JPH08157458A - ピペラジンアミド類の製造方法 - Google Patents
ピペラジンアミド類の製造方法Info
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Abstract
ミド類の製造方法を提供する。 【構成】N,N’−ジベンジルエチレンジアミンと2,
3−ジブロモプロピオンアミド類を塩基性物質存在下に
反応させ、1,4−ジベンジルピペラジンアミド類を
得、引き続き水素雰囲気下、パラジウム触媒と接触反応
させることによりピペラジンアミド類を製造する。
Description
有用なピペラジンアミド類の製造方法に関する。
ラジンアミド類の製造方法に関して、2−ピラジンカル
ボン酸を原料に、パラジウム/カーボン触媒による水素
化、およびアルキルアミン類との縮合反応からなる方法
により製造するという報告がある(Journal o
f Medicinal Chemistry,vol
37,No21,1994、pp3443)。
こと、及びその入手が容易でないという欠点がある。ま
た、アルキルアミン類との縮合では、N−エチル−N’
−3−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド、1ーヒ
ドロキシベンゾトリアゾール等の極めて高価な原料を用
いていることから経済的、且つ工業的に極めて不利であ
る。
ラジンアミド類を安価で、且つ高い収率で合成する方法
の開発とそのプロセスの開発が望まれていた。本発明
は、経済的に優れ、高収率で得られるピペラジンアミド
類の製造方法を提供することを目的とするものである。
について鋭意検討した結果、本発明を完成するに至っ
た。
レンジアミンと下記一般式(I)で表される2,3−ジ
ハロゲノプロピオンアミド類を塩基性物質存在下に反応
させ、下記一般式(II)で表される1,4−ジベンジ
ルピペラジンアミド類を得、次いで脱ベンジル化するこ
とにより、ピベラジンアミド類(III)を得ることを
特徴とするピペラジンアミド類の製造方法である。
て水素、炭素数1〜5のアルキル基、ビニル基、アリー
ル基、またはシクロヘキシル基を示す。但し、R1とR2
とは同時に水素ではない。また、Bnはベンジル基を示
し、Xはハロゲンを示す。) 以下、本発明について詳細に説明する。
チレンジアミンは、例えばエチレンジクロライドとベン
ジルアミンとの反応、エチレンジアミンとベンジルアル
コールの脱水縮合反応、またはエチレンジアミンとベン
ズアルデヒドからまずイミン誘導体を得、次いで還元す
る方法等、いずれの方法でも製造することができる。こ
のうち、エチレンジアミンとベンズアルデヒドからイミ
ン誘導体を得、次いで還元する方法が、より好ましい方
法である。
まずイミン誘導体を得て、次いで還元する方法について
説明すると、例えば以下のようになる。
ヒドを、ベンズアルデヒドに対するエチレンジアミンの
モル比0.5〜2.0で、トルエン等の反応に不活性な
有機溶媒中で、常圧下0〜130℃で反応させ、反応液
を有機相と水相とに分離し、有機相を濃縮することでま
ずイミンを合成する。その後、合成したイミンを水素化
触媒と接触・水素化させることによりN,N´−ジベン
ジルエチレンジアミンを製造する。ここで、使用する水
素化触媒は、特に限定されないが、一般に不均一触媒、
例えば、Ni,Co,Cuなどの遷移金属類、およびP
d,Ptなどの白金族から選ばれる金属触媒、または担
持金属触媒などがあげられ、それを用いて、例えば水素
圧を常圧〜50気圧、反応温度0〜150℃でイミンの
水素化反応を行えばよい。
アミンを含む反応液は、公知の方法、例えば濾過により
触媒を分離し、必要ならば、蒸留などの操作により精製
して合成できる。
オンアミド類は、通常対応するアクリルアミド類とハロ
ゲンとを直接反応させて容易に得られる。なお本発明で
ハロゲンとは、例えば臭素、塩素又はヨウ素などを例示
できるが、特に臭素が、操作性、収率の面から好まし
い。例えば2,3−ジブロモプロピオンアミド類は、ア
クリルアミド類を、ジクロロメタン等の塩素系溶媒、も
しくはジオキサンなどのエーテル系溶媒に、溶解もしく
は懸濁させ、臭素を滴下する方法、またはアクリルアミ
ド類に臭化ピリジニウム過臭化物、臭化テトラメチルア
ンモニウム・臭素付加体、もしくはジオキサン・臭素付
加体等の臭素化剤を用いる方法などがあげられる。
ミド類としては、例えば、N−メチル−2,3−ジハロ
ゲノ−プロピオンアミド、N−エチル−2,3−ジハロ
ゲノ−プロピオンアミド、N−プロピル−2,3−ジハ
