JPH08173961A - 温超純水製造装置 - Google Patents
温超純水製造装置Info
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- JPH08173961A JPH08173961A JP32053294A JP32053294A JPH08173961A JP H08173961 A JPH08173961 A JP H08173961A JP 32053294 A JP32053294 A JP 32053294A JP 32053294 A JP32053294 A JP 32053294A JP H08173961 A JPH08173961 A JP H08173961A
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Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 前処理装置の精密ろ過膜分離装置および限外
ろ過膜分離装置において、高純度の純水を得ることがで
き且つろ過膜の寿命を長くすることができる温超純水製
造装置を提供できる。 【構成】 原水を温水化する加熱手段と、温水化された
原水を精製する精密ろ過手段と、その透過水を精製する
限外ろ過手段と、その透過水を精製する逆浸透膜手段
と、その透過水を殺菌する殺菌手段とを有する温超純水
製造装置において、前記精密ろ過膜および前記限外ろ過
膜は、金網の上に金属粉末層を形成した金属膜からなる
ことを特徴とする温超純水製造装置。
ろ過膜分離装置において、高純度の純水を得ることがで
き且つろ過膜の寿命を長くすることができる温超純水製
造装置を提供できる。 【構成】 原水を温水化する加熱手段と、温水化された
原水を精製する精密ろ過手段と、その透過水を精製する
限外ろ過手段と、その透過水を精製する逆浸透膜手段
と、その透過水を殺菌する殺菌手段とを有する温超純水
製造装置において、前記精密ろ過膜および前記限外ろ過
膜は、金網の上に金属粉末層を形成した金属膜からなる
ことを特徴とする温超純水製造装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工場等で使
用される温超純水の製造装置に関する。
用される温超純水の製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】精密部品、例えば半導体を製造する工場
では、製品の洗浄のために超純水を使用している。この
超純水を製造する装置は、例えば、精密ろ過膜分離装置
および限外ろ過膜分離装置を含む前処理装置と、逆浸透
膜分離装置およびイオン交換装置を含む１次純水製造装
置と、紫外線殺菌装置とイオン交換装置を含む２次純水
製造装置から構成される。上記の超純水装置によれば、
市水、地下水または工業用水等の原水を前処理装置によ
りろ過して凝集物を分離し、次いでその透過水を１次純
水製造装置に通水してＴＯＣ（全有機体炭素）成分を除
去し、そして２次純水装置によりＴＯＣ成分を分解する
ことにより超純水を得ることができる。近年、半導体の
集積度の向上に伴ってより高い洗浄効果が要求され、こ
の要求満足するために７０℃程度に加熱された超純水
（温超純水）を使用することが検討されている。
では、製品の洗浄のために超純水を使用している。この
超純水を製造する装置は、例えば、精密ろ過膜分離装置
および限外ろ過膜分離装置を含む前処理装置と、逆浸透
膜分離装置およびイオン交換装置を含む１次純水製造装
置と、紫外線殺菌装置とイオン交換装置を含む２次純水
製造装置から構成される。上記の超純水装置によれば、
市水、地下水または工業用水等の原水を前処理装置によ
りろ過して凝集物を分離し、次いでその透過水を１次純
水製造装置に通水してＴＯＣ（全有機体炭素）成分を除
去し、そして２次純水装置によりＴＯＣ成分を分解する
ことにより超純水を得ることができる。近年、半導体の
集積度の向上に伴ってより高い洗浄効果が要求され、こ
の要求満足するために７０℃程度に加熱された超純水
（温超純水）を使用することが検討されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし従来の超純水製
造装置により温超純水を製造する場合、次のような問題
がある。従来の超純水製造装置では、精密ろ過膜分離装
置および限外ろ過膜分離装置におけるろ過膜としてセル
ロース、ビニル系重合体又は芳香族系重合体等の有機重
合体で形成された樹脂膜を使用しているので、前述した
温度に加熱された原水を通すと、樹脂膜の一部が溶出し
て純水の純度が低下するおよび樹脂膜が熱により劣化し
て寿命が短くなるといった問題が生ずる。したがって本
発明の目的は、上述した従来技術の問題点を解消し、高
純度の純水を得ることができ且つろ過膜の寿命を長くす
ることができる温超純水製造装置を提供することであ
