JPH08147918A

JPH08147918A - 磁気ヘッドスライダ

Info

Publication number: JPH08147918A
Application number: JP7041585A
Authority: JP
Inventors: Mikio Tokuyama; 幹夫徳山; Teruyoshi Higashiya; 輝義東谷; Yoshinori Takeuchi; 芳徳竹内; Sadakuni Nagaike; 完訓長池; Kazuo Nate; 和男名手; Tetsuji Higashijima; 哲二東島; Shinsuke Higuchi; 晋介樋口; Shigeo Nakamura; 滋男中村; Kenji Mori; 健次森
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1994-09-19
Filing date: 1995-03-01
Publication date: 1996-06-07
Also published as: KR960011973A; KR100233395B1; CN1143248A

Abstract

(57)【要約】【目的】薄膜磁気ヘッドのスライダ本体と磁気ヘッド部
の加工段差による障害を除去する。【構成】薄膜磁気ヘッドにおいて、薄膜層に形成される
磁気ヘッドのコアを含み、スライダ本体のブリード面よ
りディスク対向面方向に突出して素子部突起を薄膜層に
独立して形成するものである。この素子部突起は、磁気
ヘッドが形成される薄膜層の磁気ヘッドを含む所定の領
域に形成されるものであり、しかも、突出した状態でス
ライダ本体にけいせいされる、例えば浮上パッド或いは
摺動用パッドまで連続して設けてられていない。【効果】スライダ本体と磁気ヘッド部の加工段差による
影響を除去することができ、磁気コアを最も磁気ディス
クに近接させることができる。これにより高記録密度化
が実現できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】磁気ディスク装置用の磁気ヘッド
スライダであって、特に磁気ヘッドとディスクとの間隙
（浮上量）の小さい、或いは接触記録（コンタクト）に
よる高記録密度に最適な磁気ヘッドスライダ及びその製
造方法、並びにそれを搭載した磁気ディスク装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、磁気ヘッドスライダは、例えば特
開平６−５２６４５号、あるいは特開平６−３６４８８
号に開示されているように、スライダ本体に浮上力を発
生するパッド（特開平６−３６４８８号ではレールと呼
ばれている）を設け、このスライダ本体の後端に薄膜層
で構成された磁気ヘッド或いは磁気変換器をスパッタリ
ングなどで成形している。

【０００３】特開平６−５２６４５号に示されている薄
膜状の磁気変換器の周辺に設けられたパッド、或いは特
開平６−３６４８８号に示されているスライダ本体の前
方に浮上力を発生する浮上レール、またはスライダ本体
の後方に磁気ディスクの液体皮膜と接触するスキーパッ
ドは、いづれも磁気変換器に連続して接合している。つ
まり、スライダ本体に設けられたパッドは磁気変換器及
びその薄膜層にまたがって形成されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】図１３は従来の磁気ヘ
ッドスライダの斜視図である。また、図１４はこの従来
の磁気ヘッドスライダの浮上概念図であり、図１５は図
１４のＤ部拡大図である。従来技術における磁気ヘッド
スライダ200では、浮上面を平滑にするために浮上パッ
ド230を研磨する。この研磨に際して、スライダ本体210
に設けられた浮上パッド211と、磁気変換器220（その薄
膜層も含む）に設けられた浮上パッド221は、それらを
構成する材料の硬さの違いに起因して両者の間に段差Ｈ
ｄ（以後、加工段差と呼ぶ）が発生する（図１５）。こ
の加工段差Ｈｄは、磁気変換器部の浮上パッドがスライ
ダ本体の浮上パッドに比べて軟らかいために、早く研磨
（多量に研磨）されるために生じる。ここで、スライダ
本体のパッドは浮上力発生用の浮上用パッドであっても
スキーパッドであっても同様の加工段差が生じることは
明らかである。

【０００５】ところで、高記録密度を達成するためには
磁気ディスクに対するスライダの浮上量を最小化しなけ
ればならない。

【０００６】しかし、浮上量を狭小化していくと、上述
した加工段差Ｈｄがある場合には、磁気ヘッドのコア
（素子）223の浮上量Ｈｍよりスライダ本体の浮上パッ
ドの浮上量Ｈｓの方が低くなる。

【０００７】そこで、さらに浮上量を低下させると、磁
気変換器のコア（素子）部と磁気ディスク表面が接触す
る前にスライダ本体のパッドと磁気ディスクが接触す
る。具体的には、従来のスライダでは上述したように、
スライダ本体のパッド211に連続して（接合して）磁気
ヘッド部の浮上パッド221が設けられていたため、磁気
ヘッド部の浮上パッド221より先にスライダ本体の浮上
パッドの端面211がディスク面5に接触していた。このた
め浮上量を加工段差Ｈｄ以下に狭小化できなかった。ま
た、磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触が得られず実質
的なコンタクト記録ができなかった。この問題は磁気ヘ
ッドをディスク回転時に磁気ディスクと接触させる接触
記録（コンタクト記録）を行なう際にも生じる。この加
工段差は高記録密度化のために重大な障害となる。

【０００８】本発明の目的は、加工段差による影響を無
くした磁気ヘッドスライダ及びその製造方法を提供する
ことである。

【０００９】本発明の他の目的は、加工段差による影響
を無くすことにより、磁気ヘッドスライダの低浮上量化
又はコンタクト記録の妨げとなっている原因を解決し、
高記録密度化を可能とする磁気ディスク装置を提供する
ことである。

【００１０】本発明の他の目的は、スライダ本体の薄膜
層において、そこに形成された磁気ヘッドのコアを含む
部分のみ突出させた磁気ヘッドスライダ及びその製造方
法を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の対象となる磁気
ヘッドスライダは、スライダ本体と、このスライダ本体
の一側に設けられた薄膜層に形成された磁気ヘッドとを
備える。通常、このスライダ本体には浮上用のレ−ル、
又はコンタクト用のパッドが突起部として、ブリ−ド面
よりディスク面に対向する方向に突出して設けられる。

【００１２】本発明は、薄膜層に形成される磁気ヘッド
のコアを含み、スライダ本体のブリード面よりディスク
対向面方向に突出して素子部突起を形成するものであ
る。この素子部突起は、磁気ヘッドのコアを含んで、薄
膜層の所定の領域において独立して形成されるものであ
る。また、この素子部突起は薄膜領域において独立して
いるので、例えばスライダ本体にパッド等の突起部が設
けられている磁気ヘッドスライダにおいても、突出した
状態でスライダ本体に設けられた上記突起部まで連続し
て設けてられていない。このため、磁気ディスク装置に
おいては、ディスク面に対してスライダ本体のブリ−ド
面はディスク面から遠ざかる方向に素子部突起の高さだ
け後退されて位置することになる。