ロゲノ−プロピオンアミド、N−イソプロピル−2,3
−ジハロゲノ−プロピオンアミド、N−ブチル−2,3
−ジハロゲノ−プロピオンアミド、N−t−ブチル−
2,3−ジハロゲノ−プロピオンアミド、N−ビニル−
2,3−ジハロゲノ−プロピオンアミド、N−アリール
−2,3−ジハロゲノ−プロピオンアミド、N−シクロ
ヘキシル−2,3−ジハロゲノ−プロピオンアミド、
N,N−ジメチル−2,3−ジハロゲノ−プロピオンア
ミド等が挙げられる。これらのハロゲン化物は、ハロゲ
ンが臭素、塩素又はヨウ素のいずれの場合も用いること
ができる。
チレンジアミンと2,3−ジハロゲノプロピオンアミド
類を塩基性物質存在下に反応させ、1,4−ジベンジル
ピペラジンアミド類を製造する。N,N´−ジベンジル
エチレンジアミンと2,3−ジハロゲノプロピオンアミ
ド類は1:1で反応するため、反応に使用される量も好
ましくは0.8〜1.2:1、更に好ましくは、0.9
〜1.1:1である。
N’−ジベンジルエチレンジアミン、2,3−ジハロゲ
ノプロピオンアミド類および塩基性物質を同時に加え加
熱撹拌する方法、また2,3−ジハロゲノプロピオンア
ミド類にN,N’−ジベンジルエチレンジアミン、及び
塩基性物質を滴下し加熱撹拌する方法、または2,3−
ジハロゲノプロピオンアミド類、N,N’−ジベンジル
エチレンジアミンの混合物に塩基性物質を適宜滴下し加
熱撹拌する方法などがあるが特に制限はない。
製造する反応は、10〜150℃、より好ましくは80
〜110℃の温度条件で、必要ならばN2等の不活性ガ
ス雰囲気で撹拌して行う。反応温度が低すぎると、極め
て長い反応時間を要し、また150℃を越えて反応を行
うと好ましくない生成物が多く生成し純度・収率の低下
を招く恐れがある。
用いる塩基性物質等の条件により異なるが、1〜50時
間必要である。この範囲を超えて反応を行っても反応の
進行は期待できず、さらに収率の低下、若しくは純度の
低下を伴う恐れがある。
応で発生する臭化水素を反応系から除く脱酸剤として作
用するものであれば特に制限はなく、有機塩基または無
機塩基の中から一種以上選択できる。例えば、有機塩基
としてトリエチルアミン、N,N−ジエチルアニリン、
ピリジン、ジメチルピリジン、ジメチルアミノピリジ
ン、トリフェニルアミン、テトラメチルエチレンジアミ
ン、テトラメチルプロパンジアミン、テトラメチルヘキ
サメチレンジアミン、ペンタメチルジエチレントリアミ
ン、トリエチレンジアミン、N,N’−ジメチルピペラ
ジン等が、また無機塩基として水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等
が挙げられる。
オンアミド類に対し、2〜3倍モル用いることが好まし
い。この範囲で反応は十分進行するので、これを越える
使用量は不必要であり、一方これより少ないと臭化水素
の除去が不十分となり、純度や収率を低下させることが
ある。
機溶媒を使用できる。この有機溶媒は本反応に不活性で
あれば特に制限はなく、たとえばベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素、n−ヘキサン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族炭化水素、ジエチルエーテル、ジメ
トキシメタン、テトラハイドロフラン、ジオキサンなど
のエーテル類等が用いられる。これらのうち、好ましく
は芳香族炭化水素、さらに好ましくはトルエンが用いら
れる。これらの有機溶媒は単独でも、混合溶媒でも使用
できる。
物質の臭化水素塩が生成し、反応液はスラリー状とな
る。それ故、有機溶媒の使用量は、撹拌が容易であるよ
う1,4−ジベンジルピペラジンアミド類に対し1重量
倍以上が好ましい。
ミド類を含む反応液は、次に塩基性物質のハロゲン化水
素塩の除去操作を行う。これは水洗あるいは濾過などの
公知の方法で分離または除去を行えばよい。水洗により
分離する場合、水量は有機相と水相の2相分離に必要な
水量でよく、特に大量の水で洗う必要はない。この後、
1,4−ジベンジルピペラジンアミド類を含む有機相
は、必要ならば、例えば、減圧下蒸留することにより有
機溶媒及び低沸点化合物を、1,4−ジベンジルピペラ
ジンアミド類に対し、重量比で1倍以下にまで濃縮す
る。
ルピペラジンアミド類は、次に脱ベンジル化を行い、所
望のピペラジンアミド類を製造する。脱ベンジル化の方
法に特に限定はないが、例えば有機溶媒中、水素雰囲気
下、パラジウム触媒と接触反応させる方法をあげる事が
できる。
