JPH0815060A - トルクセンサ用磁歪膜およびその製造方法 - Google Patents
トルクセンサ用磁歪膜およびその製造方法Info
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- JPH0815060A JPH0815060A JP16891194A JP16891194A JPH0815060A JP H0815060 A JPH0815060 A JP H0815060A JP 16891194 A JP16891194 A JP 16891194A JP 16891194 A JP16891194 A JP 16891194A JP H0815060 A JPH0815060 A JP H0815060A
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- magnetostrictive
- shaft
- phase
- film
- torque sensor
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高感度でかつ低ヒステリシスなトルクセンサ
用磁歪膜およびその製造方法を提供する。 【構成】 軸の表面に磁気歪効果を有する磁歪膜を形成
することで、軸に加えられたねじりトルクを検出する磁
歪式トルクセンサに用いられる磁歪膜として、少なくと
もその表面部において、例えば、Fe−Ni系、Co−
Ni系、Fe−A1系などの主として磁歪効果を示す相
が、これらの磁歪合金のホウ化物またはホウ珪化物など
からなる主として硬さの効果を示す相よりなるマトリッ
クス中に微分散してなる複合組織を有する。
用磁歪膜およびその製造方法を提供する。 【構成】 軸の表面に磁気歪効果を有する磁歪膜を形成
することで、軸に加えられたねじりトルクを検出する磁
歪式トルクセンサに用いられる磁歪膜として、少なくと
もその表面部において、例えば、Fe−Ni系、Co−
Ni系、Fe−A1系などの主として磁歪効果を示す相
が、これらの磁歪合金のホウ化物またはホウ珪化物など
からなる主として硬さの効果を示す相よりなるマトリッ
クス中に微分散してなる複合組織を有する。
Description
【産業上の利用分野】本発明は、磁性合金の逆磁歪効果
を利用して、動力伝達軸としてのシャフトに伝わるトル
クを非接触で測定する磁歪式トルクセンサに用いられる
磁歪膜およびその製造方法に関する。
を利用して、動力伝達軸としてのシャフトに伝わるトル
クを非接触で測定する磁歪式トルクセンサに用いられる
磁歪膜およびその製造方法に関する。
【従来の技術】強磁性体は、磁化されるとその寸法が微
小変形し、逆に外力を加え弾性変形を与えるとその透磁
率が変化する性質を有する。前者を磁歪効果、後者を逆
磁歪効果という。これらの効果の大きさの目安として
は、飽和磁歪係数λs が用いられる。上記逆磁歪効果を
利用して、回転軸に加えられたトルクを磁気的に検出す
るセンサを磁歪式トルクセンサという。一般に、原動
機、工作機械等に用いられる動力伝達軸(シャフト)に
おいては、出力制御または動力変動制御のため、シャフ
トに加わるトルクが計測されている。このトルクの計測
には磁歪式トルクセンサが用いられている。従来、磁歪
式トルクセンサに用いられている磁歪式トルク検出部付
きシャフトとして、特開昭63−81993号公報に示
すように、シャフト自体を、磁歪効果を有する鋼製シ
ャフトで構成したシャフトが知られている。また、特開
昭59−166827号公報に示すように、シャフト
の表面に、磁性金属薄帯を合成樹脂系接着剤等によって
固定して、磁歪式トルク検出部としての磁歪膜を形成し
たシャフトも知られている。このシャフトからトルクを
検出するには、シャフトに作用するトルクによる応力を
磁歪膜まで伝達させ、このときの磁歪膜の逆磁歪効果に
よる透磁率の変化を外部から非接触で検出する。また、
シャフトの表面にニッケル膜をメッキ法や、蒸着法あ
るいはスパッタ法で形成する方法も知られている。さら
に特開平4−346043号には、Ni−Fe系磁歪
膜をプラズマ溶射法などの溶射法によりシャフト表面に
形成し、無酸化雰囲気中にて900〜1100℃で加熱
拡散処理を行なうことが、また上記特開平5−5267
8号公報には、同様にFe−Co系磁歪膜をプラズマ溶
射法により形成したのち、無酸化雰囲気中にて800〜
850℃で加熱拡散処理を行なうことが開示されてい
る。
小変形し、逆に外力を加え弾性変形を与えるとその透磁
率が変化する性質を有する。前者を磁歪効果、後者を逆
磁歪効果という。これらの効果の大きさの目安として
は、飽和磁歪係数λs が用いられる。上記逆磁歪効果を
利用して、回転軸に加えられたトルクを磁気的に検出す
るセンサを磁歪式トルクセンサという。一般に、原動
機、工作機械等に用いられる動力伝達軸(シャフト)に
おいては、出力制御または動力変動制御のため、シャフ
トに加わるトルクが計測されている。このトルクの計測
には磁歪式トルクセンサが用いられている。従来、磁歪
式トルクセンサに用いられている磁歪式トルク検出部付
きシャフトとして、特開昭63−81993号公報に示
すように、シャフト自体を、磁歪効果を有する鋼製シ
ャフトで構成したシャフトが知られている。また、特開
昭59−166827号公報に示すように、シャフト
の表面に、磁性金属薄帯を合成樹脂系接着剤等によって
固定して、磁歪式トルク検出部としての磁歪膜を形成し
たシャフトも知られている。このシャフトからトルクを
検出するには、シャフトに作用するトルクによる応力を
磁歪膜まで伝達させ、このときの磁歪膜の逆磁歪効果に
よる透磁率の変化を外部から非接触で検出する。また、
シャフトの表面にニッケル膜をメッキ法や、蒸着法あ
るいはスパッタ法で形成する方法も知られている。さら
に特開平4−346043号には、Ni−Fe系磁歪
膜をプラズマ溶射法などの溶射法によりシャフト表面に
形成し、無酸化雰囲気中にて900〜1100℃で加熱
拡散処理を行なうことが、また上記特開平5−5267
8号公報には、同様にFe−Co系磁歪膜をプラズマ溶
射法により形成したのち、無酸化雰囲気中にて800〜
850℃で加熱拡散処理を行なうことが開示されてい
る。
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の磁歪式トルクセンサにおいては、次に示す問
題点を有している。まず、シャフト自体の磁歪効果を
利用した磁歪式トルク検出部付きシャフトでは、磁歪膜
