JPH08158378A - ケーソンの沈設方法 - Google Patents
ケーソンの沈設方法Info
- Publication number
- JPH08158378A JPH08158378A JP33011794A JP33011794A JPH08158378A JP H08158378 A JPH08158378 A JP H08158378A JP 33011794 A JP33011794 A JP 33011794A JP 33011794 A JP33011794 A JP 33011794A JP H08158378 A JPH08158378 A JP H08158378A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- caisson
- absorbent resin
- layer
- water
- polymer water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】ケーソン1の周囲に発生した余掘り余掘り間隙
4が、周囲の土砂や地盤に影響を及ぼすことがない、ケ
ーソン1の沈設方法を提供することを目的とする。 【構成】ケーソン1の沈下に際して、ケーソン1の外周
面に沿って高分子吸水性樹脂6の層を形成し、ケーソン
1着底後に、この高分子吸水性樹脂6の層を硬化材7の
層に置き換えて行う、ケーソン1の沈設方法を特徴とし
たものである。
4が、周囲の土砂や地盤に影響を及ぼすことがない、ケ
ーソン1の沈設方法を提供することを目的とする。 【構成】ケーソン1の沈下に際して、ケーソン1の外周
面に沿って高分子吸水性樹脂6の層を形成し、ケーソン
1着底後に、この高分子吸水性樹脂6の層を硬化材7の
層に置き換えて行う、ケーソン1の沈設方法を特徴とし
たものである。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ケーソンの沈設方法に
関するものである。
関するものである。
【0002】
【従来の技術】ケーソンを沈設する際には周辺の地盤と
の摩擦が大きな抵抗となる。そこで図3に示すようにケ
ーソン1の刃口3のすぐ上部外周に突出部(フリクショ
ンカット部2)を形成し、ケーソン1の外周よりもわず
かに広く掘削して余掘り間隙4を形成することによって
ケーソン1周面が直接土砂と接触することがないように
構成しておく方法が一般に採用されている。
の摩擦が大きな抵抗となる。そこで図3に示すようにケ
ーソン1の刃口3のすぐ上部外周に突出部(フリクショ
ンカット部2)を形成し、ケーソン1の外周よりもわず
かに広く掘削して余掘り間隙4を形成することによって
ケーソン1周面が直接土砂と接触することがないように
構成しておく方法が一般に採用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする問題点】しかし前記したよう
にフリクションカット部2はケーソン1の外周よりも余
分に掘削するものであるから、ケーソン1の周囲には余
掘り間隙4が発生することになる。その結果、ケーソン
1の円滑な沈下は達成できるにしても、それに伴って次
のような問題点が生じることがあった。
にフリクションカット部2はケーソン1の外周よりも余
分に掘削するものであるから、ケーソン1の周囲には余
掘り間隙4が発生することになる。その結果、ケーソン
1の円滑な沈下は達成できるにしても、それに伴って次
のような問題点が生じることがあった。
【0004】<イ>軟弱地盤では、ケーソン1の周囲に
発生した余掘り間隙4に向けて付近の土砂が側方流動を
起こしやすい。その結果、流動した土砂の量に応じて地
盤が沈下し、付近の構造物を傾斜させるなどの被害が発
生する。
発生した余掘り間隙4に向けて付近の土砂が側方流動を
起こしやすい。その結果、流動した土砂の量に応じて地
盤が沈下し、付近の構造物を傾斜させるなどの被害が発
生する。
【0005】<ロ>砂などの崩壊性の地盤では、ケーソ
ン1の周囲に発生した余掘り間隙4に向けて土砂が崩壊
し、やはり地盤の沈下を招くことになる。