【００１３】この種の磁気ヘッドスライダは、スライダ
本体となる基板の上に、薄膜形成により磁気ヘッドを構
成することにより製造される。とりわけ、上記素子部突
起は、薄膜層の磁気ヘッドが形成される所定の位置にエ
ッチング用マスクを形成し、スライダ本体と磁気ヘッド
のディスク対向面のエッチング用マスクの形成されてい
ない面を例えばイオンエッチングによって削ることによ
り形成される。

【００１４】

【作用】本発明の構成によれば、磁気ヘッドの素子部が
スライダ本体のパッド等の突起部よりも磁気ディスクに
最も近接した距離の関係、或いは磁気ディスクと接触す
る関係になる。従って、スライダ本体に設けられたパッ
ドと磁気ヘッドの素子部突起との高さの間に加工段差が
存在する場合にも、スライダは所定の角度で安定的に浮
上、又は磁気ディスクと接触する。さらに、スライダ本
体に設けたパッドを磁気ヘッドの素子部突起よりスライ
ダの前縁側に所定の距離だけ離すことにより、スライダ
本体のパッドの端面よりも磁気ヘッドの素子部突起の浮
上量が小さくなり、最小浮上量となる。つまり、磁気ヘ
ッドの浮上量を前記の加工段差以下に狭小化することが
可能となる。また、磁気ヘッドがコンタクト記録を行う
際にも、磁気ヘッドの実質的なコンタクト記録が可能と
なる。

【００１５】従って、浮上面を研磨することにより生じ
るスライダ本体のパッドと磁気変換器の加工段差による
低浮上量化の障害を実質的に無くすることが可能とな
る。

【００１６】

【実施例】図１は本発明の一実施例による磁気ヘッドス
ライダの斜視図である。さらに図１６は本発明の磁気ヘ
ッドスライダを搭載した磁気ディスク装置の外観図を示
している。装置はカバ−（図示せず）により密閉構造と
なっているが、同図はカバ−を除去したものである。磁
気ディスク１６２はスピンドル１６３に装着されモ−タ
により所定の回転数で回転する。磁気ヘッドスライダ１
６１はレバ−１６７に固定され、レバ−１６７はア−ム
１６４に取付けられている。ア−ム１６４はアクチュエ
−タ１６５に繋がっている。アクチュエ−タ１６５はス
ピンドル１６６を中心としてア−ム１６４を回転駆動さ
せることにより、磁気ヘッドスライダ１６１を磁気ディ
スク１６２の目的のトラック位置に位置決めする。

【００１７】この浮上型磁気ヘッドスライダの構成が図
１に示される。図１において、磁気ヘッドスライダ1は
スライダ本体10とこのスライダ本体の後端に設けられた
薄膜層より構成される磁気ヘッド或いは磁気ヘッド20か
ら成る。スライダ本体にはブリ−ド面１３より突出して
２個の浮上用パッド11が設けられている。このパッド11
は浮上レールと称するものである。磁気ヘッド20はコア
（或いは素子とも呼ばれる）23を含んでおり、この磁気
ヘッド20のコア23を含んで素子部パッド21が設けられて
いる。この素子部パッド21はスライダ本体10のブリード
部13から磁気ディスク対向面側（浮上面側）に突出して
いる。

【００１８】この浮上用パッド11は長方形のレール状を
成しており、テーパ部111とフラット部112を有してい
る。浮上パッド11の端面113は素子部パッド21と構造上
突出した状態で連なることなく所定の距離lだけスライ
ダの前縁側即ちテーパ側に離れて独立して成形されてい
る。つまり、磁気ヘッド20に設けられた素子部パッド21
と、スライダ本体10に設けられた浮上パッドの端面113
の間にはスペース12が存在する。このスペース12はブリ
−ド面13と同一高さである。言い換えれば、素子部パッ
ド21と浮上パッド11とはブリード面より突出している
が、スペース12を介在させているので構造上突出した状
態で両者は連絡していない。

【００１９】本実施例の浮上概念図である図２及びその
Ａ部拡大図である図３に示されているようにスライダ本
体10のブリード面13から素子部パッド21の対向面までの
高さＨｈは、ブリード面13から浮上パッド11のフラット
部113までの高さＨｒと略同一になっている。

【００２０】磁気ヘッド20はコイル24、接続パッド25、
下地膜27、保護膜28から構成されている。前記素子部パ
ッド21の大きさは、本実施例では約４０μｍ×２０μｍ
の矩形で、その高さは約２０μｍである。本実施例のよ
うに４０μｍ×２０μｍの小さな矩形とすることによ
り、素子部パッド21は浮上力をほとんど発生することが
無く、スライダの浮上特性は２本の浮上パッド11の浮上
特性により決定される。磁気ヘッドの薄膜層20の厚さ
は、本実施例では約５０μｍであり、４０μｍ×２０μ
ｍの素子部パッド21を設けるのに何ら問題は無い。本実
施例のスライダ本体の長さは２ｍｍ、幅は１.６ｍｍ、
高さ０．４ｍｍである。しかし、スライダ本体の寸法や
形状は上記のものに限定されるものではない。また、素
子部パッド21の大きさも、４０μｍ×２０μｍの大きさ
である必要はなく、磁気ヘッド薄膜層20の厚さより薄く
てこの薄膜層の中に形成されるものであれば、どのよう
な形状であっても良い。さらに図３に示すように、素子
部パッドは、磁気ヘッドのコア23を下地膜27と保護膜28
で挟むように設けており、このパッドを成形するとき
に、パッド形状に合わせてコアの形状を変えるものでは
ない。

【００２１】また、前述したように、本実施例ではスラ
イダ本体のブリード面13から浮上パッドのフラット部11
2までの高さＨｒと、素子部パッド21までの高さＨｈは
同じ高さであり、ともに２０μｍとすることにより、ブ
リード面13での浮上力の発生を無くすことができる。こ
れにより、磁気ヘッドスライダでは２本の浮上パッド11
の設計のみで所定の浮上特性を実現することが可能とな
る。

