JPH08166502A - マイクロレンズアレイ及びその製造方法 - Google Patents
マイクロレンズアレイ及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH08166502A JPH08166502A JP6332628A JP33262894A JPH08166502A JP H08166502 A JPH08166502 A JP H08166502A JP 6332628 A JP6332628 A JP 6332628A JP 33262894 A JP33262894 A JP 33262894A JP H08166502 A JPH08166502 A JP H08166502A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- microlens array
- resin
- glass substrate
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 102
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 102
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 54
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 35
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 23
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 9
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- LGJCFVYMIJLQJO-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylperoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOOCCCCCCCCCCCC LGJCFVYMIJLQJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 液晶表示装置の液晶画像の輝度を高めるのに
適し、かつ耐熱、耐光性、機械的強度、耐薬品性に優れ
たマイクロレンズアレイとその製造方法を提供する。 【構成】 マイクロレンズアレイ35を構成する個々の
レンズは、底面形状が多角形でかつ該レンズの底面形状
がレンズの底面の各辺に於いて、隣り合うレンズが微細
な間隙で等間隔にもしくは接して配列可能な多角形であ
ることを特徴とする。マイクロレンズアレイ35の製造
方法は、ガラス基板21,31上に、底面が多角形でそ
の上方に半球面状に形成されているレンズ状樹脂34が
所望のマイクロレンズアレイパタ−ンに対応して配列さ
れているレンズ状樹脂パタ−ンを形成する工程と、該レ
ンズ状樹脂34と該ガラス基板21,31の一部とをエ
ッチングにより除去する工程とを含む。
適し、かつ耐熱、耐光性、機械的強度、耐薬品性に優れ
たマイクロレンズアレイとその製造方法を提供する。 【構成】 マイクロレンズアレイ35を構成する個々の
レンズは、底面形状が多角形でかつ該レンズの底面形状
がレンズの底面の各辺に於いて、隣り合うレンズが微細
な間隙で等間隔にもしくは接して配列可能な多角形であ
ることを特徴とする。マイクロレンズアレイ35の製造
方法は、ガラス基板21,31上に、底面が多角形でそ
の上方に半球面状に形成されているレンズ状樹脂34が
所望のマイクロレンズアレイパタ−ンに対応して配列さ
れているレンズ状樹脂パタ−ンを形成する工程と、該レ
ンズ状樹脂34と該ガラス基板21,31の一部とをエ
ッチングにより除去する工程とを含む。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、微小なマイクロレンズ
が規則的に配列されてなるマイクロレンズアレイに係
り、液晶表示装置、光集積回路、光ファイバアレイの光
結合器、固体撮像素子、電子複写機の光学系等に用いら
れ、特に液晶表示装置に用いて好適なマイクロレンズア
レイとその製造方法に関する。
が規則的に配列されてなるマイクロレンズアレイに係
り、液晶表示装置、光集積回路、光ファイバアレイの光
結合器、固体撮像素子、電子複写機の光学系等に用いら
れ、特に液晶表示装置に用いて好適なマイクロレンズア
レイとその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に液晶表示装置にはバックライトが
使用されるが、液晶表示素子の画素中にはブラックマト
リックスや駆動素子等バックライトを通さない部分があ
り、その分だけ暗くなることになる。これを避けるた
め、マイクロレンズアレイを用い、照射されたバックラ
イト光量をできるだけ液晶表示素子の画素中のバックラ
イトを通す部分に集光させることにより、液晶画像の輝
度を向上させる試みがなされている。
使用されるが、液晶表示素子の画素中にはブラックマト
リックスや駆動素子等バックライトを通さない部分があ
り、その分だけ暗くなることになる。これを避けるた
め、マイクロレンズアレイを用い、照射されたバックラ
イト光量をできるだけ液晶表示素子の画素中のバックラ
イトを通す部分に集光させることにより、液晶画像の輝
度を向上させる試みがなされている。
【0003】例えば、特開平5−40216号公報(以
下、先行技術1と称する)には、固体撮像素子のS/N
比を向上させるために、受光部への入射光を増加させて
入力信号強度を増加させることが開示されている。具体
的には、CCD上に、順に、下引き樹脂層、マイクロレ
ンズ形成用樹脂層、転写用感光生樹脂層を設けた後、紫
外線露光、現像して転写用球面レンズパタ−ンを形成
し、その後、酸素プラズマ法によってエッチングし、下
引き樹脂層上に、樹脂製のマイクロレンズを得ている。
このマイクロレンズの曲面を非球面とすることによっ
て、受光部の隣りの転送部や配線部(電荷転送部)への
入射光をも受光部に集束させ受光部の受光量を増してい
る。これによってレンズ端部の光をもレンズ中央部に集
光し、S/N比を向上させている。
下、先行技術1と称する)には、固体撮像素子のS/N
比を向上させるために、受光部への入射光を増加させて
入力信号強度を増加させることが開示されている。具体
的には、CCD上に、順に、下引き樹脂層、マイクロレ
ンズ形成用樹脂層、転写用感光生樹脂層を設けた後、紫
外線露光、現像して転写用球面レンズパタ−ンを形成
し、その後、酸素プラズマ法によってエッチングし、下
引き樹脂層上に、樹脂製のマイクロレンズを得ている。
このマイクロレンズの曲面を非球面とすることによっ
て、受光部の隣りの転送部や配線部(電荷転送部)への
入射光をも受光部に集束させ受光部の受光量を増してい
る。これによってレンズ端部の光をもレンズ中央部に集
光し、S/N比を向上させている。
【0004】特公昭61−46408号公報(以下、先
行技術2と称する)は、NAが大きく高密度のマイクロ
レンズアレイの製造時間を短縮するために、光学ガラス
基板の表面に、所望のレンズアレイの配列に対応するレ
ジストパタ−ンを形成した後、この光学ガラス基板をリ
アクティブイオンエッチングして円柱状の凸部を形成
し、レジストを除去した後、さらに不活性ガスが封入さ
れた電気炉内で1800℃に加熱し、円柱状の凸部を球
面状に熱変形させることによって、円形の凸レンズが配
列されたマイクロレンズアレイを得ることを開示してい
る。
行技術2と称する)は、NAが大きく高密度のマイクロ
