JPH0815196A - 素子加熱型センサー - Google Patents
素子加熱型センサーInfo
- Publication number
- JPH0815196A JPH0815196A JP15009194A JP15009194A JPH0815196A JP H0815196 A JPH0815196 A JP H0815196A JP 15009194 A JP15009194 A JP 15009194A JP 15009194 A JP15009194 A JP 15009194A JP H0815196 A JPH0815196 A JP H0815196A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic substrate
- heating
- gas
- sensitivity
- type sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】セラミック基板1の上面1aに素子3を載置
し、該セラミック基板1の下面1bまたは内部に発熱抵
抗体2を備えて素子加熱型センサーを構成する。 【効果】素子3を直接セラミック基板1の上面1aに載
置するため、この上面1aの表面粗さ(Ra)を0.2
μm以下としておけば、素子3の感度及び精度を高める
ことができる。また、セラミック基板1に素子3と発熱
抵抗体2を形成してあるため、加熱効率に優れ、消費電
力を小さくできる。
し、該セラミック基板1の下面1bまたは内部に発熱抵
抗体2を備えて素子加熱型センサーを構成する。 【効果】素子3を直接セラミック基板1の上面1aに載
置するため、この上面1aの表面粗さ(Ra)を0.2
μm以下としておけば、素子3の感度及び精度を高める
ことができる。また、セラミック基板1に素子3と発熱
抵抗体2を形成してあるため、加熱効率に優れ、消費電
力を小さくできる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガスセンサーや感湿セ
ンサー等、素子の加熱を必要とする各種センサーに関す
るものである。
ンサー等、素子の加熱を必要とする各種センサーに関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】ガス漏れ警報機等に用いられる一般的な
ガスセンサーの構造は、図3に示すように、アルミナ等
のセラミック管11の内部にFe−Ni系またはPt系
のコイル状発熱体12を挿入し、セラミック管11の表
面にα−Fe2 O3 ,SnO2,ZnO又はWO3 等の
金属酸化物半導体からなる感ガス素子13を塗布して焼
き付け、この感ガス素子13に電極(不図示)を備えた
ものであった。このガスセンサーを使用する場合は、発
熱体12に通電して加熱した状態としておき、空気中に
存在するガスが感ガス素子13に侵入すれば抵抗値が変
化することを利用して、感ガス素子13の抵抗値の変化
を検出することによってガスの濃度を検知するようにな
っている。
ガスセンサーの構造は、図3に示すように、アルミナ等
のセラミック管11の内部にFe−Ni系またはPt系
のコイル状発熱体12を挿入し、セラミック管11の表
面にα−Fe2 O3 ,SnO2,ZnO又はWO3 等の
金属酸化物半導体からなる感ガス素子13を塗布して焼
き付け、この感ガス素子13に電極(不図示)を備えた
ものであった。このガスセンサーを使用する場合は、発
熱体12に通電して加熱した状態としておき、空気中に
存在するガスが感ガス素子13に侵入すれば抵抗値が変
化することを利用して、感ガス素子13の抵抗値の変化
を検出することによってガスの濃度を検知するようにな
っている。
【0003】また、低消費電力を目的とした板状タイプ
として、図4に示すように、アルミナ等のセラミック基
板21上に発熱抵抗体22を形成し、この上にガラスや
SiO2 膜等の絶縁層25を形成して、さらにその上に
電極24を介して感ガス素子23を備えた構造のものも
あった(特開昭54−65599号公報参照)。
として、図4に示すように、アルミナ等のセラミック基
板21上に発熱抵抗体22を形成し、この上にガラスや
SiO2 膜等の絶縁層25を形成して、さらにその上に
電極24を介して感ガス素子23を備えた構造のものも
あった(特開昭54−65599号公報参照)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、図3に示す
ガスセンサーの場合、セラミック管11の内部に発熱体
12を配置する構造であるため加熱効率が悪く、消費電
力が高いものであった。また、製造の際の自動化が困難
であるためコストが高いという問題点があった。
ガスセンサーの場合、セラミック管11の内部に発熱体
12を配置する構造であるため加熱効率が悪く、消費電
力が高いものであった。また、製造の際の自動化が困難
であるためコストが高いという問題点があった。
【0005】一方、図4に示すガスセンサーでは、絶縁
層25がガラスコートである場合、素子23との密着性
が弱く、剥離しやすいという問題点があった。一方、絶