【００２２】図２に示すように、磁気ヘッドスライダ1
は回転する磁気ディスク5上に、ディスクとの相対運動
により前記浮上パッド11により動圧力を発生し、所定の
迎え角を持って浮上している。これは、浮上パッド11の
流入端部にテーパ部111を設けているためである。ま
た、スライダ本体に設けた浮上パッドの端面113は薄膜
素子部パッド21に接することなく所定の距離をスライダ
の前縁側（テーパ部側）に離して成形している。

【００２３】また、磁気ディスク表面から磁気ヘッドの
コア23までの距離Ｈｍがフラット部112のエッジ112aま
での距離Ｈｓより小さくなり磁気ヘッドのコア23の浮上
量Ｈｍが最小浮上量となる。

【００２４】さらに詳細に説明すると、スライダ本体の
浮上パッドと素子部パッドの硬さの違いにより、研磨量
の差が発生し、ブリード面からの浮上パッドまでの高さ
Ｈｒよりも素子部パッドの高さＨｈが低くなった場合に
も（Ｈｒ＞Ｈｈの場合にも）、迎え角を持つ浮上姿勢角
となっており、さらに、浮上パッドの端面113と素子部
パッド21が離れているために、磁気ヘッドのコア23が最
小浮上量Ｈｍとなることができる。

【００２５】以上述べたように、上記した本発明の実施
例により、低浮上量化の妨げとなっていた加工段差の悪
影響を実質的に無くすることが可能となり、低浮上量化
による高記録密度を達成することが可能となる。

【００２６】本実施例で述べた、浮上パッド11、素子部
パッド21は矩形であるために、機械加工により製作でき
る。また、イオンミーリング、エッチング、あるいは薄
膜蒸着により容易に製作することもできる。機械加工は
安価に製作できるという利点があり、イオンミーリン
グ、エッチング、あるいは薄膜蒸着は任意の形状の加工
ができるという利点がある。

【００２７】また、磁気ディスク面に対する磁気ヘッド
の浮上量が更に低下し、浮上パッド11は、ディスク面と
非接触で浮上しており、素子部パッド21のディスク対向
面の一部、具体的には保護膜28の一部28aが磁気ディス
ク5の表面と連続接触して、データの読み出しと書き込
み動作を行なう場合にも本実施例は有効である。このよ
うに、素子部パッド21をディスク面と連続摺動させるこ
とにより、磁気ディスクの磁性層（図示せず）と磁気ヘ
ッドコア23の間隙を極限までに狭小化することが可能と
なり、これにより飛躍的な記録密度の向上を実現でき
る。

【００２８】ここで、保護膜28の磁気ディスクとの接触
部にテーパ加工あるいは面取りを行ってもよい。これに
より、コア23と磁気ディスク5表面をより近接できると
共に、接触時のダメージを低減し、信頼性を向上でき
る。

【００２９】本発明の他の実施例による磁気ヘッドスラ
イダの概略図を図４に示す。この磁気ヘッドスライダは
素子部パッドが磁気ヘッド20の幅方向の中心部に一つ設
けられる。

【００３０】上記第１の実施例と同様に、浮上パッド41
の端面413は素子部パッド40と接触することなく所定の
距離スライダの前縁側（テーパ側）に離れて成形されて
おり、浮上パッドの端面413は素子部パッド40の間には
スペース42が存在する。本実施例では上記第１の実施例
と同様に低浮上量化の妨げとなる加工段差の影響を実質
的に無くすことが可能となる。

【００３１】ここで、スライダ本体10の全長は１ｍｍ、
幅は０．８ｍｍ、高さは０．３ｍｍ、浮上パッド(41)長
は０．８ｍｍ（スライダ全長の約８０％）である。ブリ
ード43から浮上パッド41の浮上面までの高さＨｒと素子
部パッド40のディスク対向面までの高さＨｈは約２０μ
ｍである。スライダの形状は特にこの形状である必要は
ないが、浮上パッド長はスライダの前縁からスライダ全
長の約８０％の長さに成形している。換言すれば、浮上
パッドの端面413を素子部パッド40からスライダ全長の
約２０％の距離だけ離して成形している。

【００３２】以下に、その理由を説明する。浮上パッド
41と素子部パッド40は、浮上面の平面度を確保するため
の研磨により、１０ｎｍの高さの差が発生した場合を仮
定する。また、図５に示すように、本実施例の浮上パッ
ドはテーパ部411とフラット部412から成り、磁気ヘッド
のコアの浮上量Ｈｍとテーパ部411とフラット部412の境
界の浮上量Ｈｉの比（Ｈｉ／Ｈｍ）は約２に設計されて
いる。一般にこの浮上量の比（Ｈｉ／Ｈｍ）は隙間比と
呼ばれ２から３に設計される場合が多い。また、本実施
例の浮上量Ｈｍは５０ｎｍであると仮定している。この
ような浮上姿勢で浮上し、磁気ヘッドのコア部の浮上量
Ｈｍが、浮上パッドの最小浮上量Ｈｓよりも小さくなる
ようにするためには、浮上パッドの端面413を、スライ
ダの流入端から全長の約８０％以内に設ければ良い。こ
のため、本実施例では浮上パッド長が０．８ｍｍとなっ
ている。つまり、浮上パッド端面413は素子部パッド21
からスライダ全長の約２０％離れて設けている。しか
し、隙間比が２より大きく設計されている場合には、浮
上パッドの端面413はもっと素子部パッド40に近接した
位置に設けても良いことは明らかである。

【００３３】さらに、本実施例では、素子部パッド40を
磁気ヘッド20の幅方向（磁気ヘッドスライダの短手方
向）の中心に設けることにより、図６に示すように、何
らかの原因で（例えばシーク加速度等により）スライダ
が傾いた場合にも（図中には点線で表示）、磁気ヘッド
コアの浮上量Ｈｍは殆ど変化することが無く、安定した
浮上を実現することができる。これにより、データの読
みだし、書き込みの誤動作がない、信頼性の高い磁気デ
ィスク装置を供給することが可能となる。

【００３４】図７は本発明の更に他の実施例である磁気
ヘッドスライダの斜視図である。本実施例においても前
述した実施例と同様に、薄膜層により構成される磁気ヘ
ッド20の幅方向（磁気ヘッドスライダの短手方向）の中
央部に設けた素子部パッド70と所定の距離を離してスラ
イダ本体10のパッド71、72を設けている。本実施例のよ
うにスライダ本体に設けたパッドが複数ある場合には素
子部パッド70に最も近いパッド（センターレール72）を
所定の距離を離して設ければ良い。これにより加工段差
の影響をなくして低浮上量化することができる。