を別途設けたシャフトに比較して磁歪効果が低く、結果
としてトルク検出の感度が低いという問題点を有してい
る。そのため、このシャフトを用いたトルクセンサで
は、処理回路が複雑かつ高価になる。一方、また、磁
歪膜を別途設けたシャフトでは、磁歪膜を接着剤で接着
していることから、磁歪膜そのものに耐食性をもたせる
ことができるものの、十分な磁歪膜とシャフトとの接合
強度が得られず、信頼性にかけるという問題点を有して
いる。すなわち、このシャフトでは、シャフトへ加えら
れるトルクの大きさ、または、高温多湿の使用環境条件
によっては、磁歪膜とシャフトとの接合が劣化するおそ
れがあり、加えられるトルクと検出される透磁率の変化
との相関関係が崩れてしまい、トルクの検出精度が低下
してしまうおそれがある。このような不都合が生じる原
因は、シャフトに加えられるトルクと合成樹脂系接着剤
の接合強度との比が、トルクが大きくなるにしたがって
小さくなり、シャフトに生じる応力を磁歪膜へ十分に伝
達できなくなるからと想定される。また、合成樹脂系接
着剤自体の経時変化や使用環境温度の熱による劣化等に
起因しているものと想定される。また、シャフトの表
面にニッケル膜をメッキ法、蒸着法、スパッタ法などで
形成する場合、およびプラズマ溶射法によりシャフト
表面にNi−Fe系などの磁歪膜を形成する場合、ヒス
テリシスが小さいと感度が悪く、逆に感度を良くしよう
とするとヒステリシスが大きくなるという問題点があっ
た。なお、これらの方法によって得られた磁歪膜の金属
組織は、1相構造のものである。本発明は、感度の向上
とヒステリシスの低減を同時に達成する磁歪膜を提供す
ることを目的とする。
うな従来の磁歪式トルクセンサにおいては、次に示す問
題点を有している。まず、シャフト自体の磁歪効果を
利用した磁歪式トルク検出部付きシャフトでは、磁歪膜
を別途設けたシャフトに比較して磁歪効果が低く、結果
としてトルク検出の感度が低いという問題点を有してい
る。そのため、このシャフトを用いたトルクセンサで
は、処理回路が複雑かつ高価になる。一方、また、磁
歪膜を別途設けたシャフトでは、磁歪膜を接着剤で接着
していることから、磁歪膜そのものに耐食性をもたせる
ことができるものの、十分な磁歪膜とシャフトとの接合
強度が得られず、信頼性にかけるという問題点を有して
いる。すなわち、このシャフトでは、シャフトへ加えら
れるトルクの大きさ、または、高温多湿の使用環境条件
によっては、磁歪膜とシャフトとの接合が劣化するおそ
れがあり、加えられるトルクと検出される透磁率の変化
との相関関係が崩れてしまい、トルクの検出精度が低下
してしまうおそれがある。このような不都合が生じる原
因は、シャフトに加えられるトルクと合成樹脂系接着剤
の接合強度との比が、トルクが大きくなるにしたがって
小さくなり、シャフトに生じる応力を磁歪膜へ十分に伝
達できなくなるからと想定される。また、合成樹脂系接
着剤自体の経時変化や使用環境温度の熱による劣化等に
起因しているものと想定される。また、シャフトの表
面にニッケル膜をメッキ法、蒸着法、スパッタ法などで
形成する場合、およびプラズマ溶射法によりシャフト
表面にNi−Fe系などの磁歪膜を形成する場合、ヒス
テリシスが小さいと感度が悪く、逆に感度を良くしよう
とするとヒステリシスが大きくなるという問題点があっ
た。なお、これらの方法によって得られた磁歪膜の金属
組織は、1相構造のものである。本発明は、感度の向上
とヒステリシスの低減を同時に達成する磁歪膜を提供す
ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る磁歪膜は、軸の表面に磁気歪効果を有
する磁歪膜を形成することで、軸に加えられたねじりト
ルクを検出する磁歪式トルクセンサに用いられる磁歪膜
であって、前記磁歪膜が、少なくともその表面部におい
て、主として磁歪効果を示す相(以下、磁歪相と称す
る。)と、主として硬さの効果を示す相(以下、硬化相
と称する。)とからなる複合組織を有することを特徴と
する。前記磁歪相としては、Fe−Ni系、Co−Ni
系、Fe−Al系、希土類金属−Fe系、希土類金属−
Co系、およびこれらの複合合金系からなる群から選ば
れてなるいずれかの磁歪合金、または前記したいずれか
の合金系にMo、W、Zr、TaおよびNbからなる群
から選ばれてなる1ないしそれ以上の金属元素を含有し
てなる磁歪合金から構成されるものであることが望まし
い。また、前記硬化相としては、前記磁歪相のホウ化物
またはホウ珪化物より構成されるものであることが望ま
しい。さらに、前記磁歪相が、前記硬化相よりなるマト
リックス中に微分散、より好ましくは直径5〜10μm
程度の結晶粒として微分散された構造を呈するものであ
ることが望ましい。本発明に係る磁歪膜の製造方法は、
Fe−Ni系、Co−Ni系、Fe−Al系、希土類金
属−Fe系、希土類金属−Co系、およびこれらの複合
合金系からなる群から選ばれてなる磁歪合金系、または
前記したいずれかの合金系にMo、W、Zr、Taおよ
びNbからなる群から選ばれてなる1ないしそれ以上の
金属元素を含有してなる磁歪合金系に、Bおよび/また
はSiをさらに添加してなる組成を有する磁歪材料を、
軸表面に付着させ、次いで、前記軸表面に付着させた磁
歪材料を加熱して、前記磁歪材料を磁歪膜として軸表面
に熱融着させると共に、少なくともその表面部におい
て、前記磁歪合金のホウ化物やホウ珪化物からなる硬化
相をマトリックスとし、前記磁歪合金よりなる磁歪相が
これに微細分散されてなる複合組織を形成する。上記加
熱は、軸表面温度1050〜1090℃、加熱時間3〜
6分程度の処理条件により、高周波誘導加熱により行な
われるものであることが望ましい。
に、本発明に係る磁歪膜は、軸の表面に磁気歪効果を有
する磁歪膜を形成することで、軸に加えられたねじりト
ルクを検出する磁歪式トルクセンサに用いられる磁歪膜
であって、前記磁歪膜が、少なくともその表面部におい
て、主として磁歪効果を示す相(以下、磁歪相と称す
る。)と、主として硬さの効果を示す相(以下、硬化相
と称する。)とからなる複合組織を有することを特徴と
する。前記磁歪相としては、Fe−Ni系、Co−Ni
系、Fe−Al系、希土類金属−Fe系、希土類金属−
Co系、およびこれらの複合合金系からなる群から選ば
れてなるいずれかの磁歪合金、または前記したいずれか
の合金系にMo、W、Zr、TaおよびNbからなる群
から選ばれてなる1ないしそれ以上の金属元素を含有し
