JPH08146035A - 可変仮想錘加速度計 - Google Patents
可変仮想錘加速度計Info
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- JPH08146035A JPH08146035A JP7165555A JP16555595A JPH08146035A JP H08146035 A JPH08146035 A JP H08146035A JP 7165555 A JP7165555 A JP 7165555A JP 16555595 A JP16555595 A JP 16555595A JP H08146035 A JPH08146035 A JP H08146035A
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- G01P15/02—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
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- G01P2015/0825—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass for one single degree of freedom of movement of the mass
- G01P2015/0828—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass for one single degree of freedom of movement of the mass the mass being of the paddle type being suspended at one of its longitudinal ends
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 加速度が閾値を超えたときにのみ信号を出力
する地震加速度計を提供する。 【構成】 地震の振動を検出する可変仮想錘加速度計1
において、地震波によって振動するフレーム2と、バネ
52を介して前記フレーム2上に支持された錘51と、
錘51の上下に配置された電極6,7と、該電極6,7
に電圧を供給する電源8と、電極間の容量変化を検出す
る容量変化検出手段9を備えた。
する地震加速度計を提供する。 【構成】 地震の振動を検出する可変仮想錘加速度計1
において、地震波によって振動するフレーム2と、バネ
52を介して前記フレーム2上に支持された錘51と、
錘51の上下に配置された電極6,7と、該電極6,7
に電圧を供給する電源8と、電極間の容量変化を検出す
る容量変化検出手段9を備えた。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、マイクロマシン技術を
用いて作成した振動波を計測するための小型の加速度計
(Micro-Accelerometer)に関する。本発明は、好適に
は、地震波を計測するための小型の加速度計に関する。
用いて作成した振動波を計測するための小型の加速度計
(Micro-Accelerometer)に関する。本発明は、好適に
は、地震波を計測するための小型の加速度計に関する。
【0002】
【従来の技術】ガス供給のための配管系では、大規模地
震発生時に各端末のガス機器を迅速かつ正確に遮断する
必要がある。このために、地震を計測検出する地震計を
各使用者端末に設け、この検出信号によって端末を遮断
するようにしている。
震発生時に各端末のガス機器を迅速かつ正確に遮断する
必要がある。このために、地震を計測検出する地震計を
各使用者端末に設け、この検出信号によって端末を遮断
するようにしている。
【0003】地震を計測するための従来の加速度計は、
2種類のタイプに分けることができる。一つは小さな振
動子を持ち広い帯域にわたる振動を検出できる広帯域
(Broad band)加速度計であり、もう一つは地震の周波
数のみを検出できるように周波数特性を低周波数に限定
した挟帯域(Narrow band)加速度計である。これらの
加速度計は、いずれも、スプリングなどで錘をフレーム
に接続する構造を持っており、錘とフレームの相対的な
位置の変化によって加速度を検出するものである。
2種類のタイプに分けることができる。一つは小さな振
動子を持ち広い帯域にわたる振動を検出できる広帯域
(Broad band)加速度計であり、もう一つは地震の周波
数のみを検出できるように周波数特性を低周波数に限定
した挟帯域(Narrow band)加速度計である。これらの
加速度計は、いずれも、スプリングなどで錘をフレーム
に接続する構造を持っており、錘とフレームの相対的な
位置の変化によって加速度を検出するものである。
【0004】従来技術を用いて低周波数である地震波の
みを検出する狭帯域の加速度計の共振周波数を小さくす
るには、加速度計自体の構造を大きくする必要がある。
すなわち、例えば周波数1Hzで100Galの加速度を検
出するには、2.5cmもの加速度計の変位が必要であ
り、線形のシステムを用いてこの変位を実現するには少
なくても変位と同じ長さの振動子が必要となっている。
みを検出する狭帯域の加速度計の共振周波数を小さくす
るには、加速度計自体の構造を大きくする必要がある。
すなわち、例えば周波数1Hzで100Galの加速度を検
出するには、2.5cmもの加速度計の変位が必要であ
り、線形のシステムを用いてこの変位を実現するには少
なくても変位と同じ長さの振動子が必要となっている。
【0005】従来の広帯域加速度計は、共振周波数の帯
域が通常1000Hz以上と非常に高いので、地震波を計
測するには例えば車の振動などの地震以外の振動も地震
波と同様に誤って認識してしまう問題があり、この問題
を解決するために電気的なフィルターを挿入して検出信
号から高周波成分を取り除き、地震信号のみを取り出す
必要があった。
域が通常1000Hz以上と非常に高いので、地震波を計
測するには例えば車の振動などの地震以外の振動も地震
波と同様に誤って認識してしまう問題があり、この問題
を解決するために電気的なフィルターを挿入して検出信
号から高周波成分を取り除き、地震信号のみを取り出す
必要があった。
【0006】図12に、現在ガスメーターに使用されて
いる地震センサーの原理的な構造を示す。この地震セン
サ100は、漏斗状のくぼみ130を底部120の中心
部に設けた容器110内に鋼球150を収納したもの
で、容器110に加速度が加わると鋼球150がくぼみ
130の傾斜131をかけのぼり、容器110の周壁1
40に設けた電極141に当たって該電極141と底面
に設けた電極121とを短絡して所定値以上の加速度が
加わったことを示す信号を出力するようになっている。
いる地震センサーの原理的な構造を示す。この地震セン
サ100は、漏斗状のくぼみ130を底部120の中心