【００３５】また、本実施例において、スライダ本体の
パッドには浮上パッド71とセンターレール72がある。浮
上パッド71は次のような構成をとっている。(1)浮上パ
ッドにくびれ部を設け、ブリード面に負圧力発生ポケッ
トを設けた。(2)浮上パッドの端面711をスライダの幅方
向の中心線Ｃに近づくに従い、スライダの後方に延在
（傾斜）させた。センターパッド72は次の構成をとって
いる。(3)センターパッドの後端が、素子部パッド70に
近づくに従い広がっている。(4)負圧力発生ポケット深
さ（ブリード深さ）を６μｍと浅くしている。

【００３６】そこで、本実施例では更に次のような効果
がある。負圧力発生ポケット深さを６μｍと第１の実施
例の浮上スライダ深さに比べ浅くするとともに、浮上パ
ッドにくびれ部を設けてポケット状にすることにより負
圧力発生効果を持たすことが可能となる。負圧力とは大
気圧力よりも低い圧力で、スライダをディスク面に引き
付ける力である。

【００３７】これらにより、ディスク半径位置の違い
（つまり、周速、ヨー角）による、浮上量の差を無く
し、ディスクの内周から外周まで均一な浮上量を実現す
ることが可能となる。具体的に説明すると、ディスクの
内周から外周に移動することにより増速するディスク周
速により、(1)負圧力発生ポケットは、浮上パッド71に
発生する浮上力の増加を相殺するように負圧力を発生さ
せ、ディスクの全域（全半径位置）で一定浮上量を実現
する。これにより、各半径位置における線記録密度（Bi
t Per Inch)を一定とする、ＣＤＲ（Constant Density
Recording)が可能となる。また、浮上パッド71にくびれ
部を設け、浮上パッド端面711に向かうに従いパッド幅
を広くし、この端面を素子部パッド70に向くように斜め
に設けることにより、シーク時に空気流が浮上パッドに
斜めに入射しても空気圧力の発生効率が低下することが
ないので所定の浮上量を確保することができる。さらに
センターパッド72を設けることにより、シーク時（ある
いはヨー角発生時）にも、左右の浮上パッド71に設けら
れた負圧力発生ポケットの負圧力の干渉をなくし、安定
した負圧力を発生させることが可能となる。また、セン
ターパッド72を、素子部パッド70に近づくに従い広げる
ことにより、磁気ヘッド近傍の空気膜の剛性を向上さ
せ、ディスク追従性能を改善する事ができる。これらに
より、磁気ヘッドのパッドの安定浮上を実現することが
可能となる。

【００３８】本発明の他の実施例による磁気ヘッドスラ
イダの斜視図を図８に示す。これは、素子部パッド80の
摩耗を防ぐために、磁気ヘッドのコアを含まない耐摩耗
パッド81を前記素子部パッド80の両側に設けたものであ
る。これらの耐摩耗パッド81は、素子部パッド80と同様
に磁気磁気ヘッドの薄膜層20に成形されておりそれらの
高さは同一である。本実施例の耐摩耗パッド81は素子部
パッド80と同じ大きさの矩形であるが、磁気ヘッドの薄
膜層20に形成されていれば特に同一の形状（大きさ）で
ある必要はない。本実施例のように耐摩耗パッド81を設
けることにより、上記前述した実施例で述べたようにＨ
ｍを最低浮上量とできる。更に、素子部パッド80が何ら
かの理由により連続摺動した場合、あるいはディスク起
動時にスライダとディスクが連続摺動して所定の回転速
度に達したときにスライダがディスク上に浮上するＣＳ
Ｓ方式（Contact Start Stop方式)を採用する磁気ディ
スク装置の場合において、耐摩耗パッド81が接触力を素
子部パッド80と分担して支えるために、素子部パッド80
が連続接触して摩耗損傷を発生するという問題が少なく
なる。これにより、信頼性の高い磁気ヘッドスライダを
供給することが可能となる。

【００３９】本実施例においては、素子部パッド80、耐
摩耗パッド81を矩形としたが、特に矩形である必要はな
く、塵埃排除効果が期待できる三角形、あるいは、角部
がなく耐摩耗性に優れていると考えられる円形パッド等
でも良い。

【００４０】また、素子部パッドの耐摺動性能を向上さ
せるために、該パッドのディスク対向面、及び浮上面パ
ッド面に保護膜を設けても良い。保護膜としては、カー
ボン（Ｃ）膜、シリコン（Ｓｉ）膜、酸化シリコン（Ｓ
ｉＯ2）膜などがある。これらの膜を単層あるいは何層
かに組み合わせて用いることにより耐摺動性能に優れ、
信頼性の高い磁気ヘッドスライダを実現することができ
る。

【００４１】本発明の更に他の実施例である磁気ヘッド
スライダの磁気ディスク対向面側の概略図を図９に示
す。これは、磁気ヘッド20の幅方向の中央部で浮上パッ
ド91より素子部パッド90に近接した位置にセンター・パ
ッド92を設けたものである。ここで、スライダ本体に設
けたパッド91、92の中で、素子部パッド90に最も近いセ
ンター・パッド92を素子部パッド90から所定の距離だけ
離し、両者の間にスペース93を設けることにより上記第
１〜４の実施例と同様に加工段差の影響を無くすことが
できる。

【００４２】また、更に次のような利点がある。(1)磁
気ヘッドまわりの空気膜剛性を高め磁気ディスクへの追
従性を良くすることができる。この結果Ｒｅａｄ／Ｗｒ
ｉｔｅ特性を向上させることができる。(2)何らかの理
由でスライダとディスクが接触した場合に、素子部パッ
ド90が受けるダメージを低減し、信頼性を向上させるこ
とができる。

【００４３】本発明の他の実施例による磁気ヘッドスラ
イダの斜視図を図１０に示す。この示威気ヘッドスライ
ダは、接触記録（コンタクト記録）を実現するためのも
のである。

