JPH08174395A - 高平坦ガラス基板の製造方法 - Google Patents
高平坦ガラス基板の製造方法Info
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- JPH08174395A JPH08174395A JP32311294A JP32311294A JPH08174395A JP H08174395 A JPH08174395 A JP H08174395A JP 32311294 A JP32311294 A JP 32311294A JP 32311294 A JP32311294 A JP 32311294A JP H08174395 A JPH08174395 A JP H08174395A
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- Japan
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- glass substrate
- grinding
- base plate
- grindstone
- glass base
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】高平坦ガラス基板を製造する。
【構成】紫外線硬化樹脂２により被加工物たるガラス基
板１を基台３に固定し、ストレート砥石５によるトラバ
ース研削を行う。次いで、片面の加工が終了した後に、
加工を終了した面を基台上に真空吸着し、他方の面を固
定砥粒による研削加工を行う。
板１を基台３に固定し、ストレート砥石５によるトラバ
ース研削を行う。次いで、片面の加工が終了した後に、
加工を終了した面を基台上に真空吸着し、他方の面を固
定砥粒による研削加工を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フォトマスク基板等の
比較的薄いガラス基板を高平坦に加工する高平坦ガラス
基板の製造方法に関するものである。
比較的薄いガラス基板を高平坦に加工する高平坦ガラス
基板の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ガラス基板の高平坦な加工は、い
わゆるホフマン型両面同時研磨機などによってなされて
いる。すなわち、鋳鉄定盤と遊離砥粒とを用いたラップ
研磨法により行われている。この方法は、被加工物の平
坦度が機械の剛性にあまり影響されないことから、被加
工物をある程度平坦にするためには有効な方法である。
しかし、この方法では、高い平坦度を維持するには定盤
平坦度の厳しい管理が要求され、作業者の熟練が必要な
こと、および定盤の平坦度管理のための装置稼働率低下
が問題となっている。
わゆるホフマン型両面同時研磨機などによってなされて
いる。すなわち、鋳鉄定盤と遊離砥粒とを用いたラップ
研磨法により行われている。この方法は、被加工物の平
坦度が機械の剛性にあまり影響されないことから、被加
工物をある程度平坦にするためには有効な方法である。
しかし、この方法では、高い平坦度を維持するには定盤
平坦度の厳しい管理が要求され、作業者の熟練が必要な
こと、および定盤の平坦度管理のための装置稼働率低下
が問題となっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】一方、固定砥粒を用い
る研削加工によるガラス基板の加工は、これまでは高平
坦な加工が難しく、ラップ研磨工程の前工程として、一
部で取り入れられているにすぎない。
る研削加工によるガラス基板の加工は、これまでは高平
坦な加工が難しく、ラップ研磨工程の前工程として、一
部で取り入れられているにすぎない。
【０００４】この研削加工においては、被加工物である
ガラス基板は、真空吸着、電磁チャック、またはワック
ス接着により基台に固定する必要がある。
ガラス基板は、真空吸着、電磁チャック、またはワック
ス接着により基台に固定する必要がある。
【０００５】真空吸着や電磁チャックによって固定する
場合は、被加工物の裏面が基台の形状にならうように変
形するため、その状態で表面側を研削加工すると、被加
工物の表裏の平行度は改善できても、そりは改善できな
い。比較的薄い被加工物の場合はこの傾向が甚だしい。
場合は、被加工物の裏面が基台の形状にならうように変
形するため、その状態で表面側を研削加工すると、被加