部に設けた容器110内に鋼球150を収納したもの
で、容器110に加速度が加わると鋼球150がくぼみ
130の傾斜131をかけのぼり、容器110の周壁1
40に設けた電極141に当たって該電極141と底面
に設けた電極121とを短絡して所定値以上の加速度が
加わったことを示す信号を出力するようになっている。
【0007】縦軸に加速度(Gal)を横軸に変位(mm)
をとった図13に示される動作特性を、この加速度セン
サは示す。すなわち、容器110の内径が21.6mmで
あり、鋼球150の直径が15.9mmであり、くぼみ1
30の傾斜角αが6.42°のとき、(5/7)・M・
g・sinα・cosαの加速度で鋼球は2.477mm変位し
検出信号を出力する。ここで、Mは球体の質量を、gは
動加速度を示す。
をとった図13に示される動作特性を、この加速度セン
サは示す。すなわち、容器110の内径が21.6mmで
あり、鋼球150の直径が15.9mmであり、くぼみ1
30の傾斜角αが6.42°のとき、(5/7)・M・
g・sinα・cosαの加速度で鋼球は2.477mm変位し
検出信号を出力する。ここで、Mは球体の質量を、gは
動加速度を示す。
【0008】地震計として用いる加速度計は、1〜5Hz
の振動数に対して85〜150Galの加速度の検出を必
要とし、雑音の影響を避けるために、5Hz以上では振動
数が1桁あがる毎に約60dBの感度低下(roll-off)を
必要とする。理想的な力−変位特性の一般系を図4を用
いて説明する。同図は、縦軸に復元力(restoring forc
e)を示し、横軸に変位量(displacement)を示してい
る。この力−変位特性は、加速度が小さい時点では、バ
ネは非常に硬く、錘はフレームとともに移動するので、
錘とフレームの間に相対的な変位は生ぜず、加速度が閾
値に達すると、閾値力(地震計の錘の質量×加速度の閾
値)を超えてバネが軟らかくなり、フレームと錘との間
に相対的な変位を生じるような系を示している。
の振動数に対して85〜150Galの加速度の検出を必
要とし、雑音の影響を避けるために、5Hz以上では振動
数が1桁あがる毎に約60dBの感度低下(roll-off)を
必要とする。理想的な力−変位特性の一般系を図4を用
いて説明する。同図は、縦軸に復元力(restoring forc
e)を示し、横軸に変位量(displacement)を示してい
る。この力−変位特性は、加速度が小さい時点では、バ
ネは非常に硬く、錘はフレームとともに移動するので、
錘とフレームの間に相対的な変位は生ぜず、加速度が閾
値に達すると、閾値力(地震計の錘の質量×加速度の閾
値)を超えてバネが軟らかくなり、フレームと錘との間
に相対的な変位を生じるような系を示している。
【0009】地震の加速度がかかったとき検出素子があ
まり大きく変形しないものとするためには、検出素子の
大きさは小さくなければならない。すなわち、マイクロ
マシン技術を用いて加速度計を制作することによってメ
リットが生じる。さらに、高価な低周波通過型電気式フ
ィルタ(low pass electric filter)が必要となるのを
避けるため、地震波を計測する加速度計自体が約1〜5
Hzの狭い検出帯域幅を持たねばならない。
まり大きく変形しないものとするためには、検出素子の
大きさは小さくなければならない。すなわち、マイクロ
マシン技術を用いて加速度計を制作することによってメ
リットが生じる。さらに、高価な低周波通過型電気式フ
ィルタ(low pass electric filter)が必要となるのを
避けるため、地震波を計測する加速度計自体が約1〜5
Hzの狭い検出帯域幅を持たねばならない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】このような課題を達成
するためには、地震の入力加速度が系の閾値より少し大
きくなるまでは、バネは硬くなければならず、閾値を超
えるとバネの特性が変化して軟らかくならねばならな
い。このことによって、閾値に近い大きな加速度に対す
る検出帯域幅を狭くすることができる。
するためには、地震の入力加速度が系の閾値より少し大
きくなるまでは、バネは硬くなければならず、閾値を超
えるとバネの特性が変化して軟らかくならねばならな
い。このことによって、閾値に近い大きな加速度に対す
る検出帯域幅を狭くすることができる。
【0011】上記問題点に鑑み、本発明は、1〜5Hzの
周波数で85−150Galの加速度に感度を有し、かつ
5Hz以上の周波数では周波数が10倍となるごとに60
dBの感度の減衰(roll off)を有する、極めて小型で、
安価、かつ電力消費の少ない加速度計を提供することを
目的とする。
周波数で85−150Galの加速度に感度を有し、かつ
5Hz以上の周波数では周波数が10倍となるごとに60
dBの感度の減衰(roll off)を有する、極めて小型で、
安価、かつ電力消費の少ない加速度計を提供することを
目的とする。
【0012】また、本発明は、加速度が閾値を超えたと
きにのみ信号を出力する加速度計を提供することを目的
とする。
きにのみ信号を出力する加速度計を提供することを目的
とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】通常、加速度計や振動セ
ンサの中にバネを介してフレームに支持された錘は2つ
の外力を受ける。第一に設計されるセンサーの検出目的
となるような、支持点を通して錘に伝えられる例えば外
部的加速度のような加速度によって引き起こされる力が
ある。第二に重力等によって生じる変位に対する反発力
(静止の慣性力)がある。ここで、加速度計の中の錘の
変位が変化するにつれて錘の支点を通して錘に伝えられ
る反発力の強さが見かけ上変わっていくような第三のタ
イプの力を導入することによって、あたかも質量が変化
したように見える可変仮想錘の性質を持つデバイスを作
り出すことが考えられる。すなわち、第3の力としての
見かけ上の錘の質量を変化させるために、その変位とと
もに変化する力を地震加速度計の錘に加える手段が考え
られる。この第三の力を利用できれば地震加速度計に期
待される前記特性を持ったシステムを作り出すことがで
きる。
ンサの中にバネを介してフレームに支持された錘は2つ
の外力を受ける。第一に設計されるセンサーの検出目的
となるような、支持点を通して錘に伝えられる例えば外
部的加速度のような加速度によって引き起こされる力が
ある。第二に重力等によって生じる変位に対する反発力
(静止の慣性力)がある。ここで、加速度計の中の錘の
変位が変化するにつれて錘の支点を通して錘に伝えられ
る反発力の強さが見かけ上変わっていくような第三のタ
イプの力を導入することによって、あたかも質量が変化
したように見える可変仮想錘の性質を持つデバイスを作
り出すことが考えられる。すなわち、第3の力としての
見かけ上の錘の質量を変化させるために、その変位とと
もに変化する力を地震加速度計の錘に加える手段が考え
られる。この第三の力を利用できれば地震加速度計に期
待される前記特性を持ったシステムを作り出すことがで
