JPH08150324A - 窒素酸化物の接触還元方法 - Google Patents
窒素酸化物の接触還元方法Info
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- Treating Waste Gases (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【構成】触媒の存在下、アルコール類を還元剤として、
排気ガス中の窒素酸化物を選択的に接触還元する方法で
ある。 【効果】排気ガス中の窒素酸化物を、酸素の存在下にお
いて効率良く接触還元することができる。
排気ガス中の窒素酸化物を選択的に接触還元する方法で
ある。 【効果】排気ガス中の窒素酸化物を、酸素の存在下にお
いて効率良く接触還元することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は窒素酸化物の接触還元方
法に係わり、詳しくは工場、自動車などから排出される
排気ガスの中に含まれる有害な窒素酸化物を特定の還元
剤により選択的に効率良く接触還元する方法に関する。
法に係わり、詳しくは工場、自動車などから排出される
排気ガスの中に含まれる有害な窒素酸化物を特定の還元
剤により選択的に効率良く接触還元する方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
排気ガス中に含まれる窒素酸化物は、該窒素酸化物を
酸化した後、アルカリに吸収させる方法、NH3 、H
2 、CO等の還元剤を用いて窒素に変える方法などによ
って除去されてきた。
排気ガス中に含まれる窒素酸化物は、該窒素酸化物を
酸化した後、アルカリに吸収させる方法、NH3 、H
2 、CO等の還元剤を用いて窒素に変える方法などによ
って除去されてきた。
【0003】しかしながら、の方法による場合は、公
害防止のためのアルカリの排液処理が必要となり、また
の方法において還元剤としてNH3 等のアルカリ剤を
用いる場合においては、これが排気ガス中のSOxと反
応して塩類を生成し、この塩類が触媒の還元活性を低下
させてしまうという問題があった。また、のH2 、C
Oを還元剤として用いる場合は、これらが低濃度に存在
するNOX よりも高濃度に存在するO2 と優先的に反応
してしまうため、NOX を低減するためには多量の還元
剤を必要とするという問題があった。
害防止のためのアルカリの排液処理が必要となり、また
の方法において還元剤としてNH3 等のアルカリ剤を
用いる場合においては、これが排気ガス中のSOxと反
応して塩類を生成し、この塩類が触媒の還元活性を低下
させてしまうという問題があった。また、のH2 、C
Oを還元剤として用いる場合は、これらが低濃度に存在
するNOX よりも高濃度に存在するO2 と優先的に反応
してしまうため、NOX を低減するためには多量の還元
剤を必要とするという問題があった。
【0004】上記およびの方法以外に、還元剤を
用いることなく窒素酸化物を触媒により直接分解する方
法が提案されているが、触媒の窒素酸化物分解活性が低
いため、実用に供し得ないという問題があった。
用いることなく窒素酸化物を触媒により直接分解する方
法が提案されているが、触媒の窒素酸化物分解活性が低
いため、実用に供し得ないという問題があった。
【0005】本発明は以上の事情に鑑みてなされたもの
であって、その目的とするところは、酸素共存下におい
て、排気ガス中の窒素酸化物を効率的に除去する方法を
提供するにある。
であって、その目的とするところは、酸素共存下におい
て、排気ガス中の窒素酸化物を効率的に除去する方法を
提供するにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る窒素酸化物の接触還元方法は、排気ガス
中に還元剤としてアルコール類を添加し、この還元剤を
触媒と接触させることにより、排気ガス中の窒素酸化物
を還元除去することを特徴とする。
の本発明に係る窒素酸化物の接触還元方法は、排気ガス
中に還元剤としてアルコール類を添加し、この還元剤を
触媒と接触させることにより、排気ガス中の窒素酸化物
を還元除去することを特徴とする。
【0007】本発明におけるアルコール類としては、脂
肪族系アルコール、芳香族系アルコールなど、特に制限
されない。好適なアルコール類としては、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、n−ブチルアルコー
ル、イソブチルアルコール、t−−ブチルアルコール、
アリルアルコール等の常温では液体であって、反応温度
では気体である低級アルコールが挙げられる。輸送、貯
蔵、取扱が容易だからである。
肪族系アルコール、芳香族系アルコールなど、特に制限
されない。好適なアルコール類としては、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、n−ブチルアルコー
ル、イソブチルアルコール、t−−ブチルアルコール、
アリルアルコール等の常温では液体であって、反応温度
では気体である低級アルコールが挙げられる。輸送、貯
蔵、取扱が容易だからである。
【0008】アルコール類の好適な添加量は、使用する
アルコール類の種類によって異なるが、排気ガス中に含
有される窒素酸化物に対して0.1〜10倍(モル比)
の量が好適であり、1〜5倍の量がより好適である。
0.1倍未満であると充分な触媒活性を得ることができ
ず、また10倍を越えると未反応のアルコールまたは部
分酸化生成物の排出量が多くなるためこれらを処理する
ための後処理が必要となるので、ともに好ましくない。
本発明における触媒としては、次の(1)〜(11)に示す
ものが例示される。
アルコール類の種類によって異なるが、排気ガス中に含
有される窒素酸化物に対して0.1〜10倍(モル比)
の量が好適であり、1〜5倍の量がより好適である。
0.1倍未満であると充分な触媒活性を得ることができ
ず、また10倍を越えると未反応のアルコールまたは部
分酸化生成物の排出量が多くなるためこれらを処理する
ための後処理が必要となるので、ともに好ましくない。
本発明における触媒としては、次の(1)〜(11)に示す
ものが例示される。
【0009】(1) 下記組成式で表されるゼオライト
中のイオンMの一部または全部を、Ti4+、Zr4+およ
びSn4+からなる群より選ばれた金属イオンでイオン交
換してなるゼオライトに、Ru、Rh、Ag、Pdおよ
びPtからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属お
よび/またはその金属酸化物を担持させてなる窒素酸化
物接触還元用触媒。 MA [(AlO2)X (SiO2)Y ] ・ZH2 O 〔式中、イオンMはアルカリ金属イオン、アルカリ土類
金属イオンまたは水素イオン、nA=X(n:イオンM
の価数)、Y/X≧5である。〕
中のイオンMの一部または全部を、Ti4+、Zr4+およ
びSn4+からなる群より選ばれた金属イオンでイオン交
換してなるゼオライトに、Ru、Rh、Ag、Pdおよ
びPtからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属お
よび/またはその金属酸化物を担持させてなる窒素酸化
物接触還元用触媒。 MA [(AlO2)X (SiO2)Y ] ・ZH2 O 〔式中、イオンMはアルカリ金属イオン、アルカリ土類
金属イオンまたは水素イオン、nA=X(n:イオンM
の価数)、Y/X≧5である。〕
【0010】(2) 下記組成式で表されるゼオライト
または該ゼオライト中のイオンMの一部または全部を、
Ti4+、Zr4+およびSn4+からなる群より選ばれた金
属イオンでイオン交換してなるゼオライトの細孔内に、
TiO2 、ZrO2 およびSnO2 からなる群より選ば
れた少なくとも一種の金属酸化物を担持させてなるゼオ
ライトに、Ru、Rh、Ag、PdおよびPtからなる
群より選ばれた少なくとも一種の金属および/またはそ
の金属酸化物を担持させてなる窒素酸化物接触還元用触
媒。 MA [(AlO2)X (SiO2)Y ] ・ZH2 O 〔式中、Mはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イ
オンおよび水素イオンからなる群より選ばれたイオン、
nA=X(n:イオンMの価数)、Y/X≧5であ
る。〕
または該ゼオライト中のイオンMの一部または全部を、
Ti4+、Zr4+およびSn4+からなる群より選ばれた金
属イオンでイオン交換してなるゼオライトの細孔内に、
TiO2 、ZrO2 およびSnO2 からなる群より選ば
れた少なくとも一種の金属酸化物を担持させてなるゼオ
ライトに、Ru、Rh、Ag、PdおよびPtからなる
群より選ばれた少なくとも一種の金属および/またはそ
の金属酸化物を担持させてなる窒素酸化物接触還元用触
