JPH0817568A - 電子レンジのマイクロ波供給制御方法及び該制御方法を実施する電子レンジ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電子レンジの加熱の均一性を改善することに
ある。 【構成】 マイクロ波の電力レベル（Ｐ）を、一連の制
御サイクル中電子レンジのマイクロ波放射源を周期的に
オン、オフして制御する。電子レンジは食品又は皿を支
持する回転底板（４）、及び／又は回転電界攪拌器又は
アンテナを有する。制御サイクルの持続時間と底板又は
電界攪拌機又はアンテナの回転時間を、所望の電力レベ
ルを考慮に入れて、互いに調整するすることにより加熱
の均一性を改善する。それぞれ異なる電力レベル及び加
熱時間を有する数ステップからなる加熱処理において
は、各ステップの加熱時間も現制御サイクルの持続時間
に対し調整する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、マイクロ波放射源と、
加熱室へのマイクロ波の供給を制御する制御ユニットと
を具え、加熱中に食品又は皿の周期的に変化するマイク
ロ波照射をもたらす手段が加熱室内に設けられ、且つ供
給マイクロ波の最大電力より低い所望の電力レベルを制
御サイクルシーケンスの一部分の制御サイクル中にマイ
クロ波放射源を周期的に駆動することにより発生させる
電子レンジ（マイクロウエーブオーブンとも言う）のマ
イクロ波供給制御方法に関するものである。周期的に変
化するマイクロ波照射は、例えば食品又は皿を支持する
回転底板により与えられる食品の周期的移動により、又
は例えばマイクロ波が加熱室に供給される場所に近い加
熱室の天井又は床に通常配置される回転電界攪拌器又は
アンテナにより与えられる加熱室内のマイクロ波電界の
周期的変化によりもたらされる。これらの両者の組み合
わせを使用することもできる。

【０００２】本発明は、更に本発明方法に従って動作す
る制御ユニットを有する電子レンジに関するものであ
る。

【０００３】

【従来の技術】電子レンジの一般的な問題は加熱室内に
置かれた食品又は皿の均一な加熱に最適なマイクロ波分
布を加熱室内に達成することにある。マイクロ波分布が
不均一な場合には、加熱室内に”高温”領域及び”低
温”領域が生じ、これらの領域に位置する食品の部分が
異なる程度に加熱される。この問題は、食品並びに食品
を入れた容器のマイクロ波特性、体積及び重量が加熱室
内のマイクロ波分布に影響を与えることにより大きくな
る。加熱室及びそのマイクロ波供給システムを適切な寸
法に設計することにより幾つかの特定の場合に良好なマ
イクロ波分布を達成しうるが、考えられる多くの場合に
実際上まだ問題があり、食品又は皿の不均一加熱を生ず
る。

【０００４】加熱の均一性を改善する一般的な方法は、
加熱室内にいわゆる回転底板を導入するものである。こ
の場合には加熱処理中回転する底板の上に食品又は皿を
置く。すると、食品が回転するので、食品の種々の部分
が加熱処理中”高温”及び”低温”の両領域を通過す
る。このような底板は本出願人の電子レンジＶＩＰ２０
及びＶＩＰ２７に使用されている。或いは又、加熱の均
一性は回転電界攪拌器又はアンテナを用いて加熱室内の
マイクロ波電界分布を変化させることにより改善するこ
ともできる。この回転電界攪拌器又はアンテナは、マイ
クロ波を”攪拌”又は分散するように、マイクロ波が加
熱室に供給される場所に近い加熱室の天井又は床に配置
することができる。スウェーデン国特許第８００６９９
４−１号にこのような電子レンジの構造が開示されてい
る。これらの方法によれば、加熱室内のマイクロ波電界
分布が底板の回転速度関数として又は電界攪拌器又はア
ンテナの回転速度の関数として周期的に変化する。

【０００５】種々の加熱処理は加熱室に供給されるマイ
クロ波の電力レベルの調整を必要とする。また、一つの
同一の加熱処理中に、異なる電力レベルを異なる加熱期
間に亘り使用する必要もある。加熱室に供給されるマイ
クロ波の種々の電力レベルを達成する一般的な方法は、
調理処理を複数の制御サイクルに分割し、レンジのマイ
クロ波放射源（通常マグネトロン）をこれらのサイクル
中に周期的に駆動するものである。この場合、電力レベ
ルは各サイクルの平均電力により決まる。スウェーデン
国特許第８８００３２３−１にこのような電力制御手段
を具えた電子レンジが開示されている。この電力制御方
法については後にもっと詳細に説明する。