きる。
【0014】上記の、第3の力を与えられるようにした
本発明の可変仮想錘加速度計は、地震波によって振動す
るフレームと、バネを介して前記フレーム上に支持され
た錘と、錘の上下に配置された電極とから構成される。
本発明の可変仮想錘加速度計は、地震波によって振動す
るフレームと、バネを介して前記フレーム上に支持され
た錘と、錘の上下に配置された電極とから構成される。
【0015】さらに、本発明の可変仮想錘加速度計は、
振動波によって振動するフレームと、バネを介して前記
フレーム上に支持された錘と、錘の上下に配置された電
極と、該電極に電圧を供給する電源とから構成される。
振動波によって振動するフレームと、バネを介して前記
フレーム上に支持された錘と、錘の上下に配置された電
極と、該電極に電圧を供給する電源とから構成される。
【0016】本発明の振動波を検出する可変仮想錘加速
度計は、振動波によって振動するフレームと、バネを介
して前記フレーム上に支持された錘と、錘の上下に配置
された電極と、該電極に電圧を供給する電源と、電極間
の容量変化を検出する容量変化検出手段とから構成され
る。
度計は、振動波によって振動するフレームと、バネを介
して前記フレーム上に支持された錘と、錘の上下に配置
された電極と、該電極に電圧を供給する電源と、電極間
の容量変化を検出する容量変化検出手段とから構成され
る。
【0017】
【作用】バネを介してフレームに支持された錘を、上下
に配置された電極間に形成された電界の中に位置させる
と、錘は、電極間に生じる保持力によって電極間から出
ないような力を受ける。したがって、この力は、加速度
が小さいときには見かけ上硬いバネとしてフレームと錘
との相対的な移動を妨げる働きをし、加速度が閾値を超
えたときにはその保持力に打ち勝って錘が電界の影響が
小さな領域移動して見かけ上軟らかいバネとして働き、
フレームと錘との相対的な移動を生じさせて所定の大き
さ以上の地震波を検出する。電極間の容量は、電極間に
導体板が存在するか否かによって変化するので、閾値以
上の加速度が加えられたことは、電極間の容量の変化に
よって検出される。また、このセンサーは錘が中心から
ずれると速やかに端へ移動する性格を持ったセンサであ
るから、閾値以上の加速度が加えられたことは、センサ
ーの端(錘の振動方向の外側)に例えばリミッタスイッ
チを設け、錘が接触することによって検出されるように
構成することもできる。
に配置された電極間に形成された電界の中に位置させる
と、錘は、電極間に生じる保持力によって電極間から出
ないような力を受ける。したがって、この力は、加速度
が小さいときには見かけ上硬いバネとしてフレームと錘
との相対的な移動を妨げる働きをし、加速度が閾値を超
えたときにはその保持力に打ち勝って錘が電界の影響が
小さな領域移動して見かけ上軟らかいバネとして働き、
フレームと錘との相対的な移動を生じさせて所定の大き
さ以上の地震波を検出する。電極間の容量は、電極間に
導体板が存在するか否かによって変化するので、閾値以
上の加速度が加えられたことは、電極間の容量の変化に
よって検出される。また、このセンサーは錘が中心から
ずれると速やかに端へ移動する性格を持ったセンサであ
るから、閾値以上の加速度が加えられたことは、センサ
ーの端(錘の振動方向の外側)に例えばリミッタスイッ
チを設け、錘が接触することによって検出されるように
構成することもできる。
【0018】
【実施例】ここで、本発明の動作原理を説明する。錘が
バネによって支持された系において、錘の質量をmと
し、減衰係数をcとし、バネ定数をkとすると、線形の
バネ質量制動システムは、xを変位とすると下記(1)
式によって記述される。
バネによって支持された系において、錘の質量をmと
し、減衰係数をcとし、バネ定数をkとすると、線形の
バネ質量制動システムは、xを変位とすると下記(1)
式によって記述される。
【0019】
【数1】
【0020】このようなシステムにおいて、質量そのも
のが変化するようなセンサーを実現することは不可能で
ある。しかし、上記(1)式の左辺第1項である加速度
を示す2次微分項は、力の大きさをもっており、これを
変化させて見かけ上質量を可変とすることは可能であ
る。そこで、見かけ上の加速度を変化させることができ
れば、可変仮想錘加速度計を実現するために必要な、見
かけ上変化する質量をもった錘を作ることが可能とな
る。以下、錘の見かけ上の質量を変化させるために、静
電気力を使って見かけ上の加速度を変化させる実現手法
について記述する。
のが変化するようなセンサーを実現することは不可能で
ある。しかし、上記(1)式の左辺第1項である加速度
を示す2次微分項は、力の大きさをもっており、これを
変化させて見かけ上質量を可変とすることは可能であ
る。そこで、見かけ上の加速度を変化させることができ
れば、可変仮想錘加速度計を実現するために必要な、見
かけ上変化する質量をもった錘を作ることが可能とな
る。以下、錘の見かけ上の質量を変化させるために、静
電気力を使って見かけ上の加速度を変化させる実現手法
について記述する。
【0021】図5は、可変仮想錘加速度計の原理を示す
図で、下部電極6と上部電極7とで構成されたキャパシ
ターの電極間に導体からなる板51を導入すると、全体
の容量とそのエネルギーが変化する。両電極間に印加さ
れる電圧をV、静電容量をCとし、錘mは印加された電
位を持たずに電気的にフローティング状態にあると仮定
すると、x方向の力Fxは下記(2)式で示される。
図で、下部電極6と上部電極7とで構成されたキャパシ
ターの電極間に導体からなる板51を導入すると、全体
の容量とそのエネルギーが変化する。両電極間に印加さ
れる電圧をV、静電容量をCとし、錘mは印加された電
位を持たずに電気的にフローティング状態にあると仮定
すると、x方向の力Fxは下記(2)式で示される。
【0022】Fx=(V2/2)・(dC/dx) …… (2) ここで、両電極間の距離をdとし、電極6,7の長さを
L、導体板51の厚みをa、キャパシタに挿入された導
電板51の横方向の挿入距離をxで示し、電極6,7の
面積をAとして、電極全面にわたって幾何学的に一定の
電圧が印加される下で上記(2)式は、下記(3)式と
なる。
L、導体板51の厚みをa、キャパシタに挿入された導
電板51の横方向の挿入距離をxで示し、電極6,7の
面積をAとして、電極全面にわたって幾何学的に一定の
電圧が印加される下で上記(2)式は、下記(3)式と
なる。
【0023】 Fx=(V2/2)・〔a/(d-a)〕・〔(ε・A)/(L・d)〕 …… (3)
【0024】すなわち、導体板51に加わえられる力
は、横方向変位xに無関係に一定の大きさとなり、導体
板51にかかる静電気力は、印加された電圧Vに比例し
て変化する。また、この力は、第1次の近似計算では板
の縦位置と無関係である。この静電気力を用いることに
よって、可変仮想錘加速度計の錘の質量を実効的に変化
させることができる。つまり、検出すべき加速度と、重
力による反発力に加えて、第三の力を錘に対して作用さ