レンズアレイの製造時間を短縮するために、光学ガラス
基板の表面に、所望のレンズアレイの配列に対応するレ
ジストパタ−ンを形成した後、この光学ガラス基板をリ
アクティブイオンエッチングして円柱状の凸部を形成
し、レジストを除去した後、さらに不活性ガスが封入さ
れた電気炉内で1800℃に加熱し、円柱状の凸部を球
面状に熱変形させることによって、円形の凸レンズが配
列されたマイクロレンズアレイを得ることを開示してい
る。
【0005】特開平4−123002号公報(以下、先
行技術3と称する)では、レンズアレイ成形型上に紫外
線硬化樹脂を滴下し、液溜まりを形成した後、その上に
ガラス基板を密着させ、さらに成形型とガラス基板とを
加圧ロ−ルで挟み込み、ガラス基板側から紫外線を照射
して樹脂を硬化している。その後離型して、ガラス基板
上に、幅100μm、長さ80mmのレンチキュラ−状
の微小なマイクロレンズが規則的に配列されたマイクロ
レンズアレイを得ることを開示している。
行技術3と称する)では、レンズアレイ成形型上に紫外
線硬化樹脂を滴下し、液溜まりを形成した後、その上に
ガラス基板を密着させ、さらに成形型とガラス基板とを
加圧ロ−ルで挟み込み、ガラス基板側から紫外線を照射
して樹脂を硬化している。その後離型して、ガラス基板
上に、幅100μm、長さ80mmのレンチキュラ−状
の微小なマイクロレンズが規則的に配列されたマイクロ
レンズアレイを得ることを開示している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】先行技術1及び先行技
術2に開示されたマイクロレンズアレイを図9に示す。
これら先行技術に認められるマイクロレンズアレイ91
を構成する個々のマイクロレンズ92の形状は円形であ
る。このため円形マイクロレンズ92の個々に隣接する
レンズ間には、図9中に網線で示した空隅部93が存在
する。この隣接する円形レンズ間の空隅部93は、各円
形レンズを隣接させて最密充填した場合に於いても、マ
イクロレンズアレイ面の全面積のほぼ一割にも達する。
従って、先行技術1及び先行技術2に開示された円形レ
ンズで構成されるマイクロレンズアレイを液晶表示装置
に使用する場合、バックライト光量を充分利用すること
ができず、液晶画像の輝度を向上させることができな
い。
術2に開示されたマイクロレンズアレイを図9に示す。
これら先行技術に認められるマイクロレンズアレイ91
を構成する個々のマイクロレンズ92の形状は円形であ
る。このため円形マイクロレンズ92の個々に隣接する
レンズ間には、図9中に網線で示した空隅部93が存在
する。この隣接する円形レンズ間の空隅部93は、各円
形レンズを隣接させて最密充填した場合に於いても、マ
イクロレンズアレイ面の全面積のほぼ一割にも達する。
従って、先行技術1及び先行技術2に開示された円形レ
ンズで構成されるマイクロレンズアレイを液晶表示装置
に使用する場合、バックライト光量を充分利用すること
ができず、液晶画像の輝度を向上させることができな
い。
【0007】特に、投射型の液晶表示装置は光源に高輝
度の照明が使用されるため、この液晶表示装置に使用さ
れるマイクロレンズアレイは、高い耐光性と光源の熱に
耐える高い耐熱性が要求される。しかし、先行技術1及
び先行技術3に開示されたマイクロレンズアレイは、樹
脂によって形成されているため、耐熱、耐光性、機械的
強度、耐薬品性が弱いという欠点がある。
度の照明が使用されるため、この液晶表示装置に使用さ
れるマイクロレンズアレイは、高い耐光性と光源の熱に
耐える高い耐熱性が要求される。しかし、先行技術1及
び先行技術3に開示されたマイクロレンズアレイは、樹
脂によって形成されているため、耐熱、耐光性、機械的
強度、耐薬品性が弱いという欠点がある。
【0008】一方、先行技術2に開示されたマイクロレ
ンズアレイは、その製造の際、ガラス基板を1800℃
の高温に曝して、円柱状の凸部を球面状に熱変形させる
ため、設定した開口数(NA)を得ることができず、精
度の高いマイクロレンズアレイを得ることができない。
ンズアレイは、その製造の際、ガラス基板を1800℃
の高温に曝して、円柱状の凸部を球面状に熱変形させる
ため、設定した開口数(NA)を得ることができず、精
度の高いマイクロレンズアレイを得ることができない。
【0009】本発明は、上記欠点を解決するためになさ
れたものであって、本発明の第一の目的は、液晶表示装
置の液晶画像の輝度を高めるのに適したマイクロレンズ
アレイを提供することであり、第二の目的は、耐熱、耐
光性、機械的強度、耐薬品性に優れたマイクロレンズア
レイを提供することであり、第三の目的は、上記マイク
ロレンズアレイを設計通りの開口数を有する高精度のマ
イクロレンズアレイの製造方法を提供することにある。
れたものであって、本発明の第一の目的は、液晶表示装
置の液晶画像の輝度を高めるのに適したマイクロレンズ
アレイを提供することであり、第二の目的は、耐熱、耐
光性、機械的強度、耐薬品性に優れたマイクロレンズア
レイを提供することであり、第三の目的は、上記マイク
ロレンズアレイを設計通りの開口数を有する高精度のマ
イクロレンズアレイの製造方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明はこれらの課題を
解決するためになされたものであって、本発明のマイク
ロレンズアレイは、複数の凸レンズが規則的に配列して
なるマイクロレンズアレイに於いて、該マイクロレンズ
アレイを構成する個々のレンズは、底面形状が多角形で
その上方に凸球面状に形成されてなる形状を有し、該レ
ンズの底面形状がレンズの底面の各辺に於いて、隣り合
うレンズの辺が微細な間隙で等間隔にもしくは接して配
列可能な多角形であることを特徴とする。
解決するためになされたものであって、本発明のマイク
ロレンズアレイは、複数の凸レンズが規則的に配列して
なるマイクロレンズアレイに於いて、該マイクロレンズ
アレイを構成する個々のレンズは、底面形状が多角形で
その上方に凸球面状に形成されてなる形状を有し、該レ
ンズの底面形状がレンズの底面の各辺に於いて、隣り合
うレンズの辺が微細な間隙で等間隔にもしくは接して配
列可能な多角形であることを特徴とする。
【0011】また、本発明のマイクロレンズアレイの製
造方法は、ガラス基板上に、底面形状が多角形でその上
方に凸球面状に形成されてなる形状を有するレンズ状樹
脂が所望のマイクロレンズアレイパタ−ンに対応して配
列されてなるレンズ状樹脂パタ−ンを形成する工程と、
該レンズ状樹脂と該ガラス基板の一部とをエッチングに
より除去する工程とを含むことを特徴とする。
造方法は、ガラス基板上に、底面形状が多角形でその上
方に凸球面状に形成されてなる形状を有するレンズ状樹
脂が所望のマイクロレンズアレイパタ−ンに対応して配
列されてなるレンズ状樹脂パタ−ンを形成する工程と、
該レンズ状樹脂と該ガラス基板の一部とをエッチングに
より除去する工程とを含むことを特徴とする。
【0012】まず、本発明のマイクロレンズアレイにつ
いて説明する。上記レンズの底面の各辺に於いて、隣り
合うレンズの辺が微細な間隙で等間隔にもしくは接して
配列可能な多角形とは、具体的には、各レンズが全て同
一形状の場合は、正六角形、正方形、長方形、平行四辺
形、台形、正三角形、二等辺三角形等が挙げられる。こ
のような多角形は、隣り合う底面形状が多角形であるレ
ンズの各辺が、微細な間隙で配列もしくは接して配列さ
れ、底面形状が円の場合に生じる、光を集光することが
できない空隅部を形成せずにレンズを配列することがで
きる。このように個々のレンズが最密状に充填配列され
てなる状態を、以後、最密充填状という。前記微細な間
隙は、レンズ辺の長さの1/5以下であることが好まし