工物の表裏の平行度は改善できても、そりは改善できな
い。比較的薄い被加工物の場合はこの傾向が甚だしい。
【０００６】また、一方の面を研削した後、その裏面側
を加工する際に被加工物が基台から浮き上がる傾向があ
る。これは、研削加工に伴う被加工物表面の歪み層によ
って被加工物が変形するためで、トワイマン効果として
知られている。このように基台と被加工物の間に空隙が
生じた場合は、被加工物が研削中に砥石で押されて逃げ
るため、高精度の加工が難しい。
を加工する際に被加工物が基台から浮き上がる傾向があ
る。これは、研削加工に伴う被加工物表面の歪み層によ
って被加工物が変形するためで、トワイマン効果として
知られている。このように基台と被加工物の間に空隙が
生じた場合は、被加工物が研削中に砥石で押されて逃げ
るため、高精度の加工が難しい。
【０００７】また、ワックスによって接着した場合は、
接着時に熱を加えるため、被加工物を接着する基板と被
加工物の間の熱膨張差あるいは温度差により、被加工物
が変形する。さらに、接着層に気泡が残りやすく、大き
な気泡が存在する箇所では研削中に被加工物が砥石で押
されて逃げ、局所的に研削量の少ない箇所ができやす
い。
接着時に熱を加えるため、被加工物を接着する基板と被
加工物の間の熱膨張差あるいは温度差により、被加工物
が変形する。さらに、接着層に気泡が残りやすく、大き
な気泡が存在する箇所では研削中に被加工物が砥石で押
されて逃げ、局所的に研削量の少ない箇所ができやす
い。
【０００８】以上の理由により、高い平坦度を必要とす
る加工を従来の方法で行うことは難しかった。本発明
は、従来技術の前記の欠点を解消し、極めて高い平坦度
のガラス基板を製造する方法を提供することを目的とす
る。
る加工を従来の方法で行うことは難しかった。本発明
は、従来技術の前記の欠点を解消し、極めて高い平坦度
のガラス基板を製造する方法を提供することを目的とす
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の課題を
解決すべくなされたものであり、光硬化樹脂により被加
工物たるガラス板を基台に固定し、固定砥粒による研削
加工を行うことを特徴とする高平坦ガラス基板の製造方
法を提供するものである。
解決すべくなされたものであり、光硬化樹脂により被加
工物たるガラス板を基台に固定し、固定砥粒による研削
加工を行うことを特徴とする高平坦ガラス基板の製造方
法を提供するものである。
【００１０】また、ストレート形状砥石によるトラバー
ス研削を行うことを特徴とする上記の高平坦ガラス基板
の製造方法を提供するものである。
ス研削を行うことを特徴とする上記の高平坦ガラス基板
の製造方法を提供するものである。
【００１１】さらに、被加工物を固定する基板と、被加
工物の熱膨張係数の差が１．０×１０-6／℃以下である
ことを特徴とする上記の高平坦ガラスの製造方法を提供
する。
工物の熱膨張係数の差が１．０×１０-6／℃以下である
ことを特徴とする上記の高平坦ガラスの製造方法を提供
する。
【００１２】また、上記の方法によって片面の加工が終
了した後に、加工を終了した面を基台上に真空吸着し、
他方の面を固定砥粒による研削加工を行うことを特徴と
する高平坦ガラス基板の製造方法を提供する。
了した後に、加工を終了した面を基台上に真空吸着し、
他方の面を固定砥粒による研削加工を行うことを特徴と
する高平坦ガラス基板の製造方法を提供する。
【００１３】本発明の１つの特徴は、光硬化樹脂により
被加工物たるガラス板を基台に固定し、固定砥粒による
研削加工を行うことである。光硬化樹脂は、常温で硬化
することから、接着時に、被加工物が熱による変形を受
けにくい。光硬化樹脂は紫外線等の光で硬化するもので
あればよい。かかる樹脂としては、１−ビニル−２−ピ
ロリドンとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとの混合物
などのアクリル系モノマーに、少量の光硬化促進剤を添
加したものが使用できる。特に、剥離時間を短縮させる
理由でジニトロソペンタメチレンテトラミンあるいはベ
ンゼンスルホニルヒドラジドなどを含む剥離促進剤を添
加した光硬化樹脂を使用することが望ましい。このよう
な樹脂は、硬化後、熱水で比較的容易に剥離可能であ
る。もちろん、有機溶剤で剥離可能な樹脂を用いてもよ
い。
被加工物たるガラス板を基台に固定し、固定砥粒による
研削加工を行うことである。光硬化樹脂は、常温で硬化