せることになる。
は、横方向変位xに無関係に一定の大きさとなり、導体
板51にかかる静電気力は、印加された電圧Vに比例し
て変化する。また、この力は、第1次の近似計算では板
の縦位置と無関係である。この静電気力を用いることに
よって、可変仮想錘加速度計の錘の質量を実効的に変化
させることができる。つまり、検出すべき加速度と、重
力による反発力に加えて、第三の力を錘に対して作用さ
せることになる。
【0025】図6および図7を用いて、可変仮想錘の具
体的な働きを説明する。図6は、それぞれ複数に分割さ
れた上下電極間に導体板51をはさんで構成されるキャ
パシタの各電極に印加される電圧を示し、図7は、該印
加電圧によって上下電極間に生じる電気力線を図6の左
半分の部分で示している。中央に位置する上下電極間に
は±V0が、その外側に位置する上下電極には±V1が、
さらにその外側に位置する上下電極には±V2が、最も
外側に位置する上下電極には±V3が印加されており、
印加電圧にV0>V1>V2<V3の関係を持たせると、各
上下電極間に生じる電気力線は、図7に示されるように
±V0と±V3の電圧が印加される電極では電気力線の密
度が高く、その間では電気力線の密度は粗くなってい
る。
体的な働きを説明する。図6は、それぞれ複数に分割さ
れた上下電極間に導体板51をはさんで構成されるキャ
パシタの各電極に印加される電圧を示し、図7は、該印
加電圧によって上下電極間に生じる電気力線を図6の左
半分の部分で示している。中央に位置する上下電極間に
は±V0が、その外側に位置する上下電極には±V1が、
さらにその外側に位置する上下電極には±V2が、最も
外側に位置する上下電極には±V3が印加されており、
印加電圧にV0>V1>V2<V3の関係を持たせると、各
上下電極間に生じる電気力線は、図7に示されるように
±V0と±V3の電圧が印加される電極では電気力線の密
度が高く、その間では電気力線の密度は粗くなってい
る。
【0026】このような系に挿入された導体板すなわち
錘51に作用する横方向の力は、それぞれの上下電極間
に印加される電圧の関係と錘51の位置によって決定さ
れる。すなわち、導体板51は、電気力線の密度の高い
方に引き寄せられる力を受けこの力の平衡する点に静止
する。ここで、静止時には、錘51は、バネの力によっ
て中央の電極間に静止しているが、横方向の振動が平衡
点に位置する錘51に加えられると錘は平衡点から小さ
な逸脱を引き起こし、電極間に印加された電圧による力
が錘を引いたり、押したりして錘を平衡点に戻すように
働き、堅いバネが実現される。
錘51に作用する横方向の力は、それぞれの上下電極間
に印加される電圧の関係と錘51の位置によって決定さ
れる。すなわち、導体板51は、電気力線の密度の高い
方に引き寄せられる力を受けこの力の平衡する点に静止
する。ここで、静止時には、錘51は、バネの力によっ
て中央の電極間に静止しているが、横方向の振動が平衡
点に位置する錘51に加えられると錘は平衡点から小さ
な逸脱を引き起こし、電極間に印加された電圧による力
が錘を引いたり、押したりして錘を平衡点に戻すように
働き、堅いバネが実現される。
【0027】錘を平衡点に引き戻す力の大きさは、印加
電圧の大きさに直接に依存する。この例では、上下の極
板の電位が反対の極性にされており、各電極対に印加さ
れた電圧は、横方向で変化している電場を作りだし、こ
の電界強度の変化が横方向の力の変化を引き起こしてい
る。錘は、電界の中で錘が持つポテンシャルエネルギー
を減少させるため、より電界密度の高い領域へと引かれ
ていく。錘が電界の中を移動するとき電圧を一定に保つ
ため、電荷つまり新たなエネルギーを外部電源から供給
させ、容量が変化する。
電圧の大きさに直接に依存する。この例では、上下の極
板の電位が反対の極性にされており、各電極対に印加さ
れた電圧は、横方向で変化している電場を作りだし、こ
の電界強度の変化が横方向の力の変化を引き起こしてい
る。錘は、電界の中で錘が持つポテンシャルエネルギー
を減少させるため、より電界密度の高い領域へと引かれ
ていく。錘が電界の中を移動するとき電圧を一定に保つ
ため、電荷つまり新たなエネルギーを外部電源から供給
させ、容量が変化する。
【0028】このように、これらの電極に正確に電圧が
印加されることによって、錘51は、まるで横方向のポ
テンシャル井戸の中にあるかのように振る舞う。この力
は、錘51を横方向の中心に維持しようとする。この系
では一度臨界閾値を越えると錘51を中心位置から引き
離すような効果を持っている。これにより、得られる全
体の系は図8に示される。
印加されることによって、錘51は、まるで横方向のポ
テンシャル井戸の中にあるかのように振る舞う。この力
は、錘51を横方向の中心に維持しようとする。この系
では一度臨界閾値を越えると錘51を中心位置から引き
離すような効果を持っている。これにより、得られる全
体の系は図8に示される。
【0029】上記の仮定が有効であるか否かを、以下検
討する。各パラメーターを、極板の長さLを10μm、
電極間の垂直距離dを2.5μm、導電板の厚さaを
2.0μm、極板面積Aを0.09cm2と仮定する。これ
らの値は、可変仮想錘加速度計をマイクロマシン技術を
用いて実現することを可能にする値である。式(3)に
各数値を代入すると、横方向の力Fxは6.37・V2
(μN)となる。導電板51としてシリコンを使用する
と、シリコンの密度は、2.33g/ccであるから、錘5
1の重さは、41.94μgであり、印加電圧によって
生じる加速度accは、152・V2(m/sec2)で示され
る。
討する。各パラメーターを、極板の長さLを10μm、
電極間の垂直距離dを2.5μm、導電板の厚さaを
2.0μm、極板面積Aを0.09cm2と仮定する。これ
らの値は、可変仮想錘加速度計をマイクロマシン技術を
用いて実現することを可能にする値である。式(3)に
各数値を代入すると、横方向の力Fxは6.37・V2
(μN)となる。導電板51としてシリコンを使用する
と、シリコンの密度は、2.33g/ccであるから、錘5
1の重さは、41.94μgであり、印加電圧によって
生じる加速度accは、152・V2(m/sec2)で示され
る。
【0030】これは、電極間に1Vの電圧が印加されれ
ば、15.4Gの加速度となる。この加速度は、200
Galに対して1/75の値であるから、印加電圧を適当
な値に選択すれば望むべき外力を得ることができる。
ば、15.4Gの加速度となる。この加速度は、200
Galに対して1/75の値であるから、印加電圧を適当
な値に選択すれば望むべき外力を得ることができる。
【0031】以上のように、この原理によれば、地震を
検出する加速度計として実現可能な可変仮想錘加速度計
を提供することができる。
検出する加速度計として実現可能な可変仮想錘加速度計
を提供することができる。
【0032】上記原理を用いた可変仮想錘加速度計につ
いて、以下図1〜図3を用いて説明する。図1は、本発
明に係る可変仮想錘加速度計の構成を示す断面図であ