【０００６】しかし、上述の電力制御手段を回転底板又
は電界攪拌器又はアンテナを有する電子レンジに使用す
ると、均一加熱の問題が増大する。一般に、これは、回
転時間と制御サイクルの持続時間（通常同程度）との相
互作用のため、即ちマイクロ波が加熱室に供給される制
御サイクルの期間中に食品又は皿の所定の部分が加熱室
内の同一部分に周期的に位置することが起こりうるため
である。

【０００７】回転底板は一般に一定の回転速度、代表的
には５−６回転／分の同期モータで１転される。これは
１回転時間が代表的には１０−１２秒であることを意味
する。上述の電力制御方法では、制御サイクルの持続時
間は通常１５−３０秒、即ち上述の回転時間とほぼ同程
度である。

【０００８】この問題の自明の解決方法は、もっと短い
持続時間の制御サイクルを使用してマイクロ波放射源
（通常１ｋＷ程度の出力電力を有するマグネトロン）を
かなり高い周波数でスイッチオン及びオフするものであ
る。しかし、このような解決方法には多くの障害があ
る。即ち、マグネトロンの消耗が増大し、その寿命が著
しく減少する。また、種々の国では幹線オペレータが幹
線電力レベルを高速スイッチングすることは、幹線に著
しい妨害作用を与えるので許されない。また、食品又は
皿の熱伝導率は有限であるため、供給されたマイクロ波
エネルギーを均等に分布させて良好な加熱結果を達成す
るには所定の時間を必要とする。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
のタイプの電力制御、即ちマイクロ波放射源をパルス駆
動して又は周期的にスイッチオン及びオフして最大電力
より低い電力レベルを発生させる方法を用いる電子レン
ジにおける不均一加熱の問題を本質的に解消することに
ある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、この目的を達
成するために、頭書に記載したタイプの方法において、
加熱の均一性を改善するために各制御サイクルの持続時
間と前記周期的に変化するマイクロ波照射の変化周期を
互いに調整し、この調整は、前記制御サイクルの持続時
間と前記変化周期との関係を、食品又は皿の任意の部分
が加熱処理中に回転のすべての扇形部にマイクロ波放射
源のほぼ同程度の総駆動時間に亘り位置するように選択
することにより実行することを特徴とする。

【００１１】本発明方法は、加熱中食品又は皿を支持す
る回転底板が加熱室に設けられ、この底板の回転により
周期的に変化するマイクロ波照射がもたらされる電子レ
ンジにおいては、前記制御サイクルの持続時間とこの底
板の回転時間を互いに調整することにより加熱の均一性
を向上させる。本発明方法は、回転電界攪拌器又はアン
テナが加熱室に設けられ、この攪拌器又はアンテナの回
転により周期的に変化するマイクロ波照射がもたらされ
る電子レンジにおいては、前記制御サイクルの持続時間
とこの攪拌器又はアンテナの回転時間を互いに調整する
ことにより加熱の均一性を向上させる。

【００１２】上述したように、回転底板は一般に同期モ
ータにより一定の速度で駆動される。本発明方法の好適
実施例では、この点を考慮し、各制御サイクルを駆動期
間と休止期間に分け、両期間の相互関係により電力レベ
ルが決まるようにするとともに、制御サイクルの持続時
間を底板の回転時間に関し、マイクロ波放射源の駆動期
間に対応する回転扇形部が加熱処理中底板全体にほぼ均
等に分布するように選択する。

【００１３】本発明方法の他の実施例では、このような
回転扇形部の均等分布を、順次の駆動期間が互いにほぼ
隣接する回転扇形部に対応するように制御サイクルの持
続時間を選択することにより達成する。更に他の実施例
では、これらの回転扇形部が互いにほぼ直径方向に対向
して位置するようにする。

【００１４】本発明方法の他の好適例は特許請求の範囲
に記載されている。本発明の範囲内において、所要の調
整は制御サイクルの代わりに、又はこれに加えて底板又
は電界攪拌器又はアンテナの回転速度を変化させること
により達成することもできる。