機溶媒は、反応に不活性な溶媒であれば特に制限はな
く、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロパ
ノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素、n−ヘキサン、シクロヘ
キサン等の脂肪族炭化水素、ジエチルエーテル、テトラ
ハイドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類等が挙げ
られるが、これらの有機溶媒は単独でも、混合溶媒でも
使用できる。なかでも、アルコール系溶媒が脱ベンジル
化の反応が速いという面から好ましい。
を含む触媒であれば特に制限はない。具体的には、比較
的安価で、且つ容易に入手可能なパラジウムブラック、
パラジウム/カーボン、水酸化パラジウム/カーボン、
パラジウム/炭酸カルシウム等の担時パラジウム触媒が
挙げられる。
ンジルピペラジンアミド類に対し、重量比で0.1〜3
0.0%、より好ましくは1.0〜10.0%である。
00℃、より好ましくは50℃〜150℃である。ま
た、水素圧は、圧力が高いほど好ましいが、経済性を考
慮して常圧〜50気圧である。
触媒の濃度、および水素圧、反応温度の条件により異な
るが、1〜40時間必要である。この範囲を超えて反応
を行っても反応の進行は期待できず、さらに収率の低
下、若しくは純度の低下を伴う恐れがある。
連続式でもまた、固定床流通式でも実施できる。
含む反応液は、そのままでも使用できるが、必要に応じ
蒸留、再結晶等の処理を行ってもよい。
−ジベンジルエチレンジアミンと下記一般式(I)で表
される2,3−ジハロゲノプロピオンアミド類とから下
記のルートでピペラジンアミド類(III)を製造する
方法である。
価でしかも工業的にも優れた、高収率なピペラジンアミ
ド類の合成方法である。
が、本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものでは
ない。
フラスコに、トルエン288g及びエチレンジアミン2
5g(0.42mol)を仕込み、一方、滴下ロートに
ベンズアルデヒド69g(0.76mol)を準備し
た。室温下、撹拌しながらベンズアルデヒドを1時間で
滴下し、その後2時間熟成した。
と水相とに分離した。有機相は、減圧下で濃縮し結晶と
し、イミンを90g(0.38mol)得た(ベンズア
ルデヒドベースで収率99%)。
l四ツ口フラスコに、上記で得られたイミン、トルエン
300g、さらに5%パラジウム/カーボン粉末(NE
ケムキャット製)を1.8g加え、系内を水素で十分置
換した。その後、室温、常圧下で10時間、水素化し
た。
で濃縮し溶媒のトルエン及び反応で生成した低沸点生成
物を減圧下で留去した。その結果、淡黄色油状物のN,
N’−ジベンジルエチレンジアミンを80g(0.31
mol)得た。これを、ガスクロマトグラフィーにより
分析したところ、N,N’−ジベンジルエチレンジアミ
ンの純度は93%であった(イミンベースで収率81
%)。
口フラスコに、ジクロロメタン403g、N−tert
−ブチルアクリルアミド40.4g(0.32mo
l)、重合禁止剤としてハイドロキノン0.2gを仕込
み、一方、滴下ロートに臭素50.9g(0.32mo
l)を準備した。反応温度を20〜30℃に保ちながら
70分で臭素を滴下し、その後、同温度で4時間撹拌・
熟成した。反応終了後、四ツ口フラスコに単蒸留装置を
取り付け、常圧下50〜60℃に加熱してジクロロメタ
ンを留去し、N−tert−ブチル−2,3−ジブロモ
ープロピオンアミドを無色針状晶として88g得た。
口フラスコに、ジクロロメタン403g、N−イソプロ
ピル−アクリルアミド36.2g(0.32mol)、
重合禁止剤としてハイドロキノン0.2gを仕込み、一
方、滴下ロートに臭素51.3g(0.32mol)を
準備した。反応温度を20〜30℃に保ちながら70分
で臭素を滴下し、その後、同温度で5時間撹拌・熟成し
た。反応終了後、四ツ口フラスコに単蒸留装置を取り付
け、常圧下50〜60℃に加熱してジクロロメタンを留
去し、N−イソプロピル−2,3−ジブロモープロピオ
ンアミドを無色針状晶として86g得た。
口フラスコに、ジクロロメタン403g、N,N−ジメ
チル−アクリルアミド32.0g(0.32mol)、
重合禁止剤としてハイドロキノン0.16gを仕込み、
一方、滴下ロートに臭素50.7g(0.32mol)
を準備した。反応温度を20〜30℃に保ちながら80
分で臭素を滴下し、その後、同温度で6時間撹拌・熟成