り、図2は、電極と錘の位置関係を概念的に示す平面図
であり、図3は、電極と錘の関係を概念的に示す斜視図
である。
いて、以下図1〜図3を用いて説明する。図1は、本発
明に係る可変仮想錘加速度計の構成を示す断面図であ
り、図2は、電極と錘の位置関係を概念的に示す平面図
であり、図3は、電極と錘の関係を概念的に示す斜視図
である。
【0033】本発明に係る可変仮想錘加速度計1は、分
割された複数個の下部電極6が構成されたシリコン基板
からなるフレーム2と、分割された複数個の上部電極7
が配置されたカバープレート3と、フレーム2とカバー
プレート3の間に設けられた空間4内に一端が前記フレ
ーム2に固定されて設けられた片持ち梁型の振り子5か
ら構成される。
割された複数個の下部電極6が構成されたシリコン基板
からなるフレーム2と、分割された複数個の上部電極7
が配置されたカバープレート3と、フレーム2とカバー
プレート3の間に設けられた空間4内に一端が前記フレ
ーム2に固定されて設けられた片持ち梁型の振り子5か
ら構成される。
【0034】フレーム2は、シリコン基板21と、この
シリコン基板表面に成長させた窒化珪素(SiNX)膜
22からなる絶縁層とから構成されている。さらに、該
窒化珪素膜22の下にあるシリコン基板21には、所定
のパターンに不純物を拡散することによって下部電極6
および下部電極引出線61が設けられている。さらに、
下部電極引出線61の先端部は拡大された接続領域とな
っており、窒化珪素膜22に設けたコンタクトホール2
4を介して電極引出線62が設けられている。
シリコン基板表面に成長させた窒化珪素(SiNX)膜
22からなる絶縁層とから構成されている。さらに、該
窒化珪素膜22の下にあるシリコン基板21には、所定
のパターンに不純物を拡散することによって下部電極6
および下部電極引出線61が設けられている。さらに、
下部電極引出線61の先端部は拡大された接続領域とな
っており、窒化珪素膜22に設けたコンタクトホール2
4を介して電極引出線62が設けられている。
【0035】カバープレート3は、例えば、ガラス31
から構成される。カバープレート3は、下面に沿って空
間4を有するとともに、内部空間4の内面およびプレー
ト3の下面に上部電極7が設けられ、ここから上部電極
引出線71が延出している。カバープレート3の下面に
はさらに、下部電極引出線63が設けられている。これ
らの電極および引出線は、例えば、金属を蒸着した後、
この金属層を所望のパターンにエッチングすることによ
って設けられている。
から構成される。カバープレート3は、下面に沿って空
間4を有するとともに、内部空間4の内面およびプレー
ト3の下面に上部電極7が設けられ、ここから上部電極
引出線71が延出している。カバープレート3の下面に
はさらに、下部電極引出線63が設けられている。これ
らの電極および引出線は、例えば、金属を蒸着した後、
この金属層を所望のパターンにエッチングすることによ
って設けられている。
【0036】下部電極6は、窒化珪素膜22の下面に設
けられた前記下部電極引出線61、窒化珪素膜22を貫
通する前記電極引出線62、カバープレート3の下面に
設けられた金属箔からなる前記下部電極引出線63を経
由して外部に引き出され、外部電極64に接続されてい
る。また、上部電極7は、カバープレート3の内部空間
4の内面およびプレート3の下面に設けられた上部電極
引出線71を経由して外部に引き出され、外部電極72
に接続されている。これらの引出線61,62,63お
よび外部電極64ならびに引出線71および外部電極7
2は、分割された電極に対応して設けられている。
けられた前記下部電極引出線61、窒化珪素膜22を貫
通する前記電極引出線62、カバープレート3の下面に
設けられた金属箔からなる前記下部電極引出線63を経
由して外部に引き出され、外部電極64に接続されてい
る。また、上部電極7は、カバープレート3の内部空間
4の内面およびプレート3の下面に設けられた上部電極
引出線71を経由して外部に引き出され、外部電極72
に接続されている。これらの引出線61,62,63お
よび外部電極64ならびに引出線71および外部電極7
2は、分割された電極に対応して設けられている。
【0037】振り子5は、シリコン基板21上に成長さ
せたポリシリコン層をエッチングすることによって設け
られる。振り子5は、錘51と、ジグザグ状バネ52
と、アンカー53が一体に構成されている。アンカー5
3は、窒化珪素膜22に穿ったアンカーホール23を貫
通してシリコン基板21に固定されている。振り子5
は、片持ち梁の構造を有しており、錘51を支えるジグ
ザク状バネ52は、錘51に対し必要な地震波の振動方
向の平面内の自由度を与えている。ジグザグ状バネ52
の錘51に近い部分には、バネの一部が上下に突起した
上部突起54および下部突起55が形成されており、錘
51が上下に振動して上部電極7や下部の絶縁層22に
接触したりまたは錘51が電極に吸着されて振動しなく
なる誤動作を防ぎ、振り子5の振動が正確となるように
配慮されている。
せたポリシリコン層をエッチングすることによって設け
られる。振り子5は、錘51と、ジグザグ状バネ52
と、アンカー53が一体に構成されている。アンカー5
3は、窒化珪素膜22に穿ったアンカーホール23を貫
通してシリコン基板21に固定されている。振り子5
は、片持ち梁の構造を有しており、錘51を支えるジグ
ザク状バネ52は、錘51に対し必要な地震波の振動方
向の平面内の自由度を与えている。ジグザグ状バネ52
の錘51に近い部分には、バネの一部が上下に突起した
上部突起54および下部突起55が形成されており、錘
51が上下に振動して上部電極7や下部の絶縁層22に
接触したりまたは錘51が電極に吸着されて振動しなく
なる誤動作を防ぎ、振り子5の振動が正確となるように
配慮されている。
【0038】外部電極64および外部電極72には、電
源8が接続されており、各電極対ごとに所定の電圧が印
加され、対抗する電極間に所望の大きさの吸引力を形成
している。各電極対に現われる吸引力は所望のパターン
を描くように形成され、錘は静止時に中央部の電極間に
位置し、加速度が閾値を超えたときに最外側の電極間に
位置するようにされている。従って、加速度が閾値を超
えたときには、錘51は、最外部の電極6−Oおよび7
−O間にトラップされ、加速度が閾値を超えたことを確
実に検出することができる。さらに、所望の電極、例え
ば外部電極対64および72の最外側に位置する外部電
極64−Oとこれに対応する図示を省略した外部電極7
2−Oには、容量変化検出器9が接続される。錘51
が、地震波によって移動して最外側の電極対に移動する
と、この電極間に構成されるキャパシタの容量は変化す
る。この容量変化を容量変化検出器9で検出することに
よって地震の発生を検出することができる。
源8が接続されており、各電極対ごとに所定の電圧が印
加され、対抗する電極間に所望の大きさの吸引力を形成
している。各電極対に現われる吸引力は所望のパターン
