JPH08143553A - シアノピラジン誘導体、重合体、製法及び成形体 - Google Patents
シアノピラジン誘導体、重合体、製法及び成形体Info
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Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】特に光安定性に優れた3,6−ジアミノ−2,
5−ピラジンジカルボニトリル誘導体〔I〕を提供す
る。 【解決手段】 【化1】 〔式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 はエーテル結合、エス
テル結合、アミド結合を有してもよい二価の炭化水素基
であり、二価の炭化水素基は置換基を有しても良く、X
1 ,X2 ,X3 ,X4 は水素原子、アクリロイルオキシ
基、あるいはメタクリロイルオキシ基であり、X1 ,X
2 ,X3 ,X4 のうち一つ以上がアクリロイルオキシ基
かメタクリロイルオキシ基である。〕で表わされる化合
物。 【効果】色素成分が高分子鎖に化学結合しているため、
耐光性、耐水性が優れている。波長変換能を持ち、太陽
電池集光板、農業用被覆(ハウス、マルチフィルム、果
実袋掛け等)、表示分野(交通標識、装飾、等)等に応
用できる。
5−ピラジンジカルボニトリル誘導体〔I〕を提供す
る。 【解決手段】 【化1】 〔式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 はエーテル結合、エス
テル結合、アミド結合を有してもよい二価の炭化水素基
であり、二価の炭化水素基は置換基を有しても良く、X
1 ,X2 ,X3 ,X4 は水素原子、アクリロイルオキシ
基、あるいはメタクリロイルオキシ基であり、X1 ,X
2 ,X3 ,X4 のうち一つ以上がアクリロイルオキシ基
かメタクリロイルオキシ基である。〕で表わされる化合
物。 【効果】色素成分が高分子鎖に化学結合しているため、
耐光性、耐水性が優れている。波長変換能を持ち、太陽
電池集光板、農業用被覆(ハウス、マルチフィルム、果
実袋掛け等)、表示分野(交通標識、装飾、等)等に応
用できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なシアノピラジ
ン誘導体、重合体、及び、成形体に関する。
ン誘導体、重合体、及び、成形体に関する。
【0002】
【従来の技術】アミノ基が低級アルキル基で置換された
3,6−ジアミノ−2,5−ビラジンジカルボニトリル
(特開平5−32640)は、昇華性があり、水に微量
溶解し、耐光性がプラスチック等に溶解して使用した場
合に使用場面によっては実用上必ずしも十分とはいえな
い。
3,6−ジアミノ−2,5−ビラジンジカルボニトリル
(特開平5−32640)は、昇華性があり、水に微量
溶解し、耐光性がプラスチック等に溶解して使用した場
合に使用場面によっては実用上必ずしも十分とはいえな
い。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、長期の屋外
使用に耐える光安定性に優れた3,6−ジアミノ−2,
5−ピラジンジカルボニトリル誘導体およびそれらを含
む成形体を提供することを目的とする。
使用に耐える光安定性に優れた3,6−ジアミノ−2,
5−ピラジンジカルボニトリル誘導体およびそれらを含
む成形体を提供することを目的とする。
【0004】
発明の構成 (1)一般式〔I〕
【化2】 〔式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 はエーテル結合、エス
テル結合、アミド結合を有してもよい二価の炭化水素基
であり、二価の炭化水素基は置換基を有しても良く、X
1 ,X2 ,X3 ,X4 は水素原子、アクリロイルオキシ
基、あるいはメタクリロイルオキシ基であり、X1 ,X
2 ,X3 ,X4 のうち一つ以上がアクリロイルオキシ基
かメタクリロイルオキシ基である。〕で表わされる化合
物。
テル結合、アミド結合を有してもよい二価の炭化水素基
であり、二価の炭化水素基は置換基を有しても良く、X
1 ,X2 ,X3 ,X4 は水素原子、アクリロイルオキシ
基、あるいはメタクリロイルオキシ基であり、X1 ,X
2 ,X3 ,X4 のうち一つ以上がアクリロイルオキシ基
かメタクリロイルオキシ基である。〕で表わされる化合
物。
【0005】(2)重合体 一般式〔I〕で表わされる化合物はラジカル重合すると
アクリロイル又はメタクリロイル部分で重合する。重合
体は、一般式〔I〕で表わされるモノマー単位のホモポ
リマー及びコポリマーを意図し、また、一般式〔I〕で
表わされるモノマー単位以外のモノマー単位を含むコポ
リマーをも同様に意図する。これは、一般式〔I〕の化
合物、もしくは一般式〔I〕の化合物とラジカル重合可
能な化合物との混合物をラジカル重合開始剤の存在下、
ラジカル重合して得られる架橋もしくは非架橋の重合体
である。 (3)前記一般式〔I〕の化合物もしくは一般式〔I〕
の化合物とラジカル重合可能な化合物との混合物をラジ
カル重合開始剤の存在下ラジカル重合して得られる架橋
もしくは非架橋の重合体及びその製法。 (4)前記(3)記載の重合体を含む高分子化合物成形
体。
アクリロイル又はメタクリロイル部分で重合する。重合
体は、一般式〔I〕で表わされるモノマー単位のホモポ
リマー及びコポリマーを意図し、また、一般式〔I〕で
表わされるモノマー単位以外のモノマー単位を含むコポ
リマーをも同様に意図する。これは、一般式〔I〕の化
合物、もしくは一般式〔I〕の化合物とラジカル重合可
能な化合物との混合物をラジカル重合開始剤の存在下、
ラジカル重合して得られる架橋もしくは非架橋の重合体
である。 (3)前記一般式〔I〕の化合物もしくは一般式〔I〕
の化合物とラジカル重合可能な化合物との混合物をラジ
カル重合開始剤の存在下ラジカル重合して得られる架橋
もしくは非架橋の重合体及びその製法。 (4)前記(3)記載の重合体を含む高分子化合物成形
体。
【0006】
(1)化合物 R1 ,R2 ,R3 ,R4 のエーテル結合、エステル結
合、アミド結合を有してもよい二価の炭化水素基は、飽
和もしくは不飽和の直鎖状もしくは枝分れのある鎖状炭
化水素基、フェニレン基、ナフチレン基又はこれらの結
合体であり、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメ
チレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキ
サメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、
ノナメチレン基、デカメチレン基、エチルエチレン基、
プロピレン基、プロペニレン基、ビニレン基、プロピニ