した。反応終了後、四ツ口フラスコに単蒸留装置を取り
付け、常圧下50〜60℃に加熱してジクロロメタンを
留去し、N,N−ジメチル−2,3−ジブロモ−プロピ
オンアミドを無色針状晶として81g得た。
ブロモープロピオンアミド88gの入った四ツ口フラス
コに、さらに、トルエンを120g、水酸化カリウム3
5.8g(0.64mol)を180mlの水に溶解さ
せた水溶液、及び合成例1で得られたN,N’−ジベン
ジルエチレンジアミン80g(0.31mol含有)を
順に加え、窒素雰囲気下に撹拌しながら95℃で6時間
反応させた。冷却後、反応液を分液ロートに移し、有機
相と水相とに分離した。有機相は、水洗、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
り、溶媒のトルエン及びジクロロメタンを留去し、N−
t−ブチル−1,4−ジベンジルピペラジンアミドを含
む淡黄色結晶を115g得た。ガスクロマトグラフィー
分析により、N−t−ブチル−1,4−ジベンジルピペ
ラジンアミドの純度及び収率は、それぞれ80%、81
%であった。
ジルピペラジンアミドのうち、24g(0.053mo
l含有)を、200mlのステンレス製電磁撹拌式オー
トクレーブに仕込み、さらにエタノール120g及び5
%パラジウム/カーボン粉末を0.96g加え密閉後、
系内を十分水素で置換した。その後、オートクレーブを
100℃に昇温し、水素圧が15気圧になるよう水素を
補給しながら10時間反応させた。反応終了後、冷却
し、水素をパージして反応液を取り出した。この反応液
を、減圧下で濃縮しN−tert−ブチルピペラジンア
ミドの粗結晶を得た。この粗結晶を、エーテルで洗浄
し、真空乾燥することにより、純度98%のN−ter
t−ブチルピペラジンアミドが10.1g得られた(N
−t−ブチル−1,4−ジベンジルピペラジンアミド基
準で収率100%)。
−ジブロモプロピオンアミドから、総合収率81%でN
−tert−ブチル−ピペラジンアミドを得た。
ブロモ−プロピオンアミド88gの入った撹拌機、滴下
ロート、温度計を備えた1000ml四ツ口フラスコ
に、トルエンを500g加えた。一方、トリエチルアミ
ン64g(0.64mol)、合成例1で得られたN,
N’−ジベンジルエチレンジアミン80g(0.31m
ol含有)を滴下ロートに準備し、反応温度を、40℃
〜50℃に保ちながら窒素雰囲気下、1時間で滴下し
た。その後、反応温度95℃で20時間熟成させた。冷
却後、トリエチルアミン臭化水素塩を濾過してから母液
を分液ロートに移し、水洗、飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥することにより、N−t−ブチル
−1,4−ジベンジルピペラジンアミドを含む反応液を
得た。
り、溶媒のトルエン及びジクロロメタンを留去し、N−
t−ブチル−1,4−ジベンジルピペラジンアミドを含
む淡黄色結晶を110g得た。ガスクロマトグラフィー
分析によりN−t−ブチル−1,4−ジベンジルピペラ
ジンアミドの純度及び収率は、それぞれ78%、73%
であった。
作を行い、N−tert−ブチル2,3−ジブロモプロ
ピオンアミドから、総合収率73%でN−tert−ブ
チル−ピペラジンアミドを得た。
と同一の操作を行い、N−tert−ブチル−ピペラジ
ンアミドを総合収率83%(N−tert−ブチル−
2,3−ジブロモ−プロピオンアミド基準)で得た。
モープロピオンアミド86gの入った四ツ口フラスコ
に、さらに、トルエンを120g、水酸化カリウム3
5.8g(0.64mol)を180mlの水に溶解さ
せた水溶液、及び合成例1で得られたN,N’−ジベン
ジルエチレンジアミン80g(0.31mol含有)を
順に加え、窒素雰囲気下に撹拌しながら95℃で6時間
反応させた。冷却後、反応液を分液ロートに移し、有機
相と水相とに分離した。有機相は、水洗、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
り、溶媒のトルエン及びジクロロメタンを留去し、N−
イソプロピル−1,4−ジベンジルピペラジンアミドを
含む淡黄色結晶を113g得た。ガスクロマトグラフィ
ー分析により、N−イソプロピル−1,4−ジベンジル
ピペラジンアミドの純度及び収率は、それぞれ83%、
84%であった。
ンジルピペラジンアミドのうち、24g(0.057m
ol含有)を、200mlのステンレス製電磁撹拌式オ
ートクレーブに仕込み、さらにトルエン10g、エタノ
ール110g及び5%パラジウム/カーボン粉末を1.