【００４４】スライダ本体10のディスク対向面に設けら
れた摺動用突起130は円柱形で、その高さＨｓは約２０
μｍ，その直径Ｄｓは約３０μｍである。Ｈｓを１０μ
ｍ以上にすることにより，磁気ディスク５の回転に伴い
発生する空気流の影響を小さくすることができ，それを
２０μｍ以上とすることにより空気流の影響を無くする
ことができる。具体的には，スライダ本体１０のブリ−
ド面１３１が空気流により浮上力を発生することを防ぐ
ことができる。また，摺動用突起１３０の直径Ｄｓを約
３０μｍとすることにより，摺動用突起１３０による浮
上力を殆ど無くすることができる。このため，スライダ
本体３０は回転する磁気ディスクに伴い発生する空気流
の影響を受けることなく，磁気ディスク面と安定接触す
ることが可能となる。また、摺動用突起１３０を円柱形
状とすることにより角部（エッジ）を無くすることがで
きるので、摺動時の磁気ディスクのダメ−ジ（摩耗な
ど）を軽減することができる。この効果は、シ−ク動作
時（磁気ヘッドをディスク半径方向に移動する動作）に
特に効果が大きい。これは、摺動用突起を、例えば、矩
形とした場合にはシ−ク時にその角部がディスクと摺動
するためである。

【００４５】また薄膜磁気ヘッド20のディスク対向面に
素子部突起100が設けられている。この３つの突起は磁
気ディスク5と安定に接触する。押し付け力Ｗを磁気ヘ
ッドスライダ1に与えるために、摺動用突起130と素子部
突起100に浮上力が発生しても、あるいは、何らかの理
由によりスライダがディスク面から離れようとしても、
素子部突起100は磁気ディスク5と安定に接触し、Ｒｅａ
ｄ／Ｗｒｉｔｅ時の誤動作がなく信頼性の高い磁気ヘッ
ドスライダを提供することができる。

【００４６】このため、加工段差により、素子部突起10
0の高さＨｈと摺動用突起110の高さＨｓが異なった場合
にも、本発明により素子部突起100と磁気ディスクを安
定的に接触できる。

【００４７】図１２に図１１のＢ部拡大図を示す。上記
実施例と同様に、素子部突起100は薄膜磁気ヘッド20を
構成する薄膜のみにより構成されている。つまり素子部
突起100はスライダ本体10を含むことなく、それとは独
立して設けられている。素子部突起100の具体的な構成
は、下地膜102、下部素子（コア）101b、上部素子（コ
ア）101a、保護膜103から構成されている。さらに素子
部突起100を成形する方法を詳細に説明すると、薄膜磁
気ヘッド20を構成する下地膜102と保護膜103の一部を、
素子101をはさみ込むだけの、即ち素子101が露出しない
だけの、下地膜102と保護膜103を残して削除する。下地
膜102と保護膜103を残す理由は素子101が露出すると腐
食が始まるためである。

【００４８】さらに、摺動用突起130と素子部突起100に
保護膜（図示せず）を設けることにより摺動性能を向上
させ、これによりスライダの信頼性を向上させることが
できる。保護膜としてはカーボン（Ｃ）膜、シリコン
（Ｓｉ）膜、酸化シリコン膜（ＳｉＯ2）などを用い
る。

【００４９】以上述べたように、本実施例では磁気ヘッ
ドスライダ1のスライダ本体10に前記磁気ディスクとの
摺動用突起130を２つ設け、また、薄膜磁気ヘッド20の
薄膜層に素子部突起100を１つ設ける。そして、前記素
子部突起100を薄膜磁気ヘッド20を構成する薄膜のみで
形成し、その高さを前記摺動用突起130の高さと略同一
とする。これにより、薄膜磁気ヘッド20の素子(コア)10
1と磁気ディスク5との安定接触が可能となり、線記録密
度を向上させることができる。また、両者が何らかの原
因で離れることにより、Ｒｅａｄ／Ｗｒｉｔｅのエラー
が発生することがなくなり信頼性を向上させることがで
きる。

【００５０】本発明の更に他の実施例を図１７と図１８
を用いて説明する。この実施例では、上記実施例で磁気
ヘッドスライダのスライダ本体１０に設けていた突起、
即ち浮上用パッド或いは摺動用突起を除去し、薄膜磁気
ヘッド２０に素子部突起１００を１つ設けたものであ
る。このスライダは三角形上の薄板レバ−１６７の先端
に固定される。

【００５１】本実施例の特徴として，磁気ヘッドスライ
ダと磁気ディスクの接触点（突起の総数）を３点から１
点にすることにより，スライダ全体を小形／軽量化する
ことが可能となる。これにより，スライダ質量が軽くな
り，ディスクとの接触摺動時にディスクに与えるダメ−
ジを小さくできる。また，ディスク振動にたいしても，
追従特性が向上し安定接触が可能となる。さらに，接触
点をギャップ部突起４１の１点とすることによりディス
ク面の小さなうねり（粗さ）にも追従することが可能と
なる。

【００５２】また，レバ−は通常ピボットとジンバルを
持つが、この構成によればそれらを不用とした三角形状
の薄板のレバ−で達成できる。このレバ−１６７のスラ
イダ取付け面には絶縁膜１８１を被覆したプリント配線
１７３が施設されており，その端部は銅線１７２を介し
て薄膜磁気ヘッドの端子パッド１７１と接続されてい
る。プリント配線１７３には絶縁膜１８１が被覆されて
いるために，スライダをレバ−１６７に接着剤で直接接
着しても良い。これらにより支持手段の薄形化が可能と
なり，その結果として装置全体の薄形化も可能となる。

【００５３】以上のことから，本実施例では信頼性が高
く，また小形／薄形磁気ディスク装置に適した磁気ヘッ
ドスライダを供給することができる。また、本実施例に
おいても，素子部突起を薄膜磁気ヘッド２０を構成する
薄膜だけで成形することができる。勿論、スライダ本体
には突起部が無いので薄膜磁気ヘッドとの加工段差がな
くディスク面との安定的な接触を実現することができ
る。

【００５４】本発明の他の実施例を図１９を用いて説明
する。本実施例は、薄膜磁気ヘッド２０のディスク対向
面にステップ（段差）１９０を設けた点である。この他
の点は前述した実施例と同じである。磁気ディスクはス
ライダ本体１０から薄膜磁気ヘッド２０の方向に回転し
ている。このため，磁気ディスクの回転に伴い発生する
空気流は，磁気ディスクとスライダ本体１０のディスク
対向面１３１とのなす空気流路を通過し，その後薄膜磁
気ヘッドのステップ（段差）１９０に導かれる。ステッ
プ１９０を設けることにより流路が拡大するので，ステ
ップ部では負圧力Ｆｎが発生する。ここでステップ（段
差）１９０の高さＨｒは約５μｍである。Ｈｒを約１５
μｍ以上にすると負圧力が急速に小さくなるためにそれ
以下に設定する必要がある。負圧力とは，大気圧よりも
低い圧力であり，薄膜磁気ヘッド２０を磁気ディスク面
へ押しつける力となる。このため，磁気ディスク回転時
にディスクが振動しても，あるいは何らかの理由でギャ
ップ部突起１００が磁気ディスクから離れる方向に外力
が作用しても，ギャップ部突起１００を磁気ディスクに
安定に接触させることができる。これにより，Ｒｅａｄ
／Ｗｒｉｔｅ時の誤動作がなくなり信頼性の高い磁気ヘ
ッドスライダを供給することが可能となる。