い。
いて説明する。上記レンズの底面の各辺に於いて、隣り
合うレンズの辺が微細な間隙で等間隔にもしくは接して
配列可能な多角形とは、具体的には、各レンズが全て同
一形状の場合は、正六角形、正方形、長方形、平行四辺
形、台形、正三角形、二等辺三角形等が挙げられる。こ
のような多角形は、隣り合う底面形状が多角形であるレ
ンズの各辺が、微細な間隙で配列もしくは接して配列さ
れ、底面形状が円の場合に生じる、光を集光することが
できない空隅部を形成せずにレンズを配列することがで
きる。このように個々のレンズが最密状に充填配列され
てなる状態を、以後、最密充填状という。前記微細な間
隙は、レンズ辺の長さの1/5以下であることが好まし
い。
【0013】該多角形のレンズの形状としては、正三角
形、正四角形及び正六角形が好ましい。より好ましくは
正四角形及び正六角形である。その理由は、前記最密充
填状配列が可能であって、かつ隣り合うレンズと両レン
ズの直下(または直上)に位置する各レンズの中心を結
ぶ線が三角形をなすデルタ配列が可能であり、液晶表示
装置に用いたとき、液晶画素のデルタ配列とあいやすく
液晶画像がより鮮明となるからである。さらに、該マイ
クロレンズアレイはガラス製であることが好ましい。
形、正四角形及び正六角形が好ましい。より好ましくは
正四角形及び正六角形である。その理由は、前記最密充
填状配列が可能であって、かつ隣り合うレンズと両レン
ズの直下(または直上)に位置する各レンズの中心を結
ぶ線が三角形をなすデルタ配列が可能であり、液晶表示
装置に用いたとき、液晶画素のデルタ配列とあいやすく
液晶画像がより鮮明となるからである。さらに、該マイ
クロレンズアレイはガラス製であることが好ましい。
【0014】次に、本発明のマイクロレンズアレイの製
造方法について説明する。前記レンズ状樹脂と前記ガラ
ス基板の一部とをエッチングにより除去する工程に於い
て、該レンズ状樹脂のエッチング速度に対する該ガラス
基板のエッチング速度の比を0.3以上20以下、好ま
しくは0.3以上7以下としたことを特徴とする。この
速度比が0.3未満では得られるマイクロレンズの高さ
が低くなり、20を超えると所望のマイクロレンズ形状
が得られず好ましくない。
造方法について説明する。前記レンズ状樹脂と前記ガラ
ス基板の一部とをエッチングにより除去する工程に於い
て、該レンズ状樹脂のエッチング速度に対する該ガラス
基板のエッチング速度の比を0.3以上20以下、好ま
しくは0.3以上7以下としたことを特徴とする。この
速度比が0.3未満では得られるマイクロレンズの高さ
が低くなり、20を超えると所望のマイクロレンズ形状
が得られず好ましくない。
【0015】該レンズ状樹脂のエッチング速度に対する
該ガラス基板のエッチング速度の比を制御する理由は、
エッチング処理によって得られるマイクロレンズの形
状、即ちレンズの曲率を設計上の曲率に合わせるためで
ある。エッチング速度の比を制御する手段としては、ガ
ラス基板上に形成するマイクロレンズアレイのレンズ状
樹脂パターンに使用する樹脂の選択、エッチングの際に
使用するガスの選択、及びガラス基板のガラスの選択等
によって行われる。
該ガラス基板のエッチング速度の比を制御する理由は、
エッチング処理によって得られるマイクロレンズの形
状、即ちレンズの曲率を設計上の曲率に合わせるためで
ある。エッチング速度の比を制御する手段としては、ガ
ラス基板上に形成するマイクロレンズアレイのレンズ状
樹脂パターンに使用する樹脂の選択、エッチングの際に
使用するガスの選択、及びガラス基板のガラスの選択等
によって行われる。
【0016】樹脂は、ポリスチレン樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹
脂、あるいはこれら樹脂のモノマーや混合物等の樹脂か
ら選択される。特に、芳香環を有する樹脂を用いた場合
には、樹脂パタ−ンの樹脂のエッチング速度をガラス基
板のエッチング速度よりも遅くすることができる。
脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹
脂、あるいはこれら樹脂のモノマーや混合物等の樹脂か
ら選択される。特に、芳香環を有する樹脂を用いた場合
には、樹脂パタ−ンの樹脂のエッチング速度をガラス基
板のエッチング速度よりも遅くすることができる。
【0017】ガスは、C2 F2 の他CF4 、CHF3 、
Cl2 に代表されるようなフッ素系、塩素系の単体ガ
ス、またはこれらのガスを含む混合ガス等から選択され
る。またこれらのガスに酸素を含んでいてもよい。
Cl2 に代表されるようなフッ素系、塩素系の単体ガ
ス、またはこれらのガスを含む混合ガス等から選択され
る。またこれらのガスに酸素を含んでいてもよい。
【0018】ガラスは、石英ガラス、珪酸塩ガラス、ア
ルミノ珪酸塩ガラス等のガラスから選択される。
ルミノ珪酸塩ガラス等のガラスから選択される。
【0019】なお、ガラス基板上に、底面が多角形でそ
の上方に凸球面状に形成されてなる形状を有するレンズ
状樹脂が所望のマイクロレンズアレイパタ−ンに対応し
て配列されてなるレンズ状樹脂を形成する方法として
は、ガラス基板上にフォトレジストを塗布して、所望の
マイクロレンズアレイパターンを有するフォトマスクを
密着させて、紫外線露光後、現像することにより、多角
形の柱状樹脂が配列されてなる柱状樹脂パターンがガラ
ス基板上に形成される。この柱状樹脂パターンを、加熱
軟化させることにより、あるいは酸素プラズマ中でドラ
イエッチングすることにより、レンズ状樹脂が配列され
てなるレンズ状樹脂パターンが得られる。
の上方に凸球面状に形成されてなる形状を有するレンズ
状樹脂が所望のマイクロレンズアレイパタ−ンに対応し
て配列されてなるレンズ状樹脂を形成する方法として
は、ガラス基板上にフォトレジストを塗布して、所望の
マイクロレンズアレイパターンを有するフォトマスクを
密着させて、紫外線露光後、現像することにより、多角
形の柱状樹脂が配列されてなる柱状樹脂パターンがガラ
ス基板上に形成される。この柱状樹脂パターンを、加熱
軟化させることにより、あるいは酸素プラズマ中でドラ
イエッチングすることにより、レンズ状樹脂が配列され
てなるレンズ状樹脂パターンが得られる。
【0020】レンズ状樹脂パターンを得る他の方法とし
て、所望のマイクロレンズアレイパタ−ンに対応する成
形面を有する成形型とガラス基板との間に、紫外線硬化
樹脂または熱硬化樹脂を満たし、紫外線硬化あるいは加
熱硬化させた後、成形型を取り外すことによりレンズ状
樹脂パターンが得られる。
て、所望のマイクロレンズアレイパタ−ンに対応する成
形面を有する成形型とガラス基板との間に、紫外線硬化
樹脂または熱硬化樹脂を満たし、紫外線硬化あるいは加
熱硬化させた後、成形型を取り外すことによりレンズ状
樹脂パターンが得られる。
【0021】さらなる方法として、ガラス基板上に、成
形型を用いて、パタ−ン配列された多角柱状の樹脂層を
形成後、この樹脂層を加熱して表面を熱軟化させること
により、成形面にレンズ形状に対応する曲面加工が施さ
れたレンズアレイ成形型を用いることなく、レンズ状樹
脂パターンを得ることも可能である。さらに、凹版印刷
法によりレンズ状樹脂パターンを形成することも可能で
ある。
形型を用いて、パタ−ン配列された多角柱状の樹脂層を
形成後、この樹脂層を加熱して表面を熱軟化させること
により、成形面にレンズ形状に対応する曲面加工が施さ
れたレンズアレイ成形型を用いることなく、レンズ状樹
脂パターンを得ることも可能である。さらに、凹版印刷
法によりレンズ状樹脂パターンを形成することも可能で
ある。
【0022】
【作用】本発明のマイクロレンズアレイは、構成するマ