てなる磁歪合金から構成されるものであることが望まし
い。また、前記硬化相としては、前記磁歪相のホウ化物
またはホウ珪化物より構成されるものであることが望ま
しい。さらに、前記磁歪相が、前記硬化相よりなるマト
リックス中に微分散、より好ましくは直径5〜10μm
程度の結晶粒として微分散された構造を呈するものであ
ることが望ましい。本発明に係る磁歪膜の製造方法は、
Fe−Ni系、Co−Ni系、Fe−Al系、希土類金
属−Fe系、希土類金属−Co系、およびこれらの複合
合金系からなる群から選ばれてなる磁歪合金系、または
前記したいずれかの合金系にMo、W、Zr、Taおよ
びNbからなる群から選ばれてなる1ないしそれ以上の
金属元素を含有してなる磁歪合金系に、Bおよび/また
はSiをさらに添加してなる組成を有する磁歪材料を、
軸表面に付着させ、次いで、前記軸表面に付着させた磁
歪材料を加熱して、前記磁歪材料を磁歪膜として軸表面
に熱融着させると共に、少なくともその表面部におい
て、前記磁歪合金のホウ化物やホウ珪化物からなる硬化
相をマトリックスとし、前記磁歪合金よりなる磁歪相が
これに微細分散されてなる複合組織を形成する。上記加
熱は、軸表面温度1050〜1090℃、加熱時間3〜
6分程度の処理条件により、高周波誘導加熱により行な
われるものであることが望ましい。
【作用】一般に、ヒステリシスが発生する要因として、
磁歪材中の磁壁移動、回転磁化に伴う磁気的不可逆性
と、材料のミクロな塑性変形による二つがある。の
対策としては結晶磁気異方性の低減であり、本発明は、
微小な磁歪相を(できれば非磁性相中に)均一に分散さ
せることで可能とした。また、の対策としては、表面
の材料剛性を向上させること、すなわち表面の硬さを改
良することで達成した。このことを念頭において、この
発明は、具体的に、磁歪効果の大きい系(例えばFe−
Ni、Co−Ni、Fe−Alなど)にホウ化物、ホウ
珪化物などの硬化相ができるようにB、SiまたはM
o、W、Zr、Ta、Nbなどを1種元素以上あらかじ
め含有させ、その材料を例えば溶射法などでシャフトに
付着させておき、その後、磁歪部分を加熱(例えば高周
波加熱)し、磁歪部を磁歪材合金のホウ化物やホウ珪化
物からなる硬化相をマトリックスとし、磁歪効果の大き
い相(例えばFe−Ni相)がそのマトリックス中に微
細分散させる条件でシャフト材に熱溶着させた。また、
大きな磁歪効果をもつ結晶粒を析出させることで高感度
とした。また、5〜10μm程度の微細な磁歪相の結晶
とすることにより、磁気的異方性を小さくしたこと、そ
してマトリックスを形成する硬化相の存在により表面層
の剛性を高めたことにより、低ヒステリシス特性を実現
させた。本発明による磁歪相と硬化相よりなる複合相
は、感度を高めると共に、ヒステリシスの要因を一度に
解決できるため、高感度で低ヒステリシスのトルクセン
サの提供を可能とした。
磁歪材中の磁壁移動、回転磁化に伴う磁気的不可逆性
と、材料のミクロな塑性変形による二つがある。の
対策としては結晶磁気異方性の低減であり、本発明は、
微小な磁歪相を(できれば非磁性相中に)均一に分散さ
せることで可能とした。また、の対策としては、表面
の材料剛性を向上させること、すなわち表面の硬さを改
良することで達成した。このことを念頭において、この
発明は、具体的に、磁歪効果の大きい系(例えばFe−
Ni、Co−Ni、Fe−Alなど)にホウ化物、ホウ
珪化物などの硬化相ができるようにB、SiまたはM
o、W、Zr、Ta、Nbなどを1種元素以上あらかじ
め含有させ、その材料を例えば溶射法などでシャフトに
付着させておき、その後、磁歪部分を加熱(例えば高周
波加熱)し、磁歪部を磁歪材合金のホウ化物やホウ珪化
物からなる硬化相をマトリックスとし、磁歪効果の大き
い相(例えばFe−Ni相)がそのマトリックス中に微
細分散させる条件でシャフト材に熱溶着させた。また、
大きな磁歪効果をもつ結晶粒を析出させることで高感度
とした。また、5〜10μm程度の微細な磁歪相の結晶
とすることにより、磁気的異方性を小さくしたこと、そ
してマトリックスを形成する硬化相の存在により表面層
の剛性を高めたことにより、低ヒステリシス特性を実現
させた。本発明による磁歪相と硬化相よりなる複合相
は、感度を高めると共に、ヒステリシスの要因を一度に
解決できるため、高感度で低ヒステリシスのトルクセン
サの提供を可能とした。
【実施例】以下、本発明に係るトルクセンサ用磁歪膜お
よびその製造方法について、図面を参照しつつ詳細に説
明する。図1に示すように、本発明の一実施態様に係る
磁歪式トルクセンサ用検出体を有するシャフト2は、シ
ャフト2の表面に磁歪膜4が形成され、シャフト2に対
し磁歪膜4が強固に溶融接合されることにより、磁歪式
トルクセンサ用検出体6とされている。シャフト2に形
成された磁歪式トルクセンサ用検出体6は、シャフトの
軸心に対して相互に逆方向に約45度の傾きで傾斜した
二列のスリット状パターンを有する。各パターンが形成
されたシャフト2の外周には、約2mm以上程度の隙間で
励磁コイル(図示せず)が配置してある。これら励磁コ
イルは、数kHzから数百kHzの交流電源(図示して
いない)に接続してある。このため、動力伝達軸として
のシャフト2の表面に形成された磁歪式トルクセンサ用
検出体6としての磁歪膜4,4には十分飽和する交流磁
界が与えられる。励磁コイルの周囲には、シャフトに形
成してある磁歪式トルクセンサ用検出体6の二列のパタ
ーンに対応して、検出コイル8,8が配置してある。検
出コイル8,8の一端同士は接続され、他端はそれぞれ
差動検出手段10に接続してあり、磁歪式トルクセンサ
を構成している。磁歪式トルクセンサ用検出体6を、前
述したようにシャフトの軸心に対して相互に逆方向に約
45度に傾く二列のスリット状パターンに形成すること
で、シャフトが一方向に回転した場合に、一方のパター
ンには圧縮応力が作用し、他方のパターンには引っ張り
応力が作用する。したがって、これらの応力に基づく透
磁率の変化の差を、磁歪式トルクセンサとしての検出コ
イル8,8および差動検出手段10で測定することで、
シャフト2に作用するトルクを検出することができる。
差動検出手段としては、たとえば差動アンプが用いられ
る。なお、上記透磁率の変化の差は磁気ヘッドを用いて
検出してもよい。次に、本発明の一実施態様に係る磁歪
膜の製造方法について説明する。まず図2(A)に示す
ようにシャフト2を準備する。シャフト2としては、特
に限定されないが、たとえばSNCM439、YHD5