レン基、エチニレン基などであり、置換基で置換されて
いてもよい。更にエーテル結合、エステル結合、アミド
結合を有する二価の炭化水素基は、例えば、−(r1 )
t −A−(r2 )u −(式中、r1 ,r2 はそれぞれ独
立して飽和もしくは不飽和の直鎖状もしくは枝分れのあ
る鎖状炭化水素基、フェニレン基、ナフチレン基又はこ
れらの結合体であり、Aは−O−,−COO−,−OC
O−,−CONH−または−NHCO−を示し、t,u
はそれぞれ独立して0または1を示す。)またはこの−
(r1 )t −A−(r2 )u −にさらに−O−,−CO
O−,−OCO−,−CONH−または−NHCO−を
含む基であり、これらは置換基で置換されていてもよ
い。炭化水素基の置換基としては例えばヒドロキシル
基、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、カル
ボキシル基、アシル基、ホルミル基、アルコキシル基、
アルキルチオ基、フェニルのようなアリール基、アルキ
ルシリル基、ハロゲン原子、複素環基などが挙げられ
る。また、これらの置換基は例えばアルキル基、ヒドロ
キシル基、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ
基、カルボキシル基、アシル基、ホルミル基、アルコキ
シル基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ア
ルキルチオ基、アルケニルチオ基、アルキニルチオ基、
アリール基、アルキルシリル基、アルキルスルホニル
基、ハロゲン原子または複素環基で置換されてもよいア
リール基または複素環基のようにさらに置換されていて
もよい。
合、アミド結合を有してもよい二価の炭化水素基は、飽
和もしくは不飽和の直鎖状もしくは枝分れのある鎖状炭
化水素基、フェニレン基、ナフチレン基又はこれらの結
合体であり、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメ
チレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキ
サメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、
ノナメチレン基、デカメチレン基、エチルエチレン基、
プロピレン基、プロペニレン基、ビニレン基、プロピニ
レン基、エチニレン基などであり、置換基で置換されて
いてもよい。更にエーテル結合、エステル結合、アミド
結合を有する二価の炭化水素基は、例えば、−(r1 )
t −A−(r2 )u −(式中、r1 ,r2 はそれぞれ独
立して飽和もしくは不飽和の直鎖状もしくは枝分れのあ
る鎖状炭化水素基、フェニレン基、ナフチレン基又はこ
れらの結合体であり、Aは−O−,−COO−,−OC
O−,−CONH−または−NHCO−を示し、t,u
はそれぞれ独立して0または1を示す。)またはこの−
(r1 )t −A−(r2 )u −にさらに−O−,−CO
O−,−OCO−,−CONH−または−NHCO−を
含む基であり、これらは置換基で置換されていてもよ
い。炭化水素基の置換基としては例えばヒドロキシル
基、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、カル
ボキシル基、アシル基、ホルミル基、アルコキシル基、
アルキルチオ基、フェニルのようなアリール基、アルキ
ルシリル基、ハロゲン原子、複素環基などが挙げられ
る。また、これらの置換基は例えばアルキル基、ヒドロ
キシル基、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ
基、カルボキシル基、アシル基、ホルミル基、アルコキ
シル基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ア
ルキルチオ基、アルケニルチオ基、アルキニルチオ基、
アリール基、アルキルシリル基、アルキルスルホニル
基、ハロゲン原子または複素環基で置換されてもよいア
リール基または複素環基のようにさらに置換されていて
もよい。
【0007】(2)重合体 ラジカル重合可能な化合物としては、例えば、メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピ
ル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メ
チクリル酸ターシャリーブチル、メタクリル酸2−エチ
ルヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸イン
デシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ラウリル
−トリデシル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸
セチル−ステアリル、メタクリル酸ステアリル、メタク
リル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタク
リル酸、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリ
ル酸2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ジメチルア
ミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、メタ
クリル酸ターシャリーブチルアミノエチル、メタクリル
酸グリシジル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、
ジメタクリル酸エチレン、ジメタクリル酸ジエチレング
リコール、ジメタクリル酸トリエチレングリコール、ジ
メタクリル酸テトラエチレングリコール、ジメタクリル
酸デカエチレングリコール、ジメタクリル酸ペンタデカ
エチレングリコール、ジメタクリル酸ペンタコンタヘフ
タエチレングリコール、ジメタクリル酸1,3−ブチレ
ン、メタクリル酸アリル、トリメタクリル酸トリメチロ
ールプロパン、テトラメタクリル酸ペンタエリスリトー
ル、ジメタクリル酸フタル酸ジエチレングリコールのよ
うなメタクリル酸エステル、アクリル酸メチル、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エチル
ヘキシル、アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、
アクリル酸イソブチル、アクリル酸ジエチレングリコー
ルエトキシレート、アクリル酸2−エトキシエチル、エ
ポキシアクリレート、n−ステアリルアクリレート、ア
クリル酸テトラヒドロフルフリル、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、1,4−ブタンジオールジアク
リレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレートのようなアクリ
ル酸エステル、アクリロニトリル、スチレン、酢酸ビニ
ル、ブタジエン、アクリルアミド、ビニルピリジン、ク
ロトン酸、クロトン酸メチルのようなクロトン酸エステ
ル、ジビニルベンゼン、アクロレイン、ジアリルオルソ
フタレート、ジアリルイソフタレート、アリルアセテー
ト、無水マレイン酸などが挙げられる。
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピ
ル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メ
チクリル酸ターシャリーブチル、メタクリル酸2−エチ
ルヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸イン
デシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ラウリル
−トリデシル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸
セチル−ステアリル、メタクリル酸ステアリル、メタク
リル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタク
リル酸、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリ
ル酸2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ジメチルア
ミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、メタ
クリル酸ターシャリーブチルアミノエチル、メタクリル
酸グリシジル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、
ジメタクリル酸エチレン、ジメタクリル酸ジエチレング
リコール、ジメタクリル酸トリエチレングリコール、ジ
メタクリル酸テトラエチレングリコール、ジメタクリル
酸デカエチレングリコール、ジメタクリル酸ペンタデカ
エチレングリコール、ジメタクリル酸ペンタコンタヘフ
タエチレングリコール、ジメタクリル酸1,3−ブチレ
ン、メタクリル酸アリル、トリメタクリル酸トリメチロ
ールプロパン、テトラメタクリル酸ペンタエリスリトー
ル、ジメタクリル酸フタル酸ジエチレングリコールのよ
うなメタクリル酸エステル、アクリル酸メチル、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エチル
ヘキシル、アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、
アクリル酸イソブチル、アクリル酸ジエチレングリコー
ルエトキシレート、アクリル酸2−エトキシエチル、エ
ポキシアクリレート、n−ステアリルアクリレート、ア
クリル酸テトラヒドロフルフリル、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、1,4−ブタンジオールジアク
リレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレートのようなアクリ
ル酸エステル、アクリロニトリル、スチレン、酢酸ビニ
ル、ブタジエン、アクリルアミド、ビニルピリジン、ク
ロトン酸、クロトン酸メチルのようなクロトン酸エステ
ル、ジビニルベンゼン、アクロレイン、ジアリルオルソ
フタレート、ジアリルイソフタレート、アリルアセテー
ト、無水マレイン酸などが挙げられる。
【0008】一般式〔I〕の化合物もしくは一般式
〔I〕の化合物とラジカル重合可能な化合物との混合物
の重合に用いられるラジカル重合開始剤は、アゾビスイ
ソブチロニトリル、アゾビス−2,4−ジメチルバレロ
ニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、ア
ゾビス−2−アミジノプロパン・塩酸塩、ペルオキソ二
硫酸カリウム、ペルオキソ二硫酸アンモニウム、t−ブ
チルヒドロペルオキシド、過酸化ジ−t−ブチルクメン
ヒドロペルオキシド、過酸化アセチル、過酸化ベンゾイ
ル、過酸化ラウロイルなどが挙げられる。
〔I〕の化合物とラジカル重合可能な化合物との混合物
の重合に用いられるラジカル重合開始剤は、アゾビスイ
ソブチロニトリル、アゾビス−2,4−ジメチルバレロ
ニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、ア
ゾビス−2−アミジノプロパン・塩酸塩、ペルオキソ二
硫酸カリウム、ペルオキソ二硫酸アンモニウム、t−ブ
チルヒドロペルオキシド、過酸化ジ−t−ブチルクメン
ヒドロペルオキシド、過酸化アセチル、過酸化ベンゾイ
ル、過酸化ラウロイルなどが挙げられる。
【0009】(3) 製法 i)単量体 本発明の一般式〔I〕
【化3】 (式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 、X1 ,X2 ,X3 ,
X4 は前記と同じ意味を表す。)で示される化合物は、
公知の反応または類似の反応を適宜選択することにより
製造できる。
X4 は前記と同じ意味を表す。)で示される化合物は、
公知の反応または類似の反応を適宜選択することにより
製造できる。
【化4】 ここで、L1 ,L2 ,L3 ,L4 ,L5 ,L6 ,L7 ,
L8 ,L9 ,L10,L11,L12は、OH、ハロゲン原
子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニ
ル基等の脱離基を表わす。R5 水素原子又はメチル基を
表わす。1)〜4)の反応は同時に行なうこともある。
要すれば塩基、脱水縮合剤を用いる。
L8 ,L9 ,L10,L11,L12は、OH、ハロゲン原
子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニ
ル基等の脱離基を表わす。R5 水素原子又はメチル基を
表わす。1)〜4)の反応は同時に行なうこともある。
要すれば塩基、脱水縮合剤を用いる。
【0010】塩基、脱水縮合剤としては、例えば、塩基
としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化リチウ
ム、ナトリウムハイドライド、金属ナトリウム、金属カ
リウム、ソジウムメチラート、ソジウムエチラート、
1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕−1−ノン−5
−エン(DBN)、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.