イクロレンズの形状を、底面形状が多角形でその上方に
凸球面状に形成されてなる形状とし、該レンズの底面の
各辺に於いて、隣り合うレンズが微細な間隙で等間隔に
もしくは接して配列可能な多角形としたことにより、個
々のマイクロレンズを最密充填状に配列することが可能
となり、従来の円形レンズの場合の如き隣り合うレンズ
間に存在する空隅部、即ちレンズによって照射光が集束
されない空隅部を極めて少なくすることができる。特
に、本発明のマイクロレンズアレイを液晶表示装置に使
用する場合、液晶表示素子の画素に入射する光量が増大
する。
イクロレンズの形状を、底面形状が多角形でその上方に
凸球面状に形成されてなる形状とし、該レンズの底面の
各辺に於いて、隣り合うレンズが微細な間隙で等間隔に
もしくは接して配列可能な多角形としたことにより、個
々のマイクロレンズを最密充填状に配列することが可能
となり、従来の円形レンズの場合の如き隣り合うレンズ
間に存在する空隅部、即ちレンズによって照射光が集束
されない空隅部を極めて少なくすることができる。特
に、本発明のマイクロレンズアレイを液晶表示装置に使
用する場合、液晶表示素子の画素に入射する光量が増大
する。
【0023】本発明のマイクロレンズアレイの製造方法
によれば、ガラス基板上に設けられたレンズ状樹脂は、
エッチングによりガラス基板の一部とともに全て除去さ
れるため、レンズ状樹脂パタ−ンと同じパターンを有す
るガラス製の耐熱、耐光性、機械的強度、耐薬品性に優
れたマイクロレンズアレイが得られる。
によれば、ガラス基板上に設けられたレンズ状樹脂は、
エッチングによりガラス基板の一部とともに全て除去さ
れるため、レンズ状樹脂パタ−ンと同じパターンを有す
るガラス製の耐熱、耐光性、機械的強度、耐薬品性に優
れたマイクロレンズアレイが得られる。
【0024】さらに、本発明のマイクロレンズアレイの
製造方法は、ガラス基板上に設けた円柱状の凸部を高温
で球面状に熱軟化させる先行技術2とは異なり、エッチ
ング法を採用し、かつガラス基板上に設けられたレンズ
状樹脂と該ガラス基板の一部とをエッチングにより除去
する際、レンズ状樹脂とガラス基板とのエッチング速度
比を制御することによって、設計通りの開口数を有する
マイクロレンズアレイが得られる。
製造方法は、ガラス基板上に設けた円柱状の凸部を高温
で球面状に熱軟化させる先行技術2とは異なり、エッチ
ング法を採用し、かつガラス基板上に設けられたレンズ
状樹脂と該ガラス基板の一部とをエッチングにより除去
する際、レンズ状樹脂とガラス基板とのエッチング速度
比を制御することによって、設計通りの開口数を有する
マイクロレンズアレイが得られる。
【0025】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に従って詳細に
説明する。 [実施例1]図1は、底面(一辺の長さ50μm)の正
六角形でその上方に凸球面状に形成されてなる個々のマ
イクロレンズ2が、最密充填状に配列されてなる本実施
例のマイクロレンズアレイ1を示す図である。図1
(a)はマイクロレンズアレイの平面図、図1(b)は
図1(a)のIーI線での断面図である。以下に、本実
施例のマイクロレンズアレイの製造方法を、図2、3、
4を用いて詳述する。
説明する。 [実施例1]図1は、底面(一辺の長さ50μm)の正
六角形でその上方に凸球面状に形成されてなる個々のマ
イクロレンズ2が、最密充填状に配列されてなる本実施
例のマイクロレンズアレイ1を示す図である。図1
(a)はマイクロレンズアレイの平面図、図1(b)は
図1(a)のIーI線での断面図である。以下に、本実
施例のマイクロレンズアレイの製造方法を、図2、3、
4を用いて詳述する。
【0026】石英ガラス基板21上に、スパッタ装置を
用いて、膜厚800Åのクロム層22を形成後、さらに
ネガタイプの電子線レジストを塗布してレジスト層23
を設け、フォトマスクブランクス24を得た(図2
(a))。次に、電子線描画装置を用いて、正六角形の
マイクロレンズが配列されてなる所望のマイクロレンズ
アレイのパターンに従って、マイクロレンズに対応する
部分に矢印の方向から電子線を照射した後(図2
(b))、現像液(東ソー社製 CMS液)を用いて、
電子線未照射部分のレジスト、即ちレンズ間の間隙に対
応する部分のレジストを溶解除去し(図2(c))、さ
らに、レジスト除去によって露出したクロム層部分をク
ロムエッチング液(関東化学社製 HY液)に90秒間
侵漬して除去し(図2(d))、その後、120℃の濃
硫酸に30分間侵漬してクロム層22上のレジスト層2
3を溶解除去することにより、クロム層22部分(一辺
が50μmの正六角形のマイクロレンズに対応する部
分)が、2μmの間隔で最密充填状に配列されてなるフ
ォトマスク25を得た(図2(e))。
用いて、膜厚800Åのクロム層22を形成後、さらに
ネガタイプの電子線レジストを塗布してレジスト層23
を設け、フォトマスクブランクス24を得た(図2
(a))。次に、電子線描画装置を用いて、正六角形の
マイクロレンズが配列されてなる所望のマイクロレンズ
アレイのパターンに従って、マイクロレンズに対応する
部分に矢印の方向から電子線を照射した後(図2
(b))、現像液(東ソー社製 CMS液)を用いて、
電子線未照射部分のレジスト、即ちレンズ間の間隙に対
応する部分のレジストを溶解除去し(図2(c))、さ
らに、レジスト除去によって露出したクロム層部分をク
ロムエッチング液(関東化学社製 HY液)に90秒間
侵漬して除去し(図2(d))、その後、120℃の濃
硫酸に30分間侵漬してクロム層22上のレジスト層2
3を溶解除去することにより、クロム層22部分(一辺
が50μmの正六角形のマイクロレンズに対応する部
分)が、2μmの間隔で最密充填状に配列されてなるフ
ォトマスク25を得た(図2(e))。
【0027】次に、表面を研磨処理した3インチ角の石
英ガラス基板31上に、スピンコ−ト法により0.8μ
mの膜厚でポジタイプのフォトレジスト(ヘキスト株式
会社製、AZ−1350)を塗布して樹脂層32を形成
した。この樹脂層32に、先に作成したフォトマスク2
5のクロム層22が設けられた面を密着させ、紫外線露
光機を用いて、照射量200mJ/cm2 で矢印の方向か
ら紫外線露光後(図3(a))、現像液(ヘキスト社製
AZデベロッパー液)に60秒間侵漬し、現像するこ
とにより、紫外線の照射部分(個々のマイクロレンズ間
の間隙に対応する部分)のレジストが溶解除去されて、
柱状樹脂33を石英ガラス基板31上に得た(図3
(b))。この柱状樹脂33が設けられた石英ガラス基
板31を200℃のオ−ブン内で30分加熱し、柱状樹
脂33の表面を熱軟化させて、底面形状が正六角形(一
辺の長さ50μm)でその上方に凸球面状に形成されて
なる形状を有する高さが0.78μmのレンズ状樹脂3
4が配列された、図4に示すレンズ状樹脂パタ−ンAを
石英ガラス基板31上に得た(図3(c))。
英ガラス基板31上に、スピンコ−ト法により0.8μ
mの膜厚でポジタイプのフォトレジスト(ヘキスト株式
会社製、AZ−1350)を塗布して樹脂層32を形成
した。この樹脂層32に、先に作成したフォトマスク2
5のクロム層22が設けられた面を密着させ、紫外線露
光機を用いて、照射量200mJ/cm2 で矢印の方向か
ら紫外線露光後(図3(a))、現像液(ヘキスト社製
AZデベロッパー液)に60秒間侵漬し、現像するこ
とにより、紫外線の照射部分(個々のマイクロレンズ間
の間隙に対応する部分)のレジストが溶解除去されて、
柱状樹脂33を石英ガラス基板31上に得た(図3
(b))。この柱状樹脂33が設けられた石英ガラス基
板31を200℃のオ−ブン内で30分加熱し、柱状樹