を描くように形成され、錘は静止時に中央部の電極間に
位置し、加速度が閾値を超えたときに最外側の電極間に
位置するようにされている。従って、加速度が閾値を超
えたときには、錘51は、最外部の電極6−Oおよび7
−O間にトラップされ、加速度が閾値を超えたことを確
実に検出することができる。さらに、所望の電極、例え
ば外部電極対64および72の最外側に位置する外部電
極64−Oとこれに対応する図示を省略した外部電極7
2−Oには、容量変化検出器9が接続される。錘51
が、地震波によって移動して最外側の電極対に移動する
と、この電極間に構成されるキャパシタの容量は変化す
る。この容量変化を容量変化検出器9で検出することに
よって地震の発生を検出することができる。
【0039】以上の説明では、測定されるべき振動波と
して地震波を対象として説明したが、対象となる振動波
は、地震波に限られるものではなく、その他の振動波を
対象とすることが当然に可能である。また、実施例で
は、加速度が閾値を超えたことを検出する手段として、
容量変化を検出する手段を用いたが、この手段に代え
て、光学的または磁気的に錘51の変化を検出する手段
を用いることも可能である。
して地震波を対象として説明したが、対象となる振動波
は、地震波に限られるものではなく、その他の振動波を
対象とすることが当然に可能である。また、実施例で
は、加速度が閾値を超えたことを検出する手段として、
容量変化を検出する手段を用いたが、この手段に代え
て、光学的または磁気的に錘51の変化を検出する手段
を用いることも可能である。
【0040】本発明に係る可変仮想錘加速度計の製造方
法の例について以下に説明する。ここで、実際に製造す
る場合は一部の成膜はシリコンウェハーの上下に同時に
成膜されるものがあるが図9〜図11の説明では下面に
形成された膜は省略してある。まず、表面を研摩したP
型シリコン基板21の表面を熱酸化して基板の全面にわ
たって酸化膜(SiO2)220を形成する(図9
(A))。
法の例について以下に説明する。ここで、実際に製造す
る場合は一部の成膜はシリコンウェハーの上下に同時に
成膜されるものがあるが図9〜図11の説明では下面に
形成された膜は省略してある。まず、表面を研摩したP
型シリコン基板21の表面を熱酸化して基板の全面にわ
たって酸化膜(SiO2)220を形成する(図9
(A))。
【0041】次いで、この表面にレジスト層221を設
けた後このレジスト層を露光および現像し、下部電極作
成用のマスク222を作成する(図9(B))。
けた後このレジスト層を露光および現像し、下部電極作
成用のマスク222を作成する(図9(B))。
【0042】このマスクを介して不純物(P+:りん)
をシリコン基板に打ち込み熱拡散してシリコン基板21
のシリコン層21中に下部電極6を形成する(図9
(C))。
をシリコン基板に打ち込み熱拡散してシリコン基板21
のシリコン層21中に下部電極6を形成する(図9
(C))。
【0043】レジスト層221を剥離した後、フッ酸を
用いて酸化膜220をエッチングして除去する(図9
(D))。
用いて酸化膜220をエッチングして除去する(図9
(D))。
【0044】次いで、この下部電極6が形成された基板
21の表面にCVD法で窒化珪素(SiNx)層22を設
けた後、さらに、この上にCVD法によって約4000
Åの厚さの酸化膜223を設ける(図9(E))。
21の表面にCVD法で窒化珪素(SiNx)層22を設
けた後、さらに、この上にCVD法によって約4000
Åの厚さの酸化膜223を設ける(図9(E))。
【0045】この酸化膜223の上にレジスト膜を形成
した後、酸化膜除去用のマスク224を作成し、バッフ
ァドフッ酸を用いて酸化膜223を1500Åエッチン
グして次ぎのポリシリコン層中に上部突起54を形成す
るための突部54−1を酸化膜223上に形成する(図
10(A))。
した後、酸化膜除去用のマスク224を作成し、バッフ
ァドフッ酸を用いて酸化膜223を1500Åエッチン
グして次ぎのポリシリコン層中に上部突起54を形成す
るための突部54−1を酸化膜223上に形成する(図
10(A))。
【0046】次いで、レジスト224を除去した後、前
記エッチングを行った酸化膜223の上に再びフォトレ
ジスト膜を形成し、酸化膜除去用マスク225を製作し
て前記と同様にバッファドフッ酸を用いて酸化膜223
を1500Åエッチングして下部突起55用のくぼみ5
5−1を形成する(図10(B))。
記エッチングを行った酸化膜223の上に再びフォトレ
ジスト膜を形成し、酸化膜除去用マスク225を製作し
て前記と同様にバッファドフッ酸を用いて酸化膜223
を1500Åエッチングして下部突起55用のくぼみ5
5−1を形成する(図10(B))。
【0047】この後、酸化膜除去用マスク225を除去
して突部54−1とくぼみ55−1を有する犠牲層を露
出させる(図10(C))。
して突部54−1とくぼみ55−1を有する犠牲層を露
出させる(図10(C))。
【0048】次ぎに、酸化膜223の上にフォトレジス
ト層224を設け、これを露光および現像してアンカー
ホール現像用マスクを形成する。このマスクを用いて酸
化膜223および窒化珪素膜22をシリコン基板21に
達するまでエッチングしてアンカーホール23を形成す
る(図10(D))。フォトレジスト層224は削除す
る。
ト層224を設け、これを露光および現像してアンカー
ホール現像用マスクを形成する。このマスクを用いて酸
化膜223および窒化珪素膜22をシリコン基板21に
達するまでエッチングしてアンカーホール23を形成す
る(図10(D))。フォトレジスト層224は削除す
る。
【0049】この基板の上に、均一にポリシリコンを成
長させてポリシリコン層50を得る。アンカーホール部
分23には、シリコン基板21に達するアンカー53が
形成され、突部54−1上には上部突起54がくぼみ5
5−1上には下部突起55が形成される(図10
(E))。
長させてポリシリコン層50を得る。アンカーホール部
分23には、シリコン基板21に達するアンカー53が
形成され、突部54−1上には上部突起54がくぼみ5
5−1上には下部突起55が形成される(図10
(E))。
【0050】次いで、ポリシリコン層50の表面に全面
にわたってフォトレジストを形成し露光現像して錘51
およびバネ52のパターンを得た後、ポリシリコン50
をエッチングして錘51およびバネ52を得る。この
後、レジスト層を剥離する(図11(A))。
にわたってフォトレジストを形成し露光現像して錘51
およびバネ52のパターンを得た後、ポリシリコン50
をエッチングして錘51およびバネ52を得る。この
後、レジスト層を剥離する(図11(A))。
【0051】常法を用いて酸化膜除去用のフォトレジス
トパターンを形成し、バッファドフッ酸を用いて錘51
およびバネ52の下部を除いて酸化膜223からなる犠
牲層を除去する(図11(B))。次いで、常法を用い
て下部電極6の電極引出部上の窒化珪素層22にコンタ
クトホール24を形成する(図11(C))。