縁層25をSiO2 膜の蒸着により形成した場合は、感
ガス素子23の感度が低く、かつバラツキが生じやすく
なるという問題点があった。つまり、感ガス素子23の
感度や精度は、素子を載置する面の表面粗さに影響さ
れ、粗いほど感度や精度が悪くなる傾向がある。そし
て、上記絶縁層25は発熱体22の上に形成されている
ことから、その表面粗さ(Ra)は0.5〜1.0μm
程度と粗くなることを避けられず、その結果感ガス素子
23の感度や精度を高くできなかった。
層25がガラスコートである場合、素子23との密着性
が弱く、剥離しやすいという問題点があった。一方、絶
縁層25をSiO2 膜の蒸着により形成した場合は、感
ガス素子23の感度が低く、かつバラツキが生じやすく
なるという問題点があった。つまり、感ガス素子23の
感度や精度は、素子を載置する面の表面粗さに影響さ
れ、粗いほど感度や精度が悪くなる傾向がある。そし
て、上記絶縁層25は発熱体22の上に形成されている
ことから、その表面粗さ(Ra)は0.5〜1.0μm
程度と粗くなることを避けられず、その結果感ガス素子
23の感度や精度を高くできなかった。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記に鑑みて本発明は、
セラミック基板の上面に各種のセンサー素子を載置する
とともに、基板の下面または内部に発熱抵抗体を備えて
素子加熱型センサーを構成したものである。
セラミック基板の上面に各種のセンサー素子を載置する
とともに、基板の下面または内部に発熱抵抗体を備えて
素子加熱型センサーを構成したものである。
【0007】また、本発明は、上記センサー素子の感度
を高めるために上記セラミック基板上面の表面粗さ(R
a)を0.2μm以下としたものである。
を高めるために上記セラミック基板上面の表面粗さ(R
a)を0.2μm以下としたものである。
【0008】なお、本発明においては、セラミック基板
における素子を載置する面を便宜上上面と言い、もう一
方の面を下面と言う。
における素子を載置する面を便宜上上面と言い、もう一
方の面を下面と言う。
【0009】
【作用】本発明によれば、セラミック基板の上面に直接
素子を載置するため、上面の表面粗さ(Ra)を0.2
μm以下と滑らかにすることによって、素子の感度を高
めそのばらつきを小さくすることができる。
素子を載置するため、上面の表面粗さ(Ra)を0.2
μm以下と滑らかにすることによって、素子の感度を高
めそのばらつきを小さくすることができる。
【0010】また、発熱抵抗体はセラミック基板の素子
と反対側の下面または内部に備えたため、セラミック基
板を通して効率よく加熱し、消費電力を小さくすること
ができる。
と反対側の下面または内部に備えたため、セラミック基
板を通して効率よく加熱し、消費電力を小さくすること
ができる。
【0011】
【実施例】以下本発明をガスセンサーを例にとって説明
する。
する。
【0012】図1、2に示すガスセンサーは、セラミッ
ク基板1の上面1aに電極4を介してガスを検知するた
めの素子3を載置し、一方セラミック基板1の下面1b
には発熱抵抗体2を備えて、この発熱抵抗体2の両端は
スルーホール2bを経由して上面1aの電極取り出し部
2aと接続している。
ク基板1の上面1aに電極4を介してガスを検知するた
めの素子3を載置し、一方セラミック基板1の下面1b
には発熱抵抗体2を備えて、この発熱抵抗体2の両端は
スルーホール2bを経由して上面1aの電極取り出し部
2aと接続している。
【0013】このガスセンサーを作動させる場合は、二
つの電極取り出し部2a間に電圧を印加して発熱抵抗体
2を発熱させ、セラミック基板1を通じて素子3を所定
の温度に加熱する。この状態で、空気中に存在するガス
が素子3に侵入すると抵抗値が変化するため、素子3の
抵抗値の変化を電極4で検出することによって、ガスの
濃度を検知することができる。
つの電極取り出し部2a間に電圧を印加して発熱抵抗体
2を発熱させ、セラミック基板1を通じて素子3を所定
の温度に加熱する。この状態で、空気中に存在するガス
が素子3に侵入すると抵抗値が変化するため、素子3の
抵抗値の変化を電極4で検出することによって、ガスの
濃度を検知することができる。
【0014】なお、図2ではセラミック基板1の下面1
bに発熱抵抗体2を備えたものを示したが、セラミック
基板1の内部に発熱抵抗体2を形成することもできる。
bに発熱抵抗体2を備えたものを示したが、セラミック
基板1の内部に発熱抵抗体2を形成することもできる。
【0015】また、上記セラミック基板1の上面1aは
表面粗さ(Ra)0.2μm以下の滑らかな面としてお
り、この上面1aに直接素子3を載置してあるため、素
子3の感度を高めそのばらつきを小さくすることができ
る。さらに、下面1bの発熱抵抗体2の発熱を効率よく
伝えるために、セラミック基板1の厚さtは0.5mm
以下とする。ただし、0.2mmより小さいと強度が不
足するため、厚さtは0.2〜0.5mmの範囲内が好
ましい。
表面粗さ(Ra)0.2μm以下の滑らかな面としてお
り、この上面1aに直接素子3を載置してあるため、素