0〕ウンデカ−7−エン(DBu)、ピリジン、トリエ
チルアミンなど、脱水縮合剤としては、硫酸、塩酸など
の鉱酸、芳香族スルホン酸などの有機酸、1,3−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド(DCCD)、1−エチル
−3−(3’−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミ
ド(WSCI)などの有機縮合剤などが挙げられる。反
応に使用される溶剤としては、反応試薬に不活性であれ
ば特に限定されないが、例えばジメチルホルムアミド
(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAC)、ジメ
チルスルホキシド(DMSO)、ジメトキエタン(DM
E)、テトラヒドロフラン(THF)等のエーテル類、
ベンゼン等のBTX系溶剤、クロロホルム等の塩素系溶
剤、アセトニトリル、アルコール類などが挙げられる。
また、反応試薬を過剰に用いて無溶媒で反応を行なって
もよい。
としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化リチウ
ム、ナトリウムハイドライド、金属ナトリウム、金属カ
リウム、ソジウムメチラート、ソジウムエチラート、
1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕−1−ノン−5
−エン(DBN)、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.
0〕ウンデカ−7−エン(DBu)、ピリジン、トリエ
チルアミンなど、脱水縮合剤としては、硫酸、塩酸など
の鉱酸、芳香族スルホン酸などの有機酸、1,3−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド(DCCD)、1−エチル
−3−(3’−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミ
ド(WSCI)などの有機縮合剤などが挙げられる。反
応に使用される溶剤としては、反応試薬に不活性であれ
ば特に限定されないが、例えばジメチルホルムアミド
(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAC)、ジメ
チルスルホキシド(DMSO)、ジメトキエタン(DM
E)、テトラヒドロフラン(THF)等のエーテル類、
ベンゼン等のBTX系溶剤、クロロホルム等の塩素系溶
剤、アセトニトリル、アルコール類などが挙げられる。
また、反応試薬を過剰に用いて無溶媒で反応を行なって
もよい。
【0011】またR1 ,R2 ,R3 ,R4 がエーテル結
合、エステル結合、アミド結合を有する場合は通常の方
法でこれらの結合を作ることができる。
合、エステル結合、アミド結合を有する場合は通常の方
法でこれらの結合を作ることができる。
【化5】 L13,L14,L15,L16,L17は前記のような脱離基を
表わす。
表わす。
【0012】例えば、R1 ,R3 ,R4 をメチレン基、
R2 をポリメチレン基、X1 ,X3,X4 を水素原子、
X2 をメタクリロイルオキシ基とした場合においては、
スキームI、スキームII、スキームIII 、
R2 をポリメチレン基、X1 ,X3,X4 を水素原子、
X2 をメタクリロイルオキシ基とした場合においては、
スキームI、スキームII、スキームIII 、
【化6】
【化7】
【化8】 (式中、nは自然数を示す。)に示す方法で製造でき
る。
る。
【0013】ii)重合体 本発明の重合体は、一般式〔I〕で示される化合物もし
くは一般式〔I〕の化合物とラジカル重合可能な化合物
との混合物を公知のラジカル重合法、例えば、塊状重
合、溶液重合、乳化重合、懸濁重合などの方法で重合し
製造できる。重合度は10ないし10,000、好まし
くは200ないし5,000である。ラジカル重合開始
剤量は単量体100重量部に対し0.05〜5重量部用
いられる。
くは一般式〔I〕の化合物とラジカル重合可能な化合物
との混合物を公知のラジカル重合法、例えば、塊状重
合、溶液重合、乳化重合、懸濁重合などの方法で重合し
製造できる。重合度は10ないし10,000、好まし
くは200ないし5,000である。ラジカル重合開始
剤量は単量体100重量部に対し0.05〜5重量部用
いられる。
【0014】架橋構造を有する重合体を得るには、公知
の方法を応用すればよい。つまり、重合性二重結合を二
つ以上有するモノマーとの共重合体とするか、カルボキ
シル基やヒドロキシル基などの官能基を有するモノマ
ー、例えば、メタクリル酸やメタクリル酸2−ヒドロキ
シエチルなどと共重合した後、適当な架橋剤、例えば、
アミノ樹脂、イソシアネート化合物、エポキシ樹脂など
と併用することで、架橋構造をもったポリマーを得るこ
とができる。架橋度を重合性二重結合を二つ以上有する
モノマーのモル%で表わすと架橋度は0.01ないし9
9.999%、好ましくは0.1ないし50%である。
の方法を応用すればよい。つまり、重合性二重結合を二
つ以上有するモノマーとの共重合体とするか、カルボキ
シル基やヒドロキシル基などの官能基を有するモノマ
ー、例えば、メタクリル酸やメタクリル酸2−ヒドロキ