トパターンを形成し、バッファドフッ酸を用いて錘51
およびバネ52の下部を除いて酸化膜223からなる犠
牲層を除去する(図11(B))。次いで、常法を用い
て下部電極6の電極引出部上の窒化珪素層22にコンタ
クトホール24を形成する(図11(C))。
【0052】窒化珪素層22上およびコンタクトホール
24内に、例えば金または他の金属層を成膜させ、パタ
ーニングおよびエッチングを行って引出電極62を得る
(図11(D))。次いで、残った酸化膜223をバッ
ファドフッ酸を用いて除去する(図11(E))。以上
の工程によって、本発明の可変仮想錘加速度計の主要部
の構造物2を得ることができる。
24内に、例えば金または他の金属層を成膜させ、パタ
ーニングおよびエッチングを行って引出電極62を得る
(図11(D))。次いで、残った酸化膜223をバッ
ファドフッ酸を用いて除去する(図11(E))。以上
の工程によって、本発明の可変仮想錘加速度計の主要部
の構造物2を得ることができる。
【0053】以下この構造物2の上に上部電極を設けた
カバープレート3を陽極接合することによって、本発明
の、可変仮想錘加速度計1を得ることができる。上部電
極はパッシベーションを行なう必要があり、さもない
と、錘がカバーにくっつくであろう。
カバープレート3を陽極接合することによって、本発明
の、可変仮想錘加速度計1を得ることができる。上部電
極はパッシベーションを行なう必要があり、さもない
と、錘がカバーにくっつくであろう。
【0054】
【発明の効果】以上のように、本発明は、地震を検出す
る加速度計の錘の質量を見かけ上可変とすることによっ
て、加速度が閾値に達するまでは、感度が低く、閾値に
達したときに敏感に振動を検出することができるととも
に、極めて小さな変位で加速度を検出できる、可変仮想
錘加速度計を提供することができる。
る加速度計の錘の質量を見かけ上可変とすることによっ
て、加速度が閾値に達するまでは、感度が低く、閾値に
達したときに敏感に振動を検出することができるととも
に、極めて小さな変位で加速度を検出できる、可変仮想
錘加速度計を提供することができる。
【0055】さらに、本発明によれば、1〜5Hzの周波
数で85−150Galの加速度に感度を有し、かつ5Hz
以上の周波数では周波数が10倍となるごとに60dBの
感度の減衰(roll off)を有する、極めて小型で、安
価、かつ電力消費の少ない地震加速度計を提供すること
ができる。
数で85−150Galの加速度に感度を有し、かつ5Hz
以上の周波数では周波数が10倍となるごとに60dBの
感度の減衰(roll off)を有する、極めて小型で、安
価、かつ電力消費の少ない地震加速度計を提供すること
ができる。
【0056】また、本発明によれば、加速度が閾値を超
えたときにのみ信号を出力する地震加速度計を提供する
ことができる。
えたときにのみ信号を出力する地震加速度計を提供する
ことができる。
【図1】本発明に係る可変仮想錘加速度計の構成の概念
を示す断面図。
を示す断面図。
【図2】本発明に係る可変仮想錘加速度計の電極と錘の
位置関係を示す平面図。
位置関係を示す平面図。
【図3】本発明に係る可変仮想錘加速度計の構成の概念
を示す斜視図。
を示す斜視図。
【図4】錘−バネ系の理想的な動作状態を示す動作説明
図。
図。
【図5】可変仮想錘加速度計の動作原理を示す図。
【図6】印加電圧の状態を示す図。
【図7】電極間の電気力線の状態を示す図。
【図8】可変仮想錘加速度計の動作状態を示す図。
【図9】本発明に係る可変仮想錘加速度計の製造工程を
示す図。
示す図。
【図10】本発明に係る可変仮想錘加速度計の製造工程
を示す図(続き)。
を示す図(続き)。
【図11】本発明に係る可変仮想錘加速度計の製造工程
を示す図(続き)。
を示す図(続き)。
【図12】従来の加速度計の原理図。
【図13】従来の加速度計の動作説明図。
1 可変仮想錘加速度計 2 フレーム 3 カバープレート 4 内部空間 5 振り子 6 下部電極 7 上部電極 8 電源 9 容量変化検出器 21 シリコン基板 22 窒化珪素膜、絶縁層 23 アンカーホール 24 コンタクトホール 31 ガラス 50 ポリシリコン 51 錘、導体板 52 ジグザグバネ 53 アンカー 54 上部突起 55 下部突起 61,62,63 電極引出線 64 外部電極 71 電極引出線 72 外部電極 220,223 酸化膜 221,224 フォトレジスト 222 レジストパターン
Claims (3)
- 【請求項1】 振動波を検出する可変仮想錘加速度計に
おいて、振動波によって振動するフレームと、バネを介
して前記フレーム上に支持された錘と、錘の上下に配置
された電極を備えた可変仮想錘加速度計。 - 【請求項2】 振動波を検出する可変仮想錘加速度計に
おいて、振動波によって振動するフレームと、バネを介
して前記フレーム上に支持された錘と、錘の上下に配置
された電極と、該電極に電圧を供給する電源を備えた可
変仮想錘加速度計。 - 【請求項3】 振動波を検出する可変仮想錘加速度計に
おいて、振動波によって振動するフレームと、バネを介
して前記フレーム上に支持された錘と、錘の上下に配置
された電極と、該電極に電圧を供給する電源と、電極間
の容量変化を検出する容量変化検出手段を備えた可変仮
想錘加速度計。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/346,263 | 1994-11-23 | ||
| US08/346,263 US5604313A (en) | 1994-11-23 | 1994-11-23 | Varying apparent mass accelerometer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08146035A true JPH08146035A (ja) | 1996-06-07 |
Family
ID=23358638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7165555A Pending JPH08146035A (ja) | 1994-11-23 | 1995-06-30 | 可変仮想錘加速度計 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5604313A (ja) |
| JP (1) | JPH08146035A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003031320A1 (en) * | 2001-10-02 | 2003-04-17 | Nec Corporation | Thin film structural member, method of manufacturing the member, and switching element using the member |