【００５５】ここで，ＨｒはＨｒ≦約１５μｍであれ
ば，Ｈｒが小さくなるほど負圧力Ｆｎは大きくなり，実
質的なスライダ押し付け力Ｗが増加する。このためＨｒ
は，信頼性確保の観点から接触面圧Ｐ［＝（押し付け力
Ｗ＋負圧力Ｆｎ）／接触面積Ｓ］が２００ｋＰａ以下と
なる値を選べば良い。また，本実施例の他の特徴とし
て，ディスク回転中の接触面圧Ｐが同じでも，ディスク
静止時には負圧力はゼロとなるために，負圧力を利用し
ない場合に比べ接触面圧を小さくできる利点も有る。

【００５６】ステップ１９０の加工には機械加工を用い
ても良い。また、摺動突起１３０とギャップ部突起１０
０をイオンミ−リング，あるいは，エッチングなどで成
形すしても良い。この場合、スライダ本体１０と薄膜磁
気ヘッド２０の材料の違いによるミ−リング速度（エッ
チング速度）の違いを利用しても良い。一般的に，スラ
イダ本体１０に使われるアルミナチタンカ−バイト，ジ
ルコニアに比べ，薄膜磁気ヘッド２０の下地膜，保護膜
に使われるアルミナの方がミ−リング速度（エッチング
速度）が大きい。このため，スライダ本体１０と薄膜磁
気ヘッド２０を同時にミ−リングすると，ミ−リング速
度の差により両者の間に段差が発生する。このミ−リン
グ速度（エッチング速度）の差を利用してステップ１９
０を成形することも可能である。

【００５７】次に、上述した磁気ヘッドスライダの製造
方法について図２０乃至図２５を用いて説明する。

【００５８】図２０に示すようにセラミックス基板（ウ
エハ）２００，例えばアルミナチタンカ−バイト（Ａｌ
ＴｉＣ），ジルコニア（ＺｒＯ２）のウエハ上にスパッ
タリング等で薄膜磁気ヘッド４０を成形する。薄膜磁気
ヘッド４０はＩＣ製造プロセスと同様のプロセスによっ
て成形された薄膜の素子であり，下部磁性膜，ギャップ
膜，上部磁性膜，コイル膜，相間絶縁膜，保護膜等から
構成されている。

【００５９】次に図２１に示すように、薄膜磁気ヘッド
４０を成形したウエハ２００は細長いブロック２１０に
切断される。ここでは，４個分の磁気ヘッドスライダが
横一列に形成されており，ブロック２１０のウエハの部
分２３０がスライダ本体となり、磁気ヘッドの薄膜層２
２０が磁気ヘッドとなる。薄膜磁気ヘッド２２０のギャ
ップ４７が設けられている側の薄膜層の切断面が磁気デ
ィスクとの接触面となり、それと同一面にあるウエハの
切断面の各々が磁気ディスクとの接触面２２０、２３０
になる。ここで前記薄膜磁気ヘッドの接触面２２０，及
びスライダ本体の接触面２３０を磁気ディスクとの良好
な接触を可能とするための平滑化，及びギャプの深さの
調整を目的として，ラッピングなどにより所定の面粗さ
とギャップ深さが得られるまで研磨する。

【００６０】ここで、スライダ本体となるセラミックの
ウエハに比べて，薄膜磁気ヘッドを構成する薄膜層の硬
度は小さく（つまり軟らかく）て削れやすいために、ス
ライダ本体の接触面２３０と薄膜磁気ヘッドの接触面２
２０の間には段差いわゆる加工段差が生じる。この加工
段差は薄膜磁気ヘッドの接触面２２０がスライダ本体の
接触面２３０に比べて後退した段差となる。

【００６１】一方、図２４に示すように、摺動用突起１
３０及びギャップ部突起１００を形成するために、マス
ク３００が用意される。このマスク３００はＩＣの製造
プロセス等に一般に用いられるレジスト用のマスクであ
り、摺動用突起１３０とギャップ部突起１００の各々の
形状に応じた形状のマスク部３１０，３２０を設けてい
る。具体的には摺動突起用マスクはスライダ本体に成形
される摺動用突起と同じ直径約３０μｍの円形マスクで
ある。また，ギャップ部突起用のマスクは薄膜磁気ヘッ
ドを構成する薄膜層に形成されるギャップ部突起と同じ
略４０μｍ×２０μｍの矩形マスクである。ギャップ部
突起用のマスクはギャップ，上部及び下部磁性膜及び下
地膜と保護膜の一部を覆うように設けられており、磁気
ヘッドの接触面２２０にのみ設けられている。

【００６２】図２４に示すようにギャップ部突起用のマ
スク３２０は２つの摺動突起用マスク３１０の中心線４
１０の線上に，スライダ本体の接触面２３０から所定の
距離、ここではＬｇだけ離して薄膜磁気ヘッドの接触面
２２０に設けられている。さらに、下部磁性膜４２ａ，
ギャップ膜４７，上部磁性膜４２ｂを囲むように薄膜磁
気ヘッドの下地膜４４，下部磁性膜４２ａ，ギャップ膜
４７，上部磁性膜４２ｂと保護膜４５を含む領域に設け
る。

【００６３】次に図２２に示すように、上記したマスク
を用いてエッチング加工を行い，マスクのない部分を掘
り込み削除する。本実施例ではアルゴン（Ａｒ）イオン
を用いてエッチングを行うが，とくにアルゴン（Ａｒ）
イオンで有る必要はない。エッチング加工によりマスク
のない部分が削られて除去されるために，マスクが設け
られた部分がそのまま残り，突起部となる。

【００６４】この後、このエッチング加工後にマスクの
剥離を行い，その後境界線４００に従って切断すること
により，図２３に示す一つの磁気ヘッドスライダを得る
ことができる。