シエチルなどと共重合した後、適当な架橋剤、例えば、
アミノ樹脂、イソシアネート化合物、エポキシ樹脂など
と併用することで、架橋構造をもったポリマーを得るこ
とができる。架橋度を重合性二重結合を二つ以上有する
モノマーのモル%で表わすと架橋度は0.01ないし9
9.999%、好ましくは0.1ないし50%である。
【0015】一般式〔I〕の化合物とラジカル重合可能
な化合物の混合比は重量比で1:0ないし1:1000
0、好ましくは1:5ないし1:2000である。重合
体は使い易い様に粉砕するか乳化重合、懸濁重合で製造
する場合は、そのまま蛍光性粉体として使用に供するこ
とが出来る。
な化合物の混合比は重量比で1:0ないし1:1000
0、好ましくは1:5ないし1:2000である。重合
体は使い易い様に粉砕するか乳化重合、懸濁重合で製造
する場合は、そのまま蛍光性粉体として使用に供するこ
とが出来る。
【0016】(4)成形体 本発明において成形体は、本発明重合体をそのまま成形
してもよいし高分子化合物に含有させてもよい。高分子
化合物としては例えば(軟質、半硬質、硬質)PVC;
ポリエチレン;ポリプロピレン;ポリビニルアルコー
ル;ポリメチルアクリレート;ポリメチルメタクリレー
ト;ポリ塩化ビニリデン;ポリアクリルニトリル;ポリ
ブタジエン;ポリスチレン;エチレン−酢酸ビニル共重
合体;塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体;ポリビニルブ
チラール;ポリビニルホルマール;PET,PBTなど
のポリエステル;ポリアリレート;ポリカーボネート;
ポリエステルカーボネート;フェノキシ樹脂;ナイロン
6,ナイロン6/6,ナイロン11,ナイロン12,M
XD6ナイロンなどのポリアミド;ポリジメチルシロキ
サン;ポリトリメチルシリルプロピル;ポリウレタン;
アイオノマー類;セロファン;ポリエチレンセロファ
ン;セルロースアセテート;セルロースプロピオネー
ト;エチルセルロース;ニトロセルロース;などの軟
質、硬質樹脂等が挙げられる。
してもよいし高分子化合物に含有させてもよい。高分子
化合物としては例えば(軟質、半硬質、硬質)PVC;
ポリエチレン;ポリプロピレン;ポリビニルアルコー
ル;ポリメチルアクリレート;ポリメチルメタクリレー
ト;ポリ塩化ビニリデン;ポリアクリルニトリル;ポリ
ブタジエン;ポリスチレン;エチレン−酢酸ビニル共重
合体;塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体;ポリビニルブ
チラール;ポリビニルホルマール;PET,PBTなど
のポリエステル;ポリアリレート;ポリカーボネート;
ポリエステルカーボネート;フェノキシ樹脂;ナイロン
6,ナイロン6/6,ナイロン11,ナイロン12,M
XD6ナイロンなどのポリアミド;ポリジメチルシロキ
サン;ポリトリメチルシリルプロピル;ポリウレタン;
アイオノマー類;セロファン;ポリエチレンセロファ
ン;セルロースアセテート;セルロースプロピオネー
ト;エチルセルロース;ニトロセルロース;などの軟
質、硬質樹脂等が挙げられる。
【0017】本発明において成形体とは、例えば板、フ
ィルム、繊維、ファイバー、粉体、微粒子等である。成
形体の製造法は、特に制約はなく、樹脂の溶融特性、溶
剤溶解性に応じて押出し成形(単層又は積層)、インフ
レーション成形(単層又は積層)、カレンダー成形、射
出成形、トランスファー成形などによって製造するか本
発明の重合体を含むワニスをガラス、プラスチック板、
反射板フィルム織布、不織布、紙などにコーティングま
たは含浸することにより製造することができる。
ィルム、繊維、ファイバー、粉体、微粒子等である。成
形体の製造法は、特に制約はなく、樹脂の溶融特性、溶
剤溶解性に応じて押出し成形(単層又は積層)、インフ
レーション成形(単層又は積層)、カレンダー成形、射
出成形、トランスファー成形などによって製造するか本
発明の重合体を含むワニスをガラス、プラスチック板、
反射板フィルム織布、不織布、紙などにコーティングま
たは含浸することにより製造することができる。
【0018】成形体は使用上の諸条件を満たすため本発
明の目的を損なわない種類および量の紫外線吸収剤、酸
化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤、滑剤、防曇
剤、流滴剤などの添加剤を配合することが出来る。
明の目的を損なわない種類および量の紫外線吸収剤、酸
化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤、滑剤、防曇
剤、流滴剤などの添加剤を配合することが出来る。
【0019】
【実施例】以下、代表例によって本発明を更に具体的に
説明する。
説明する。
【0020】実施例1 一般式〔I〕でR1 X1 =COC6 H5 、R2 X2 =
R3 X3 =R4 X4 =Hである化合物(A)の合成 3,6−ジアミノ−2,5−ピラジンジカルボニトリル
3.52gをピリジン60mlに溶解し氷冷下、ベンゾ
イルクロライド5.06gを30分で滴下し同温度で4
時間反応を行なった。反応液を濾過、濃縮し酢酸エチル
60ml、0.5M HClaq60mlを加え、析出