0などが用いられる。このシャフト2は、まず洗浄され
る。シャフト2の洗浄後、図2(B)に示すように、シ
ャフト2の所定の軸方向所定位置外周に、トルクセンサ
用検出体を形成するための磁歪膜4を形成仮留めする。
形成仮留めする方法としては、予め原料を溶解して所定
の合金組成を有する磁歪材料のインゴットを形成しこれ
を粉砕して得られた磁歪材料粉末を用いてプラズマ溶射
等の溶射を行なうか、あるいは予め原料を溶解し急冷延
伸して所定の合金組成を有する磁歪材料の薄帯(リボ
ン)を形成しておき、これをシャフトに巻き付けて、ス
ポット溶接などで仮止めすること等により行なわれる
が、前者の方法が最終的に磁歪膜をシャフトにより強固
かつ均一に接合できるために望ましい。なお、このよう
に予め所定の合金組成を有する磁歪材料のインゴットあ
るいはリボンを作成しておくことで、磁歪膜の組成の均
一化が図られ、特に溶射法によった場合においても、各
成分の溶融温度の相違による合金組織のバラツキ、欠陥
の発生といった問題を回避できる。プラズマ溶射法は、
一般にはAr、He、N2 、H2 等のガスでプラズマを
発生させ、そのプラズマ中に被膜形成用の粉末を投入し
溶融させて基材の表面に吹き付けて被膜を形成するもの
であり、所望の層厚、例えば、200〜300μmとな
るまで、必要に応じて溶射操作を繰り返す。なお、この
層厚は、検出磁束の侵入深さと後述するような熱処理後
の被膜の欠陥が少ない厚さ範囲から決まる。被膜が薄す
ぎると基材の影響が表われることになり出力特性の変動
をきたすこととなり、一方、被膜が厚すぎると溶射の厚
さとともに残留応力が発生し仕上げ後に最表面に欠陥が
でやすくなり歩留りの低下につながることから、上記の
範囲の層厚とすることが望まれる。リボンを巻き付ける
態様においても、前記したような層厚となるように巻き
付けられるが、操作性の上からリボンの膜厚は、たとえ
ば50〜100μm程度が好ましい。磁歪膜を形成する
磁歪材料としては、Fe−Ni系、Co−Ni系、Fe
−Al系、希土類金属−Fe系、希土類金属−Co系、
またはこれらの複合合金系、さらにはこれらの合金系に
Mo、W、Zr、Ta、Nbなどの金属元素を1ないし
複数を含有してなる合金系に、ホウ化物、ホウ珪化物な
どの硬化相ができるようにB、Siなどの元素を添加し
てなるものが用いられる。このような磁歪材料として、
具体的には、 Fex By Siz (ただし式中、x +y +z =100、65<x <80、
20<y +z <35、2<y <33である。)、次の一
般式 Fex Niy Mom Bn (ただし式中、x +y +m +n =100、70<x +y
<80、30<x <50、20<m +n <30、2<m
<10である。)、または次の一般式 Fex Coy Bm Sin (ただし式中、x +y +m +n =100、75<x +y
<90、50<x <80、10<m +n <25、9<m
<24である。)なる組成のものが好ましいものとして
例示できる。次に、磁歪膜4を仮留めした状態のシャフ
ト2を、たとえば図3に示すような高周波溶融接合装置
14を用いて、減圧条件下に熱処理する。この装置14
は、シャフト2を収容する真空チャンバー16を有し、
シャフト回転装置18によりシャフト2が回転するよう
になっている。シャフト回転装置18は、回転制御装置
20により制御される。真空チャンバー16内には、シ
ャフト2の外周を高周波加熱するためのコイル22が設
置してある。また、真空チャンバー16には、その内部
を高真空度に維持するためのターボ分子ポンプ24、ロ
ータリポンプ26、その他のポンプ28、および各種制
御バルブが接続してある。コイル22に印加される高周
波は、50〜400kHz、たとえば110kHzであ
り、このコイル22により加熱されるシャフト2の外周
温度は、パイロメータ30などにより制御されるが、1
050〜1090℃程度が適当である。この加熱温度
は、仮留めされた磁歪材を、シャフト2の外周に拡散接
合させるために十分な温度であり、かつ前記したような
磁歪相と硬化相との複合組織を形成させる上から決定さ
れる。このような加熱温度とするために、前記周波数に
おいて、高周波パワーは0.5〜3kWとされる。また
加熱時間は3〜6分程度が適当である。すなわち、加熱
時間が3分未満であると磁歪相と硬化相との複合組織が
発現せず、一方加熱時間が6分を越えるものであると硬
化相のマトリックス中に分散する磁歪相の粒径が大きく
なってしまい、磁気異方性が大きくなり、ヒステリシス
も大きくなってしまう虞れが大きいためである。また減
圧度としては、10-2〜10-5Torr、例えば10-3
Torr程度の真空状態である。なお、Ar等の不活性
ガスを用いて雰囲気ガスを置換することも可能である。
さらに、シャフト2全周にわたりほぼ均一に処理を施す
ために、シャフトを10〜50rpm程度で回転させ
る。このような熱処理により、磁歪膜4とシャフト2と
が強固かつ均一に拡散接合し、また少なくとも磁歪膜4
の表面部において、例えば図5に示すように、磁歪相
と、硬化相とからなる複合組織が形成される。なお、こ
の複合組織において、磁歪相は粒径5〜10μm程度の
微細な組織であることが、磁気異方性が小さく、ヒステ
リシスを低下させる上で望まれる。また、この熱処理時
に、シャフト2から磁歪膜4へのシャフト材成分の拡散
が生じるが、熱処理時間が非常に短時間で行なわれるの
で、拡散は接合界面のみにおいて生じ、磁歪膜4の最表
面近くまで拡散してくることはないので、磁歪膜4の逆
磁歪特性を劣化させることはない。次に、図2(C)に
示すように、非晶質磁歪膜4の表面をシャフト2の外周
に沿って、相互に逆方向に軸心に対して約45度の傾き
で傾斜した二列のスリット状パターンに加工し、トルク
センサ用検出体6,6を形成する。このようなパターン
は、いわゆるシェブロンパターンと称され、このパター
ンを形成するための手段としては、特に限定されない
が、転造などの機械加工法を用いる。このようにして形
成されたトルクセンサ用検出体6,6は、高感度でかつ
低ヒステリシスという優れた性能を有し、かつ非常に強
固にシャフト2に接合しており、また、耐熱性も十分な
ものであるために、特に自動車のエンジンのような高ト
ルク・高温などの過酷な使用環境においても応力−磁気
特性変換の感度および直線性は優れている。なお、本発
明は、上述した実施態様に限定されるものではなく、本
発明の範囲内で種々に改変することができる。たとえ