ン1の周囲に発生した余掘り間隙4に向けて土砂が崩壊
し、やはり地盤の沈下を招くことになる。
【0006】<ハ>以上のような影響が大きいと予想さ
れる場合には従来はケーソン1の外周に鋼矢板を打ち込
んで周囲と遮断する方法、あるいは地盤改良を行い、土
砂の流動化を防ぐ方法などが採用されている。このよう
な大規模な仮設工事は、当然工期や工事費を増加させる
からきわめて不経済なものである。
れる場合には従来はケーソン1の外周に鋼矢板を打ち込
んで周囲と遮断する方法、あるいは地盤改良を行い、土
砂の流動化を防ぐ方法などが採用されている。このよう
な大規模な仮設工事は、当然工期や工事費を増加させる
からきわめて不経済なものである。
【0007】
【本発明の目的】本発明は上記したような従来の問題を
解決するためになされたもので、ケーソン1の周囲に発
生した余掘り間隙4が、周囲の土砂や地盤に影響を及ぼ
すことがない、ケーソンの沈設方法を提供することを目
的とする。
解決するためになされたもので、ケーソン1の周囲に発
生した余掘り間隙4が、周囲の土砂や地盤に影響を及ぼ
すことがない、ケーソンの沈設方法を提供することを目
的とする。
【0008】
【問題点を解決するための手段】上記のような目的を達
成するために、本発明のケーソンの沈設方法は、ケーソ
ンの沈下に際して、ケーソンの外周面に沿って高分子吸
水性樹脂の層を形成し、ケーソン着底後に、この高分子
吸水性樹脂の層を硬化材の層に置き換えて行う、ケーソ
ンの沈設方法を特徴としたものである。
成するために、本発明のケーソンの沈設方法は、ケーソ
ンの沈下に際して、ケーソンの外周面に沿って高分子吸
水性樹脂の層を形成し、ケーソン着底後に、この高分子
吸水性樹脂の層を硬化材の層に置き換えて行う、ケーソ
ンの沈設方法を特徴としたものである。
【0009】
【本発明の構成】以下図面を参照しながら本発明のケー
ソンの沈設方法の実施例について説明する。
ソンの沈設方法の実施例について説明する。
【0010】<イ>ケーソン1の構造 本発明の対象とするケーソン1本体は、従来のものと同
様である。すなわちケーソン1の下部の外周には従来の
ケーソン1と同様に刃口のすぐ上部には棚状にフリクシ
ョンカット部2を突出させて形成してある。したがって
このフリクションカット部2によってケーソン1の外周
よりもわずかに広く掘削して余掘り間隙4を形成するこ
とができる。(なお図では説明のために間隙4を拡大し
て記載してある)したがって、ケーソン1のフリクショ
ンカット部2よりも上部においては、その周面は直接土
砂と接触することがない。本発明のケーソン1ではその
壁面の内部に注入パイプ5を配管する。この注入パイプ
5の先端は棚状に形成したフリクションカット部2の棚
部分に上向きに開口してある。
様である。すなわちケーソン1の下部の外周には従来の
ケーソン1と同様に刃口のすぐ上部には棚状にフリクシ
ョンカット部2を突出させて形成してある。したがって
このフリクションカット部2によってケーソン1の外周
よりもわずかに広く掘削して余掘り間隙4を形成するこ
とができる。(なお図では説明のために間隙4を拡大し
て記載してある)したがって、ケーソン1のフリクショ
ンカット部2よりも上部においては、その周面は直接土
砂と接触することがない。本発明のケーソン1ではその
壁面の内部に注入パイプ5を配管する。この注入パイプ
5の先端は棚状に形成したフリクションカット部2の棚
部分に上向きに開口してある。
【0011】<ロ>高分子吸水性樹脂 本発明の沈設方法では、高分子吸水性樹脂6を使用す
る。この高分子吸水性樹脂6としては例えば次に示すよ
うな材料を使用することができる。 素 材 イソブチレン無水マレイン酸系の
合成高分子 形 状 球状に形成したもの 粒度(メッシュ) 32〜100 水 分 7以下 見掛密度(g/l) 約900 吸水倍率(純水) 約500 pH(吸水時) 中性
る。この高分子吸水性樹脂6としては例えば次に示すよ
うな材料を使用することができる。 素 材 イソブチレン無水マレイン酸系の
合成高分子 形 状 球状に形成したもの 粒度(メッシュ) 32〜100 水 分 7以下 見掛密度(g/l) 約900 吸水倍率(純水) 約500 pH(吸水時) 中性