脂33の表面を熱軟化させて、底面形状が正六角形(一
辺の長さ50μm)でその上方に凸球面状に形成されて
なる形状を有する高さが0.78μmのレンズ状樹脂3
4が配列された、図4に示すレンズ状樹脂パタ−ンAを
石英ガラス基板31上に得た(図3(c))。
【0028】さらに、平行平板型リアクティブイオンエ
ッチング装置を用い、300Wの高周波電力を供給し、
CHF3 流量150sccmの条件で、前記レンズ状樹
脂34が設けられた石英ガラス基板31を、樹脂のエッ
チング速度が0.008μm/分、石英ガラスのエッチ
ング速度が0.08μm/分で,レンズ状樹脂34部分
が消失するまでドライエッチングして、レンズ状樹脂パ
タ−ンAと同じパターンを有する石英ガラス製のマイク
ロレンズアレイ35を得た(図3(d))。このときの
樹脂のエッチング速度に対する石英ガラスのエッチング
速度比は10.0であるため、石英ガラスは樹脂の10
倍の速さでエッチングされ、マイクロレンズ36の高さ
は、元のレンズ状樹脂34の高さの10倍の7.80μ
mに増幅されている。得られたマイクロレンズアレイ3
5は、底面が一辺の長さ50μmの正六角形でその上方
に凸球面状に形成されてなる形状を有する開口数(N
A)0.35のマイクロレンズ36が2μmの間隔で最
密充填状に配列されている。
ッチング装置を用い、300Wの高周波電力を供給し、
CHF3 流量150sccmの条件で、前記レンズ状樹
脂34が設けられた石英ガラス基板31を、樹脂のエッ
チング速度が0.008μm/分、石英ガラスのエッチ
ング速度が0.08μm/分で,レンズ状樹脂34部分
が消失するまでドライエッチングして、レンズ状樹脂パ
タ−ンAと同じパターンを有する石英ガラス製のマイク
ロレンズアレイ35を得た(図3(d))。このときの
樹脂のエッチング速度に対する石英ガラスのエッチング
速度比は10.0であるため、石英ガラスは樹脂の10
倍の速さでエッチングされ、マイクロレンズ36の高さ
は、元のレンズ状樹脂34の高さの10倍の7.80μ
mに増幅されている。得られたマイクロレンズアレイ3
5は、底面が一辺の長さ50μmの正六角形でその上方
に凸球面状に形成されてなる形状を有する開口数(N
A)0.35のマイクロレンズ36が2μmの間隔で最
密充填状に配列されている。
【0029】[実施例2]図5、図6にしたがって本実
施例を説明する。先ず、実施例1と同様にして、一辺が
20μmの正四角形が1μmの間隔で最密充填状に配列
されたパタ−ンB(図6参照)を有するフォトマスク5
5を作成した。但し、実施例1では石英ガラス基板21
上に設けられたクロム層22部分をマイクロレンズに対
応する部分としたが、本実施例に於いてはクロム層54
部分を個々のマイクロレンズ間の間隙に対応する部分と
した。次に、表面を研磨処理した3インチ角の石英ガラ
ス基板51上に、スピンコ−ト法により1.0μmの膜
厚でネガタイプのフォトレジスト(東京応化工業株式会
社製、OMR−85)を塗布して樹脂層52を形成し
た。先に作成したフォトマスク55のクロム層54が設
けられた面を、石英ガラス基板51上に設けられた樹脂
層52に密着させ、紫外線露光機を用いて、照射量20
0mJ/cm2 で矢印の方向から紫外線露光後(図5
(a))、現像液(ヘキスト社製 AZデベロッパー
液)に60秒間侵漬し、現像することにより、電子線の
未照射部分(個々のマイクロレンズ間の間隙に対応する
部分)のレジストが溶解除去されて、柱状樹脂56を石
英ガラス基板51上に得た(図5(b))。この柱状樹
脂56が設けられた石英ガラス基板51を酸素プラズマ
中でドライエッチングすることにより、柱状樹脂56は
上方周辺部より徐々に削られ、底面形状が四角形(一辺
の長さ20μm)でその上方に凸球面状に形成されてな
る形状を有する高さが0.88μmのレンズ状樹脂57
が配列された、図6に示すレンズ状樹脂パタ−ンBを石
英ガラス基板51上に得た(図5(c))。
施例を説明する。先ず、実施例1と同様にして、一辺が
20μmの正四角形が1μmの間隔で最密充填状に配列
されたパタ−ンB(図6参照)を有するフォトマスク5
5を作成した。但し、実施例1では石英ガラス基板21
上に設けられたクロム層22部分をマイクロレンズに対
応する部分としたが、本実施例に於いてはクロム層54
部分を個々のマイクロレンズ間の間隙に対応する部分と
した。次に、表面を研磨処理した3インチ角の石英ガラ
ス基板51上に、スピンコ−ト法により1.0μmの膜
厚でネガタイプのフォトレジスト(東京応化工業株式会
社製、OMR−85)を塗布して樹脂層52を形成し
た。先に作成したフォトマスク55のクロム層54が設
けられた面を、石英ガラス基板51上に設けられた樹脂
層52に密着させ、紫外線露光機を用いて、照射量20
0mJ/cm2 で矢印の方向から紫外線露光後(図5
(a))、現像液(ヘキスト社製 AZデベロッパー
液)に60秒間侵漬し、現像することにより、電子線の
未照射部分(個々のマイクロレンズ間の間隙に対応する
部分)のレジストが溶解除去されて、柱状樹脂56を石
英ガラス基板51上に得た(図5(b))。この柱状樹
脂56が設けられた石英ガラス基板51を酸素プラズマ
中でドライエッチングすることにより、柱状樹脂56は
上方周辺部より徐々に削られ、底面形状が四角形(一辺
の長さ20μm)でその上方に凸球面状に形成されてな
る形状を有する高さが0.88μmのレンズ状樹脂57
が配列された、図6に示すレンズ状樹脂パタ−ンBを石
英ガラス基板51上に得た(図5(c))。
【0030】次に、平行平板型リアクティブイオンエッ
チング装置を用い、300Wの高周波電力を供給し、C
2 F6 流量20sccm、CHF3 流量100sccm
の条件で、前記レンズ状樹脂パタ−ンBが設けられた石
英ガラス基板51を、樹脂のエッチング速度が0.01
3μm/分、石英ガラスのエッチング速度が0.065
μm/分で、レンズ状樹脂部分が消失するまでドライエ
ッチングして、レンズ状樹脂パタ−ンBと同じパターン
を有する石英ガラス製のマイクロレンズアレイ58を得
た(図5(d))。このときの樹脂のエッチング速度に
対する石英ガラスのエッチング速度比は5.0であるた
め、石英ガラスは樹脂の5倍の速さでエッチングされ、
マイクロレンズ59の高さは、元のレンズ状樹脂の高さ
の5倍の4.35μmに増幅されている。得られたマイ
クロレンズアレイ58は、底面が一辺の長さ20μmの
正四角形でその上方に凸球面状に形成されてなる形状を
有する開口数(NA)0.45のマイクロレンズ59が
1μmの間隔で最密充填状に配列されている。
チング装置を用い、300Wの高周波電力を供給し、C
2 F6 流量20sccm、CHF3 流量100sccm
の条件で、前記レンズ状樹脂パタ−ンBが設けられた石
英ガラス基板51を、樹脂のエッチング速度が0.01
3μm/分、石英ガラスのエッチング速度が0.065
μm/分で、レンズ状樹脂部分が消失するまでドライエ
ッチングして、レンズ状樹脂パタ−ンBと同じパターン
を有する石英ガラス製のマイクロレンズアレイ58を得
た(図5(d))。このときの樹脂のエッチング速度に
対する石英ガラスのエッチング速度比は5.0であるた
め、石英ガラスは樹脂の5倍の速さでエッチングされ、
マイクロレンズ59の高さは、元のレンズ状樹脂の高さ
の5倍の4.35μmに増幅されている。得られたマイ
クロレンズアレイ58は、底面が一辺の長さ20μmの
正四角形でその上方に凸球面状に形成されてなる形状を
有する開口数(NA)0.45のマイクロレンズ59が
1μmの間隔で最密充填状に配列されている。
【0031】[実施例3]図7、図8にしたがって本実
施例を説明する。先ず、NC工作機に所定のプログラム