することから、接着時に、被加工物が熱による変形を受
けにくい。光硬化樹脂は紫外線等の光で硬化するもので
あればよい。かかる樹脂としては、１−ビニル−２−ピ
ロリドンとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとの混合物
などのアクリル系モノマーに、少量の光硬化促進剤を添
加したものが使用できる。特に、剥離時間を短縮させる
理由でジニトロソペンタメチレンテトラミンあるいはベ
ンゼンスルホニルヒドラジドなどを含む剥離促進剤を添
加した光硬化樹脂を使用することが望ましい。このよう
な樹脂は、硬化後、熱水で比較的容易に剥離可能であ
る。もちろん、有機溶剤で剥離可能な樹脂を用いてもよ
い。
【００１４】また、一般的には、ストレート形状砥石に
よって研削することが好ましい。一般的に研削は、スト
レート形状砥石によって行われるか、カップ形状砥石に
よって行われている。ここでストレート形状砥石とは、
砥石の回転軸が被研削面に平行になるような形状のもの
をいい（たとえば、ＪＩＳ規格Ｂ４１３１における１Ａ
−１または１Ｌ−１）、カップ形状砥石とは、砥石の回
転軸が被研削面に垂直になるようなもの（たとえば、Ｊ
ＩＳ規格Ｂ４１３１における６Ａ−２または１１Ａ−
２）をいう。ストレート形状砥石によって研削すれば、
外縁部を除いて砥石と被加工物との接触面積が一定とな
り、したがって、研削時の研削負荷による装置の変形を
一定に保つことができるため、高精度の加工が可能にな
る。特に、フォトマスク基板のように、矩形状のものに
おいては、大変に好ましい。ただし、基板の形状によっ
ては、カップ砥石を用いることが好ましいこともある。
よって研削することが好ましい。一般的に研削は、スト
レート形状砥石によって行われるか、カップ形状砥石に
よって行われている。ここでストレート形状砥石とは、
砥石の回転軸が被研削面に平行になるような形状のもの
をいい（たとえば、ＪＩＳ規格Ｂ４１３１における１Ａ
−１または１Ｌ−１）、カップ形状砥石とは、砥石の回
転軸が被研削面に垂直になるようなもの（たとえば、Ｊ
ＩＳ規格Ｂ４１３１における６Ａ−２または１１Ａ−
２）をいう。ストレート形状砥石によって研削すれば、
外縁部を除いて砥石と被加工物との接触面積が一定とな
り、したがって、研削時の研削負荷による装置の変形を
一定に保つことができるため、高精度の加工が可能にな
る。特に、フォトマスク基板のように、矩形状のものに
おいては、大変に好ましい。ただし、基板の形状によっ
ては、カップ砥石を用いることが好ましいこともある。
【００１５】また、一般的には、トラバース研削を行う
ことが好ましい。ここで、トラバース研削とは、被加工
物に対して比較的小さな接触面積を持つ砥石を用いて、
ストレート砥石の回転方向（もしくはその反対方向）に
被加工物を高速にスライドさせながら、同時に、そのス
ライドと略垂直な砥石の回転軸方向に砥石または被加工
物を徐々に移動させる研削方法をいう。これによれば、
砥石と被加工物との接触面積が比較的一定なため、高精
度の研削が可能になる。
ことが好ましい。ここで、トラバース研削とは、被加工
物に対して比較的小さな接触面積を持つ砥石を用いて、
ストレート砥石の回転方向（もしくはその反対方向）に
被加工物を高速にスライドさせながら、同時に、そのス
ライドと略垂直な砥石の回転軸方向に砥石または被加工
物を徐々に移動させる研削方法をいう。これによれば、
砥石と被加工物との接触面積が比較的一定なため、高精
度の研削が可能になる。
【００１６】研削用の砥石としては、通常のダイヤモン
ド砥石を用いることができるが、加工中のダイヤモンド
砥石自体の弾性変形、摩耗などによる形状の変化が少な
いということから、鉄系のメタルボンドを使用すること
が特に望ましい。
ド砥石を用いることができるが、加工中のダイヤモンド
砥石自体の弾性変形、摩耗などによる形状の変化が少な
いということから、鉄系のメタルボンドを使用すること
が特に望ましい。
【００１７】被加工物を接着する基台は、被加工物と同
じ材質またはこれに近い熱膨張係数を有する材質の基板
が望ましい。たとえば、被加工物がガラス板の場合は、
同じガラス板を用いるのがよい。特に、接着時あるいは
加工中の被加工物と接着する基板との温度差が加工精度
に影響を及ぼさないように、両者の熱膨張係数の差が
１．０×１０-6／℃以内であるような材質を用いること
が望ましい。