した結晶を濾取し、水、酢酸エチルで洗浄後乾燥して黄
色結晶2.62gを得た。収率45%、DSC測定値:
270℃(吸熱ピーク)
R3 X3 =R4 X4 =Hである化合物(A)の合成 3,6−ジアミノ−2,5−ピラジンジカルボニトリル
3.52gをピリジン60mlに溶解し氷冷下、ベンゾ
イルクロライド5.06gを30分で滴下し同温度で4
時間反応を行なった。反応液を濾過、濃縮し酢酸エチル
60ml、0.5M HClaq60mlを加え、析出
した結晶を濾取し、水、酢酸エチルで洗浄後乾燥して黄
色結晶2.62gを得た。収率45%、DSC測定値:
270℃(吸熱ピーク)
【0021】一般式〔I〕でR1 X1 =COC
6 H5 、R2 X2 =R3 X3 =R4 X4 =Meである化
合物(B)の合成 化合物(A)1.98g、ジメチルアセトアミド30m
l、沃化メチル9.77g、無水炭酸カリウム4.15
gを混合し60〜70℃で4時間反応を行なった。反応
液に水60mlを加えジクロロメタン60mlで抽出
し、水洗、乾燥、濃縮を行ない、酢酸エチル/n−ヘキ
サンから再沈殿させて黄色結晶1.38gを得た。収率
60%、m.p.159〜159.5℃
6 H5 、R2 X2 =R3 X3 =R4 X4 =Meである化
合物(B)の合成 化合物(A)1.98g、ジメチルアセトアミド30m
l、沃化メチル9.77g、無水炭酸カリウム4.15
gを混合し60〜70℃で4時間反応を行なった。反応
液に水60mlを加えジクロロメタン60mlで抽出
し、水洗、乾燥、濃縮を行ない、酢酸エチル/n−ヘキ
サンから再沈殿させて黄色結晶1.38gを得た。収率
60%、m.p.159〜159.5℃
【0022】一般式〔I〕でR1 X1 =H、R2 X2
=R3 X3 =R4 X4 =Meである化合物(C)の合成 化合物(B)1.38g、メチルアルコール50ml、
10%HClaq27mlを混合し80〜90℃で20
時間反応を行なった。反応液を冷却して析出した結晶を
濾取、水洗、乾燥して暗赤色結晶0.52gを得た。収
率60%、m.p.208〜209.5℃
=R3 X3 =R4 X4 =Meである化合物(C)の合成 化合物(B)1.38g、メチルアルコール50ml、
10%HClaq27mlを混合し80〜90℃で20
時間反応を行なった。反応液を冷却して析出した結晶を
濾取、水洗、乾燥して暗赤色結晶0.52gを得た。収
率60%、m.p.208〜209.5℃
【0023】一般式〔I〕でR1 X1 =(CH2 )6
I、R2 X2 =R3 X3 =R4 X4 =Meである化合物
(D)の合成
I、R2 X2 =R3 X3 =R4 X4 =Meである化合物
(D)の合成
【化9】 化合物(C)3gと1,6−ジヨードヘキサン9.7g
のジメチルアセトアミド(100ml)溶液に撹拌しな
がら炭酸セシウム6.3gを加え室温下、30時間反応
を行なった。反応液に水200mlを加え不溶物を濾取
しエーテルで抽出した。エーテル層を水洗し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフ(流出溶媒:ベンゼン)で精製した。更に
ヘキサンで再結晶することにより赤色結晶の目的物を
3.0g得た。収率49%、m.p.55℃1 HNMR(200MHz,CDCl3 )δppm:
1.2〜1.3(8H,m),3.1〜3.3(11
H,m),3.4〜3.6(2H,t)
のジメチルアセトアミド(100ml)溶液に撹拌しな
がら炭酸セシウム6.3gを加え室温下、30時間反応
を行なった。反応液に水200mlを加え不溶物を濾取
しエーテルで抽出した。エーテル層を水洗し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフ(流出溶媒:ベンゼン)で精製した。更に
ヘキサンで再結晶することにより赤色結晶の目的物を
3.0g得た。収率49%、m.p.55℃1 HNMR(200MHz,CDCl3 )δppm:
1.2〜1.3(8H,m),3.1〜3.3(11
H,m),3.4〜3.6(2H,t)
【0024】一般式〔I〕でR1 X1 =(CH2 )6
OCOC(Me)=CH2 、R2 X2=R3 X3 =R4
X4 =Meである化合物(E)の合成
OCOC(Me)=CH2 、R2 X2=R3 X3 =R4
X4 =Meである化合物(E)の合成
【化10】 化合物(D)2.57gとメタクリル酸0.8gのアセ
トニトリル(31ml)溶液に撹拌しながら1,8−ジ
アザビシクロ〔5.4.0〕ウンデカ−7−エン(DB
U)1.14gを滴下し、加熱還流下4時間反応を行な
った。放冷後水を加えエーテルで抽出し、エーテル層を
水洗次いで無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮す
ることで赤色オイルの目的物2.2gを得た。収率95
%1 HNMR(200MHz,CDCl3 )δppm:
1.2〜1.8(8H,m),1.95(3H,s),
3.15(3H,s),3.16(6H,s),3.5
1(2H,t),4.15(2H,t),5.55(1
H,m),6.1(1H,s) 可視・紫外吸収スペクトル λmax:241,30
0,509nm(inCHCl3 ) 蛍光スペクトル λem:592(λex 500 nm)