をセットして、鏡面に研磨された厚さ3mmのニッケル
板に、一辺が60μmの正三角形で、深さが3μmの凹
部を最密充填状に配列加工し、前記凹部が最密充填状に
接して配列されたパターンC(図8参照)を有する凹型
マイクロレンズアレイ成形型72を得た。この成形型7
2の凹部加工を施した面に、4重量%の過酸化ラウリル
を含むシクロヘキシルメタクリレ−ト0.9モルとヒド
ロキシエチルメタクリレ−ト0.1モルの樹脂混合物7
3を塗布した。この樹脂混合物73を塗布した面に、3
インチ角の無アルカリガラス基板(NHテクノグラス社
製、NA45)71を気泡が混入しないように密着後、
矢印で示すように、成形型72の凹部加工を施した面の
反対側から紫外線を照射した(図7(a))。その後、
160℃で20分間加熱硬化させた後、マイクロレンズ
アレイ成形型72を取り外し、無アルカリガラス基板7
1上に、開口数(NA)0.17、高さ3μmのレンズ
状樹脂74が配列されたレンズ状樹脂パタ−ンCを得た
(図7(b))。
施例を説明する。先ず、NC工作機に所定のプログラム
をセットして、鏡面に研磨された厚さ3mmのニッケル
板に、一辺が60μmの正三角形で、深さが3μmの凹
部を最密充填状に配列加工し、前記凹部が最密充填状に
接して配列されたパターンC(図8参照)を有する凹型
マイクロレンズアレイ成形型72を得た。この成形型7
2の凹部加工を施した面に、4重量%の過酸化ラウリル
を含むシクロヘキシルメタクリレ−ト0.9モルとヒド
ロキシエチルメタクリレ−ト0.1モルの樹脂混合物7
3を塗布した。この樹脂混合物73を塗布した面に、3
インチ角の無アルカリガラス基板(NHテクノグラス社
製、NA45)71を気泡が混入しないように密着後、
矢印で示すように、成形型72の凹部加工を施した面の
反対側から紫外線を照射した(図7(a))。その後、
160℃で20分間加熱硬化させた後、マイクロレンズ
アレイ成形型72を取り外し、無アルカリガラス基板7
1上に、開口数(NA)0.17、高さ3μmのレンズ
状樹脂74が配列されたレンズ状樹脂パタ−ンCを得た
(図7(b))。
【0032】次に、拡散磁場型ドライエッチング装置を
用い、マイクロ波電力75W、コイル電流15A、Cl2
流量30sccmの条件で、前記レンズ状樹脂パタ−ン
Cが設けられた無アルカリガラス基板71を,樹脂のエ
ッチング速度が0.095μm/分、無アルカリガラス
のエッチング速度が0.050μm/分で、レンズ状樹
脂74部分が消失するまでドライエッチングして、レン
ズ状樹脂パタ−ンCと同じパターンを有する無アルカリ
ガラス製のマイクロレンズアレイ75を得た(図7
(c))。このときの樹脂のエッチング速度に対する無
アルカリガラスのエッチング速度比は0.53であるた
め、無アルカリガラスは樹脂の0.53倍の速さでエッ
チングされ、マイクロレンズ76の高さが、元のレンズ
状樹脂74の高さの0.53倍の1.5μmに減縮され
ている。得られたマイクロレンズアレイ75は、底面が
一辺の長さ60μmの三角形でその上方に凸球面状に形
成されてなる形状を有する開口数(NA)0.08のマ
イクロレンズ76が最密充填状に配列されている。
用い、マイクロ波電力75W、コイル電流15A、Cl2
流量30sccmの条件で、前記レンズ状樹脂パタ−ン
Cが設けられた無アルカリガラス基板71を,樹脂のエ
ッチング速度が0.095μm/分、無アルカリガラス
のエッチング速度が0.050μm/分で、レンズ状樹
脂74部分が消失するまでドライエッチングして、レン
ズ状樹脂パタ−ンCと同じパターンを有する無アルカリ
ガラス製のマイクロレンズアレイ75を得た(図7
(c))。このときの樹脂のエッチング速度に対する無
アルカリガラスのエッチング速度比は0.53であるた
め、無アルカリガラスは樹脂の0.53倍の速さでエッ
チングされ、マイクロレンズ76の高さが、元のレンズ
状樹脂74の高さの0.53倍の1.5μmに減縮され
ている。得られたマイクロレンズアレイ75は、底面が
一辺の長さ60μmの三角形でその上方に凸球面状に形
成されてなる形状を有する開口数(NA)0.08のマ
イクロレンズ76が最密充填状に配列されている。
【0033】ドライエッチングの装置としては、実施例
に示した平行平板型リアクティブイオンエッチング装置
や拡散磁場型ドライエッチング装置の他、マグネトロン
イオンエッチング装置等が用いられる。
に示した平行平板型リアクティブイオンエッチング装置
や拡散磁場型ドライエッチング装置の他、マグネトロン
イオンエッチング装置等が用いられる。
【0034】なお、実施例1、実施例2に於いて、ガラ
ス基板上に、柱状樹脂パタ−ンを形成するに際して、フ
ォトリソグラフィ法を採用したが、これはフォトマスク
パターン及び個々のレンズ形状の精度が高く、かつレン
ズ形状選択の自由度が大きくより好ましいからである。
ス基板上に、柱状樹脂パタ−ンを形成するに際して、フ
ォトリソグラフィ法を採用したが、これはフォトマスク
パターン及び個々のレンズ形状の精度が高く、かつレン
ズ形状選択の自由度が大きくより好ましいからである。
【0035】さらに、本発明のマイクロレンズアレイを
構成するレンズの底面形状は、個々のマイクロレンズを
最密充填状に配列することが可能な多角形状であれば、
正多角形に限定されず、平行四辺形や二等辺三角形であ
ってもよい。また形状の異なる多角形を組み合わせて配
列してもよい。
構成するレンズの底面形状は、個々のマイクロレンズを
最密充填状に配列することが可能な多角形状であれば、
正多角形に限定されず、平行四辺形や二等辺三角形であ
ってもよい。また形状の異なる多角形を組み合わせて配
列してもよい。
【0036】
【発明の効果】本発明は、マイクロレンズの底面形状を
最密充填状に配列可能な多角形としたことによって、隣
接する個々のレンズ間に、レンズによって照射光が集束
されない空隅部を無くすことができる。特に、本発明の
マイクロレンズアレイを液晶表示装置に使用する場合、
液晶表示素子の画素に入射光を効率よく取り込み、液晶
画像の輝度を大幅に向上させることができる。さらに、
本発明のマイクロレンズアレイを構成する個々のレンズ
形状を液晶表示素子の画素の形状に合わせた多角形とす
ることによって、一層その効果が増大する。また、上述
の製造方法により製造されるマイクロレンズアレイはガ
ラス製であり、耐熱性、耐光性、耐薬品性に優れる。ま
た、レンズ状樹脂パターンをエッチングする際、樹脂の
エッチング速度に対するガラス基板のエッチング速度を
制御することによって、設計通りの開口数を有する高精
度のマイクロレンズアレイの製造方法を提供することが
できる。
最密充填状に配列可能な多角形としたことによって、隣
接する個々のレンズ間に、レンズによって照射光が集束
されない空隅部を無くすことができる。特に、本発明の
マイクロレンズアレイを液晶表示装置に使用する場合、
液晶表示素子の画素に入射光を効率よく取り込み、液晶
画像の輝度を大幅に向上させることができる。さらに、
本発明のマイクロレンズアレイを構成する個々のレンズ
形状を液晶表示素子の画素の形状に合わせた多角形とす
ることによって、一層その効果が増大する。また、上述
の製造方法により製造されるマイクロレンズアレイはガ
ラス製であり、耐熱性、耐光性、耐薬品性に優れる。ま
た、レンズ状樹脂パターンをエッチングする際、樹脂の
エッチング速度に対するガラス基板のエッチング速度を
制御することによって、設計通りの開口数を有する高精
度のマイクロレンズアレイの製造方法を提供することが
できる。
【0037】
【図1】本発明の実施例1によるマイクロレンズアレイ
の平面図(a)と断面図(b)を示す図である。
の平面図(a)と断面図(b)を示す図である。