媒。 MA [(AlO2)X (SiO2)Y ] ・ZH2 O 〔式中、Mはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イ
オンおよび水素イオンからなる群より選ばれたイオン、
nA=X(n:イオンMの価数)、Y/X≧5であ
る。〕
【0011】(3) TiO2 と、Al2 O3 、SiO
2 、ZrO2 からなる群より選ばれた少なくとも一種の
金属酸化物と、Ru、Rh、Pd、Ag、Ptからなる
群より選ばれた少なくとも一種の金属および/またはそ
の金属酸化物とからなる窒素酸化物接触還元用触媒。
2 、ZrO2 からなる群より選ばれた少なくとも一種の
金属酸化物と、Ru、Rh、Pd、Ag、Ptからなる
群より選ばれた少なくとも一種の金属および/またはそ
の金属酸化物とからなる窒素酸化物接触還元用触媒。
【0012】(4) TiO2 に、Pd、Ru、Rh、
AgおよびPtからなる群より選ばれた少なくとも一種
の金属および/またはその金属酸化物を担持させてなる
窒素酸化物接触還元用触媒。
AgおよびPtからなる群より選ばれた少なくとも一種
の金属および/またはその金属酸化物を担持させてなる
窒素酸化物接触還元用触媒。
【0013】(5) TiO2 、Al2 O3 、ZrO2
およびSiO2 からなる群より選ばれた少なくとも一種
の金属酸化物と、希土類の酸化物と、Ru、Rh、P
d、AgおよびPtからなる群より選ばれた少なくとも
一種の金属および/またはその金属酸化物とからなる窒
素酸化物接触還元用触媒。
およびSiO2 からなる群より選ばれた少なくとも一種
の金属酸化物と、希土類の酸化物と、Ru、Rh、P
d、AgおよびPtからなる群より選ばれた少なくとも
一種の金属および/またはその金属酸化物とからなる窒
素酸化物接触還元用触媒。
【0014】(6) 下記一般式で表されるペロブスカ
イト型複合酸化物からなる窒素酸化物接触還元用触媒。 Lax Sr(1-X) BY B'(1-Y) O3 〔式中、BはMnまたはCo;B'はCo、Fe、N
i、CuまたはCr;0≦X≦1、0≦Y≦1であ
る。〕
イト型複合酸化物からなる窒素酸化物接触還元用触媒。 Lax Sr(1-X) BY B'(1-Y) O3 〔式中、BはMnまたはCo;B'はCo、Fe、N
i、CuまたはCr;0≦X≦1、0≦Y≦1であ
る。〕
【0015】(7) 下記一般式で表されるペロブスカ
イト型複合酸化物に、Pt、Rh、Pd、Ru、および
Agからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属およ
び/またはその金属酸化物を担持させてなる窒素酸化物
接触還元用触媒。 Lax Sr(1-X) BY B'(1-Y) O3 〔式中、BはMnまたはCo;B'はCo、Fe、N
i、CuまたはCr;0≦X≦1、0≦Y≦1であ
る。〕
イト型複合酸化物に、Pt、Rh、Pd、Ru、および
Agからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属およ
び/またはその金属酸化物を担持させてなる窒素酸化物
接触還元用触媒。 Lax Sr(1-X) BY B'(1-Y) O3 〔式中、BはMnまたはCo;B'はCo、Fe、N
i、CuまたはCr;0≦X≦1、0≦Y≦1であ
る。〕
【0016】(8) 下記組成式で表されるゼオライト
中のイオンMの一部または全部を、Ti4+、Zr4+およ
びSn4+からなる群より選ばれた金属イオンでイオン交
換してなるゼオライトに、V、Cr、Mn、Fe、C
o、Ni、Cu、Zn、Nb、MoおよびWからなる群
より選ばれた少なくとも一種の金属の酸化物を担持させ
てなる窒素酸化物接触還元用触媒。 MA [(AlO2)X (SiO2)Y ] ・ZH2 O 〔式中、イオンMはアルカリ金属イオン、アルカリ土類
金属イオンまたは水素イオン、nA=X(n:イオンM
の価数)、Y/X≧5である。〕
中のイオンMの一部または全部を、Ti4+、Zr4+およ
びSn4+からなる群より選ばれた金属イオンでイオン交
換してなるゼオライトに、V、Cr、Mn、Fe、C
o、Ni、Cu、Zn、Nb、MoおよびWからなる群
より選ばれた少なくとも一種の金属の酸化物を担持させ
てなる窒素酸化物接触還元用触媒。 MA [(AlO2)X (SiO2)Y ] ・ZH2 O 〔式中、イオンMはアルカリ金属イオン、アルカリ土類
金属イオンまたは水素イオン、nA=X(n:イオンM
の価数)、Y/X≧5である。〕
【0017】(9) 下記組成式で表されるゼオライト
または該ゼオライト中のイオンMの一部または全部を、
Ti4+、Zr4+およびSn4+からなる群より選ばれた金
属イオンでイオン交換してなるゼオライトに、Ti
O2 、ZrO2 およびSnO2 からなる群より選ばれた
少なくとも一種の金属酸化物を担持させてなるゼオライ
トに、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Z
n、Nb、MoおよびWからなる群より選ばれた少なく
とも一種の金属の酸化物を担持させてなる窒素酸化物接
触還元用触媒。 MA [(AlO2)X (SiO2)Y ] ・ZH2 O 〔式中、Mはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イ
オンおよび水素イオンからなる群より選ばれたイオン、
nA=X(n:イオンMの価数)、Y/X≧5であ
る。〕
または該ゼオライト中のイオンMの一部または全部を、
Ti4+、Zr4+およびSn4+からなる群より選ばれた金
属イオンでイオン交換してなるゼオライトに、Ti
O2 、ZrO2 およびSnO2 からなる群より選ばれた
少なくとも一種の金属酸化物を担持させてなるゼオライ
トに、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Z
n、Nb、MoおよびWからなる群より選ばれた少なく
とも一種の金属の酸化物を担持させてなる窒素酸化物接
触還元用触媒。 MA [(AlO2)X (SiO2)Y ] ・ZH2 O 〔式中、Mはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イ
オンおよび水素イオンからなる群より選ばれたイオン、
nA=X(n:イオンMの価数)、Y/X≧5であ
る。〕
【0018】(10) TiO2 と、Al2 O3 、Si
O2 、ZrO2 からなる群より選ばれた少なくとも一種
の金属酸化物と、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、
Cu、Zn、Nb、MoおよびWからなる群より選ばれ
た少なくとも一種の金属の酸化物とからなる窒素酸化物
接触還元用触媒。
O2 、ZrO2 からなる群より選ばれた少なくとも一種
の金属酸化物と、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、
Cu、Zn、Nb、MoおよびWからなる群より選ばれ
た少なくとも一種の金属の酸化物とからなる窒素酸化物
接触還元用触媒。
【0019】(11) 下記組成式で表されるゼオライ
ト中のアルカリ金属イオンMの一部または全部を、アル
カリ土類金属イオンでイオン交換してなるゼオライト
に、Mn、Fe、Co、NiおよびCuからなる群より
選ばれた少なくとも一種の金属の酸化物を担持させてな
る窒素酸化物接触還元用触媒。 MX [(AlO2)X (SiO2)Y ] ・ZH2 O
ト中のアルカリ金属イオンMの一部または全部を、アル
カリ土類金属イオンでイオン交換してなるゼオライト
に、Mn、Fe、Co、NiおよびCuからなる群より
選ばれた少なくとも一種の金属の酸化物を担持させてな
る窒素酸化物接触還元用触媒。 MX [(AlO2)X (SiO2)Y ] ・ZH2 O
【0020】本発明方法において、窒素酸化物接触還元
用触媒が窒素酸化物に対して良好な還元活性を示す好適
な還元温度は、使用するアルコール類および触媒の種類
により異なるが通常100〜800°Cである。この温
度領域においては、500〜50000程度の空間速度
(SV)で排気ガスを通流させることが好ましい。より
好適な使用温度領域は300〜600°Cである。
用触媒が窒素酸化物に対して良好な還元活性を示す好適
な還元温度は、使用するアルコール類および触媒の種類
により異なるが通常100〜800°Cである。この温
度領域においては、500〜50000程度の空間速度
(SV)で排気ガスを通流させることが好ましい。より
好適な使用温度領域は300〜600°Cである。
【0021】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細
に説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるも
のではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変