じ材質またはこれに近い熱膨張係数を有する材質の基板
が望ましい。たとえば、被加工物がガラス板の場合は、
同じガラス板を用いるのがよい。特に、接着時あるいは
加工中の被加工物と接着する基板との温度差が加工精度
に影響を及ぼさないように、両者の熱膨張係数の差が
１．０×１０-6／℃以内であるような材質を用いること
が望ましい。
【００１８】また、以上説明したような方法を用いて、
片面の加工が終了した後に、加工を終了した面を基台上
に真空吸着し、他方の面について固定砥粒による研削加
工を行うことができる。本発明の方法によれば、少なく
とも片面は非常に平坦な基板が得られる。したがって、
この面を基準として、真空チャックで基台に固定して他
方の面の研削を行えば、他方の面も高精度の平坦性が得
られることになる。真空チャックによる固定は、加工時
間の観点で大変有利であり、かかる方式の研削を行うこ
とは非常に好ましい。
片面の加工が終了した後に、加工を終了した面を基台上
に真空吸着し、他方の面について固定砥粒による研削加
工を行うことができる。本発明の方法によれば、少なく
とも片面は非常に平坦な基板が得られる。したがって、
この面を基準として、真空チャックで基台に固定して他
方の面の研削を行えば、他方の面も高精度の平坦性が得
られることになる。真空チャックによる固定は、加工時
間の観点で大変有利であり、かかる方式の研削を行うこ
とは非常に好ましい。
【００１９】加工装置は、平面研削盤、マシニングセン
ターなどが使用できる。特に、高精度の研削を行う場合
は、砥石の回転部分の軸受けとして、回転精度に優れ、
軸保持力の強い油静圧軸受けを有することが好ましい。
また、加工テーブルの摺動部分に、経時変化が少なく、
直線運動性が優れた、四面拘束形の油静圧案内面を有す
る加工装置を使用することが望ましい。
ターなどが使用できる。特に、高精度の研削を行う場合
は、砥石の回転部分の軸受けとして、回転精度に優れ、
軸保持力の強い油静圧軸受けを有することが好ましい。
また、加工テーブルの摺動部分に、経時変化が少なく、
直線運動性が優れた、四面拘束形の油静圧案内面を有す
る加工装置を使用することが望ましい。
【００２０】
【作用】研削加工時に被加工物表面に微細な歪み層が形
成されるために被加工物が変形するそりが発生すること
は、前述のように、トワイマン効果として知られてい
る。本発明において、被加工物を紫外線硬化樹脂により
接着することにより、メカニズムは不明であるが研削時
の歪み、すなわち、トワイマン効果によるそりを真空吸
着等の固定方法に比べて少なく抑えることができる。
成されるために被加工物が変形するそりが発生すること
は、前述のように、トワイマン効果として知られてい
る。本発明において、被加工物を紫外線硬化樹脂により
接着することにより、メカニズムは不明であるが研削時
の歪み、すなわち、トワイマン効果によるそりを真空吸
着等の固定方法に比べて少なく抑えることができる。
【００２１】紫外線硬化樹脂は濡れ性に優れ、低粘性で
あるため、加工物が変形するような力を作用させること
はなく接着作業が行え、しかも、泡を巻き込みにくく、
また、光照射固化時に体積変化がほとんど無いために、
固定時の被加工物の変形を極めて少なくすることでき
る。
あるため、加工物が変形するような力を作用させること
はなく接着作業が行え、しかも、泡を巻き込みにくく、
また、光照射固化時に体積変化がほとんど無いために、
固定時の被加工物の変形を極めて少なくすることでき
る。
【００２２】
【実施例】以下に、本発明の実施例および比較例を説明
する。
する。
【００２３】（実施例）図１は本実施例で用いた横軸平
面研削盤の様子を示す側面図（ａ）と上面図（ｂ）であ
る。
面研削盤の様子を示す側面図（ａ）と上面図（ｂ）であ
る。
【００２４】加工テーブル４の上に基台３が載置固定さ
れており、これが被加工物たるガラス基板１を接着固定
するための台となる。基台３の材質は被加工物であるガ
ラス基板と同じである。実施例で用いた平面研削盤は、
ストレート砥石５の回転軸に油静圧軸受けを有し、加工
テーブル４の移動部に四面拘束の油静圧案内面を有して
いる。加工テーブル４は油圧シリンダーにより図のＸ方
向に往復運動可能であり、その運動と直交する方向（Ｙ
方向）にストレート砥石５を移動することによりトラバ
ース研削で平面加工ができる。ストレート砥石５は、Ｊ
ＩＳ規格の１Ａ−１型のダイヤモンド砥石であって、外
形２００ｍｍ、幅１０ｍｍ、粒度＃３２５、集中度１０
