JPH08170030A - トップコート用艶消しシリカ - Google Patents
トップコート用艶消しシリカInfo
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 117
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 9
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 27
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000010335 hydrothermal treatment Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002649 leather substitute Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 101100208721 Mus musculus Usp5 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000012812 general test Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
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Abstract
変化の小さな塗膜が得られるトップコート塗膜用の艶消
しシリカを提供する。 【構成】 BET比表面積が250〜350m2 /gで
あり、コールターカウンター法による平均粒径がl.2
〜1.8μmで、かつ8μm以上の粗粒子が存在せずl
μm以下の粒子が全体の10〜30%であるシリカ。
Description
なシリカに関するものであり、詳細には合成皮革,家電
製品等のトップコート用艶消し剤として有用な、特に透
明性,漆黒性に優れたシリカに関するものである。
溶液と鉱酸の中和反応によつて製造することができ、そ
の製造方法は湿式法と呼ばれている。この湿式法は、中
性あるいはアルカリ性下で反応させて比較的濾過し易い
沈澱ケイ酸を得る沈澱法と、酸性で反応させてゲル状の
ケイ酸を得るゲル法とに分類される。
公昭39−1207号等に開示されており、中和反応に
よつて構造性を有するように一次粒子を成長させて得ら
れた沈澱ケイ酸を水洗,乾燥及び粉砕することで製品と
される。この方法によって得られた沈澱法シリカは、主
として汎用のゴム補強剤,農薬の担体,塗料の艶消し
剤,粘度調整剤として従来使用されている。
国特許第246842号等に開示されており、酸性反応
によって得られたゲル状のケイ酸を水洗,乾燥後、粉砕
することで製品とされる。この方法によって得られたゲ
ル法シリカは、沈澱法シリカに比べて一般に構造性が高
く、高シェアー下においてもその構造性を保持できるの
で、合成皮革,プラスッチック等のコーテイング剤,樹
脂フィルムのアンチブロッキング剤,吸着剤,分離剤,
触媒として従来使用されている。
で、商品の最外層の塗膜を形成するための塗料(通常ト
ップコート用塗料と称される)に添加されるシリカは、
塗装した商品の外観として目にみえる最外層の塗膜を形
成するため、その品質は従来から厳しく管理されてい
る。例えば、シリカを艶消し剤として使用する場合には
分散不良による「ブツ」の発生等、商品価値の低下を抑
止することが求められるが、高シェアーによる分散処理
を行うと、構造性,凝集力の不足から構造の破壊を生じ
て粒子径が小さくなる沈澱法シリカは艶消し効果が著し
く低下する傾向を招いて不適当となる場合が多い。この
ため、トップコート用塗料に添加される艶消し剤として
のシリカにはゲル法シリカが使用される場合が多い。
む有色塗料と、着色顔料を含まないクリヤー塗料とに分
類され、使用目的によつて使い分けられている。
なトップコート用塗料の艶消し用添加剤としてシリカを
使用すると、塗膜が白つぽくなるという欠点を有してお
り、クリヤー塗料における透明性の低下,あるいは有色
塗料における色相の変化といった問題が挙げられ、トッ
プコートとして重要な因子となる広い視覚範囲における
透明性,色相の変化の小さい艶消し剤用シリカが強く望
まれていた。
鋭意研究を重ねた結果、特定の物性を有するシリカをト
ップコート用の艶消し剤として使用することにより広い
視覚範囲において優れた透明性,色相の変化の小さな塗
膜が得られることを見出し本発明を完成するに至った。
比表面積が250〜350m2 /gであり、コールター
カウンター法による平均粒径が1.2〜1.8μmで、
かつ8μm以上の粗粒子が存在せずlμm以下の粒子が
全体の10〜30%であるトップコート用艶消しシリカ
を提供するところにある。
ゲル法シリカの常法に基づく反応、つまり珪酸ナトリウ
ム,珪酸カリウム,珪酸リチウム等の珪酸アルカリ金属