(in CHCl3 )
トニトリル(31ml)溶液に撹拌しながら1,8−ジ
アザビシクロ〔5.4.0〕ウンデカ−7−エン(DB
U)1.14gを滴下し、加熱還流下4時間反応を行な
った。放冷後水を加えエーテルで抽出し、エーテル層を
水洗次いで無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮す
ることで赤色オイルの目的物2.2gを得た。収率95
%1 HNMR(200MHz,CDCl3 )δppm:
1.2〜1.8(8H,m),1.95(3H,s),
3.15(3H,s),3.16(6H,s),3.5
1(2H,t),4.15(2H,t),5.55(1
H,m),6.1(1H,s) 可視・紫外吸収スペクトル λmax:241,30
0,509nm(inCHCl3 ) 蛍光スペクトル λem:592(λex 500 nm)
(in CHCl3 )
【0025】実施例2(重合体の製造) 化合物(E)0.05g、メチルメタクリレート1.3
5g、アゾビスイソブチロニトリル45mgを混合し
た。得られた均一な溶液を窒素置換後封印し、70℃の
湯浴中で重合させた。3時間の重合硬化後、重合体をク
ロロホルムに溶解させ、メタノールで再沈し、減圧乾燥
した。得られた重合体は赤い蛍光色を呈していた。重合
度を粘度式によって求めたところ2,200であった。
収量1.23g。収率88%。
5g、アゾビスイソブチロニトリル45mgを混合し
た。得られた均一な溶液を窒素置換後封印し、70℃の
湯浴中で重合させた。3時間の重合硬化後、重合体をク
ロロホルムに溶解させ、メタノールで再沈し、減圧乾燥
した。得られた重合体は赤い蛍光色を呈していた。重合
度を粘度式によって求めたところ2,200であった。
収量1.23g。収率88%。
【0026】実施例3(架橋型重合体の製造) 化合物(E)0.05g、メチルメタクリレート1.3
5g、トリメチロールプロパントリメタクリレート0.
12g、アゾビスイソブチロニトリル49mgを混合し
た。得られた均一な溶液を窒素置換後封印し、70℃の
湯浴中で3時間重合硬化させた。得られた重合体をクロ
ロホルムに浸したが、重合体は溶解しなかった。更に2
0時間クロロホルムに浸し、砕いた後、濾過し、クロロ
ホルムで洗浄した。クロロホルムで若干膨潤した重合体
を減圧乾燥した。得られた重合体は実施例2と同様に赤
い蛍光色を呈していた。収量1.2g。収率78%。
5g、トリメチロールプロパントリメタクリレート0.
12g、アゾビスイソブチロニトリル49mgを混合し
た。得られた均一な溶液を窒素置換後封印し、70℃の
湯浴中で3時間重合硬化させた。得られた重合体をクロ
ロホルムに浸したが、重合体は溶解しなかった。更に2
0時間クロロホルムに浸し、砕いた後、濾過し、クロロ
ホルムで洗浄した。クロロホルムで若干膨潤した重合体
を減圧乾燥した。得られた重合体は実施例2と同様に赤
い蛍光色を呈していた。収量1.2g。収率78%。
【0027】実施例4(フィルムの製造) 実施例2、実施例3で得た重合体をそれぞれ、乳鉢を用
いて粉砕した。得られた粉体を32μmの篩いに通し粒
径が32μm以下の粉体を夫々調製した。実施例2の粉
体を粉体(A)、実施例3の粉体を粉体(B)とする。
第1表に示す配合比で0.1〜0.2mm厚の軟質塩ビ
フィルムをホットプレスで成形した。粉体(A)は混練
時に塩ビに溶解しフィルム(A)は透明フィルムとなっ
たが粉体(B)は溶解せずフィルム(B)は微粒子分散
フィルムとなった。
いて粉砕した。得られた粉体を32μmの篩いに通し粒
径が32μm以下の粉体を夫々調製した。実施例2の粉
体を粉体(A)、実施例3の粉体を粉体(B)とする。
第1表に示す配合比で0.1〜0.2mm厚の軟質塩ビ
フィルムをホットプレスで成形した。粉体(A)は混練
時に塩ビに溶解しフィルム(A)は透明フィルムとなっ
たが粉体(B)は溶解せずフィルム(B)は微粒子分散
フィルムとなった。
【0028】参考例1 下の化11に示す3,6−ジアミノ−2,5−ビラジン
ジカルボニトリル誘導体(F)を用い、実施例4と同様
にして軟質塩ビフィルム(C)を作製した。誘導体
(F)は混練時に塩ビに溶解しフィルム(C)は透明フ
ィルムとなった。 3,6−ジアミノ−2,5−ピラジンジカルボニトリル
誘導体(F):
ジカルボニトリル誘導体(F)を用い、実施例4と同様
にして軟質塩ビフィルム(C)を作製した。誘導体
(F)は混練時に塩ビに溶解しフィルム(C)は透明フ
ィルムとなった。 3,6−ジアミノ−2,5−ピラジンジカルボニトリル
誘導体(F):
【化11】 (特開平5−32640)
【表1】 注)1)サンアロー化学(株) 2)積水化学工業
(株) 3)大八化学工業(株) 4)三光化学(株)
5)ダウケミカル ジャパン(株) 6)ダイセル化
学工業(株) 7)日本油脂(株) 8)和光純薬
(株) 9)大日本インキ化学工業(株) 10)BA
SFジャパン(株)
(株) 3)大八化学工業(株) 4)三光化学(株)
5)ダウケミカル ジャパン(株) 6)ダイセル化
学工業(株) 7)日本油脂(株) 8)和光純薬
(株) 9)大日本インキ化学工業(株) 10)BA
SFジャパン(株)
【0029】試験例1 フィルム(A)〜(C)の陽光ランプ照射による退色試