０の鉄系メタルボンドの砥石である。
れており、これが被加工物たるガラス基板１を接着固定
するための台となる。基台３の材質は被加工物であるガ
ラス基板と同じである。実施例で用いた平面研削盤は、
ストレート砥石５の回転軸に油静圧軸受けを有し、加工
テーブル４の移動部に四面拘束の油静圧案内面を有して
いる。加工テーブル４は油圧シリンダーにより図のＸ方
向に往復運動可能であり、その運動と直交する方向（Ｙ
方向）にストレート砥石５を移動することによりトラバ
ース研削で平面加工ができる。ストレート砥石５は、Ｊ
ＩＳ規格の１Ａ−１型のダイヤモンド砥石であって、外
形２００ｍｍ、幅１０ｍｍ、粒度＃３２５、集中度１０
０の鉄系メタルボンドの砥石である。
【００２５】ガラス基板１は、サイズ□１５２ｍｍ×２
ｍｍｔの透明な合成石英ガラス基板を使用し、接着する
ガラス基板１の固定前の平坦精度は、１８〜２０μｍで
あった。ガラス板の固定前後の形状は、干渉式平坦度計
により測定している。
ｍｍｔの透明な合成石英ガラス基板を使用し、接着する
ガラス基板１の固定前の平坦精度は、１８〜２０μｍで
あった。ガラス板の固定前後の形状は、干渉式平坦度計
により測定している。
【００２６】図に示すように、ガラス基板１を接着する
基台３上に紫外線硬化樹脂２を塗布し、その上にガラス
基板１を乗せる。ガラス基板１が安定したら、上方より
５分間紫外線を照射することにより紫外線硬化樹脂２を
固化させて、ガラス基板１を接着する。紫外線硬化樹脂
２による固定時のガラス基板１の変形は０．２μｍであ
った。紫外線硬化樹脂としてはスリーボンド社製Ｎｏ．
３０４６をを用いた。溶融粘度は５ｃｐ、接着強度は４
１ｋｇｆ／ｃｍ2 、剥離は熱水にて行えるものであっ
た。
基台３上に紫外線硬化樹脂２を塗布し、その上にガラス
基板１を乗せる。ガラス基板１が安定したら、上方より
５分間紫外線を照射することにより紫外線硬化樹脂２を
固化させて、ガラス基板１を接着する。紫外線硬化樹脂
２による固定時のガラス基板１の変形は０．２μｍであ
った。紫外線硬化樹脂としてはスリーボンド社製Ｎｏ．
３０４６をを用いた。溶融粘度は５ｃｐ、接着強度は４
１ｋｇｆ／ｃｍ2 、剥離は熱水にて行えるものであっ
た。
【００２７】加工条件は砥石回転数２４００ｒｐｍ、テ
ーブル送り速度（Ｘ方向）６ｍ／ｍｉｎ、クロス送り速
度（Ｙ方向）２００ｍｍ／ｍｉｎであった。
ーブル送り速度（Ｘ方向）６ｍ／ｍｉｎ、クロス送り速
度（Ｙ方向）２００ｍｍ／ｍｉｎであった。
【００２８】鉄系メタルボンドは、非常に擦り減りが少
なくガラス板を１枚加工することによる砥石の形状変化
は、１μｍ以下とほとんどみられなかった。
なくガラス板を１枚加工することによる砥石の形状変化
は、１μｍ以下とほとんどみられなかった。
【００２９】片面の研削加工後、ガラス基板１と基台３
とを２０〜３０分煮沸することによりお互いを剥離し、
固定を解放した後のガラス基板１の変形量は、平均２．
０μｍとなった。
とを２０〜３０分煮沸することによりお互いを剥離し、
固定を解放した後のガラス基板１の変形量は、平均２．
０μｍとなった。
【００３０】片面研削加工したガラス基板１を反転し、
裏面（研削加工してない面）を真空吸着により固定す
る。同様にストレート砥石を用い、砥石回転数２４００
ｒｐｍ、テーブル送り速度６ｍ／ｍｉｎ、クロス送り速
度２００ｍｍ／ｍｉｎにてトラバース研削加工を行っ
た。研削加工後、真空吸着を解放し表裏の加工歪みのア
ンバランスによるそりをフッ酸水溶液によるエッチング
を行うことにより取り除いた。その結果、平坦度０．５
μｍの高平坦度のガラス基板を得た。
裏面（研削加工してない面）を真空吸着により固定す
る。同様にストレート砥石を用い、砥石回転数２４００
ｒｐｍ、テーブル送り速度６ｍ／ｍｉｎ、クロス送り速
度２００ｍｍ／ｍｉｎにてトラバース研削加工を行っ
た。研削加工後、真空吸着を解放し表裏の加工歪みのア
ンバランスによるそりをフッ酸水溶液によるエッチング
を行うことにより取り除いた。その結果、平坦度０．５
μｍの高平坦度のガラス基板を得た。
【００３１】（比較例）図２は、比較例の様子を示す側
面図（ａ）と上面図（ｂ）である。加工テーブル７の上
に真空吸着板６が載置固定されており、これが被加工物
たるガラス基板１を接着固定するための台となる。砥石
としては、カップ砥石８を使用し、スルーフィード研削
加工のできる縦軸グラインドセンターを用いている。砥
石は、外径３００ｍｍ、幅５ｍｍ、のカップ砥石であ