更して実施することが可能なものである。 (1)触媒の調製
に説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるも
のではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変
更して実施することが可能なものである。 (1)触媒の調製
【0022】(製造例1)組成式:NaX 〔 (AlO2)
X ・(SiO2 )Y 〕・ZH2 Oで表されるナトリウム
型モルデナイトの市販品(日本化学社製、商品名「NM
−100P」、Y/X=8)100gを0.025モル
/リットルのTiCl4 水溶液1リットルに浸漬し、2
4時間攪拌してNaをTiでイオン交換した後、ろ別、
水洗してゼオライトのケーキを得た。次いで、このケー
キを乾燥した後、650°Cで4時間焼成した。得られ
たゼオライト中のTiの量はTiO2 として0.4重量
%であった。このゼオライトを、Pt担持後のゼオライ
ト中のPtの重量分率が1重量%になる量のPtを含有
するH2 PtCl6 の水溶液1リットルに浸漬し、攪拌
しながら理論量の1.2倍のヒドラジンを加えてH2 P
tCl6 を還元した後、ろ別、水洗、乾燥してPtを担
持した触媒1を得た。
X ・(SiO2 )Y 〕・ZH2 Oで表されるナトリウム
型モルデナイトの市販品(日本化学社製、商品名「NM
−100P」、Y/X=8)100gを0.025モル
/リットルのTiCl4 水溶液1リットルに浸漬し、2
4時間攪拌してNaをTiでイオン交換した後、ろ別、
水洗してゼオライトのケーキを得た。次いで、このケー
キを乾燥した後、650°Cで4時間焼成した。得られ
たゼオライト中のTiの量はTiO2 として0.4重量
%であった。このゼオライトを、Pt担持後のゼオライ
ト中のPtの重量分率が1重量%になる量のPtを含有
するH2 PtCl6 の水溶液1リットルに浸漬し、攪拌
しながら理論量の1.2倍のヒドラジンを加えてH2 P
tCl6 を還元した後、ろ別、水洗、乾燥してPtを担
持した触媒1を得た。
【0023】(製造例2)組成式:HX 〔 (AlO2)X
・(SiO2 )Y 〕・ZH2 Oで表される水素型モルデ
ナイトの市販品(日本化学社製、商品名「HM−100
P」、Y/X=12)100gを0.025モル/リッ
トルのZrOCl2 水溶液1リットルに浸漬し、24時
間攪拌してNaをZrでイオン交換した後、過剰のZr
をアンモニア水で中和してZrO2 として2重量%担持
させた。次いで、このケーキを乾燥した後、650°C
で4時間焼成した。このゼオライトを、Pd担持後のゼ
オライト中のPdの重量分率が1重量%になる量のPd
を含有するPdCl2 の水溶液1リットルに浸漬し、攪
拌しながら理論量の1.2倍のヒドラジンを加えてPd
Cl2 を還元した後、ろ別、水洗、乾燥してPdを担持
した触媒2を得た。
・(SiO2 )Y 〕・ZH2 Oで表される水素型モルデ
ナイトの市販品(日本化学社製、商品名「HM−100
P」、Y/X=12)100gを0.025モル/リッ
トルのZrOCl2 水溶液1リットルに浸漬し、24時
間攪拌してNaをZrでイオン交換した後、過剰のZr
をアンモニア水で中和してZrO2 として2重量%担持
させた。次いで、このケーキを乾燥した後、650°C
で4時間焼成した。このゼオライトを、Pd担持後のゼ
オライト中のPdの重量分率が1重量%になる量のPd
を含有するPdCl2 の水溶液1リットルに浸漬し、攪
拌しながら理論量の1.2倍のヒドラジンを加えてPd
Cl2 を還元した後、ろ別、水洗、乾燥してPdを担持
した触媒2を得た。
【0024】(製造例3)製造例1においてTiCl4
に代えてSnCl4 を用いたこと以外は製造例1と同様
にして触媒3を得た。
に代えてSnCl4 を用いたこと以外は製造例1と同様
にして触媒3を得た。
【0025】(製造例4)製造例2においてZrOCl
2 に代えてTiOSO4 を用いたこと以外は製造例2と
同様にして触媒4を得た。
2 に代えてTiOSO4 を用いたこと以外は製造例2と
同様にして触媒4を得た。
【0026】(製造例5)製造例1においてH2 PtC
l6 水溶液に代えてRuCl4 、5H2 Oの水溶液を用
いたこと以外は製造例1と同様にして触媒5を得た。
l6 水溶液に代えてRuCl4 、5H2 Oの水溶液を用
いたこと以外は製造例1と同様にして触媒5を得た。
【0027】(製造例6)硫酸チタン、硝酸アルミニウ
ムを各々酸化物基準で90g、9g秤量し、これを1リ
ットルのイオン交換水に溶解した。この水溶液中に、充
分攪拌を行いながら、アンモニアを吹き込みpH7.0
となるまで添加し中和反応を終了した(中和時間1時
間)。その後、30分間熟成した後、ろ過、水洗し、1
00°Cにて18時間乾燥した後、500°Cにて3時
間焼成した。この焼成物をRh担持後の触媒中のRhの
重量分率が0.5重量%になる量のRhを含有するRh
Cl3・3H2 Oの水溶液1リットルに浸漬し、攪拌し
ながら理論量の1.2倍の水素化ホウ酸ナトリウムを加
えてRhCl3 を還元した後、ろ別、水洗、乾燥してR
hを担持した触媒6を得た。
ムを各々酸化物基準で90g、9g秤量し、これを1リ
ットルのイオン交換水に溶解した。この水溶液中に、充
分攪拌を行いながら、アンモニアを吹き込みpH7.0
となるまで添加し中和反応を終了した(中和時間1時
間)。その後、30分間熟成した後、ろ過、水洗し、1
00°Cにて18時間乾燥した後、500°Cにて3時
間焼成した。この焼成物をRh担持後の触媒中のRhの
重量分率が0.5重量%になる量のRhを含有するRh
Cl3・3H2 Oの水溶液1リットルに浸漬し、攪拌し
ながら理論量の1.2倍の水素化ホウ酸ナトリウムを加
えてRhCl3 を還元した後、ろ別、水洗、乾燥してR
hを担持した触媒6を得た。
【0028】(製造例7)硝酸アルミニウムおよびオキ
シ塩化ジルコニウムを各々酸化物基準で50g、50g
秤量し、これを1リットルのイオン交換水に溶解した。
この水溶液中に、充分攪拌を行いながらアンモニアを吹
き込みpH7.0として中和反応を終了した(中和時間
1時間)。その後、30分間熟成した後、ろ過、水洗
し、100°Cにて18時間乾燥した後、600°Cに
て3時間焼成した。この焼成物50gとTiO2 50g
をAg担持後の触媒中のAgの重量分率が2重量%にな
る量のAgを含有するAgNO3 の水溶液1リットルに
浸漬し、攪拌しながら理論量の1.2倍ヒドラジンを加
えてAgNO3 を還元した後、ろ別、水洗、乾燥してA
gを担持した触媒7を得た。
シ塩化ジルコニウムを各々酸化物基準で50g、50g
秤量し、これを1リットルのイオン交換水に溶解した。
この水溶液中に、充分攪拌を行いながらアンモニアを吹
き込みpH7.0として中和反応を終了した(中和時間
1時間)。その後、30分間熟成した後、ろ過、水洗
し、100°Cにて18時間乾燥した後、600°Cに
て3時間焼成した。この焼成物50gとTiO2 50g
をAg担持後の触媒中のAgの重量分率が2重量%にな
る量のAgを含有するAgNO3 の水溶液1リットルに
浸漬し、攪拌しながら理論量の1.2倍ヒドラジンを加
えてAgNO3 を還元した後、ろ別、水洗、乾燥してA
gを担持した触媒7を得た。
【0029】(製造例8)日産化学社製スノーテックス
Oとメタチタン酸ゾル(メタチタン酸を硝酸により解膠
したもの)とを酸化物換算で各々50g、50g秤量
し、充分混合した後、100°Cにて18時間乾燥し、
次いで700°Cにて3時間焼成した。この焼成物をP
d担持後の重量分率が1重量%になる量のPdを含有す
るPdCl2の水溶液1リットルに浸漬し、攪拌しなが
ら理論量の1.2倍のヒドラジンを加えてPdCl2 を
還元した後、ろ別、水洗、乾燥してPdを担持した触媒
8を得た。
Oとメタチタン酸ゾル(メタチタン酸を硝酸により解膠
したもの)とを酸化物換算で各々50g、50g秤量
し、充分混合した後、100°Cにて18時間乾燥し、
次いで700°Cにて3時間焼成した。この焼成物をP
d担持後の重量分率が1重量%になる量のPdを含有す
るPdCl2の水溶液1リットルに浸漬し、攪拌しなが
ら理論量の1.2倍のヒドラジンを加えてPdCl2 を
還元した後、ろ別、水洗、乾燥してPdを担持した触媒
8を得た。
【0030】(製造例9)500g/リットルのチタニ
ル硫酸(TiOSO4 )を、オートクレーブ内で、12
0°Cにて1時間加熱加水分解してメタチタン酸を生成
せしめ、これを濾過し、イオン交換水にて充分に洗浄
し、100°Cにて18時間乾燥し、さらに500°C
にて3時間焼成して、硫酸根を8.5%含有する比表面
積114m2/gのアナターゼ型酸化チタンを得た。こ
の酸化チタンを、Pt担持後の触媒中のPtの重量分率
が1重量%になる量のPtを含有するH2 PtCl6 の
水溶液1リットルに浸漬し、攪拌しながら理論量の1.