【0012】さらに高分子吸水性樹脂6として、紫外線
によって容易に分解するものを使用する場合も考えられ
る。その場合にはケーソン1沈下の際の潤滑剤としての
用途を達成した後に地上に排出すれば太陽光によって分
解することができ、産業廃棄物としての処理が容易であ
る。
によって容易に分解するものを使用する場合も考えられ
る。その場合にはケーソン1沈下の際の潤滑剤としての
用途を達成した後に地上に排出すれば太陽光によって分
解することができ、産業廃棄物としての処理が容易であ
る。
【0013】<ハ>吸水性樹脂6層の形成 次にケーソン1の沈下方法について説明する。ケーソン
1はその内部をグラブなどによって掘削しつつ、その上
部にコンクリートを打ち継いで構築して行く。ケーソン
1が沈下すると、外周の下部周辺には棚状にフリクショ
ンカット部2が形成されているから、その外周面に沿っ
て余掘り間隙4が形成される。この余掘り間隙4内に、
ケーソン1の外周面に沿って、注入パイプ5を介して高
分子吸水性樹脂6を吐出する。するとケーソン1の外周
面と土砂との余掘り間隙4に高分子吸水性樹脂6が充填
されて樹脂6の層が形成される。この層が介在すること
によってケーソン1外周面は土砂に直接密着している部
分がなくなる。そのために周辺の土砂の抵抗を受けるこ
とがなく、円滑な沈下が可能となる。
1はその内部をグラブなどによって掘削しつつ、その上
部にコンクリートを打ち継いで構築して行く。ケーソン
1が沈下すると、外周の下部周辺には棚状にフリクショ
ンカット部2が形成されているから、その外周面に沿っ
て余掘り間隙4が形成される。この余掘り間隙4内に、
ケーソン1の外周面に沿って、注入パイプ5を介して高
分子吸水性樹脂6を吐出する。するとケーソン1の外周
面と土砂との余掘り間隙4に高分子吸水性樹脂6が充填
されて樹脂6の層が形成される。この層が介在すること
によってケーソン1外周面は土砂に直接密着している部
分がなくなる。そのために周辺の土砂の抵抗を受けるこ
とがなく、円滑な沈下が可能となる。
【0014】さらにこの高分子吸水性樹脂6は微小な球
体で形成してある。そのために土砂と地山との間に介在
してベアリング効果を発揮し、さらにスムーズな沈下を
助けることになる。なお高分子吸水性樹脂6のみではな
く、それとCMCポリマーなどの分散剤との混合液を充
填することによって混合層を形成する場合もある。ある
いは、高分子吸水性樹脂6に、ベントナイト溶液を混合
したものを使用した混合液を充填することによって混合
層を形成する場合もある。
体で形成してある。そのために土砂と地山との間に介在
してベアリング効果を発揮し、さらにスムーズな沈下を
助けることになる。なお高分子吸水性樹脂6のみではな
く、それとCMCポリマーなどの分散剤との混合液を充
填することによって混合層を形成する場合もある。ある
いは、高分子吸水性樹脂6に、ベントナイト溶液を混合
したものを使用した混合液を充填することによって混合
層を形成する場合もある。
【0015】<ニ>吸水性樹脂6の置き換え ケーソン1が所定の深さに着底したら、周囲との縁切り
は不要となる。そこで高分子吸水性樹脂6の層を、硬化
材7の層に置き換えを行う。そのために例えばセメント
とベントナイトの溶液を、注入パイプ5を介して充填す
る。
は不要となる。そこで高分子吸水性樹脂6の層を、硬化
材7の層に置き換えを行う。そのために例えばセメント
とベントナイトの溶液を、注入パイプ5を介して充填す
る。
【0016】高分子吸水性樹脂6の比重はほぼ1に近い
ため、これよりも比重の大きい硬化材7を図2に示すよ
うに下から充填することによって、高分子吸水性樹脂6
の層は下部から硬化材7によって地上に押し上げられ、
外部へ排出される。その高分子吸水性樹脂6として、太
陽光によって分解するものを使用した場合には、地上に
排出した後に産業廃棄物としての処理が容易である。
ため、これよりも比重の大きい硬化材7を図2に示すよ
うに下から充填することによって、高分子吸水性樹脂6
の層は下部から硬化材7によって地上に押し上げられ、
外部へ排出される。その高分子吸水性樹脂6として、太