塩水溶液と、硫酸,塩酸,硫酸等の鉱酸と、を酸過剰下
において反応させて均一なシリカヒドロゾルを得る。つ
いでゲル化させた後、解砕し水洗する。水洗工程では通
常、副生塩を除去すると共に比表面積を下げる目的で水
酸化ナトリウムやアンモニア水溶液を添加,加熱し水熱
処理を行う。水熱処理は特に限定されるものでなく、適
度なアルカリ度,温度,時間で行われる。その後シリカ
ヒドロゲルを乾燥,粉砕して目的とするシリカを得る。
イヤー,パドルドライヤー,流動乾燥機等が使用される
が特に限定されるものではない。この乾燥は一般に、細
孔コントロールの点から、シリカヒドロゲルの水分を4
0%以上に制御するのが好ましく、40%未満の水分ま
で乾燥を行うと毛管凝縮による細孔容積の低下を生じ好
ましくない。また粉砕はピンミルのような粉砕方法では
粉砕力が弱いために適当でなく、過熱空気,あるいは過
熱蒸気を用いたジェットミルで粉砕するのが好ましい
が、粒度分布の制御を容易にする目的で適宜、ジェット
ミル粉砕前にピンミル等で予備粉砕を行つてもよい。
には分級工程は必要不可欠であり、特にミクロンセパレ
ーター(ホソカワミクロン社製)のような風力分級機が
好ましい。この時、効率良く分級し、且つ分級後の再凝
集を防ぐ目的で系内の空気の相対湿度を50%以下,好
ましくは10%以下にするのが好ましい。これは本発明
のごとき微細粒子においてはフアンデルワールス力の増
加により凝集し易い傾向にあり、これに水分が存在する
と水をバインダーとして大きな凝集粒子を形成するため
風力分級に用いる空気の水分を限定することがよい。
程における水分及び分級時の系内の水分について上記し
た両条件をみたすことが必要であり、これらの条件を満
足しないと本発明の特定された物性を有するシリカを製
造することができない。
350m2 /gが好ましい。250m2 /g未満ではト
ップコート用塗料に用いられるシリカ粒子の構造性が高
シェアーに耐えられず艶消し効果が劣る。350m2 /
gを超えると粉砕が困難になり、所定の粒度分布を得る
ことが難しくなる。更に塗膜にした時、塗膜外観が荒く
なり好ましくない。
ター法による平均粒子径1.2〜1.8μmで、かつ8
μm以上の粗粒子が存在せずlμm以下の粒子が全体の
10〜30%であることが必要である。平均粒子径が
1.2μm未満では艶消し効果が劣るため好ましくな
く、反対に平均粒子径が1.8μmを超えると分散が困
難となり、高シェアー下の分散を実施しても分散が悪
く、塗膜外観が荒くなり透明性が悪く色相の変化も大き
くなるため不都合を生じる。又、平均粒子径が1.2〜
1.8μmの範囲においても、8μm以上の粗粒子が存
在すると、分散不良による塗膜中にブツを生じ好ましく
ない。更に、lμm以下の粒子が全体の10%以下にな
ると塗料に添加した際、粘度上昇がほとんど起こらず塗
装時に液ダレを生じ好ましくなく、30%以上になると
塗料中に分散させた時にフアンデルワールス力による再
凝集を生じ分散不良によるブツの発生が起こりやはり好
ましくない。また塗膜の艶消しに寄与しない粒子が増
え、透明性の低下及び色相の変化が大きくなるために好
ましくない。
に、細孔容積は1.5〜2.0cc/gで、その平均細
孔径が200〜300Åのものであることが好ましい。
細孔容積1.5cc/g未満,平均細孔径200Å未満
になると、細孔内への塗料の保持,すなわち吸塗料量が
低くなり、膜厚が厚くなり艶消し効果が劣る。一方、
2.0cc/gを越える細孔容積、300Åを越える平
均細孔径になると、空隙率の上昇により、ゲル法シリカ
の特徴である構造性が保持できなくなり、結果として艶
消し効果が劣る。又、吸塗料量の低下は、透明性の低
下,色相の変化を生じ好ましくない。
として添加した塗料は、スプレー塗装、ロールコーター
塗装などの塗装方法により塗工される。この場合、塗工
方法により塗料に要求される最適粘度は異なる。
し剤として使用することにより、優れた透明性、且つ色
相の変化の小さな塗膜を得ることができる。又、広い視
角範囲においても優れた透明性と色相の変化の小さな塗
膜となる。
はないが、本発明のシリカは、その粒度分布特性、細孔
特性を細かくコントロールできる結果、塗料中における
分散挙動を制御でき、これを塗膜中に均一に分散させ
て、艶消しに効果のある凹凸を均一の大きさで非常に緻
密な塗膜表面に形成できるためと考えられる。又、その
凹凸の大きさを艶消しに効果のある最小のものにできる
ため、塗膜の風合いに優れ、且つ広い視角範囲において
も優れた透明性を保ち、色相の変化も小さいものと考え
られる。
実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。尚、実施例及び比較例における各評価は
以下の方法に従つて行つた。
法により測定した。
積,平均細孔径を測定した。
ーカウンター法) マルチサイザーII(コールターカウンター社製)で30
μmのアパチャーチューブを使用し測定した。試料の分