2倍のヒドラジンを加えてH2 PtCl6 を還元した
後、ろ別、水洗、乾燥してPtを担持した触媒9を得
た。
ル硫酸(TiOSO4 )を、オートクレーブ内で、12
0°Cにて1時間加熱加水分解してメタチタン酸を生成
せしめ、これを濾過し、イオン交換水にて充分に洗浄
し、100°Cにて18時間乾燥し、さらに500°C
にて3時間焼成して、硫酸根を8.5%含有する比表面
積114m2/gのアナターゼ型酸化チタンを得た。こ
の酸化チタンを、Pt担持後の触媒中のPtの重量分率
が1重量%になる量のPtを含有するH2 PtCl6 の
水溶液1リットルに浸漬し、攪拌しながら理論量の1.
2倍のヒドラジンを加えてH2 PtCl6 を還元した
後、ろ別、水洗、乾燥してPtを担持した触媒9を得
た。
【0031】(製造例10)500g/リットルのチタ
ニル硫酸(TiOSO4 )を、アンモニア水で常温で中
和し、これを濾過し、イオン交換水で充分に洗浄し、1
00°Cにて18時間乾燥し、さらに500°Cにて3
時間焼成して、硫酸根を0.21%含有する比表面積8
5m2 /gのアナターゼ型酸化チタンを得た。この酸化
チタンを、Rh担持後の触媒中のRhの重量分率が3重
量%になる量のRhを含有するRhCl3 の水溶液1リ
ットルに浸漬し、攪拌しながら理論量の1.2倍のヒド
ラジンを加えてRhCl3 を還元した後、ろ別、水洗、
乾燥してRhを担持した触媒10を得た。
ニル硫酸(TiOSO4 )を、アンモニア水で常温で中
和し、これを濾過し、イオン交換水で充分に洗浄し、1
00°Cにて18時間乾燥し、さらに500°Cにて3
時間焼成して、硫酸根を0.21%含有する比表面積8
5m2 /gのアナターゼ型酸化チタンを得た。この酸化
チタンを、Rh担持後の触媒中のRhの重量分率が3重
量%になる量のRhを含有するRhCl3 の水溶液1リ
ットルに浸漬し、攪拌しながら理論量の1.2倍のヒド
ラジンを加えてRhCl3 を還元した後、ろ別、水洗、
乾燥してRhを担持した触媒10を得た。
【0032】(製造例11)ビーカーに、CeO2 換算
で1gとなる量の硝酸セリウムを秤量して入れ、これに
水1リットルおよびTiO2 100gを加えて、充分に
攪拌混合して水溶液とした。次いで、この水溶液に、ア
ンモニアを沈澱剤として加えて沈澱物を生成させ、該沈
澱物をろ別、水洗、乾燥した後、500°Cにて3時間
焼成して焼成物を得た。このようにして得た焼成物50
gを、担持後のPdの重量分率が1重量%となる量のP
dCl2 水溶液1リットルに入れて、充分に攪拌混合し
た後、理論量の1.2倍のヒドラジンを還元剤として加
えてPdCl2 を還元した後、ろ別、水洗、乾燥してP
dを担持した触媒11を得た。
で1gとなる量の硝酸セリウムを秤量して入れ、これに
水1リットルおよびTiO2 100gを加えて、充分に
攪拌混合して水溶液とした。次いで、この水溶液に、ア
ンモニアを沈澱剤として加えて沈澱物を生成させ、該沈
澱物をろ別、水洗、乾燥した後、500°Cにて3時間
焼成して焼成物を得た。このようにして得た焼成物50
gを、担持後のPdの重量分率が1重量%となる量のP
dCl2 水溶液1リットルに入れて、充分に攪拌混合し
た後、理論量の1.2倍のヒドラジンを還元剤として加
えてPdCl2 を還元した後、ろ別、水洗、乾燥してP
dを担持した触媒11を得た。
【0033】(製造例12)ビーカーに、Tb4 O7 換
算で5gとなる量の硝酸テレビウムを秤量して入れ、こ
れに水1リットルおよびSiO2 100gを加えて、充
分に攪拌混合して水溶液とした。次いで、この水溶液
に、アンモニアを沈澱剤として加えて沈澱物を生成さ
せ、該沈澱物をろ別、水洗、乾燥した後、500°Cに
て3時間焼成して焼成物を得た。このようにして得た焼
成物50gを、担持後のRuの重量分率が3重量%とな
る量のRuCl3 水溶液1リットルに入れて、充分に攪
拌混合した後、理論量の1.2倍のヒドラジンを還元剤
として加えてRuCl3 を還元した後、ろ別、水洗、乾
燥してRuを担持した触媒12を得た。
算で5gとなる量の硝酸テレビウムを秤量して入れ、こ
れに水1リットルおよびSiO2 100gを加えて、充
分に攪拌混合して水溶液とした。次いで、この水溶液
に、アンモニアを沈澱剤として加えて沈澱物を生成さ
せ、該沈澱物をろ別、水洗、乾燥した後、500°Cに
て3時間焼成して焼成物を得た。このようにして得た焼
成物50gを、担持後のRuの重量分率が3重量%とな
る量のRuCl3 水溶液1リットルに入れて、充分に攪
拌混合した後、理論量の1.2倍のヒドラジンを還元剤
として加えてRuCl3 を還元した後、ろ別、水洗、乾
燥してRuを担持した触媒12を得た。
【0034】(製造例13)Sm2 O3 10gとAl2
O3 100gを乳鉢で充分に混合した後、500°Cに
て3時間焼成して焼成物を得た。このようにして得た焼
成物50gを、担持後のPtの重量分率が0.5重量%