陽光によって分解するものを使用した場合には、地上に
排出した後に産業廃棄物としての処理が容易である。
【0017】
【発明の効果】本発明のケーソンの沈設方法は以上説明
したようになるから次のような効果を得ることができ
る。
したようになるから次のような効果を得ることができ
る。
【0018】<イ>摩擦を低下させるために形成するケ
ーソン1周囲の余掘り間隙4を、その間隙4が形成され
た直後に高分子吸水性樹脂6によって充填してしまう工
法である。したがって従来のように余掘りした間隙がケ
ーソン1の周囲に発生することがない。そのために軟弱
地盤の側方流動、あるいは砂地盤の崩壊が生じることが
なく、周辺地盤の沈下を防ぐことができる。
ーソン1周囲の余掘り間隙4を、その間隙4が形成され
た直後に高分子吸水性樹脂6によって充填してしまう工
法である。したがって従来のように余掘りした間隙がケ
ーソン1の周囲に発生することがない。そのために軟弱
地盤の側方流動、あるいは砂地盤の崩壊が生じることが
なく、周辺地盤の沈下を防ぐことができる。
【0019】<ロ>ケーソン1の周囲に充填する材料は
特に吸水性樹脂6を使用している。この樹脂6は吸水に
よってその体積が数十倍に膨脹するためにわずかな量を
注入しても十分に膨脹してケーソン1周囲の余掘り間隙
4を完全に埋めることができる。
特に吸水性樹脂6を使用している。この樹脂6は吸水に
よってその体積が数十倍に膨脹するためにわずかな量を
注入しても十分に膨脹してケーソン1周囲の余掘り間隙
4を完全に埋めることができる。
【0020】<ハ>また高分子吸水性樹脂6として微細
な粒状のものを使用すれば、そのベアリング効果によっ
てケーソン1の周面と地盤との摩擦をより低減できる。
な粒状のものを使用すれば、そのベアリング効果によっ
てケーソン1の周面と地盤との摩擦をより低減できる。
【0021】<ニ>ケーソン1が所定の深さに着底すれ
ば、ケーソン1周囲の摩擦軽減剤としての充填剤を、セ
メントなどの硬化材7によって置き換える工法である。
したがってケーソン1の沈下中は摩擦を低減してスムー
ズな沈下が達成でき、かつ沈下が終了したら永久構造物
として安定した形状、姿勢を確実に保持することができ
る。
ば、ケーソン1周囲の摩擦軽減剤としての充填剤を、セ
メントなどの硬化材7によって置き換える工法である。
したがってケーソン1の沈下中は摩擦を低減してスムー
ズな沈下が達成でき、かつ沈下が終了したら永久構造物
として安定した形状、姿勢を確実に保持することができ
る。
【0022】<ホ>特に着底後に硬化材7を下方から注
入すれば、摩擦を低減する樹脂を下から押し上げて地上
に排出することができる。すると高分子吸水性樹脂6は
地上に排出した後に太陽光によって分解するから、産業
廃棄物としての処理が容易となる。
入すれば、摩擦を低減する樹脂を下から押し上げて地上
に排出することができる。すると高分子吸水性樹脂6は
地上に排出した後に太陽光によって分解するから、産業
廃棄物としての処理が容易となる。
【図1】本発明のケーソンの沈設方法の実施例の説明図
【図2】本発明のケーソンの沈設方法の実施例の説明図
【図3】従来のケーソンの沈設方法の実施例の説明図
Claims (7)
- 【請求項1】ケーソンの沈下に際して、 ケーソンの外周面に沿って、高分子吸水性樹脂の層を形
成し、 ケーソン着底後に、この高分子吸水性樹脂の層を、硬化
材の層に置き換えて行う、 ケーソンの沈設方法 - 【請求項2】ケーソンの沈下に際して、 ケーソンの外周面に沿って、高分子吸水性樹脂の層を形
成し、 ケーソン着底後に、この高分子吸水性樹脂の層の下部か
ら硬化材を注入して高分子吸水性樹脂を押し上げて外部
へ排出し、 高分子吸水性樹脂の層を、硬化材の層に置き換えて行
う、 ケーソンの沈設方法 - 【請求項3】高分子吸水性樹脂は、粒状に形成してある
ものを使用する、 請求項1〜2記載のケーソンの沈設方法 - 【請求項4】高分子吸水性樹脂は、紫外線によって容易
に分解するものを使用する、 請求項1〜2記載のケーソンの沈設方法 - 【請求項5】高分子吸水性樹脂に、分散剤を混合したも