る。
造装置により温超純水を製造する場合、次のような問題
がある。従来の超純水製造装置では、精密ろ過膜分離装
置および限外ろ過膜分離装置におけるろ過膜としてセル
ロース、ビニル系重合体又は芳香族系重合体等の有機重
合体で形成された樹脂膜を使用しているので、前述した
温度に加熱された原水を通すと、樹脂膜の一部が溶出し
て純水の純度が低下するおよび樹脂膜が熱により劣化し
て寿命が短くなるといった問題が生ずる。したがって本
発明の目的は、上述した従来技術の問題点を解消し、高
純度の純水を得ることができ且つろ過膜の寿命を長くす
ることができる温超純水製造装置を提供することであ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明においては、原水を温水化する加熱手段と、
温水化された原水をろ過する精密ろ過膜分離装置及び限
外ろ過膜分離装置を含む前処理装置と、逆浸透膜分離装
置およびイオン交換装置を含む１次純水製造装置と、紫
外線殺菌装置とイオン交換装置を含む２次純水製造装置
とを有し、前記精密ろ過膜分離装置と限外ろ過膜分離装
置は、圧下されたステンレス鋼製金網の表面に金属粉末
を塗布、焼結して得られた多孔質層を形成した金属膜を
有する、という技術的手段を採用した。
に、本発明においては、原水を温水化する加熱手段と、
温水化された原水をろ過する精密ろ過膜分離装置及び限
外ろ過膜分離装置を含む前処理装置と、逆浸透膜分離装
置およびイオン交換装置を含む１次純水製造装置と、紫
外線殺菌装置とイオン交換装置を含む２次純水製造装置
とを有し、前記精密ろ過膜分離装置と限外ろ過膜分離装
置は、圧下されたステンレス鋼製金網の表面に金属粉末
を塗布、焼結して得られた多孔質層を形成した金属膜を
有する、という技術的手段を採用した。
【０００５】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図１に本発明の一実施に好適な温超純水製
造装置の一例を示す系統図である。図１に示す通り、原
水を温水化するためにヒータ等の加熱手段１を容器２に
設置する。温度２３〜２５℃の原水を容器２に導入し７
０℃程度に加熱し、温水化された原水を精密ろ過膜分離
装置（ＭＦ）３および限外ろ過膜分離装置（ＵＦ）４に
よりろ過する。続いて原水を逆浸透膜分離装置（ＲＯ）
５およびイオン交換装置６に通し、さらに紫外線殺菌装
置７とイオン交換装置８を直列に設置した中を通す。こ
こで、限外ろ過膜分離装置４までを前処理装置９とい
い、イオン交換装置６までを１次純水製造装置１０とい
い、イオン交換装置８までを２次純水製造装置１１とい
い、１２は原水の導入配管を示す。
に説明する。図１に本発明の一実施に好適な温超純水製
造装置の一例を示す系統図である。図１に示す通り、原
水を温水化するためにヒータ等の加熱手段１を容器２に
設置する。温度２３〜２５℃の原水を容器２に導入し７
０℃程度に加熱し、温水化された原水を精密ろ過膜分離
装置（ＭＦ）３および限外ろ過膜分離装置（ＵＦ）４に
よりろ過する。続いて原水を逆浸透膜分離装置（ＲＯ）
５およびイオン交換装置６に通し、さらに紫外線殺菌装
置７とイオン交換装置８を直列に設置した中を通す。こ
こで、限外ろ過膜分離装置４までを前処理装置９とい
い、イオン交換装置６までを１次純水製造装置１０とい
い、イオン交換装置８までを２次純水製造装置１１とい
い、１２は原水の導入配管を示す。
【０００６】すなわち、市水、工水、地下水等は、まず
前処理装置９に導入されて容器２により洗浄効率を高め
るため加熱処理され、この処理水の凝集物や不純物を除
去するために精密ろ過膜分離装置３および限外ろ過膜分
離装置４に導入され、膜分離される。
前処理装置９に導入されて容器２により洗浄効率を高め
るため加熱処理され、この処理水の凝集物や不純物を除
去するために精密ろ過膜分離装置３および限外ろ過膜分
離装置４に導入され、膜分離される。
【０００７】このような前処理装置９で処理された前処
理水は、次いで１次純水製造装置１０において、逆浸透
膜分離装置５にてＲＯ膜分離処理され、さらにイオン交
換装置６でイオン交換される。
理水は、次いで１次純水製造装置１０において、逆浸透
膜分離装置５にてＲＯ膜分離処理され、さらにイオン交
換装置６でイオン交換される。
【０００８】さらに、１次純水製造装置１０の処理水
は、２次純水製造装置１１にて、紫外線殺菌装置７に導
入され、含有されるＴＯＣがイオン化あるいは分解さ
れ、このうちイオン化された有機物質は後のイオン交換
装置８で除去され、温超純水が得られる。
は、２次純水製造装置１１にて、紫外線殺菌装置７に導
入され、含有されるＴＯＣがイオン化あるいは分解さ
れ、このうちイオン化された有機物質は後のイオン交換
装置８で除去され、温超純水が得られる。
【０００９】ところで、超純水の洗浄能力を向上させる
ために前述した温度に加熱処理し、温超純水を各々の装