ば、磁歪膜において、磁歪相と硬化相とよりなる複合組
織を形成するための加熱方法としては、高周波誘導加熱
法に限らず、真空電気炉内加熱法などを用いることもで
きる。また硬化相は、必ずしも磁歪合金のホウ化物また
はホウ珪化物により構成する必要はなく、これ以外にも
例えば炭化物、窒化物により構成することが可能であ
る。次に、本発明のさらに具体的な実施例を、従来例お
よび比較例との対比において説明するが、本発明は、こ
れら実施例に限定されない。実施例 組成Fe40.0Ni38.0Mo3.8 B18.2(原子比)で平均
粒径30μmの合金粉を原料粉末として、直径7.3m
mのFe基シャフト(組成は原子比でFe残;Mn13
%;Cr10%;Ni2.2 %;V2.0 %;Si1.0 %;C
0.6 %)上に溶射法により厚さ300μmで幅35mm
の溶射膜を作成した。溶射条件はプラズマ式溶射機で、
Arガス流量40リットル/min、プラズマ入力パワ
ー500A×70V、合金粉供給速度18g/min、
試料(シャフト)回転速度650rpm、プラズマトー
チ走査速度1.5cm/秒での走査の繰返してあった。
さらに高周波誘導加熱により、Fe基シャフト材と溶射
材の溶融接合を施した。溶融接合の条件は、以下のとお
りである。 シャフト材表面温度:1070℃ 真空度 :10-3Torr 昇温時間 :10秒 加熱時間 :3〜6分 周波数 :130kHz パワー :0.8kW シャフト回転速度 :10rpm 図4は本実施例による負荷トルク−出力特性を示す。ア
ンプのゲインを20倍とした時の±1N・mの感度は9
8.71mVであり、ヒステリシスは0.9%であっ
た。図5は本実施例により作製した検出部(溶射膜部)
の断面組織を示す。5〜10μm程度の微細な相(以下
a相)とマトリックス(以下b相)の2相から成る組織
である。50gfのマイクロビッカーズ硬度計によりそ
れぞれの相の5ケ所ずつの硬度を測定したところ硬度の
平均値はa相374に対しb相569であった。また、
電子線マイクロアナライザーによるそれぞれの相の組成
分析値を表1に示した。a相は、一般に磁歪効果の大き
いパーマロイといわれるFe−Ni相であり、b相は、
同じくFe−Ni相を主成分とし、Moを含んでおり、
さらにBが高濃度に含まれている。別途測定した磁歪相
の粉末X線回折により、磁歪相は、Fe−Ni相の他に
Mo2 FeB2 相であることを明らかにした。従ってb
相は、ホウ化物相であるため大きい硬度となり、a相は
Bの濃度が0であるために小さい硬度になっていると考
えられる。これらのことより、aは主に大きな磁歪効果
を示す相であり、bは磁歪効果も示すが主として表面層
の剛性を上げる相であるといえる。さらにa相は5〜1
0μm程度の微細な組織であることから磁気異方性が小
さくなっていると考えられる。磁気異方性の小ささはヒ
ステリシスを小さくする。以上のことから、高い磁歪効
果をもつa相の存在が感度の増大を発現させ、マトリッ
クスを形成する硬化相であるb相の存在そしてa相の微
細な組織が、低ヒステリシス特性を発現させていること
が明らかである。このような微細な磁歪相を有する2相
構造の組織は特に溶融接合時の温度・時間条件によって
決まり、その範囲はシャフト材表面温度1050〜10
90℃、時間3〜6分のようであった。
よびその製造方法について、図面を参照しつつ詳細に説
明する。図1に示すように、本発明の一実施態様に係る
磁歪式トルクセンサ用検出体を有するシャフト2は、シ
ャフト2の表面に磁歪膜4が形成され、シャフト2に対
し磁歪膜4が強固に溶融接合されることにより、磁歪式
トルクセンサ用検出体6とされている。シャフト2に形
成された磁歪式トルクセンサ用検出体6は、シャフトの
軸心に対して相互に逆方向に約45度の傾きで傾斜した
二列のスリット状パターンを有する。各パターンが形成
されたシャフト2の外周には、約2mm以上程度の隙間で
励磁コイル(図示せず)が配置してある。これら励磁コ
イルは、数kHzから数百kHzの交流電源(図示して
いない)に接続してある。このため、動力伝達軸として
のシャフト2の表面に形成された磁歪式トルクセンサ用
検出体6としての磁歪膜4,4には十分飽和する交流磁
界が与えられる。励磁コイルの周囲には、シャフトに形
成してある磁歪式トルクセンサ用検出体6の二列のパタ
ーンに対応して、検出コイル8,8が配置してある。検
出コイル8,8の一端同士は接続され、他端はそれぞれ
差動検出手段10に接続してあり、磁歪式トルクセンサ
を構成している。磁歪式トルクセンサ用検出体6を、前
述したようにシャフトの軸心に対して相互に逆方向に約
45度に傾く二列のスリット状パターンに形成すること
で、シャフトが一方向に回転した場合に、一方のパター
ンには圧縮応力が作用し、他方のパターンには引っ張り
応力が作用する。したがって、これらの応力に基づく透
磁率の変化の差を、磁歪式トルクセンサとしての検出コ
イル8,8および差動検出手段10で測定することで、
シャフト2に作用するトルクを検出することができる。
差動検出手段としては、たとえば差動アンプが用いられ
る。なお、上記透磁率の変化の差は磁気ヘッドを用いて
検出してもよい。次に、本発明の一実施態様に係る磁歪
膜の製造方法について説明する。まず図2(A)に示す
ようにシャフト2を準備する。シャフト2としては、特
に限定されないが、たとえばSNCM439、YHD5
0などが用いられる。このシャフト2は、まず洗浄され
る。シャフト2の洗浄後、図2(B)に示すように、シ
ャフト2の所定の軸方向所定位置外周に、トルクセンサ
用検出体を形成するための磁歪膜4を形成仮留めする。
形成仮留めする方法としては、予め原料を溶解して所定
の合金組成を有する磁歪材料のインゴットを形成しこれ
を粉砕して得られた磁歪材料粉末を用いてプラズマ溶射
等の溶射を行なうか、あるいは予め原料を溶解し急冷延
伸して所定の合金組成を有する磁歪材料の薄帯(リボ
ン)を形成しておき、これをシャフトに巻き付けて、ス
ポット溶接などで仮止めすること等により行なわれる
が、前者の方法が最終的に磁歪膜をシャフトにより強固
かつ均一に接合できるために望ましい。なお、このよう
に予め所定の合金組成を有する磁歪材料のインゴットあ
るいはリボンを作成しておくことで、磁歪膜の組成の均
一化が図られ、特に溶射法によった場合においても、各
成分の溶融温度の相違による合金組織のバラツキ、欠陥
の発生といった問題を回避できる。プラズマ溶射法は、
一般にはAr、He、N2 、H2 等のガスでプラズマを