り、粒度＃３２５、集中度１００のブロンズ系メタルボ
ンド砥石を使用した。
面図（ａ）と上面図（ｂ）である。加工テーブル７の上
に真空吸着板６が載置固定されており、これが被加工物
たるガラス基板１を接着固定するための台となる。砥石
としては、カップ砥石８を使用し、スルーフィード研削
加工のできる縦軸グラインドセンターを用いている。砥
石は、外径３００ｍｍ、幅５ｍｍ、のカップ砥石であ
り、粒度＃３２５、集中度１００のブロンズ系メタルボ
ンド砥石を使用した。
【００３２】ガラス基板１としては、サイズ□１５２ｍ
ｍ×２ｍｍｔの合成石英ガラス基板を使用し、ガラス基
板１の固定前の平坦精度は、１８〜２０μｍであった。
被加工物の固定前後の形状は、やはり、干渉式平坦度計
により測定した。
ｍ×２ｍｍｔの合成石英ガラス基板を使用し、ガラス基
板１の固定前の平坦精度は、１８〜２０μｍであった。
被加工物の固定前後の形状は、やはり、干渉式平坦度計
により測定した。
【００３３】小さな孔が多数あいた真空吸着板６上にガ
ラス基板１を乗せ、ガラス基板１が安定したら、孔より
真空吸引することによりガラス基板１と真空吸着板６と
の間の圧力を下げることにより固定した。固定時の真空
度は、−７２０ｍｍＨｇとした。真空吸着による固定時
の変形は平均１５．４μｍであった。
ラス基板１を乗せ、ガラス基板１が安定したら、孔より
真空吸引することによりガラス基板１と真空吸着板６と
の間の圧力を下げることにより固定した。固定時の真空
度は、−７２０ｍｍＨｇとした。真空吸着による固定時
の変形は平均１５．４μｍであった。
【００３４】研削加工の条件は、砥石回転数３６００ｒ
ｐｍ、切り込み量０．１ｍｍ、送り速度１００ｍｍ／ｍ
ｉｎとした。真空吸着解放前の固定した状態での加工精
度（平坦度）は、４．０μｍであった。
ｐｍ、切り込み量０．１ｍｍ、送り速度１００ｍｍ／ｍ
ｉｎとした。真空吸着解放前の固定した状態での加工精
度（平坦度）は、４．０μｍであった。
【００３５】研削加工後、真空を解放することによりガ
ラス基板１を解放したときの変形量は、２５．４μｍと
なった。
ラス基板１を解放したときの変形量は、２５．４μｍと
なった。
【００３６】片面研削加工したガラス基板を反転し、裏
面（機械加工してない面）を真空吸着により固定し研削
加工し、同様に砥石回転数３６００ｒｐｍ、切り込み量
０．１ｍｍ、送り速度１００ｍｍ／ｍｉｎにて加工を行
った。研削後、真空吸着による固定を解放した後、フッ
酸水溶液によるエッチングを行い表面歪み層を取り除い
た。その結果、平坦度１３μｍのガラス基板を得た。
面（機械加工してない面）を真空吸着により固定し研削
加工し、同様に砥石回転数３６００ｒｐｍ、切り込み量
０．１ｍｍ、送り速度１００ｍｍ／ｍｉｎにて加工を行
った。研削後、真空吸着による固定を解放した後、フッ
酸水溶液によるエッチングを行い表面歪み層を取り除い
た。その結果、平坦度１３μｍのガラス基板を得た。
【００３７】
【発明の効果】本発明の効果を、以下に列挙する。
【００３８】（１）比較的薄いガラス基板を高い平坦度
で加工できる。
で加工できる。
【００３９】（２）接着・剥離が容易に行えるため、生
産性の高い加工ができる。
産性の高い加工ができる。
【００４０】（３）ラップ加工に比べて、加工表面歪み
層（マイクロクラック）の少ない表面が得られるため、
後工程であるポリッシュ工程の加工時間短縮ができる。
また、このことによりポリッシュ工程での平坦度の劣化
を少なくすることができる。
層（マイクロクラック）の少ない表面が得られるため、
後工程であるポリッシュ工程の加工時間短縮ができる。
また、このことによりポリッシュ工程での平坦度の劣化
を少なくすることができる。
【００４１】（４）ポリッシュ工程で変化する平坦度形
状を予め見込んで研削加工を行うことが可能であり、ポ
リッシュ後の最終製品としての平坦度を高めることがで
きる。
状を予め見込んで研削加工を行うことが可能であり、ポ
リッシュ後の最終製品としての平坦度を高めることがで
きる。
【図１】実施例におけるガラス基板の固定方法および研
削方法を示す側面図および上面図
削方法を示す側面図および上面図
【図２】比較例におけるガラス基板の固定方法および研
削方法を示す側面図および上面図
削方法を示す側面図および上面図
１：ガラス基板 ２：紫外線硬化樹脂 ３：基台 ４：加工テーブル ５：ストレート砥石 ６：真空吸着板 ７：加工テーブル ８：カップ砥石