となる量のH2 PtCl6 水溶液1リットルに入れて、
充分に攪拌混合した後、理論量の1.2倍のヒドラジン
を還元剤として加えてH2 PtCl6 を還元した後、ろ
別、水洗、乾燥して触媒13を得た。
O3 100gを乳鉢で充分に混合した後、500°Cに
て3時間焼成して焼成物を得た。このようにして得た焼
成物50gを、担持後のPtの重量分率が0.5重量%
となる量のH2 PtCl6 水溶液1リットルに入れて、
充分に攪拌混合した後、理論量の1.2倍のヒドラジン
を還元剤として加えてH2 PtCl6 を還元した後、ろ
別、水洗、乾燥して触媒13を得た。
【0035】(製造例14)ビーカーに、Pr6 O11換
算で5gとなる量の硝酸プラセオジムとZrO2 換算で
100gとなる量の酸塩化ジルコニウムを秤量して入
れ、これに水1リットルを加え充分に攪拌混合して水溶
液とした。次いで、この水溶液に、アンモニアを沈澱剤
として加えて沈澱させ、該沈澱物をろ別、水洗、乾燥し
た後、500°Cにて3時間焼成して焼成物を得た。こ
のようにして得た焼成物50gを、担持後のAgの重量
分率が10重量%となる量のAgNO3 水溶液1リット
ルに入れて、充分に攪拌混合した後、理論量の1.2倍
のヒドラジンを還元剤として加えてAgNO3 を還元し
た後、ろ別、水洗、乾燥して触媒14を得た。
算で5gとなる量の硝酸プラセオジムとZrO2 換算で
100gとなる量の酸塩化ジルコニウムを秤量して入
れ、これに水1リットルを加え充分に攪拌混合して水溶
液とした。次いで、この水溶液に、アンモニアを沈澱剤
として加えて沈澱させ、該沈澱物をろ別、水洗、乾燥し
た後、500°Cにて3時間焼成して焼成物を得た。こ
のようにして得た焼成物50gを、担持後のAgの重量
分率が10重量%となる量のAgNO3 水溶液1リット
ルに入れて、充分に攪拌混合した後、理論量の1.2倍
のヒドラジンを還元剤として加えてAgNO3 を還元し
た後、ろ別、水洗、乾燥して触媒14を得た。
【0036】(製造例15)SiO2 50gとAl2 O
3 50gを乳鉢で充分に混合した後、700°Cで3時
間焼成して焼成物を得た。この焼成物を、硝酸ネオジウ
ム水溶液に10分間浸漬した後過剰の水分を取り除いて
乾燥した。この操作を担持後のNd2 O3 の重量分率が
5重量%になるまで繰り返した後、500°Cで3時間
焼成した。この焼成物50gを、担持後のRhの重量分
率が2重量%となるRhCl3 水溶液1リットルに入れ
て、充分に攪拌混合した後、理論量の1.2倍のヒドラ
ジンを還元剤として加えてRhCl3 を還元した後、ろ
別、水洗、乾燥して触媒15を得た。
3 50gを乳鉢で充分に混合した後、700°Cで3時
間焼成して焼成物を得た。この焼成物を、硝酸ネオジウ
ム水溶液に10分間浸漬した後過剰の水分を取り除いて
乾燥した。この操作を担持後のNd2 O3 の重量分率が
5重量%になるまで繰り返した後、500°Cで3時間
焼成した。この焼成物50gを、担持後のRhの重量分
率が2重量%となるRhCl3 水溶液1リットルに入れ
て、充分に攪拌混合した後、理論量の1.2倍のヒドラ
ジンを還元剤として加えてRhCl3 を還元した後、ろ
別、水洗、乾燥して触媒15を得た。
【0037】(製造例16)ビーカーに、La(NO3)
3 ・6H2 Oを69.3g、Sr(NO3)2 を50.8
g、Mn(NO3)2 ・6H2 Oを91.9g、Fe(N
O3)3 ・9H2 Oを32.3gおよび水を1リットル入
れて攪拌し、水溶液とした。この水溶液中のLa、S
r、Mn、Feの原子比は、4:6:8:2である。こ
の溶液に、沈澱剤として250g/リットルの炭酸ナト
リウム水溶液を溶液のpHが8になるまで添加して沈澱
物を生成させた。生成した沈澱物を充分に水洗した後、
110°Cにて乾燥し、次いで800°Cにて3時間焼
成して触媒16を得た。
3 ・6H2 Oを69.3g、Sr(NO3)2 を50.8
g、Mn(NO3)2 ・6H2 Oを91.9g、Fe(N
O3)3 ・9H2 Oを32.3gおよび水を1リットル入
れて攪拌し、水溶液とした。この水溶液中のLa、S
r、Mn、Feの原子比は、4:6:8:2である。こ
の溶液に、沈澱剤として250g/リットルの炭酸ナト
リウム水溶液を溶液のpHが8になるまで添加して沈澱
物を生成させた。生成した沈澱物を充分に水洗した後、
110°Cにて乾燥し、次いで800°Cにて3時間焼
成して触媒16を得た。
【0038】(製造例17)ビーカーに、La(NO3)
3 ・6H2 Oを129.9g、Sr(NO3)2 を42.
3g、Co(NO3)2 ・6H2 Oを116.4g、Mn
(NO3)2 ・6H2Oを28.7gおよび水を1リット
ル入れて攪拌し、水溶液とした。この水溶液をZrO2
粉に含浸させた後、余剰の水溶液を取り除き乾燥した。
この操作を3回繰り返した後、800°Cで3時間焼成
して触媒17を得た。
3 ・6H2 Oを129.9g、Sr(NO3)2 を42.
