音波振動子 ６ ブラシ ７ ブラシ支持体

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄液を貯溜するための洗浄槽と、該洗
   浄槽内に配設され複数枚の被洗浄基板を固定するための
   被洗浄基板受け台と、前記洗浄槽の槽壁に設けられ超音
   波を発生する超音波発生手段と、前記洗浄槽の上方に配
   置され前記被洗浄基板の表面を洗浄するためのブラシを
   有するブラシ洗浄手段とを備えたことを特徴とするバッ
   チ型ブラシ洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記ブラシ洗浄手段は、前記被洗浄基板
   の基板間に一個又は二個以上のブラシを備え、かつ、該
   ブラシは可動であることを特徴とする請求項１記載のバ
   ッチ型ブラシ洗浄装置。
3. 【請求項３】 前記被洗浄基板受け台は、前記被洗浄基
   板を保持した状態で、可動であることを特徴とする請求
   項１記載のバッチ型ブラシ洗浄装置。
4. 【請求項４】 前記ブラシは、圧電素子と該圧電素子に
   より認識されたブラシ毛の摩耗分に応じて前記ブラシ内
   部からブラシ毛を押し出すブラシ毛押し出し機構とを具
   備していることを特徴とする請求項１又２記載のバッチ
   型ブラシ洗浄装置。
5. 【請求項５】 洗浄槽内に貯溜した洗浄液中に複数枚の
   被洗浄基板を浸漬する工程と、前記洗浄槽内に配設され
   た被洗浄基板受け台に浸漬された前記被洗浄基板を固定
   する工程と、前記洗浄槽の上方に設置され、かつ、複数
   個のブラシを有するブラシ支持体を下方に動かし、該ブ
   ラシを各被洗浄基板間に挿入する工程と、前記ブラシ支
   持体を動かして前記被洗浄基板を洗浄する工程と、前記
   洗浄層内の槽壁に設けられた超音波発生手段により超音
   波を発生させて前記被洗浄基板に付着した異物を取り除
   く工程とから主になることを特徴とするバッチ型ブラシ
   洗浄方法。