発生させ、そのプラズマ中に被膜形成用の粉末を投入し
溶融させて基材の表面に吹き付けて被膜を形成するもの
であり、所望の層厚、例えば、200〜300μmとな
るまで、必要に応じて溶射操作を繰り返す。なお、この
層厚は、検出磁束の侵入深さと後述するような熱処理後
の被膜の欠陥が少ない厚さ範囲から決まる。被膜が薄す
ぎると基材の影響が表われることになり出力特性の変動
をきたすこととなり、一方、被膜が厚すぎると溶射の厚
さとともに残留応力が発生し仕上げ後に最表面に欠陥が
でやすくなり歩留りの低下につながることから、上記の
範囲の層厚とすることが望まれる。リボンを巻き付ける
態様においても、前記したような層厚となるように巻き
付けられるが、操作性の上からリボンの膜厚は、たとえ
ば50〜100μm程度が好ましい。磁歪膜を形成する
磁歪材料としては、Fe−Ni系、Co−Ni系、Fe
−Al系、希土類金属−Fe系、希土類金属−Co系、
またはこれらの複合合金系、さらにはこれらの合金系に
Mo、W、Zr、Ta、Nbなどの金属元素を1ないし
複数を含有してなる合金系に、ホウ化物、ホウ珪化物な
どの硬化相ができるようにB、Siなどの元素を添加し
てなるものが用いられる。このような磁歪材料として、
具体的には、 Fex By Siz (ただし式中、x +y +z =100、65<x <80、
20<y +z <35、2<y <33である。)、次の一
般式 Fex Niy Mom Bn (ただし式中、x +y +m +n =100、70<x +y
<80、30<x <50、20<m +n <30、2<m
<10である。)、または次の一般式 Fex Coy Bm Sin (ただし式中、x +y +m +n =100、75<x +y
<90、50<x <80、10<m +n <25、9<m
<24である。)なる組成のものが好ましいものとして
例示できる。次に、磁歪膜4を仮留めした状態のシャフ
ト2を、たとえば図3に示すような高周波溶融接合装置
14を用いて、減圧条件下に熱処理する。この装置14
は、シャフト2を収容する真空チャンバー16を有し、
シャフト回転装置18によりシャフト2が回転するよう
になっている。シャフト回転装置18は、回転制御装置
20により制御される。真空チャンバー16内には、シ
ャフト2の外周を高周波加熱するためのコイル22が設
置してある。また、真空チャンバー16には、その内部
を高真空度に維持するためのターボ分子ポンプ24、ロ
ータリポンプ26、その他のポンプ28、および各種制
御バルブが接続してある。コイル22に印加される高周
波は、50〜400kHz、たとえば110kHzであ
り、このコイル22により加熱されるシャフト2の外周
温度は、パイロメータ30などにより制御されるが、1
050〜1090℃程度が適当である。この加熱温度
は、仮留めされた磁歪材を、シャフト2の外周に拡散接
合させるために十分な温度であり、かつ前記したような
磁歪相と硬化相との複合組織を形成させる上から決定さ
れる。このような加熱温度とするために、前記周波数に
おいて、高周波パワーは0.5〜3kWとされる。また
加熱時間は3〜6分程度が適当である。すなわち、加熱
時間が3分未満であると磁歪相と硬化相との複合組織が
発現せず、一方加熱時間が6分を越えるものであると硬
化相のマトリックス中に分散する磁歪相の粒径が大きく
なってしまい、磁気異方性が大きくなり、ヒステリシス
も大きくなってしまう虞れが大きいためである。また減
圧度としては、10-2〜10-5Torr、例えば10-3
Torr程度の真空状態である。なお、Ar等の不活性
ガスを用いて雰囲気ガスを置換することも可能である。
さらに、シャフト2全周にわたりほぼ均一に処理を施す
ために、シャフトを10〜50rpm程度で回転させ
る。このような熱処理により、磁歪膜4とシャフト2と
が強固かつ均一に拡散接合し、また少なくとも磁歪膜4
の表面部において、例えば図5に示すように、磁歪相
と、硬化相とからなる複合組織が形成される。なお、こ
の複合組織において、磁歪相は粒径5〜10μm程度の
微細な組織であることが、磁気異方性が小さく、ヒステ
リシスを低下させる上で望まれる。また、この熱処理時
に、シャフト2から磁歪膜4へのシャフト材成分の拡散
が生じるが、熱処理時間が非常に短時間で行なわれるの
で、拡散は接合界面のみにおいて生じ、磁歪膜4の最表
面近くまで拡散してくることはないので、磁歪膜4の逆
磁歪特性を劣化させることはない。次に、図2(C)に
示すように、非晶質磁歪膜4の表面をシャフト2の外周
に沿って、相互に逆方向に軸心に対して約45度の傾き
で傾斜した二列のスリット状パターンに加工し、トルク
センサ用検出体6,6を形成する。このようなパターン
は、いわゆるシェブロンパターンと称され、このパター
ンを形成するための手段としては、特に限定されない
が、転造などの機械加工法を用いる。このようにして形
成されたトルクセンサ用検出体6,6は、高感度でかつ
低ヒステリシスという優れた性能を有し、かつ非常に強
固にシャフト2に接合しており、また、耐熱性も十分な
ものであるために、特に自動車のエンジンのような高ト
ルク・高温などの過酷な使用環境においても応力−磁気
特性変換の感度および直線性は優れている。なお、本発
明は、上述した実施態様に限定されるものではなく、本
発明の範囲内で種々に改変することができる。たとえ
ば、磁歪膜において、磁歪相と硬化相とよりなる複合組
織を形成するための加熱方法としては、高周波誘導加熱
法に限らず、真空電気炉内加熱法などを用いることもで
きる。また硬化相は、必ずしも磁歪合金のホウ化物また
はホウ珪化物により構成する必要はなく、これ以外にも
例えば炭化物、窒化物により構成することが可能であ
る。次に、本発明のさらに具体的な実施例を、従来例お
よび比較例との対比において説明するが、本発明は、こ
れら実施例に限定されない。実施例 組成Fe40.0Ni38.0Mo3.8 B18.2(原子比)で平均
粒径30μmの合金粉を原料粉末として、直径7.3m
mのFe基シャフト(組成は原子比でFe残;Mn13
%;Cr10%;Ni2.2 %;V2.0 %;Si1.0 %;C
0.6 %)上に溶射法により厚さ300μmで幅35mm
の溶射膜を作成した。溶射条件はプラズマ式溶射機で、
Arガス流量40リットル/min、プラズマ入力パワ
ー500A×70V、合金粉供給速度18g/min、
試料(シャフト)回転速度650rpm、プラズマトー
チ走査速度1.5cm/秒での走査の繰返してあった。