3g、Co(NO3)2 ・6H2 Oを116.4g、Mn
(NO3)2 ・6H2Oを28.7gおよび水を1リット
ル入れて攪拌し、水溶液とした。この水溶液をZrO2
粉に含浸させた後、余剰の水溶液を取り除き乾燥した。
この操作を3回繰り返した後、800°Cで3時間焼成
して触媒17を得た。
【0039】(製造例18)ビーカーに、La(NO3)
3 ・6H2 Oを14.7g、Sr(NO3)2 を1.8
g、Co(NO3)2 ・6H2 Oを12.4gおよび水を
1リットル入れて攪拌し、水溶液とした。この水溶液中
のLa、Sr、Coの原子比は、8:2:10である。
次いで、この溶液中に、TiO2 粉100gを混合した
後、沈澱剤として250g/リットルの炭酸ナトリウム
水溶液を溶液のpHが8になるまで添加して、沈澱物を
生成させた。生成した沈澱物を充分に水洗した後、11
0°Cで乾燥し、800°Cで3時間焼成した。得られ
た焼成物をRh担持後の触媒中のRhの重量分率が1重
量%とになる量のRhを含有するRhCl3 水溶液に浸
漬し、攪拌しながら理論量の1.2倍のヒドラジンを加
えてRhCl3 を還元した後、ろ別、水洗、乾燥してR
hを担持した触媒18を得た。
3 ・6H2 Oを14.7g、Sr(NO3)2 を1.8
g、Co(NO3)2 ・6H2 Oを12.4gおよび水を
1リットル入れて攪拌し、水溶液とした。この水溶液中
のLa、Sr、Coの原子比は、8:2:10である。
次いで、この溶液中に、TiO2 粉100gを混合した
後、沈澱剤として250g/リットルの炭酸ナトリウム
水溶液を溶液のpHが8になるまで添加して、沈澱物を
生成させた。生成した沈澱物を充分に水洗した後、11
0°Cで乾燥し、800°Cで3時間焼成した。得られ
た焼成物をRh担持後の触媒中のRhの重量分率が1重
量%とになる量のRhを含有するRhCl3 水溶液に浸
漬し、攪拌しながら理論量の1.2倍のヒドラジンを加
えてRhCl3 を還元した後、ろ別、水洗、乾燥してR
hを担持した触媒18を得た。
【0040】(製造例19)製造例1で得たゼオライト
50gを15.2g/リットルの硝酸銅 (II) 水溶液5
00ミリリットルに入れて充分に攪拌混合した後、これ
に水酸化ナトリウム水溶液を液のpHが8になるまで加
えて沈澱物を生成させた。この沈澱物をろ別、水洗、乾
燥した後500°Cで3時間焼成して触媒19を得た。
50gを15.2g/リットルの硝酸銅 (II) 水溶液5
00ミリリットルに入れて充分に攪拌混合した後、これ
に水酸化ナトリウム水溶液を液のpHが8になるまで加
えて沈澱物を生成させた。この沈澱物をろ別、水洗、乾
燥した後500°Cで3時間焼成して触媒19を得た。
【0041】(製造例20)製造例2で得たゼオライト
50gを18.2g/リットルの硝酸コバルト水溶液5
00ミリリットルに入れて充分に攪拌した後、製造例1
9と同様にして触媒20を得た。
50gを18.2g/リットルの硝酸コバルト水溶液5
00ミリリットルに入れて充分に攪拌した後、製造例1
9と同様にして触媒20を得た。
【0042】(製造例21)製造例3で得たゼオライト
50gを18.2g/リットルの硝酸マンガン水溶液5
00ミリリットルに入れて充分に攪拌した後、製造例1
9と同様にして触媒21を得た。
50gを18.2g/リットルの硝酸マンガン水溶液5
00ミリリットルに入れて充分に攪拌した後、製造例1
9と同様にして触媒21を得た。
【0043】(製造例22)製造例4で得たゼオライト
50gをV205換算で142g/リットルのシュウ酸バ
ナジルを含有する水溶液に浸漬し、過剰の水溶液を取り
除いた後、乾燥し、次いで500°Cで3時間焼成して
触媒22を得た。
50gをV205換算で142g/リットルのシュウ酸バ
ナジルを含有する水溶液に浸漬し、過剰の水溶液を取り
除いた後、乾燥し、次いで500°Cで3時間焼成して
触媒22を得た。
【0044】(製造例23)製造例1で得たゼオライト
50gをMoO3 換算で142g/リットルのモリブデ
ン酸アンモニウム水溶液に浸漬し、その後、製造例22
と同様にして触媒23を得た。
50gをMoO3 換算で142g/リットルのモリブデ
ン酸アンモニウム水溶液に浸漬し、その後、製造例22
と同様にして触媒23を得た。
【0045】(製造例24)製造例6で得た焼成物50
gを15.7g/リットルの硝酸銅(II)水溶液500ミ
リリットルに入れて充分に攪拌混合した後、これに水酸
化ナトリウム水溶液を液のpHが8になるまで加えて沈
澱物を生成させた。この沈澱物をろ別、水洗、乾燥した
後500°Cで3時間焼成して触媒24を得た。
gを15.7g/リットルの硝酸銅(II)水溶液500ミ
リリットルに入れて充分に攪拌混合した後、これに水酸
化ナトリウム水溶液を液のpHが8になるまで加えて沈
澱物を生成させた。この沈澱物をろ別、水洗、乾燥した
後500°Cで3時間焼成して触媒24を得た。
【0046】(製造例25)製造例24において硝酸銅
に代えて36.6g/リットルの硝酸亜鉛水溶液を用い
たこと以外は製造例24と同様にして触媒25を得た。
に代えて36.6g/リットルの硝酸亜鉛水溶液を用い
たこと以外は製造例24と同様にして触媒25を得た。
【0047】(製造例26)製造例7で得た焼成物50
gを5.1g/リットルの硝酸鉄(III) 水溶液500ミ
リリットルに入れて充分に攪拌混合した後、これに水酸
化ナトリウム水溶液を液のpHが8になるまで加えて沈
澱物を生成させた。次いで、この沈澱物をろ別、水洗、
乾燥した後500°Cで3時間焼成して触媒26を得
た。
gを5.1g/リットルの硝酸鉄(III) 水溶液500ミ
リリットルに入れて充分に攪拌混合した後、これに水酸
化ナトリウム水溶液を液のpHが8になるまで加えて沈
澱物を生成させた。次いで、この沈澱物をろ別、水洗、
乾燥した後500°Cで3時間焼成して触媒26を得
た。
【0048】(実施例27)実施例26において硝酸鉄
(III) に代えて39.5g/リットルの硝酸クロム水溶
液を用いたこと以外は実施例26と同様にして触媒27
を得た。
(III) に代えて39.5g/リットルの硝酸クロム水溶
液を用いたこと以外は実施例26と同様にして触媒27
を得た。
【0049】(製造例28)製造例8で得た焼成物50
gを39.0g/リットルの硝酸ニッケル水溶液500
ミリリットルに入れて充分に攪拌混合した後、これに水
酸化ナトリウム水溶液を液のpHが8になるまで加えて
沈澱物を生成させた。この沈澱物をろ別、水洗、乾燥し
た後500°Cで3時間焼成して触媒28を得た。
gを39.0g/リットルの硝酸ニッケル水溶液500
ミリリットルに入れて充分に攪拌混合した後、これに水
酸化ナトリウム水溶液を液のpHが8になるまで加えて
沈澱物を生成させた。この沈澱物をろ別、水洗、乾燥し
た後500°Cで3時間焼成して触媒28を得た。
【0050】(製造例29)製造例28において硝酸ニ
ッケルに代えて20.2g/リットルのシュウ酸ニオブ
水溶液を用いたこと以外は製造例28と同様にして触媒
29を得た。
ッケルに代えて20.2g/リットルのシュウ酸ニオブ
水溶液を用いたこと以外は製造例28と同様にして触媒
29を得た。
【0051】(製造例30)ナトリウム型モルデナイト
の市販品(日本化学社製、商品名「NM−100P」)
100gを0.05モル/リットルのCaCl2 水溶液
1リットルに浸漬し、24時間攪拌してNaイオンをC
aイオンにイオン交換した後、ろ別、水洗してゼオライ
トのケーキを得た。次いでこのケーキを乾燥した後、6
50°Cで4時間焼成した。イオン交換率は70%であ
った。このゼオライト50gを15.2g/リットルの
硝酸銅(II)水溶液500ミリリットルに入れて、充分に
攪拌混合した後、これに水酸化ナトリウム水溶液を液の
pHが8になるまで加えて沈澱物を生成せしめ、次いで
この沈澱物を500°Cで3時間焼成して、触媒30を
得た。
の市販品(日本化学社製、商品名「NM−100P」)
100gを0.05モル/リットルのCaCl2 水溶液
1リットルに浸漬し、24時間攪拌してNaイオンをC
aイオンにイオン交換した後、ろ別、水洗してゼオライ
トのケーキを得た。次いでこのケーキを乾燥した後、6
50°Cで4時間焼成した。イオン交換率は70%であ
った。このゼオライト50gを15.2g/リットルの
硝酸銅(II)水溶液500ミリリットルに入れて、充分に
攪拌混合した後、これに水酸化ナトリウム水溶液を液の
pHが8になるまで加えて沈澱物を生成せしめ、次いで
この沈澱物を500°Cで3時間焼成して、触媒30を
得た。
【0052】(製造例31)カリウム型A型ゼオライト
の市販品(日本化学社製、商品名「KA−100P」)
100gを0.05モル/リットルのMgCl2 水溶液
1リットルに浸漬し、24時間攪拌してKイオンをMg
イオンにイオン交換した後、ろ別、水洗してゼオライト
のケーキを得た。次いでこのケーキを乾燥した後、65
0°Cで4時間焼成した。イオン交換率は64%であっ
た。このゼオライト50gを18.2g/リットルの硝
酸コバルト水溶液500ミリリットルに入れて、充分に