【００６５】本実施例では，摺動用突起とギャップ部突
起を成形する方法としてエッチング加工を用いたが，こ
れに変わり切削などの機械加工を用いても良い。具体的
には，マスク部以外の個所をグラインダなどにより切削
し，除去すれば良い。機械加工は安価に製作可能である
という利点を持つが，一方複雑で精密な形状，特に曲面
を持つような加工には不向きである。これに対し，エッ
チング加工では複雑な形状の精密加工に適している。し
かし，エッチング速度が遅く加工に長時間を有する。具
体的には，一般的なエッチングの速度は，１時間当り数
μｍから数十μｍであり，大きな加工には不向きであ
る。このため，摺動用突起とギャップ部突起の形状に合
わせて，最適な加工方法を選択すれば良い。また、浮上
用パッドの場合も上記と同様の方法により形成できる。

【００６６】

【発明の効果】本発明によれば、スライダ本体と磁気ヘ
ッド素子部の加工段差を実質的に無くすことができる。
このため、磁気ヘッドの低浮上量化、或いは磁気ヘッド
と磁気ディスクとの安定的な接触が可能になり、高記録
密度化が実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す磁気ヘッドスライダの
斜視図

【図２】磁気ヘッドスライダの浮上の様子を示す概念図

【図３】図２のＡ部拡大図

【図４】本発明の他の実施例による磁気ヘッドスライダ
の斜視図

【図５】図４に示した磁気ヘッドスライダの浮上概念図

【図６】図４に示した磁気ヘッドスライダの機能説明図

【図７】本発明の他の実施例による磁気ヘッドスライダ
の斜視図

【図８】本発明の他の実施例による磁気ヘッドスライダ
の斜視図

【図９】本発明の他の実施例による磁気ヘッドスライダ
の平面図

【図１０】本発明の他の実施例による磁気ヘッドスライ
ダの斜視図

【図１１】本発明の他の実施例による磁気ヘッドスライ
ダの側面図

【図１２】図１１のＢ部拡大図

【図１３】従来の磁気ヘッドスライダの斜視図

【図１４】従来の磁気ヘッドスライダの浮上概念図

【図１５】図１４に示した磁気ヘッドスライダのＤ部拡
大図

【図１６】磁気ディスク装置の平面図

【図１７】本発明の他の実施例による磁気ヘッドスライ
ダの側面図

【図１８】図１７の側面図

【図１９】本発明の他の実施例による磁気ヘッドスライ
ダの斜視図

【図２０】ウェハ上に形成された薄膜磁気ヘッドの様子
を示す斜視図

【図２１】切断された薄膜磁気ヘッドのブロック

【図２２】エッチング処理時の斜視図

【図２３】出来上がった薄膜磁気ヘッドの斜視図

【図２４】マスクの平面図

【図２５】図２４に示したマスクの拡大図。

【符号の説明】

１…磁気ヘッドスライダ１０…スライダ本体１１、４１、７１、８２、９１、９２、２３０…浮上パ
ッド１３０…摺動用パッド２０…磁気ヘッド薄膜層２１、４０、７０、８０、９０、１００…素子部パッド２３、１０１、２２３…磁気コア５…磁気ディスク８１…耐摩耗パッド