0g加え密閉後、系内を十分水素で置換した。その後、
オートクレーブを100℃に昇温し、水素圧が15気圧
になるよう水素を補給しながら15時間反応させた。反
応終了後、冷却し、水素をパージして反応液を取り出し
た。この反応液を、減圧下で濃縮しN−イソプロピル−
ピペラジンアミドの粗結晶を得た。この粗結晶を、エー
テルで洗浄し、真空乾燥することにより、純度98%の
N−イソプロピルピペラジンアミドが9.8g得られた
(N−イソプロピル−1,4−ジベンジルピペラジンア
ミド基準で収率100%)。
ブロモプロピオンアミドから、総合収率84%でN−イ
ソプロピル−ピペラジンアミドを得た。
モープロピオンアミド81gの入った四ツ口フラスコ
に、さらに、トルエンを120g、水酸化カリウム3
5.8g(0.64mol)を150mlの水に溶解さ
せた水溶液、及び合成例1で得られたN,N’−ジベン
ジルエチレンジアミン80g(0.31mol含有)を
順に加え、窒素雰囲気下に撹拌しながら95℃で5時間
反応させた。冷却後、反応液を分液ロートに移し、有機
相と水相とに分離した。有機相は、水洗、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
り、溶媒のトルエン及びジクロロメタンを留去し、N,
N−ジメチル−1,4−ジベンジルピペラジンアミドを
含む淡黄色結晶を110g得た。ガスクロマトグラフィ
ー分析により、N,N−ジメチル−1,4−ジベンジル
ピペラジンアミドの純度及び収率は、それぞれ82%、
84%であった。
ンジルピペラジンアミドを、実施例1と同様の操作を行
い脱ベンジル化し、N,N−ジメチル−2,3−ジブロ
モ−プロピオンアミドから、総合収率84%でN,N−
ジメチル−ピペラジンアミドを得た。
Claims (1)
- 【請求項1】N,N’−ジベンジルエチレンジアミンと
下記一般式(I)で表される2,3−ジハロゲノプロピ
オンアミド類を塩基性物質存在下に反応させ、下記一般
式(II)で表される1,4−ジベンジルピペラジンア
ミド類を得、次いで脱ベンジル化することにより、ピベ
ラジンアミド類(III)を得ることを特徴とするピペ
ラジンアミド類の製造方法。 【化1】 (式中、R1、R2は、同一または相異なって水素、炭素
数1〜5のアルキル基、ビニル基、アリール基、または
シクロヘキシル基を示す。但し、R1とR2とは同時に水
素ではない。また、Bnはベンジル基を示し、Xはハロ
ゲンを示す。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30601694A JP3724000B2 (ja) | 1994-12-09 | 1994-12-09 | ピペラジンアミド類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30601694A JP3724000B2 (ja) | 1994-12-09 | 1994-12-09 | ピペラジンアミド類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08157458A true JPH08157458A (ja) | 1996-06-18 |
| JP3724000B2 JP3724000B2 (ja) | 2005-12-07 |
Family
ID=17952073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30601694A Expired - Lifetime JP3724000B2 (ja) | 1994-12-09 | 1994-12-09 | ピペラジンアミド類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3724000B2 (ja) |
-
1994
- 1994-12-09 JP JP30601694A patent/JP3724000B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3724000B2 (ja) | 2005-12-07 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041221 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050218 |
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| A521 | Written amendment |
Effective date: 20050314 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050412 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20050608 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20050727 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
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| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050912 |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100930 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110930 Year of fee payment: 6 |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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