攪拌混合した後、これに水酸化ナトリウム水溶液を液の
pHが8になるまで加えて沈澱物を生成させ、この沈澱
物を500°Cで3時間焼成して、触媒31を得た。
の市販品(日本化学社製、商品名「KA−100P」)
100gを0.05モル/リットルのMgCl2 水溶液
1リットルに浸漬し、24時間攪拌してKイオンをMg
イオンにイオン交換した後、ろ別、水洗してゼオライト
のケーキを得た。次いでこのケーキを乾燥した後、65
0°Cで4時間焼成した。イオン交換率は64%であっ
た。このゼオライト50gを18.2g/リットルの硝
酸コバルト水溶液500ミリリットルに入れて、充分に
攪拌混合した後、これに水酸化ナトリウム水溶液を液の
pHが8になるまで加えて沈澱物を生成させ、この沈澱
物を500°Cで3時間焼成して、触媒31を得た。
【0053】(製造例32)ナトリウム型X型ゼオライ
トの市販品(日本化学社製、商品名「NX−100
P」)100gを0.05モル/リットルのSrCl2
水溶液1リットルに浸漬し、24時間攪拌してNaイオ
ンをSrイオンにイオン交換した後、ろ別、水洗してゼ
オライトのケーキを得た。次いで、このケーキを乾燥し
た後、650°Cで4時間焼成した。イオン交換率は7
5%であった。 このゼオライト50gを39.0g/
リットルの硝酸ニッケル水溶液500ミリリットルに入
れて、充分に攪拌混合した後、これに水酸化ナトリウム
水溶液を液のpHが8になるまで加えて沈澱物を生成さ
せた。 次いで、この沈澱物を500°Cで3時間焼成
して、触媒32を得た。
トの市販品(日本化学社製、商品名「NX−100
P」)100gを0.05モル/リットルのSrCl2
水溶液1リットルに浸漬し、24時間攪拌してNaイオ
ンをSrイオンにイオン交換した後、ろ別、水洗してゼ
オライトのケーキを得た。次いで、このケーキを乾燥し
た後、650°Cで4時間焼成した。イオン交換率は7
5%であった。 このゼオライト50gを39.0g/
リットルの硝酸ニッケル水溶液500ミリリットルに入
れて、充分に攪拌混合した後、これに水酸化ナトリウム
水溶液を液のpHが8になるまで加えて沈澱物を生成さ
せた。 次いで、この沈澱物を500°Cで3時間焼成
して、触媒32を得た。
【0054】(製造例33)ビーカーにAl(NO3)3
・9H2 O を3.13gおよび水を100ミリリット
ル入れ、マグネチックスターラーで攪拌して溶解しなが
ら、臭化テトラプロピルアンモニウム7.98gと、シ
リカゾル水溶液(SiO2 :31重量%、Na2 O:
0.4重量%、Al2 O3 :0.03重量%を含有する
水溶液)60gとを加えた。次いで、この溶液に、水酸
化ナトリウム3.12gを40ミリリットルの水に溶解
した水酸化ナトリウム水溶液を攪拌しながら徐々に加え
た。この混合液をオートクレーブに仕込み、160°C
で72時間、攪拌を加えて結晶化させた。この生成物を
固液分離した後、固形物を水洗、乾燥してZSM−5ゼ
オライトを得た。このZSM−5ゼオライトを、0.0
5モル/リットルのBaCl2 水溶液に入れて、24時
間攪拌して、NaイオンをBaイオンでイオン交換した
後、ろ別、水洗、乾燥し、次いで650°Cで4時間焼
成した。このゼオライト50gを25.3g/リットル
の硝酸鉄(III) 水溶液500ミリリットルに入れて、充
分に攪拌混合した後、これに水酸化ナトリウム水溶液を
液のpHが8になるまで加えて沈澱物を生成せしめ、次
いでこの沈澱物を500°Cで3時間焼成して、触媒3
3を得た。
・9H2 O を3.13gおよび水を100ミリリット
ル入れ、マグネチックスターラーで攪拌して溶解しなが
ら、臭化テトラプロピルアンモニウム7.98gと、シ
リカゾル水溶液(SiO2 :31重量%、Na2 O:
0.4重量%、Al2 O3 :0.03重量%を含有する
水溶液)60gとを加えた。次いで、この溶液に、水酸
化ナトリウム3.12gを40ミリリットルの水に溶解
した水酸化ナトリウム水溶液を攪拌しながら徐々に加え
た。この混合液をオートクレーブに仕込み、160°C
で72時間、攪拌を加えて結晶化させた。この生成物を
固液分離した後、固形物を水洗、乾燥してZSM−5ゼ
オライトを得た。このZSM−5ゼオライトを、0.0
5モル/リットルのBaCl2 水溶液に入れて、24時
間攪拌して、NaイオンをBaイオンでイオン交換した
後、ろ別、水洗、乾燥し、次いで650°Cで4時間焼
成した。このゼオライト50gを25.3g/リットル
の硝酸鉄(III) 水溶液500ミリリットルに入れて、充
分に攪拌混合した後、これに水酸化ナトリウム水溶液を
液のpHが8になるまで加えて沈澱物を生成せしめ、次
いでこの沈澱物を500°Cで3時間焼成して、触媒3
3を得た。
【0055】(製造例34)製造例30において硝酸銅
(II)水溶液に代えて36.4g/リットルの硝酸マンガ
ンを用いたこと以外は製造例30と同様にして触媒34
を得た。
(II)水溶液に代えて36.4g/リットルの硝酸マンガ
ンを用いたこと以外は製造例30と同様にして触媒34
を得た。
【0056】(製造例35)ビーカーにAl(NO3)3
・9H2 O を3.13gおよび水を100ミリリット
ル入れ、マグネチックスターラーで攪拌して溶解しなが
ら、臭化テトラプロピルアンモニウム7.98gと、シ
リカゾル水溶液(SiO2 :31重量%、Na2 O:
0.4重量%、Al2 O3 :0.03重量%を含有する
水溶液)60gとを加えた。次いで、この溶液に、水酸
化ナトリウム3.12gを40ミリリットルの水に溶解
した水酸化ナトリウム水溶液を攪拌しながら徐々に加え
た。この混合液をオートクレーブに仕込み、160°C
で72時間、攪拌を加えて結晶化させた。この生成物を
固液分離した後、固形物を水洗、乾燥してZSM−5ゼ
オライト(SiO2 /Al2 O3 =70)を得た。この
ZSM−5ゼオライトを、0.05モル/リットルの酢
酸銅の水溶液に入れて、24時間攪拌した後、遠心分離
した。上記操作を合計3回繰り返し行った後、純水で5
回水洗し、次いで110°Cで約12時間乾燥して触媒
35を得た。
・9H2 O を3.13gおよび水を100ミリリット
ル入れ、マグネチックスターラーで攪拌して溶解しなが
ら、臭化テトラプロピルアンモニウム7.98gと、シ
リカゾル水溶液(SiO2 :31重量%、Na2 O:
0.4重量%、Al2 O3 :0.03重量%を含有する
水溶液)60gとを加えた。次いで、この溶液に、水酸
化ナトリウム3.12gを40ミリリットルの水に溶解
した水酸化ナトリウム水溶液を攪拌しながら徐々に加え
た。この混合液をオートクレーブに仕込み、160°C
で72時間、攪拌を加えて結晶化させた。この生成物を
固液分離した後、固形物を水洗、乾燥してZSM−5ゼ
オライト(SiO2 /Al2 O3 =70)を得た。この
ZSM−5ゼオライトを、0.05モル/リットルの酢
酸銅の水溶液に入れて、24時間攪拌した後、遠心分離
した。上記操作を合計3回繰り返し行った後、純水で5
回水洗し、次いで110°Cで約12時間乾燥して触媒
35を得た。
【0057】(製造例36)Al2 O3 100gをPt
担持後の触媒中のPtの重量分率が1重量%となるよう
に調製したH2 PtCl6 水溶液中に浸漬し、過剰の水
分を取り除いた後、110°Cにて乾燥して触媒36を
得た。
担持後の触媒中のPtの重量分率が1重量%となるよう
に調製したH2 PtCl6 水溶液中に浸漬し、過剰の水
分を取り除いた後、110°Cにて乾燥して触媒36を
得た。
【0058】(2)実施例1〜34 製造例1〜34で得た触媒1〜34について、下記の条
件で、ガス中の窒素酸化物の接触還元を行い、このとき
の窒素酸化物のN2 への転換率を、ガスクロマトグラフ
法によりN2 を定量して算出した。 (試験条件) (1)ガス組成 NO 1容量% O2 10容量% 還元剤 1容量% He 残部 (2)空間速度 1000 1/Hr (3)反応温度 300°C、400°C、500°C
または600°C 結果を表1および2に示す。
件で、ガス中の窒素酸化物の接触還元を行い、このとき
の窒素酸化物のN2 への転換率を、ガスクロマトグラフ
法によりN2 を定量して算出した。 (試験条件) (1)ガス組成 NO 1容量% O2 10容量% 還元剤 1容量% He 残部 (2)空間速度 1000 1/Hr (3)反応温度 300°C、400°C、500°C
または600°C 結果を表1および2に示す。
【0059】
【表1】
【0060】
【表2】 (3)比較例1〜3
【0061】(比較例1)製造例35で得た触媒35を
用いて下記の試験条件により窒素酸化物含有ガスの窒素
酸化物接触分解を行い、窒素酸化物のN2 への転換率を
ガスクロマトグラフ法によりN2 を定量して算出した。 (試験条件) (1)ガス組成 NO 1容量% O2 10容量% He 残部 (2)空間速度 1000 1/Hr (3)反応温度 300°C、400°C、500°C
または600°C
用いて下記の試験条件により窒素酸化物含有ガスの窒素
酸化物接触分解を行い、窒素酸化物のN2 への転換率を