験を行なった。結果を第2表に示す。
験を行なった。結果を第2表に示す。
【表2】 注)1)90℃、20万ルックス、東芝ライテック
(株) 反射型DR400/T(L) 2)日立850型蛍光分光光度計で測定、励起波長50
0nm
(株) 反射型DR400/T(L) 2)日立850型蛍光分光光度計で測定、励起波長50
0nm
【0030】
(1)本発明化合物(成形体)は色素成分が高分子鎖に
化学結合しているため、優れた耐光性、耐水性を有す
る。 (2)本発明化合物は農医薬、香料、高分子等の中間体
としての利用が期待でき、また、エレクトロルミネッセ
ンス、波長変換材料等の機能性材料としての利用が期待
される。 (3)本発明の波長変換機能を持つ成形体は太陽電池用
の集光板やビニールハウスの被覆資材のほかマルチフィ
ルム、反射(マルチ)フィルム、太陽光がハウス内に平
均して照射される様に設置する反射板、プラスチックネ
ット、織布、不織布、果実の袋掛け用の袋などに使用さ
れるほかプリペイドカード、交通標識、装飾、表示分野
においても応用することが出来る。
化学結合しているため、優れた耐光性、耐水性を有す
る。 (2)本発明化合物は農医薬、香料、高分子等の中間体
としての利用が期待でき、また、エレクトロルミネッセ
ンス、波長変換材料等の機能性材料としての利用が期待
される。 (3)本発明の波長変換機能を持つ成形体は太陽電池用
の集光板やビニールハウスの被覆資材のほかマルチフィ
ルム、反射(マルチ)フィルム、太陽光がハウス内に平
均して照射される様に設置する反射板、プラスチックネ
ット、織布、不織布、果実の袋掛け用の袋などに使用さ
れるほかプリペイドカード、交通標識、装飾、表示分野
においても応用することが出来る。
Claims (4)
- 【請求項1】 一般式〔I〕 【化1】 〔式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 はエーテル結合、エス
テル結合、アミド結合を有してもよい二価の炭化水素基
であり、二価の炭化水素基は置換基を有しても良く、X
1 ,X2 ,X3 ,X4 は水素原子、アクリロイルオキシ
基、あるいはメタクリロイルオキシ基であり、X1 ,X
2 ,X3 ,X4 のうち一つ以上がアクリロイルオキシ基
かメタクリロイルオキシ基である。〕で表わされる化合
物。 - 【請求項2】 一般式〔I〕の化合物、もしくは一般式
〔I〕の化合物とラジカル重合可能な化合物との混合物
をラジカル重合開始剤の存在下、ラジカル重合して得ら
れる架橋もしくは非架橋の重合体。 - 【請求項3】 一般式〔I〕の化合物、もしくは一般式
〔I〕の化合物とラジカル重合可能な化合物との混合物
をラジカル重合開始剤の存在下、ラジカル重合すること
を特徴とする架橋もしくは非架橋の重合体の製造法。 - 【請求項4】 請求項2記載の重合体を含有する高分子
化合物成形体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7263470A JPH08143553A (ja) | 1994-09-19 | 1995-09-18 | シアノピラジン誘導体、重合体、製法及び成形体 |
| PCT/JP1996/000663 WO1997034877A1 (en) | 1995-09-18 | 1996-03-15 | Cyanopyrazine derivatives, polymers, production process, and molded articles |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-249914 | 1994-09-19 | ||
| JP24991494 | 1994-09-19 | ||
| JP7263470A JPH08143553A (ja) | 1994-09-19 | 1995-09-18 | シアノピラジン誘導体、重合体、製法及び成形体 |
| PCT/JP1996/000663 WO1997034877A1 (en) | 1995-09-18 | 1996-03-15 | Cyanopyrazine derivatives, polymers, production process, and molded articles |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08143553A true JPH08143553A (ja) | 1996-06-04 |
Family
ID=26539551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7263470A Pending JPH08143553A (ja) | 1994-09-19 | 1995-09-18 | シアノピラジン誘導体、重合体、製法及び成形体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08143553A (ja) |
-
1995
- 1995-09-18 JP JP7263470A patent/JPH08143553A/ja active Pending
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