子3の感度を高めそのばらつきを小さくすることができ
る。さらに、下面1bの発熱抵抗体2の発熱を効率よく
伝えるために、セラミック基板1の厚さtは0.5mm
以下とする。ただし、0.2mmより小さいと強度が不
足するため、厚さtは0.2〜0.5mmの範囲内が好
ましい。
【0016】セラミック基板1の材質としては、Al2
O3 99%以上の高純度アルミナセラミックスが好まし
いが、ムライトやコージェライト等の酸化物セラミック
スでもよい。あるいは窒化アルミニウムを用いれば、熱
伝導性が高いため加熱効率を高めることができる。
O3 99%以上の高純度アルミナセラミックスが好まし
いが、ムライトやコージェライト等の酸化物セラミック
スでもよい。あるいは窒化アルミニウムを用いれば、熱
伝導性が高いため加熱効率を高めることができる。
【0017】特にアルミナセラミックスを用いる場合
は、Al2 O3 99.0〜99.5重量%、SiO
2 0.20〜0.93重量%、CaOをリン酸カルシウ
ムとして0.02〜0.20重量%、MgO0.05〜
0.30重量%の範囲の原料を用いることが好ましい。
そして、このセラミック原料に分散剤、バインダー等を
添加した後、表面粗さ(Ra)0.02μm以下の滑ら
かなフィルムを用いてドクターブレード法でシート成形
を行い、得られたグリーンシートを最高焼成温度を15
00〜1600℃として、最高焼成温度での保持時間を
0.5〜4時間とし、アルミナの粒成長を抑制して表面
粗さを小さくする。
は、Al2 O3 99.0〜99.5重量%、SiO
2 0.20〜0.93重量%、CaOをリン酸カルシウ
ムとして0.02〜0.20重量%、MgO0.05〜
0.30重量%の範囲の原料を用いることが好ましい。
そして、このセラミック原料に分散剤、バインダー等を
添加した後、表面粗さ(Ra)0.02μm以下の滑ら
かなフィルムを用いてドクターブレード法でシート成形
を行い、得られたグリーンシートを最高焼成温度を15
00〜1600℃として、最高焼成温度での保持時間を
0.5〜4時間とし、アルミナの粒成長を抑制して表面
粗さを小さくする。
【0018】このようにすれば、焼成したままで、表面
粗さ(Ra)0.2μm以下の滑らかな表面を有するセ
ラミック基板1を得ることができる。
粗さ(Ra)0.2μm以下の滑らかな表面を有するセ
ラミック基板1を得ることができる。
【0019】また、セラミック基板1は通常小さな形状
となるため、多数個が連なった形状となるように製造し
ておいて、後で切断する製法が好ましい。例えば、一つ
のセラミック基板1が2×2mmの大きさである場合、
縦20個、横20個が連なった形状となるように一体的
に成形し、各セラミック基板1間をスナップラインで区
切っておいて、焼成後に切断すれば良い。
となるため、多数個が連なった形状となるように製造し
ておいて、後で切断する製法が好ましい。例えば、一つ
のセラミック基板1が2×2mmの大きさである場合、
縦20個、横20個が連なった形状となるように一体的
に成形し、各セラミック基板1間をスナップラインで区
切っておいて、焼成後に切断すれば良い。
【0020】さらに、発熱抵抗体2としては白金系の材
料が化学的に安定で好ましいが、酸化ルテニウムを用い
ても良い。この発熱抵抗体2は、セラミック基板1の焼
成前に形成しておいて同時焼成することが密着強度の点
で好ましいが、セラミック基板1の焼成後にメタライ
ズ、焼き付け、蒸着、スパッタ等で成膜しても良い。
料が化学的に安定で好ましいが、酸化ルテニウムを用い
ても良い。この発熱抵抗体2は、セラミック基板1の焼
成前に形成しておいて同時焼成することが密着強度の点
で好ましいが、セラミック基板1の焼成後にメタライ
ズ、焼き付け、蒸着、スパッタ等で成膜しても良い。
【0021】また、電極4としては、素子3との間でワ
イヤボンディングする際に信頼性良く結線するために金
系の材料を用いる。
イヤボンディングする際に信頼性良く結線するために金
系の材料を用いる。
【0022】さらに、素子3としては、α−Fe
2 O3 ,SnO2 ,ZnO及びWO3 等の金属酸化物半
導体を用い、スクリーン印刷やスパッタリング等の方法
により載置する。
2 O3 ,SnO2 ,ZnO及びWO3 等の金属酸化物半
導体を用い、スクリーン印刷やスパッタリング等の方法
により載置する。
【0023】なお、以上の実施例ではガスセンサーにつ
いて述べたが、この他に素子3の種類を変えることによ
って、感湿センサー等の各種素子加熱型センサーに本発
明を適用できることは言うまでもない。
いて述べたが、この他に素子3の種類を変えることによ
って、感湿センサー等の各種素子加熱型センサーに本発
明を適用できることは言うまでもない。
【0024】また、本発明の素子加熱型センサーは、上
記のように使用時に素子を加熱するだけでなく、センサ
ー表面の各種の雑ガスやミスト汚染等を除去するための
加熱クリーニングを行うこともできる。
記のように使用時に素子を加熱するだけでなく、センサ
ー表面の各種の雑ガスやミスト汚染等を除去するための
加熱クリーニングを行うこともできる。
【0025】実験例 ここで、図1、2に示す本発明のガスセンサーを試作し