さらに高周波誘導加熱により、Fe基シャフト材と溶射
材の溶融接合を施した。溶融接合の条件は、以下のとお
りである。 シャフト材表面温度:1070℃ 真空度 :10-3Torr 昇温時間 :10秒 加熱時間 :3〜6分 周波数 :130kHz パワー :0.8kW シャフト回転速度 :10rpm 図4は本実施例による負荷トルク−出力特性を示す。ア
ンプのゲインを20倍とした時の±1N・mの感度は9
8.71mVであり、ヒステリシスは0.9%であっ
た。図5は本実施例により作製した検出部(溶射膜部)
の断面組織を示す。5〜10μm程度の微細な相(以下
a相)とマトリックス(以下b相)の2相から成る組織
である。50gfのマイクロビッカーズ硬度計によりそ
れぞれの相の5ケ所ずつの硬度を測定したところ硬度の
平均値はa相374に対しb相569であった。また、
電子線マイクロアナライザーによるそれぞれの相の組成
分析値を表1に示した。a相は、一般に磁歪効果の大き
いパーマロイといわれるFe−Ni相であり、b相は、
同じくFe−Ni相を主成分とし、Moを含んでおり、
さらにBが高濃度に含まれている。別途測定した磁歪相
の粉末X線回折により、磁歪相は、Fe−Ni相の他に
Mo2 FeB2 相であることを明らかにした。従ってb
相は、ホウ化物相であるため大きい硬度となり、a相は
Bの濃度が0であるために小さい硬度になっていると考
えられる。これらのことより、aは主に大きな磁歪効果
を示す相であり、bは磁歪効果も示すが主として表面層
の剛性を上げる相であるといえる。さらにa相は5〜1
0μm程度の微細な組織であることから磁気異方性が小
さくなっていると考えられる。磁気異方性の小ささはヒ
ステリシスを小さくする。以上のことから、高い磁歪効
果をもつa相の存在が感度の増大を発現させ、マトリッ
クスを形成する硬化相であるb相の存在そしてa相の微
細な組織が、低ヒステリシス特性を発現させていること
が明らかである。このような微細な磁歪相を有する2相
構造の組織は特に溶融接合時の温度・時間条件によって
決まり、その範囲はシャフト材表面温度1050〜10
90℃、時間3〜6分のようであった。
【表1】 従来例 平均粒径30μmのNi50Fe50(原子比)粉末を原料
として実施例と同一のFe基シャフト材に溶射法により
300μmの厚膜を作製した。溶射条件はプラズマ式溶
射機で、Arガス流量43リットル/min、プラズマ
入力パワー500A×70V、合金粉供給速度20g/
min、試料(シャフト)回転速度700rpm、プラ
ズマトーチ走査速度1.0cm/秒での走査を20回繰
返すものである。さらに実施例と同じ高周波誘導加熱装
置を使用して溶融接合によりシャフト材と溶射材の接合
を行なった。溶融接合の条件は、以下のとおりである。 シャフト材表面温度:1250℃ 真空度 :10-3Torr 加熱時間 :3分30秒 周波数 :130kHz パワー :2.5kW シャフト回転速度 :10rpm 図6は従来例による負荷トルク−出力特性を示す。ゲイ
ン20倍のアンプを通した後の出力は±1N・mで8
5.97mVと比較的感度は高いが、ヒステリシスは
5.82%と大きい。図7は従来例により作製した検出
部(溶射膜部)の断面組織を示す。粒径が7〜8μm程
度の組織である。50gfのマイクロビッカーズ硬度計
により5ケ所測定した硬度の平均値は152であった。
また、電子線マイクロアナライザーによる組成分析値
は、表2のようにFe:50.4原子%、Ni:49.
6原子%であった。従って、硬度が小さいので剛性が小
さくなり、ヒステリシスが大きくなったことが明らかで
ある。
として実施例と同一のFe基シャフト材に溶射法により
300μmの厚膜を作製した。溶射条件はプラズマ式溶
射機で、Arガス流量43リットル/min、プラズマ
入力パワー500A×70V、合金粉供給速度20g/
min、試料(シャフト)回転速度700rpm、プラ
ズマトーチ走査速度1.0cm/秒での走査を20回繰
返すものである。さらに実施例と同じ高周波誘導加熱装
置を使用して溶融接合によりシャフト材と溶射材の接合
を行なった。溶融接合の条件は、以下のとおりである。 シャフト材表面温度:1250℃ 真空度 :10-3Torr 加熱時間 :3分30秒 周波数 :130kHz パワー :2.5kW シャフト回転速度 :10rpm 図6は従来例による負荷トルク−出力特性を示す。ゲイ
ン20倍のアンプを通した後の出力は±1N・mで8
5.97mVと比較的感度は高いが、ヒステリシスは
5.82%と大きい。図7は従来例により作製した検出
部(溶射膜部)の断面組織を示す。粒径が7〜8μm程
度の組織である。50gfのマイクロビッカーズ硬度計
により5ケ所測定した硬度の平均値は152であった。
また、電子線マイクロアナライザーによる組成分析値
は、表2のようにFe:50.4原子%、Ni:49.
6原子%であった。従って、硬度が小さいので剛性が小
さくなり、ヒステリシスが大きくなったことが明らかで
ある。
【表2】 比較例 実施例で使用した組成Fe40.0Ni38.0Mo3.8 B18.2
(原子比)を合金粉末として原料粉末として、直径7.
3mmのFe基シャフトに実施例と同じ条件で溶射を行
った。さらに高周波誘導加熱により、Fe基シャフト材
と溶射材の溶融接合を施した。溶融接合の条件は、以下
の通りである。 シャフト材表面温度:1150℃ 真空度 :10-2Torr 昇温時間 :10秒 加熱時間 :7分10秒 周波数 :130kHz パワー :1.2kW シャフト回転速度 :10rpm 図8は比較例による負荷トルク−出力特性を示す。アン
プのゲインを20倍とした時の±1N・mの感度は9
1.75mVであり、ヒステリシスは2.7%であっ
た。図9は比較例により作製した検出部(溶射膜部)の
断面組織を示す。60μm程度の粒(以下c相)とマト
リックス(以下d相)から成る組織である。50gfの
マイクロビッカーズ硬度計によるそれぞれの相の硬度の
平均値はc相344に対しd相525であった。また、
電子線マイクロアナライザーによるそれぞれの相の組成
分析値を表3に示した。実施例のa相と同様にc相は、
磁歪効果の大きい相であり、またd相は実施例のb相と
同じく、磁歪効果を示すがMo,Bを含む硬い相となっ
ている。しかしc相は60μm程度の大きな粒子の組織
であることから、実施例よりも磁気異方性が大きく、そ
のためヒステリシスも大きくなったと考えられる。
(原子比)を合金粉末として原料粉末として、直径7.