【図2】本発明の実施例1で使用されるフォトマスクの
製造方法を示す要部断面図である。
製造方法を示す要部断面図である。
【図3】本発明の実施例1によるマイクロレンズアレイ
の製造方法を示す要部断面図である。
の製造方法を示す要部断面図である。
【図4】本発明の実施例1のレンズ状樹脂パタ−ンの一
部を示す平面図である。
部を示す平面図である。
【図5】本発明の実施例2によるマイクロレンズアレイ
の製造方法を示す要部断面図である。
の製造方法を示す要部断面図である。
【図6】本発明の実施例2のレンズ状樹脂パタ−ンの一
部を示す平面図である。
部を示す平面図である。
【図7】本発明の実施例3によるマイクロレンズアレイ
の製造方法を示す要部断面図である。
の製造方法を示す要部断面図である。
【図8】本発明の実施例3のレンズ状樹脂パタ−ンの一
部を示す平面図である。
部を示す平面図である。
【図9】従来のマイクロレンズアレイの一部を示す平面
図である。
図である。
【0038】
1 マイクロレンズアレイ 2 マイクロレンズ 21 石英ガラス基板 22 クロム層 23 レジスト層 24 フォトマスクブランクス 25 フォトマスク 31 石英ガラス基板 32 樹脂層 33 柱状樹脂 34 レンズ状樹脂 35 マイクロレンズアレイ 36 マイクロレンズ 51 石英ガラス基板 52 樹脂層 53 石英ガラス基板 54 クロム層 55 フォトマスク 56 柱状樹脂 57 レンズ状樹脂 58 マイクロレンズアレイ 59 マイクロレンズ 71 無アルカリガラス基板 72 成形型 73 樹脂混合物 74 レンズ状樹脂 75 マイクロレンズアレイ 76 マイクロレンズ 91 マイクロレンズアレイ 92 円形マイクロレンズ 93 空隅部 A 樹脂パタ−ン B 樹脂パタ−ン C 樹脂パタ−ン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小菅 洋之 東京都新宿区中落合2丁目7番5号 ホ− ヤ株式会社内
Claims (4)
- 【請求項1】 複数の凸レンズが規則的に配列してなる
マイクロレンズアレイに於いて、該マイクロレンズアレ
イを構成する個々のレンズは、底面形状が多角形でその
上方に凸球面状に形成されてなる形状を有し、かつ該レ
ンズの底面形状がレンズの底面の各辺に於いて、隣り合
うレンズの辺が微細な間隙で等間隔にもしくは接して配
列可能な多角形であることを特徴とするマイクロレンズ
アレイ。 - 【請求項2】 該マイクロレンズアレイがガラス製であ
ることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズア
レイ。 - 【請求項3】 ガラス基板上に、底面が多角形でその上
方に凸球面状に形成されてなる形状を有するレンズ状樹
脂が所望のマイクロレンズアレイパタ−ンに対応して配
列されてなるレンズ状樹脂パタ−ンを形成する工程と、
該レンズ状樹脂と該ガラス基板の一部とをエッチングに
より除去する工程とを含むことを特徴とする請求項2に
記載のマイクロレンズアレイの製造方法。 - 【請求項4】 該レンズ状樹脂と該ガラス基板の一部と
をエッチングにより除去する工程に於いて、該レンズ状
樹脂のエッチング速度に対する該ガラス基板のエッチン
グ速度の比を0.3以上20以下としたことを特徴とす
る請求項3に記載のマイクロレンズアレイの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6332628A JPH08166502A (ja) | 1994-12-13 | 1994-12-13 | マイクロレンズアレイ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6332628A JPH08166502A (ja) | 1994-12-13 | 1994-12-13 | マイクロレンズアレイ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08166502A true JPH08166502A (ja) | 1996-06-25 |
Family
ID=18257087
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6332628A Pending JPH08166502A (ja) | 1994-12-13 | 1994-12-13 | マイクロレンズアレイ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08166502A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7220026B2 (en) | 2004-12-30 | 2007-05-22 | 3M Innovative Properties Company | Optical film having a structured surface with offset prismatic structures |
| US7320538B2 (en) | 2004-12-30 | 2008-01-22 | 3M Innovative Properties Company | Optical film having a structured surface with concave pyramid-shaped structures |
| US7416309B2 (en) | 2004-12-30 | 2008-08-26 | 3M Innovative Properties Company | Optical film having a surface with rounded structures |
| US7850813B2 (en) | 2007-07-17 | 2010-12-14 | Kimoto Co., Ltd. | Method for producing a functional member having no base material |
| US20110294389A1 (en) * | 2010-05-28 | 2011-12-01 | Yu-Sik Kim | Light-emitting device, light emitting system including the same, and fabricating method thereof |
| WO2012138324A1 (en) * | 2011-04-04 | 2012-10-11 | Pixar | Super light-field lens with focus control and non- spherical lenslet arrays |
| US9063345B2 (en) | 2009-10-19 | 2015-06-23 | Pixar | Super light-field lens with doublet lenslet array element |
| US9063323B2 (en) | 2009-10-19 | 2015-06-23 | Pixar | Super light-field lens and image processing methods |
| US9197799B2 (en) | 2009-10-19 | 2015-11-24 | Pixar | Super light field lens with focus control and non spherical lenslet arrays |
| JP2018018111A (ja) * | 2012-12-21 | 2018-02-01 | 株式会社リコー | 画像表示装置および移動体 |