置内を通水させる場合、精密ろ過膜分離装置および限外
ろ過膜分離装置におけるろ過膜として通常はセルロー
ス、ビニル系重合体又は芳香族系重合体等の有機重合体
で形成された樹脂膜を使用しているので、樹脂膜の一部
が溶出して温超純水の純度が低下し且つ樹脂膜が熱によ
り劣化して寿命が短くなる問題が生じる。
ために前述した温度に加熱処理し、温超純水を各々の装
置内を通水させる場合、精密ろ過膜分離装置および限外
ろ過膜分離装置におけるろ過膜として通常はセルロー
ス、ビニル系重合体又は芳香族系重合体等の有機重合体
で形成された樹脂膜を使用しているので、樹脂膜の一部
が溶出して温超純水の純度が低下し且つ樹脂膜が熱によ
り劣化して寿命が短くなる問題が生じる。
【００１０】これに対して、本発明においては、圧下さ
れたステンレス鋼製金網の表面に金属粉末を塗布、焼結
して得られた多孔質層を形成した金属膜を精密ろ過膜分
離装置および限外ろ過膜分離装置におけるろ過膜に使用
する。
れたステンレス鋼製金網の表面に金属粉末を塗布、焼結
して得られた多孔質層を形成した金属膜を精密ろ過膜分
離装置および限外ろ過膜分離装置におけるろ過膜に使用
する。
【００１１】金属膜として具体的には、 ステンレス鋼
製繊維を焼結したものや ステンレス鋼製金網あるいは
金網を圧下して得られる基板上に金属粉末層を形成し
たものなどを用い得る。これらの内では、機械的強度お
よびろ過性能の点から が好ましい。上記 の金属膜
は、例えば次のようにして作成すればよい。まず畳織り
またはむしろ織りの金網（ステンレス鋼またはＴｉ等）
を圧延して（圧下率１０〜５０％）と粘結剤（ポリビニ
ルアルコール）を溶液（水）に分散させたスラリー（固
形分濃度５０〜７５ｗｔ％）を塗布し、乾燥および焼結
し、そして必要に応じ圧延（圧下率２〜１０％）する。 金属膜の作成例 基 板：厚さ１．４mm、２００メッシュの平畳織りの金
網（ＳＵＳ３１６）を圧延（圧下率４０％）→厚さ０．
２４mm、網目径４２μｍの基板を作成。 粉末層：平均粒径９．５μｍのＳＵＳ３１７Ｌ粉７０部
とポリビニルアルコール１部と水２９部を混合→基板上
に塗布（厚さ６０μｍ）→乾燥→水素雰囲気中で１０５
０℃、１ｈｒ焼結→空孔径０．１〜０．３μｍ。
製繊維を焼結したものや ステンレス鋼製金網あるいは
金網を圧下して得られる基板上に金属粉末層を形成し
たものなどを用い得る。これらの内では、機械的強度お
よびろ過性能の点から が好ましい。上記 の金属膜
は、例えば次のようにして作成すればよい。まず畳織り
またはむしろ織りの金網（ステンレス鋼またはＴｉ等）
を圧延して（圧下率１０〜５０％）と粘結剤（ポリビニ
ルアルコール）を溶液（水）に分散させたスラリー（固
形分濃度５０〜７５ｗｔ％）を塗布し、乾燥および焼結
し、そして必要に応じ圧延（圧下率２〜１０％）する。 金属膜の作成例 基 板：厚さ１．４mm、２００メッシュの平畳織りの金
網（ＳＵＳ３１６）を圧延（圧下率４０％）→厚さ０．
２４mm、網目径４２μｍの基板を作成。 粉末層：平均粒径９．５μｍのＳＵＳ３１７Ｌ粉７０部
とポリビニルアルコール１部と水２９部を混合→基板上
に塗布（厚さ６０μｍ）→乾燥→水素雰囲気中で１０５
０℃、１ｈｒ焼結→空孔径０．１〜０．３μｍ。
【００１２】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、精
密ろ過膜分離装置および限外ろ過膜分離装置におけるろ
過膜に圧下されたステンレス鋼製金網の表面に金属粉末
を塗布、焼結して得られた多孔質層を形成した金属膜を
使用することにより、下記の効果を奏し得る。 （１）金属膜は耐熱性があるため、温超純水を精密ろ過
膜分離装置および限外ろ過膜分離装置に通水しても、熱
により金属膜から不純物が溶出することはなく、温超純
水の純度低下を防止できる。 （２）金属膜を精密ろ過膜分離装置および限外ろ過膜分
離装置に使用することにより、温超純水用ろ過膜の寿命
を長くすることができる。
密ろ過膜分離装置および限外ろ過膜分離装置におけるろ
過膜に圧下されたステンレス鋼製金網の表面に金属粉末
を塗布、焼結して得られた多孔質層を形成した金属膜を
使用することにより、下記の効果を奏し得る。 （１）金属膜は耐熱性があるため、温超純水を精密ろ過
膜分離装置および限外ろ過膜分離装置に通水しても、熱
により金属膜から不純物が溶出することはなく、温超純
水の純度低下を防止できる。 （２）金属膜を精密ろ過膜分離装置および限外ろ過膜分
離装置に使用することにより、温超純水用ろ過膜の寿命
を長くすることができる。
【図１】本発明の温超純水の製造に好適な温超純水製造
装置の一実施例を示す系統図である。
装置の一実施例を示す系統図である。
１…加熱手段、２…容器、３…精密ろ過膜分離装置、４
…限外ろ過膜分離装置 ５…逆浸透膜分離装置、６…イオン交換装置、７…紫外
線殺菌装置、８…イオン交換装置、９…前処理装置、１