のを使用して行う、 請求項1〜2記載のケーソンの沈設方法 - 【請求項6】高分子吸水性樹脂に、ベントナイト溶液を
混合したものを使用して行う、 請求項1〜2記載のケーソンの沈設方法 - 【請求項7】ケーソン着底後に、高分子吸水性樹脂の層
を、 セメントとベントナイト溶液によって置き換えて行う、 請求項1〜2記載のケーソンの沈設方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33011794A JPH08158378A (ja) | 1994-12-06 | 1994-12-06 | ケーソンの沈設方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33011794A JPH08158378A (ja) | 1994-12-06 | 1994-12-06 | ケーソンの沈設方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08158378A true JPH08158378A (ja) | 1996-06-18 |
Family
ID=18228994
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33011794A Pending JPH08158378A (ja) | 1994-12-06 | 1994-12-06 | ケーソンの沈設方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08158378A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012102549A (ja) * | 2010-11-10 | 2012-05-31 | Japan Railway Construction Transport & Technology Agency | ケーソン工法における地盤改質工法 |
| JP2013087603A (ja) * | 2011-10-22 | 2013-05-13 | Fukuda Corp | ケーソンの沈設方法 |
| JP2018150761A (ja) * | 2017-03-14 | 2018-09-27 | 清水建設株式会社 | 共下がり抑制構造及びケーソンの沈下方法 |
| JP2020148031A (ja) * | 2019-03-14 | 2020-09-17 | 前田建設工業株式会社 | ケーソン躯体沈設におけるグラウト方法 |
| JP2021008720A (ja) * | 2019-06-28 | 2021-01-28 | 国立大学法人神戸大学 | ケーソン、ニューマチックケーソン工法及び構造物 |
-
1994
- 1994-12-06 JP JP33011794A patent/JPH08158378A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012102549A (ja) * | 2010-11-10 | 2012-05-31 | Japan Railway Construction Transport & Technology Agency | ケーソン工法における地盤改質工法 |
| JP2013087603A (ja) * | 2011-10-22 | 2013-05-13 | Fukuda Corp | ケーソンの沈設方法 |
| JP2018150761A (ja) * | 2017-03-14 | 2018-09-27 | 清水建設株式会社 | 共下がり抑制構造及びケーソンの沈下方法 |
| JP2020148031A (ja) * | 2019-03-14 | 2020-09-17 | 前田建設工業株式会社 | ケーソン躯体沈設におけるグラウト方法 |
| JP2021008720A (ja) * | 2019-06-28 | 2021-01-28 | 国立大学法人神戸大学 | ケーソン、ニューマチックケーソン工法及び構造物 |
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