散は、40秒間の超音波分散を行い分散液は付属のIsot
on II 液を使用した。
20秒後の粘度を測定した。
に準じて測定した。20以下であれば良好と判断され
る。
∠80°の反射率を測定した。数値が低いほど艶消しの
効果が高いと評価される。
た。100%に近いほど透明性が高いと評価される。
○,表面状態が粗いかブツ等が見られる場合を×とし、
中間的な状態を△とした。
溶液を、混合ノズルを用いて反応させ、シリカヒドロゾ
ルを得、放置しシリカヒドロゲルとした。次いで該シリ
カヒドロゲルを篩を用いて約10mmに粗砕した後、9
0℃,PH9.5の条件で6時間水熱処理し、その後、
洗浄した。更に洗浄後のシリカヒドロゲルを流動乾燥機
を用いて、水分65%に調整した後、過熱蒸気を用いた
ジェットミルにより550℃,5.5kg/cm2 の粉
砕条件で粉砕した。粉砕後、風力分級機(ミクロンセパ
レーター:細川ミクロン社製)により分級を行いシリカ
を得た。
下であった。シリカのBET比表面積,細孔容積,平均
粒子径,粒度分布を測定し表1に示した。
条件,分級条件を変化させて下記表1に示した実施例
2,3の粉体特性を有するシリカを得た。各例のシリカ
のBET比表面積,細孔容積,平均粒子径,粒度分布を
測定し表1に示した。
条件,分級条件を変化させて下記表1に示した比較例1
〜4の粉体特性を有するシリカを得た。各例のシリカの
BET比表面積,細孔容積,平均粒子径,粒度分布を測
定し表1に示した。
社製)を用い、樹脂100重量部に対して、専用シンナ
ー50重量部、実施例1〜3及び比較例1〜4のシリカ
各10重量部を配合し、ハイスピードミキサーを用いて
1500rpm,20分間分散した。この時の分散度及
び粘度を測定し表2に示した。更に分散液をNo.10
のバーコーターを用いてガラス板(50×100×3m
m)に塗布した後、常温で1時間乾燥し光沢度並びに透
明性を測定し,塗膜外観を観察した。結果を表2に示し
た。
のシリカ、即ち、BET比表面積が250〜350m2
/gであり、コールターカウンター法による平均粒径が
1.2〜1.8μm、且つ8μm以上の粗粒子が存在せ
ずlμm以下の粒子が全体の10〜30%であるトップ
コート用艶消しシリカを使用することにより、分散性に
優れ且つ艶消し効果が高いために塗膜外観に優れたトッ
プコートを得ることができるという効果がある。
いることにより、広い視覚範囲においても優れた透明性
と色相の変化の小さなトップコートを得ることができる
という効果が得られる。
Claims (3)
- 【請求項1】 BET比表面積が250〜350m2 /
gであり、コールターカウンター法による平均粒径が
l.2〜1.8μmで、かつ8μm以上の粗粒子が存在
せずlμm以下の粒子が全体の10〜30%であること
を特徴とするトップコート用艶消しシリカ。 - 【請求項2】 細孔容積が1.5〜2.0cc/gでか
つ平均細孔径が200〜300Åであることを特徴とす
る請求項1に記載のトップコート用艶消しシリカ。 - 【請求項3】 シリカがゲル法シリカであることを特徴
とする請求項1又は2に記載のシリカ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6316639A JP3004184B2 (ja) | 1994-12-20 | 1994-12-20 | トップコート用艶消しシリカ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6316639A JP3004184B2 (ja) | 1994-12-20 | 1994-12-20 | トップコート用艶消しシリカ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08170030A true JPH08170030A (ja) | 1996-07-02 |
| JP3004184B2 JP3004184B2 (ja) | 2000-01-31 |
Family
ID=18079278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6316639A Expired - Fee Related JP3004184B2 (ja) | 1994-12-20 | 1994-12-20 | トップコート用艶消しシリカ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3004184B2 (ja) |
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1994
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| JP3004184B2 (ja) | 2000-01-31 |
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