| JP2004333297A (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Alps Electric Co Ltd | 電極間の接続構造及び前記接続構造を用いたセンサ |
| JP2006289520A (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Toshiba Corp | Mems技術を使用した半導体装置 |
| JP2011204682A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Eads Deutschland Gmbh | 高周波memsスイッチ |
| JP2012242250A (ja) * | 2011-05-20 | 2012-12-10 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 加速度センサ、振動子、鳥インフルエンザ監視システム |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3383081B2 (ja) * | 1994-07-12 | 2003-03-04 | 三菱電機株式会社 | 陽極接合法を用いて製造した電子部品及び電子部品の製造方法 |
| DE19506401A1 (de) * | 1995-02-23 | 1996-08-29 | Siemens Ag | Beschleunigungssensor |
| DE19536250A1 (de) * | 1995-09-28 | 1997-04-03 | Siemens Ag | Mikroelektronischer, integrierter Sensor und Verfahren zur Herstellung des Sensors |
| US5982608A (en) * | 1998-01-13 | 1999-11-09 | Stmicroelectronics, Inc. | Semiconductor variable capacitor |
| US6091125A (en) * | 1998-12-02 | 2000-07-18 | Northeastern University | Micromechanical electronic device |
| DE10106699C2 (de) * | 2001-02-14 | 2003-11-27 | Leica Microsystems | Berührungssensor und Vorrichtung zum Schutz eines hervorstehenden Bauteils |
| TWI266877B (en) * | 2003-05-28 | 2006-11-21 | Au Optronics Corp | Capacitive acceleration sensor |
| US6904805B2 (en) * | 2003-06-03 | 2005-06-14 | Cherry Corporation | Accelerometer |
| EP2674392B1 (en) * | 2012-06-12 | 2017-12-27 | ams international AG | Integrated circuit with pressure sensor and manufacturing method |
| FR3014093B1 (fr) * | 2013-12-02 | 2015-12-18 | Commissariat Energie Atomique | Systeme masse-ressort a faible debattement transverse |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2086854A5 (ja) * | 1970-04-10 | 1971-12-31 | Commissariat Energie Atomique | |
| US5101669A (en) * | 1988-07-14 | 1992-04-07 | University Of Hawaii | Multidimensional force sensor |
| US4928203A (en) * | 1989-02-28 | 1990-05-22 | United Technologies | Capacitive accelerometer with hinges on top and bottom surface |
| US4930043A (en) * | 1989-02-28 | 1990-05-29 | United Technologies | Closed-loop capacitive accelerometer with spring constraint |
| US5006487A (en) * | 1989-07-27 | 1991-04-09 | Honeywell Inc. | Method of making an electrostatic silicon accelerometer |
| EP0459723B1 (en) * | 1990-05-30 | 1996-01-17 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor acceleration sensor and vehicle control system using the same |
| US5078220A (en) * | 1990-08-10 | 1992-01-07 | Setra Systems, Inc. | Multiple sensor capacitive measurement system |
| US5205171A (en) * | 1991-01-11 | 1993-04-27 | Northrop Corporation | Miniature silicon accelerometer and method |
| US5337606A (en) * | 1992-08-10 | 1994-08-16 | Motorola, Inc. | Laterally sensitive accelerometer and method for making |
-
1994
- 1994-11-23 US US08/346,263 patent/US5604313A/en not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-06-30 JP JP7165555A patent/JPH08146035A/ja active Pending
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5604313A (en) | 1997-02-18 |
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