【００１５】本発明は、加熱室と、マイクロ波放射源
と、熱室内へのマイクロ波の供給を制御する制御ユニッ
トと、加熱室内に配置され、加熱中食品又は皿の周期的
に変化するマイクロ波照射をもたらす手段とを具え、前
記制御ユニットが制御サイクルシーケンスの一部分の制
御サイクル中にマイクロ波放射源を周期的に駆動するこ
とにより最大電力より低いマイクロ波電力レベルを発生
するよう構成された電子レンジにおいて、各制御サイク
ルの持続時間が、前記周期的に変化するマイクロ波照射
の変化周期に対し、食品又は皿の仮想部分が加熱処理中
に回転のすべての扇形部にマイクロ波放射源のほぼ同程
度の総駆動時間に亘り位置するような関係に選択されて
いることを特徴とする。

【００１６】本発明電子レンジの好適実施例では、前記
手段が加熱中食品又は皿を支持する回転底板を具え、こ
の底板の回転により周期的に変化するマイクロ波照射を
もたらすように構成された電子レンジにおいて、前記制
御サイクルの持続時間が底板の回転時間に関し前記の関
係にあることを特徴とする。本発明電子レンジの他の好
適実施例では、前記手段が回転電界攪拌器又はアンテナ
を具え、この攪拌器又はアンテナの回転により周期的に
変化するマイクロ波照射をもたらすように構成された電
子レンジにおいて、前記制御サイクルの持続時間が底板
の回転時間に関し前記の関係にあることを特徴とする。

【００１７】本発明電子レンジでは、制御ユニットが関
連するプログラムメモリを有し、且つプログラムされた
自動加熱処理を選択するように構成されたマイクロプロ
セッサを含むことができる。このような加熱処理は一連
のステップからなり、各ステップが関連する電力レベル
と加熱時間を有する。種々の電力レベルは、各制御サイ
クルを駆動期間と休止期間に分割し、両期間の相互関係
により電力レベルが決まるようにすることにより達成す
る。このような電子レンジの好適実施例では、各駆動期
間の持続時間を回転時間の一部分に等しくし、前記マイ
クロプロセッサを、各ステップに対し、駆動期間（Ｔ
１）が回転の同一位置に現れる繰り返し周期を制御サイ
クル持続時間（Ｔ）に基づいて計算し、各ステップの加
熱時間内において前記繰り返し周期の整数倍に等しく調
整した加熱時間を選択し、各ステップの残りの加熱時間
を次のステップの加熱時間に加算し、最後のステップの
残りの加熱時間を総加熱時間内の不活動時間として導入
するようにプログラムする。制御サイクルの持続時間を
選択する際、このように総加熱時間のみならず個々のス
テップの加熱時間も考慮すると、加熱の均一性が更に最
適になる。

【００１８】本発明は、上述のタイプの電子レンジでは
電力制御の制御周期と底板又は電界攪拌器又はアンテナ
の回転周期との関係が加熱の均一性に極めて重要である
という洞察に基づくものである。また、加熱均一性はこ
れらの周期を互いに調整することにより著しく改善する
ことができ、この調整はマイクロプロセッサ制御の電子
レンジにおいてはマイクロプロセッサに対し拡張制御プ
ログラムを使用することにより低コストで達成すること
ができる。本発明は、このような処理中の加熱時間並び
に種々のステップのそれぞれの加熱時間は加熱均一性に
悪影響を与えうるが、この悪影響は上述の調整を行う際
にこれらの加熱時間も考慮に入れることにより除去しう
るという洞察にも基づくものである。

【００１９】

【実施例】以下、本発明の幾つかの実施例を図面を参照
して説明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。説明を簡単にするために、本発明を回転
底板を有する電子レンジにつき説明するが、以下の説明
は回転電界攪拌器又はアンテナを有する電子レンジ及び
回転底板と回転電界攪拌器又はアンテナの両方を有する
電子レンジにそのまま適用することができる。

【００２０】図１に示す電子レンジは外部ケース１と加
熱室３を閉じるドア２を有し、加熱室３内には回転底板
４が配置されている。一実施例では、回転底板は、下面
にマイクロ波吸収フェライト層が設けられた小熱質量の
アルミニウムシートからなる所謂クリスパ板を含むもの
とすることができる。スウェーデン国特許第９００３１
０４−８号及び本出願人の電子レンジＶＩＰ２０及びＶ
ＩＰ２７型に、このようなクリスパ板の構造及びその回
転機構が詳細に開示されている。