た。平均粒子径0.5〜1μmのAl2 O3 粉末と、S
iO2 、MgO、CaOを前述した比率で添加混合した
原料を水溶性バインダーとイオン交換水にて混合してス
ラリーを作製し、ドクターブレード法にてシートを成形
した。得られたシートを適切な寸法に切断し、パンチン
グにて導通用のスルーホールを形成する。このスルーホ
ールに白金ペーストを充填した後、白金ペーストを用い
てスクリーン印刷法により発熱体2を所定の抵抗値にな
るように厚みを調整して印刷する。
た。平均粒子径0.5〜1μmのAl2 O3 粉末と、S
iO2 、MgO、CaOを前述した比率で添加混合した
原料を水溶性バインダーとイオン交換水にて混合してス
ラリーを作製し、ドクターブレード法にてシートを成形
した。得られたシートを適切な寸法に切断し、パンチン
グにて導通用のスルーホールを形成する。このスルーホ
ールに白金ペーストを充填した後、白金ペーストを用い
てスクリーン印刷法により発熱体2を所定の抵抗値にな
るように厚みを調整して印刷する。
【0026】これを1500℃程度の酸化雰囲気にて焼
成し、セラミック基板1と発熱体2を同時焼成する。こ
の上面1aにAuペーストを用いてスクリーン印刷によ
り電極4を印刷し、大気中850℃にて焼成して焼き付
ける。この上にSnO2 を主体とする素子3を載置して
素子加熱型センサーとした。なお、最終的なセラミック
基板1の大きさは、縦3mm、横4mm、厚さ0.3m
mとした。
成し、セラミック基板1と発熱体2を同時焼成する。こ
の上面1aにAuペーストを用いてスクリーン印刷によ
り電極4を印刷し、大気中850℃にて焼成して焼き付
ける。この上にSnO2 を主体とする素子3を載置して
素子加熱型センサーとした。なお、最終的なセラミック
基板1の大きさは、縦3mm、横4mm、厚さ0.3m
mとした。
【0027】ここで、上記セラミック基板1の上面1a
の表面粗さ(Ra)を種々に変化させたものを用意し、
それぞれ5Vの電圧を印加して400℃に加熱して実験
を行い、素子3の感度と精度を調べる実験を行った。こ
こで感度とは、通常の大気中での素子3の抵抗値RAIR
に対し、可燃性ガス(2メチル−2ブテン等)が侵入し
て低下した時の抵抗値RGAS との比RAIR /RGAS で表
し、この値が大きいほど感度が優れていることになる。
また、精度とは感度のばらつきの大きさである。
の表面粗さ(Ra)を種々に変化させたものを用意し、
それぞれ5Vの電圧を印加して400℃に加熱して実験
を行い、素子3の感度と精度を調べる実験を行った。こ
こで感度とは、通常の大気中での素子3の抵抗値RAIR
に対し、可燃性ガス(2メチル−2ブテン等)が侵入し
て低下した時の抵抗値RGAS との比RAIR /RGAS で表
し、この値が大きいほど感度が優れていることになる。
また、精度とは感度のばらつきの大きさである。
【0028】結果は表1に示すように、セラミック基板
1の表面粗さ(Ra)を0.2μm以下とすることによ
って、感度を10以上に向上させ、そのバラツキも小さ
くできることがわかった。
1の表面粗さ(Ra)を0.2μm以下とすることによ
って、感度を10以上に向上させ、そのバラツキも小さ
くできることがわかった。
【0029】
【表1】
【0030】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、セラミッ
ク基板の上面にセンサー素子を搭載し、該基板の下面ま
たは内部に発熱抵抗体を備えて素子加熱型センサーを構
成したことによって、素子を直接セラミック基板の上面
に搭載するため、この面の表面粗さを0.2μm以下の
滑らかな面としておけば、素子の感度及び精度を高める
ことができる。また、セラミック基板に直接素子と発熱
体を形成してあるため、加熱効率に優れ、消費電力を小
さくできるなど、多くの特長をもった素子加熱型センサ
ーを提供できる。
ク基板の上面にセンサー素子を搭載し、該基板の下面ま
たは内部に発熱抵抗体を備えて素子加熱型センサーを構
成したことによって、素子を直接セラミック基板の上面
に搭載するため、この面の表面粗さを0.2μm以下の
滑らかな面としておけば、素子の感度及び精度を高める
ことができる。また、セラミック基板に直接素子と発熱
体を形成してあるため、加熱効率に優れ、消費電力を小
さくできるなど、多くの特長をもった素子加熱型センサ
ーを提供できる。
【図1】本発明の素子加熱型センサーを示す平面図であ
る。
る。
【図2】図1中のX−X線断面図である。
【図3】従来のガスセンサーを示す縦断面図である。
【図4】従来のガスセンサーを示す縦断面図である。
1:セラミック基板 2:発熱抵抗体 3:素子 4:電極
Claims (2)
- 【請求項1】セラミック基板の上面にセンサー素子を載
置するとともに、該セラミック基板の下面または内部に
発熱抵抗体を備えてなる素子加熱型センサー。 - 【請求項2】上記セラミック基板の上面の表面粗さ(R
a)が0.2μm以下であることを特徴とする請求項1