| WO2018084328A1 (ko) * | 2016-11-01 | 2018-05-11 | 이호덕 | 마이크로렌즈 어레이 필름 |
-
1994
- 1994-12-13 JP JP6332628A patent/JPH08166502A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7320538B2 (en) | 2004-12-30 | 2008-01-22 | 3M Innovative Properties Company | Optical film having a structured surface with concave pyramid-shaped structures |
| US7416309B2 (en) | 2004-12-30 | 2008-08-26 | 3M Innovative Properties Company | Optical film having a surface with rounded structures |
| US7220026B2 (en) | 2004-12-30 | 2007-05-22 | 3M Innovative Properties Company | Optical film having a structured surface with offset prismatic structures |
| US7850813B2 (en) | 2007-07-17 | 2010-12-14 | Kimoto Co., Ltd. | Method for producing a functional member having no base material |
| US9063345B2 (en) | 2009-10-19 | 2015-06-23 | Pixar | Super light-field lens with doublet lenslet array element |
| US9197799B2 (en) | 2009-10-19 | 2015-11-24 | Pixar | Super light field lens with focus control and non spherical lenslet arrays |
| US9063323B2 (en) | 2009-10-19 | 2015-06-23 | Pixar | Super light-field lens and image processing methods |
| US8628368B2 (en) * | 2010-05-28 | 2014-01-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Light-emitting device, light emitting system including the same, and fabricating method thereof |
| US9157600B2 (en) | 2010-05-28 | 2015-10-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Light-emitting device and light-emitting system including the same |
| US20110294389A1 (en) * | 2010-05-28 | 2011-12-01 | Yu-Sik Kim | Light-emitting device, light emitting system including the same, and fabricating method thereof |
| WO2012138324A1 (en) * | 2011-04-04 | 2012-10-11 | Pixar | Super light-field lens with focus control and non- spherical lenslet arrays |
| JP2018018111A (ja) * | 2012-12-21 | 2018-02-01 | 株式会社リコー | 画像表示装置および移動体 |
| JP2019168720A (ja) * | 2012-12-21 | 2019-10-03 | 株式会社リコー | 画像表示装置および移動体 |
| WO2018084328A1 (ko) * | 2016-11-01 | 2018-05-11 | 이호덕 | 마이크로렌즈 어레이 필름 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6432328B2 (en) | Method for forming planar microlens and planar microlens obtained thereby | |
| JP2001277260A (ja) | マイクロレンズアレイ、その製造方法及びその製造用原盤並びに表示装置 | |
| JP4555030B2 (ja) | マイクロレンズアレイおよび光学部材並びにマイクロレンズアレイの作製方法 | |
| JPH11245266A (ja) | 樹脂正立等倍レンズアレイおよびその製造方法 | |
| JP3687366B2 (ja) | 光学基板及びその製造方法並びに表示装置 | |
| JP2000035504A (ja) | マイクロレンズアレイ基板及びその製造方法並びに表示装置 | |
| JPH08166502A (ja) | マイクロレンズアレイ及びその製造方法 | |
| JP3547467B2 (ja) | マイクロレンズアレイおよびその製造方法 | |
| JP4293664B2 (ja) | マイクロレンズアレイの形成方法およびマイクロレンズアレイ | |
| JPH06194502A (ja) | マイクロレンズ・マイクロレンズアレイ及びその製造方法 | |
| JP4573418B2 (ja) | 露光方法 | |
| KR100701355B1 (ko) | 마이크로렌즈 어레이 및 이 마이크로렌즈 어레이의 복제용음각틀의 제작방법 | |
| JPH1148354A (ja) | マイクロレンズの加工方法 | |
| JP4565711B2 (ja) | 濃度分布マスクの製造方法 | |
| JP3666918B2 (ja) | 光学デバイス・光学デバイス製造方法 | |
| JP4196139B2 (ja) | 光学基板の製造方法 | |
| JPH07174903A (ja) | マイクロレンズアレイの製造方法 | |
| JP3957771B2 (ja) | 光学デバイスの製造方法 | |
| JP3131019B2 (ja) | 光学部品の製造法 | |
| JP2002162747A (ja) | 多段階露光による三次元構造体製造方法 | |
| JP3165167B2 (ja) | マイクロレンズ及びその製造方法 | |
| JPH06250002A (ja) | マイクロレンズ・マイクロレンズアレイ及びその製造方法 | |
| JP2001316485A (ja) | 紫外線による硬化方法及び装置 | |
| JP3504701B2 (ja) | 光学デバイスおよびその製造方法 | |
| JP4027456B2 (ja) | マイクロレンズ・マイクロレンズアレイ・マイクロレンズ製造方法およびマイクロレンズアレイ製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050208 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050614 |