ガスクロマトグラフ法によりN2 を定量して算出した。 (試験条件) (1)ガス組成 NO 1容量% O2 10容量% He 残部 (2)空間速度 1000 1/Hr (3)反応温度 300°C、400°C、500°C
または600°C
【0062】(比較例2)製造例36で得た触媒36を
用いて下記の試験条件により窒素酸化物含有ガスの窒素
酸化物接触還元を行い、窒素酸化物のN2 への転換率を
ガスクロマトグラフ法によりN2 を定量して算出した。 (試験条件) (1)ガス組成 NO 1容量% CO 1容量% O2 10容量% He 残部 (2)空間速度 1000 1/Hr (3)反応温度 300°C、400°C、500°C
または600°C
用いて下記の試験条件により窒素酸化物含有ガスの窒素
酸化物接触還元を行い、窒素酸化物のN2 への転換率を
ガスクロマトグラフ法によりN2 を定量して算出した。 (試験条件) (1)ガス組成 NO 1容量% CO 1容量% O2 10容量% He 残部 (2)空間速度 1000 1/Hr (3)反応温度 300°C、400°C、500°C
または600°C
【0063】(比較例3)比較例2の試験条件において
COの代わりにH2 1容量%使用したこと以外は比較例
2と同様にして試験を行った。比較例1〜3の結果を表
3に示す。
COの代わりにH2 1容量%使用したこと以外は比較例
2と同様にして試験を行った。比較例1〜3の結果を表
3に示す。
【0064】
【表3】 表1〜3より、本発明に係るアルコール類を還元剤とし
て使用する方法(実施例1〜34)は、還元剤を使用す
ることなく触媒により直接分解する方法(比較例1)
や、還元剤としてCOやH2 を使用する方法(比較例2
および3)に比べて、窒素酸化物のN2 への転換率が極
めて高いことが分かる。
て使用する方法(実施例1〜34)は、還元剤を使用す
ることなく触媒により直接分解する方法(比較例1)
や、還元剤としてCOやH2 を使用する方法(比較例2
および3)に比べて、窒素酸化物のN2 への転換率が極
めて高いことが分かる。
【0065】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
係るアルコール類を還元剤として使用する窒素酸化物の
接触還元方法は、排気ガス中の窒素酸化物を効率良く接
触還元することができるなど、本発明は優れた特有の効
果を奏する。
係るアルコール類を還元剤として使用する窒素酸化物の
接触還元方法は、排気ガス中の窒素酸化物を効率良く接
触還元することができるなど、本発明は優れた特有の効
果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01D 53/86 ZAB B01J 23/42 ZAB A 23/44 ZAB A 23/46 ZAB A 311 A 23/50 ZAB A 23/63 ZAB 23/84 ZAB A 23/889 23/89 ZAB A 29/14 ZAB A 29/18 ZAB A 29/22 ZAB A 29/24 ZAB A 29/26 ZAB A 29/46 ZAB A 29/76 ZAB A B01D 53/34 129 B 53/36 ZAB 102 C 102 H B01J 23/56 ZAB A 301 A 23/84 311 A (72)発明者 仲辻 忠夫 大阪府堺市戎島町5丁1番地 堺化学工業 株式会社内 (72)発明者 清水 宏益 大阪府堺市戎島町5丁1番地 堺化学工業 株式会社内 (72)発明者 菅沼 藤夫 埼玉県北葛飾郡庄和町新宿新田228−16 (72)発明者 田畑 光紀 埼玉県幸手市権現堂1134−2 (72)発明者 浜田 秀昭 茨城県つくば市東1−1 工業技術院化学 技術研究所内 (72)発明者 伊藤 建彦 茨城県つくば市東1−1 工業技術院化学 技術研究所内
Claims (1)
- 【請求項1】排気ガス中の窒素酸化物を触媒の存在下で
還元剤により選択的に接触還元する方法において、前記
還元剤としてアルコール類を用いることを特徴とする窒
素酸化物の接触還元方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3043006A JPH08150324A (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 窒素酸化物の接触還元方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3043006A JPH08150324A (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 窒素酸化物の接触還元方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08150324A true JPH08150324A (ja) | 1996-06-11 |
Family
ID=12651908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3043006A Pending JPH08150324A (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 窒素酸化物の接触還元方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08150324A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005254217A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 窒素酸化物除去触媒 |
| JP2008161812A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Asahi Kasei Corp | 自動車排NOx浄化用触媒及び排NOx浄化方法 |
| GB2455181A (en) * | 2007-11-29 | 2009-06-03 | Gen Electric | Methods and systems for reducing the emissions from combustion gases |
| WO2014087910A1 (ja) * | 2012-12-03 | 2014-06-12 | 日立造船株式会社 | 燃焼排ガス浄化用触媒およびこの触媒を用いる脱硝浄化方法 |
| US9492814B2 (en) | 2013-04-08 | 2016-11-15 | Saudi Basic Industries Corporation | Catalyst for conversion of propylene to product comprising a carboxylic acid moiety |
| JP2017192940A (ja) * | 2017-07-21 | 2017-10-26 | 三菱重工業株式会社 | 排ガス処理用触媒及び排ガス処理装置、並びに排ガス処理用触媒の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5812047A (ja) * | 1981-07-15 | 1983-01-24 | Hitachi Ltd | フアイル移行方式 |
| JPH02233124A (ja) * | 1989-03-03 | 1990-09-14 | Hitachi Zosen Corp | 窒素酸化物の除去方法 |
-
1991
- 1991-02-14 JP JP3043006A patent/JPH08150324A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5812047A (ja) * | 1981-07-15 | 1983-01-24 | Hitachi Ltd | フアイル移行方式 |
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| GB2455181B (en) * | 2007-11-29 | 2012-12-26 | Gen Electric | Methods and systems for reducing the emissions from combustion gases |
| WO2014087910A1 (ja) * | 2012-12-03 | 2014-06-12 | 日立造船株式会社 | 燃焼排ガス浄化用触媒およびこの触媒を用いる脱硝浄化方法 |
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| JP2017192940A (ja) * | 2017-07-21 | 2017-10-26 | 三菱重工業株式会社 | 排ガス処理用触媒及び排ガス処理装置、並びに排ガス処理用触媒の製造方法 |
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