記載の素子加熱型センサー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15009194A JPH0815196A (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | 素子加熱型センサー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15009194A JPH0815196A (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | 素子加熱型センサー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0815196A true JPH0815196A (ja) | 1996-01-19 |
Family
ID=15489322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15009194A Pending JPH0815196A (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | 素子加熱型センサー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0815196A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002328107A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Kyocera Corp | セラミックチップヒータ及びそれを用いた素子加熱型センサ |
| JP2008241603A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Denso Corp | 湿度センサ装置 |
-
1994
- 1994-06-30 JP JP15009194A patent/JPH0815196A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002328107A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Kyocera Corp | セラミックチップヒータ及びそれを用いた素子加熱型センサ |
| JP2008241603A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Denso Corp | 湿度センサ装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6883371B2 (en) | Humidity sensor | |
| US4407057A (en) | Method of producing a flat thin film type oxygen sensor | |
| US20030146093A1 (en) | Oxygen sensor | |
| JP2003322632A (ja) | セラミックヒータ、積層型ガスセンサ素子及びその製造方法、並びに積層型ガスセンサ素子を備えるガスセンサ | |
| JP2002048655A (ja) | 温度センサ及びその製造管理方法 | |
| JPS6039510A (ja) | 液面検出素子 | |
| JP3525532B2 (ja) | 酸素濃度検出器 | |
| JPH03149791A (ja) | セラミックヒータ | |
| JP2000338078A (ja) | ヒータ一体型酸素センサおよびその製造方法 | |
| JP3950809B2 (ja) | アンモニアガスセンサ | |
| JPS601546A (ja) | スモーク濃度センサ | |
| JP3860768B2 (ja) | 酸素センサ素子 | |
| US6113859A (en) | Bar-type NOx gas sensor having WO3 sensing film | |
| JPH01232252A (ja) | 酸素センサ素子 | |
| JP3174150B2 (ja) | 湿度センサ | |
| JP2005005057A (ja) | セラミックヒータ、並びにセラミックヒータ構造体 | |
| JPS5842965A (ja) | 酸素センサ素子 | |
| JP2917633B2 (ja) | 酸素濃度センサ | |
| JP4721593B2 (ja) | 酸素センサ | |
| JP2004296142A (ja) | セラミックヒータおよびそれを用いた検出素子 | |
| JP4540222B2 (ja) | 酸素センサおよびその製法 | |
| JP4822606B2 (ja) | セラミックチップヒータ及びそれを用いた素子加熱型センサ | |
| JP3987708B2 (ja) | 理論空燃比センサ素子 | |
| JP2004327256A (ja) | セラミックヒータおよびその製造方法 | |
| JP2000221158A (ja) | セラミックヒータ及びこれを用いた酸素センサ |