3mmのFe基シャフトに実施例と同じ条件で溶射を行
った。さらに高周波誘導加熱により、Fe基シャフト材
と溶射材の溶融接合を施した。溶融接合の条件は、以下
の通りである。 シャフト材表面温度:1150℃ 真空度 :10-2Torr 昇温時間 :10秒 加熱時間 :7分10秒 周波数 :130kHz パワー :1.2kW シャフト回転速度 :10rpm 図8は比較例による負荷トルク−出力特性を示す。アン
プのゲインを20倍とした時の±1N・mの感度は9
1.75mVであり、ヒステリシスは2.7%であっ
た。図9は比較例により作製した検出部(溶射膜部)の
断面組織を示す。60μm程度の粒(以下c相)とマト
リックス(以下d相)から成る組織である。50gfの
マイクロビッカーズ硬度計によるそれぞれの相の硬度の
平均値はc相344に対しd相525であった。また、
電子線マイクロアナライザーによるそれぞれの相の組成
分析値を表3に示した。実施例のa相と同様にc相は、
磁歪効果の大きい相であり、またd相は実施例のb相と
同じく、磁歪効果を示すがMo,Bを含む硬い相となっ
ている。しかしc相は60μm程度の大きな粒子の組織
であることから、実施例よりも磁気異方性が大きく、そ
のためヒステリシスも大きくなったと考えられる。
【表3】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、磁歪部を、例えば、磁歪材合金のホウ化物やホウ珪
化物などからなる硬化相をマトリックスとし、例えばF
e−Ni、Co−Ni、Fe−Alなどの磁歪効果の大
きい相がそのマトリックス中に微細分散されてなる磁歪
膜を形成できるため、感度の向上とヒステリシスの低減
が同時に達成可能である。
ば、磁歪部を、例えば、磁歪材合金のホウ化物やホウ珪
化物などからなる硬化相をマトリックスとし、例えばF
e−Ni、Co−Ni、Fe−Alなどの磁歪効果の大
きい相がそのマトリックス中に微細分散されてなる磁歪
膜を形成できるため、感度の向上とヒステリシスの低減
が同時に達成可能である。
【図1】磁歪式トルクセンサの概略構成図である。
【図2】本発明の一実施例に係る磁歪式トルクセンサ用
検出体を有するシャフトの製造方法を示す概略図であ
る。
検出体を有するシャフトの製造方法を示す概略図であ
る。
【図3】本発明の一実施例で用いる高周波誘導加熱処理
装置の概略図である。
装置の概略図である。
【図4】本発明の一実施例における負荷トルク−出力特
性を示すグラフである。
性を示すグラフである。
【図5】本発明の一実施例において作製した溶射膜部の
断面組織(金属組織)の顕微鏡写真である。
断面組織(金属組織)の顕微鏡写真である。
【図6】従来例における負荷トルク−出力特性を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図7】従来例において作製した溶射膜部の断面組織
(金属組織)の顕微鏡写真である。
(金属組織)の顕微鏡写真である。
【図8】比較例における負荷トルク−出力特性を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図9】比較例において作製した溶射膜部の断面組織
(金属組織)の顕微鏡写真である。
(金属組織)の顕微鏡写真である。
2… シャフト 4… 磁歪膜 6… 磁歪式トルクセンサ用検出体。
Claims (7)
- 【請求項1】 軸の表面に磁気歪効果を有する磁歪膜を
形成することで、軸に加えられたねじりトルクを検出す
る磁歪式トルクセンサに用いられる磁歪膜であって、前
記磁歪膜が、少なくともその表面部において、主として
磁歪効果を示す相と、主として硬さの効果を示す相とか
らなる複合組織を有することを特徴とするトルクセンサ
用磁歪膜。 - 【請求項2】 前記磁歪効果を示す相が、Fe−Ni
系、Co−Ni系、Fe−Al系、希土類金属−Fe
系、希土類金属−Co系、およびこれらの複合合金系か
らなる群から選ばれてなるいずれかの磁歪合金、または
前記したいずれかの合金系にMo、W、Zr、Taおよ
びNbからなる群から選ばれてなる1ないしそれ以上の
金属元素を含有してなる磁歪合金から構成される請求項
1に記載のトルクセンサ用磁歪膜。 - 【請求項3】 前記硬さの効果を示す相が、前記磁歪合
金のホウ化物またはホウ珪化物より構成される請求項1
または2に記載のトルクセンサ用磁歪膜。 - 【請求項4】 前記磁歪効果を示す相が、前記硬さの効
果を示す相よりなるマトリックス中に微分散された構造
を呈する請求項1〜3のいずれかに記載のトルクセンサ
用磁歪膜。 - 【請求項5】 前記磁歪効果を示す相が、直径5〜10
μm程度の結晶粒として、前記硬さの効果を示す相より
なるマトリックス中に微分散された構造を呈する請求項
4に記載のトルクセンサ用磁歪膜。 - 【請求項6】 軸の表面に磁気歪効果を有する磁歪膜を
形成することで、軸に加えられたねじりトルクを検出す
る磁歪式トルクセンサに用いられる磁歪膜の製造方法で
あって、 Fe−Ni系、Co−Ni系、Fe−Al系、希土類金
属−Fe系、希土類金属−Co系、およびこれらの複合
合金系からなる群から選ばれてなる磁歪合金系、または
前記したいずれかの合金系にMo、W、Zr、Taおよ
びNbからなる群から選ばれてなる1ないしそれ以上の
金属元素を含有してなる磁歪合金系に、Bおよび/また
はSiをさらに添加してなる組成を有する磁歪材料を、
軸表面に付着させ、 次いで、前記軸表面に付着させた磁歪材料を加熱して、
前記磁歪材料を磁歪膜として軸表面に熱融着させると共
に、少なくともその表面部において、前記磁歪合金のホ
ウ化物やホウ珪化物からなる硬化相をマトリックスと
し、前記磁歪合金よりなる磁歪相がこれに微細分散され
てなる複合組織を形成することを特徴とするトルクセン
サ用磁歪膜の製造方法。 - 【請求項7】 加熱が、軸表面温度1050〜1090
℃、加熱時間3〜6分程度の処理条件により、高周波誘
導加熱により行なわれる請求項6に記載のトルクセンサ
用磁歪膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16891194A JPH0815060A (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | トルクセンサ用磁歪膜およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16891194A JPH0815060A (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | トルクセンサ用磁歪膜およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0815060A true JPH0815060A (ja) | 1996-01-19 |
Family
ID=15876854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16891194A Withdrawn JPH0815060A (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | トルクセンサ用磁歪膜およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0815060A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004102146A1 (ja) * | 2003-05-16 | 2004-11-25 | Ntn Corporation | トルク検出装置 |
| JP2009529692A (ja) * | 2006-03-10 | 2009-08-20 | エービービー エービー | 磁気弾性合金層を含む測定装置及び同合金層の形成方法 |
-
1994
- 1994-06-28 JP JP16891194A patent/JPH0815060A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004102146A1 (ja) * | 2003-05-16 | 2004-11-25 | Ntn Corporation | トルク検出装置 |
| US7263904B2 (en) | 2003-05-16 | 2007-09-04 | Ntn Corporation | Torque-detecting device |
| CN100417926C (zh) * | 2003-05-16 | 2008-09-10 | Ntn株式会社 | 转矩检测装置 |
| JP2009529692A (ja) * | 2006-03-10 | 2009-08-20 | エービービー エービー | 磁気弾性合金層を含む測定装置及び同合金層の形成方法 |
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