０…１次純水製造装置、１１…２次純水製造装置、１２
…導入配管
…限外ろ過膜分離装置 ５…逆浸透膜分離装置、６…イオン交換装置、７…紫外
線殺菌装置、８…イオン交換装置、９…前処理装置、１
０…１次純水製造装置、１１…２次純水製造装置、１２
…導入配管
Claims (1)
- 【請求項１】 原水を温水化する加熱手段と、温水化さ
れた原水を精製する精密ろ過手段と、その透過水を精製
する限外ろ過手段と、その透過水を精製する逆浸透膜手
段と、その透過水を殺菌する殺菌手段とを有する温超純
水製造装置において、前記精密ろ過膜および前記限外ろ
過膜は、金網の上に金属粉末層を形成した金属膜からな
ることを特徴とする温超純水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32053294A JPH08173961A (ja) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | 温超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32053294A JPH08173961A (ja) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | 温超純水製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08173961A true JPH08173961A (ja) | 1996-07-09 |
Family
ID=18122491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32053294A Pending JPH08173961A (ja) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | 温超純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08173961A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010269235A (ja) * | 2009-05-20 | 2010-12-02 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 精製水の製造方法及び精製水の製造装置 |
| WO2011016410A1 (ja) * | 2009-08-06 | 2011-02-10 | 住友電気工業株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
| JP2011121007A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 水処理システムの前処理装置及び前処理方法 |
| CN118221184A (zh) * | 2024-02-26 | 2024-06-21 | 中国人民解放军32181部队 | 一种适用于寒冷环境的净水系统及其使用方法 |
-
1994
- 1994-12-22 JP JP32053294A patent/JPH08173961A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010269235A (ja) * | 2009-05-20 | 2010-12-02 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 精製水の製造方法及び精製水の製造装置 |
| WO2011016410A1 (ja) * | 2009-08-06 | 2011-02-10 | 住友電気工業株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
| CN102471103A (zh) * | 2009-08-06 | 2012-05-23 | 住友电气工业株式会社 | 水处理装置和水处理方法 |
| JPWO2011016410A1 (ja) * | 2009-08-06 | 2013-01-10 | 住友電気工業株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
| JP2011121007A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 水処理システムの前処理装置及び前処理方法 |
| CN118221184A (zh) * | 2024-02-26 | 2024-06-21 | 中国人民解放军32181部队 | 一种适用于寒冷环境的净水系统及其使用方法 |
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