Claims (4)
- 【請求項１】光硬化樹脂により被加工物たるガラス板を
基台に固定し、固定砥粒による研削加工を行うことを特
徴とする高平坦ガラス基板の製造方法。 - 【請求項２】ストレート形状砥石によるトラバース研削
を行うことを特徴とする請求項１記載の高平坦ガラス基
板の製造方法。 - 【請求項３】被加工物を固定する基台と、被加工物の熱
膨張係数の差が１．０×１０-6／℃以下であることを特
徴とする請求項１または請求項２記載の高平坦ガラスの
製造方法。 - 【請求項４】請求項１〜３いずれか１項記載の高平坦ガ
ラス基板の製造方法によって片面の加工が終了した後
に、加工を終了した面を基台上に真空吸着し、他方の面
について固定砥粒による研削加工を行うことを特徴とす
る高平坦ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32311294A JPH08174395A (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 高平坦ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32311294A JPH08174395A (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 高平坦ガラス基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08174395A true JPH08174395A (ja) | 1996-07-09 |
Family
ID=18151222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32311294A Pending JPH08174395A (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 高平坦ガラス基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08174395A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7191618B2 (en) | 2002-01-31 | 2007-03-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Large-sized substrate and method of producing the same |
| JP2010162658A (ja) * | 2009-01-16 | 2010-07-29 | Mitsui Seiki Kogyo Co Ltd | 分離長尺テーブルを有する加工装置 |
| CN114670347A (zh) * | 2022-03-30 | 2022-06-28 | 亚新半导体科技(无锡)有限公司 | 用于硅盘的加工方法和硅盘加工设备 |
-
1994
- 1994-12-26 JP JP32311294A patent/JPH08174395A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7191618B2 (en) | 2002-01-31 | 2007-03-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Large-sized substrate and method of producing the same |
| US7745071B2 (en) | 2002-01-31 | 2010-06-29 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Large-sized glass substrate |
| JP2010162658A (ja) * | 2009-01-16 | 2010-07-29 | Mitsui Seiki Kogyo Co Ltd | 分離長尺テーブルを有する加工装置 |
| CN114670347A (zh) * | 2022-03-30 | 2022-06-28 | 亚新半导体科技(无锡)有限公司 | 用于硅盘的加工方法和硅盘加工设备 |
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