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者長池完訓神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者名手和男神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者東島哲二神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者樋口晋介神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者中村滋男神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者森健次神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】スライダ本体と該スライダ本体の一端に設
けられた薄膜層より構成される磁気ヘッドを搭載した磁
気ヘッドスライダにおいて、前記磁気ヘッドのコアを含
み、スライダ本体を含まない状態で、スライダ本体のブ
リード面より突出して素子部突起を前記磁気ヘッドに設
けたことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項２】スライダ本体には、磁気ディスクとの相対
運動を利用して浮上力を発生するために、ブリード面よ
り突出して浮上パッドが設けられ、該浮上パッドは前記
素子部突起とは突出した状態で連続しておらず且つ上記
素子部突起に最も近い側の浮上パッドの端面を、素子部
突起から所定の距離を離して設けられていることを特徴
とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項３】スライダ本体は長方形状を成しており、そ
の短手方向の中心線上に該素子部突起を設置したことを
特徴とする請求項１又は２記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】上記磁気ヘッドの薄膜層に、素子部を保護
するために、該素子部突起と略同一の高さである第三の
突起状の保護パッドを設け、該保護パッドはスライダ本
体から磁気ヘッドの薄膜層に連続して形成されず、且つ
保護パッドと浮上パッドは突出した状態で連絡しないこ
とを特徴とする請求項１乃至３記載の磁気ヘッドスライ
ダ。
【請求項５】上記浮上パッドは大気圧より高い圧力（正
圧）を発生させ、スライダ本体の浮上パッド以外の部分
は大気圧より低い圧力（負圧力）を発生させることを特
徴とする請求項１乃至４記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項６】上記浮上パッド及び上記素子部突起に保護
膜を設けたことを特徴とする請求項１乃至５記載の磁気
ヘッドスライダ。
【請求項７】上記保護膜を、カーボン膜、シリコン膜、
酸化シリコン膜としたことを特徴とする請求項１乃至６
記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項８】スライダ本体とこの一端に形成された薄膜
層より構成される磁気ヘッド部を有する磁気ヘッドスラ
イダにおいて、スライダ本体に、磁気ディスクと摺動す
るための摺動用突起がスライダ本体のブリード面より突
出するように形成され、前記磁気ヘッドに、磁気ヘッド
のコアを含み、スライダ本体を含まない状態で、スライ
ダ本体のブリード面より突出した素子部突起が形成さ
れ、前記摺動用突起と前記素子部突起は略同一の高さで
あり、また、前記摺動用突起及び素子部突起は前記磁気
ディスクの走行方向に対して略直角となる線上に設けら
れており、該摺動用突起は前記素子部突起とは突出した
状態で連続しておらず、素子部突起に最も近い側の摺動
用突起の端面を、素子部突起から所定の距離を離して設
けられていることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項９】上記摺動用突起は２つ形成され、上記素子
部突起は１つ形成され、前記素子部突起は前記２つの摺
動用突起の略中心線上に設けられていることを特徴とす
る請求項９記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１０】上記スライダ本体はアルミナ・チタンカ
ーバイト（Ａｌ2Ｏ3・ＴｉＣ）、あるいはジルコニア
（ＺｒＯ2）から成り、上記磁気ヘッドを構成する下地
膜と保護膜をアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、コアをパーマロイ
（ＮｉＦｅ）、コイルを銅（Ｃｕ）としたことを特徴と
する請求項１乃至９記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１１】上記素子部突起のスライダ本体のブリー
ド面からの高さを２０μｍ以上としたことを特徴とする
請求項１乃至１０記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１２】上記素子部突起を４０μｍ×２０μｍの
矩形としたことを特徴とする請求項１１記載の磁気ヘッ
ドスライダ。
【請求項１３】スライダ本体と該スライダ本体の一端に
設けられた薄膜層を備え、該薄膜層に磁気ヘッドが形成
される磁気ヘッドスライダにおいて、前記磁気ヘッドに
は該磁気ヘッドのコアを含み且つスライダ本体のブリー
ド面より突出している素子部突起が設けられており、該
素子部突起は該磁気ヘッドを構成する薄膜のみから形成
されていることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項１４】上記スライダ本体には、該スライダ本体
のブリード面より突出して磁気ディスクと摺動するため
の摺動用突起を形成し、さらに該摺動用突起と上記素子
部突起は略同一の高さであり且つ該素子部突起に最も近
い該摺動用突起の端面を素子部突起から所定の距離を離
して設けることを特徴とする請求項１又は１３記載の磁
気ヘッドスライダ。
【請求項１５】回転する磁気ディスク面と接触状態で情
報を記録／再生する磁気ヘッドスライダにおいて、前記
磁気ヘッドスライダはスライダ本体と該スライダ本体の
一端に設けられたスパッタリングなどで成膜した薄膜層
より構成される磁気ヘッドを有し、前記磁気ヘッドには
該磁気ヘッドの素子（コア）を含み且つスライダ本体の
ブリード面より突出している素子部突起を設け、該素子
部突起は該磁気ヘッドを構成する薄膜のみから形成され
ており、前記スライダ本体には該スライダ本体のブリー
ド面より突出して磁気ディスクと摺動するための摺動用
突起を設け、前記素子部突起のディスク対向面のスライ
ダ本体のブリード面からの距離は前記摺動用突起のディ
スク対向面のスライダ本体のブリード面からの距離より
小さいか或いは略同一であることを特徴とする磁気ヘッ
ドスライダ。
【請求項１６】スライダ本体と該スライダ本体の一端に
設けられた薄膜層より構成される磁気ヘッドを有する磁
気ヘッドスライダの製造方法において、前記磁気ヘッド
を構成する薄膜層のディスク対向面の所定の位置にエッ
チング用マスクを形成し、前記スライダ本体と磁気ヘッ
ドのディスク対向面のエッチング用マスクの形成されて
いない面をイオンエッチングにより削り、磁気ヘッドに
請求項１または２記載の素子部突起を形成する磁気ヘッ
ドスライダの製造方法。
【請求項１７】スライダ本体と該スライダ本体の一端に
設けられた薄膜層より構成される磁気ヘッドを有する磁
気ヘッドスライダの製造方法において、前記磁気ヘッド
を構成する薄膜層及びスライダ本体のディスク対向面の
各々の面の所定の位置に独立にエッチング用マスクを形
成し、前記スライダ本体と磁気ヘッドのディスク対向面
のエッチング用マスクの形成されていない面をイオンエ
ッチングにより削り、該磁気ヘッドに請求項１乃至１５
記載の素子部突起及び摺動用突起、浮上パッドを形成す
る磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項１８】磁気記録再生に使用される磁気ヘッドス
ライダであって、ある材質で構成されたスライダ本体と、該スライダ本体
と異なる材質で、該スライダ本体と一体的に形成された
磁気ヘッドを含むヘッド領域を有し、該ヘッド領域に
は、記録再生のための磁気ヘッドの素子を含む特定の領
域により素子部突起が規定され、該素子部突起はスライ
ダ本体の該ヘッド領域に近接する部分の面の高さより突
出して形成される磁気ヘッドスライダ。
【請求項１９】請求項１８において、該ヘッド領域には
素子部突起が形成される第一の領域と、素子部突起が形
成されない第二の領域が規定され、第二の高さは近接す
るスライダ本体の前記面の高さと実質的に同じ高さであ
る磁気ヘッドスライダ。
【請求項２０】請求項１８又は１９において、スライダ
本体の前記面には少なくとも１つの突起部が形成され、
該スライダ突起部の高さは該素子部突起の高さと実質的
に等しく、かつ該スライダ突起部は該素子部突起と突出
した状態で連結せず形成される磁気ヘッドスライダ。
【請求項２１】スライダ本体に一体的に形成された薄膜
層に構成された磁気ヘッドを備える磁気ヘッドスライダ
によって磁気ディスクに記録再生する磁気ディスク装置
において、磁気ヘッドスライダの該薄膜層には、記録再
生のための磁気ヘッドの素子を含む特定の領域により素
子部突起が規定され、該素子部突起はスライダ本体の該
ヘッド領域に近接する部分のブリ−ド面の高さより突出
して形成される磁気ヘッドスライダであって、該素子部
突起をその周辺のスライダの領域よりも磁気ディスクに
近接させて記録再生を行うことを特徴とする磁気ディス
ク装置。
【請求項２２】請求項２１において、スライダ本体のブ
リ−ド面には、該素子部突起の高さと実質的に等しくし
て少なくとも１つのスライダ突起部が形成された磁気ヘ
ッドスライダを磁気ディスク上に浮上させて記録再生す
るものであって、該素子部突起はスライダ突起部よりも
磁気ディスクに近接されて記録再生を行うことを特徴と
する磁気ディスク装置。
【請求項２３】請求項２１において、スライダ本体のブ
リ−ド面には、該素子部突起の高さと実質的に等しくし
て少なくとも１つのスライダ突起部が形成されており、
該素子部突起と、該スライダ突起部を磁気ディスクに接
触させて記録再生を行うことを特徴とする磁気ディスク
装置。
【請求項２４】スライダ本体となる基板上に薄膜層を形
成して磁気ヘッドを構成する磁気ヘッドスライダの製造
方法において、磁気ヘッドを含む薄膜層の所定領域をマ
スクするマスクを、スライダ本体及び薄膜層を一括に覆
って形成し、マスクされない薄膜層の該所定領域以外お
よびスライダ本体を同時にエッチングして削除し、磁気
ヘッドの素子部突起を形成する磁気ヘッドスライダの製
造方法。