【００２１】マイクロ波は、電子レンジのマイクロ波放
射源２０（通常マグネトロン）と導波管を経て連通する
一以上の供給開口（図示せず）を経て加熱室３に供給さ
れる（図２参照）。図示の電子レンジでは、マグネトロ
ン、関連する導波管、マグネトロンを駆動する電源ユニ
ット１９及び制御ユニット１５は制御パネル５の背後に
配置される。マイクロ波供給システムの好適例では、加
熱室の右側壁に設けられた上部及び下部供給開口を用
い、供給システムの残部をこれらの開口を経て有極マイ
クロ波を供給するように設計する。マイクロ波供給シス
テムの構成についてのもっと詳細な情報については、ス
ウェーデン国特許第９００３０１２−３及び上述した本
出願人の電子レンジを参照されたい。

【００２２】グリル素子（図示せず）を加熱室内に、例
えばスウェーデン国第９２０１７８６−２号に記載され
ているように配置することができる。具体的な設計例は
本出願人の電子レンジＶＩＰ２０型に見られる。

【００２３】図示の電子レンジは特定の種類の食品に対
し所定数の予めプログラムされた調理プログラム又は加
熱プログラムのうちの一つを選択するよう設計されてい
る。これに加えて、この電子レンジは慣例の如く所望の
調理時間及び電力レベルを選択することにより使用する
こともできる。予めプログラムされた調理プログラム又
は加熱プログラムを使用するときは、直接作用するマイ
クロ波加熱、クリスパ板からの底面加熱、及びグリル素
子からの上面加熱の相互作用により食品又は皿が加熱さ
れる。もっと詳細な情報についてはスウェーデン国特許
出願第９４０２０６２−５号を参照されたい。

【００２４】制御パネル５はディスプレイ６を具え、こ
のディスプレイは制御ユニット１５により制御され、特
に選択されたプログラムに対する記号又は簡単なテキス
トメッセージ及び残りの調理又は加熱時間を表示する。
即ち、制御パネルで行なわれた使用者の選択を確認させ
るとともに調理又は加熱の進行についての情報を与え
る。

【００２５】電子レンジを通常の如く使用する場合に
は、加熱室へのマイクロ波の供給による加熱を制御ボタ
ン７により選択する。ボタン８はレンジのグリル素子を
駆動するのに使用し、所望の時間はノブ９により設定す
る。予めプログラムされたプログラムを使用する場合に
は、ノブ９を用いて食品の重量を手動入力することもで
きる。ボタン１０及び１１は電子レンジを始動及びスイ
ッチオフするためのものである。一組のキー１２は予め
プログラムされた調理又は加熱プログラムを選択するた
めのものである。全てのボタン、ノブ及びディスプレイ
は制御ユニット１５と通信する。

【００２６】電子レンジの上面には加熱室の天井と外部
ケース１との間の空間に配置された加熱室の排気路（図
示せず）と連通する排気口１３が設けられる。主電源へ
の単相接続のために、この電子レンジはプラグ付きの可
撓線１４を具えている。

【００２７】図２のブロック図はマイクロプロセッサ及
び関連するプログラムメモリ１６を具える制御ユニット
１５を示す。ユーザ情報は上述した制御ボタン及びノブ
を表すブロック１７から制御ユニットへ入力される。制
御ユニットはディスプレイ６を制御する。制御ユニット
１５はドライバ１８及びマイクロ波電源ユニット１９を
介してマイクロ波放射源２０を制御する。制御ユニット
１５はドライバ２１を介してグリル素子２２、従って加
熱室３に供給されるＩＲ放射を制御する。これらの機能
ユニットの構成についてのもっと詳細な情報については
上述した特許明細書及び本出願人の製造による電子レン
ジを参照されたい。

【００２８】上述の電子レンジは本発明方法及び本発明
電子レンジの一実施例にすぎない。従って、本発明方法
は一般に供給マイクロ波の電力レベルを頭書に記載した
方法で制御するすべての電子レンジに提供することがで
きる。このような個々の適用は本発明電子レンジの実現
をもたらす。

【００２９】図３のタイムチャートはマイクロ波放射
源、即ちマグネトロンのオン・オフ制御により供給マイ
クロ波の電力レベルを制御する方法を示す。横軸は時間
ｔを表し、縦軸は０とＭＰｍａｘ＝最大電力との間で変
化しうる出力電力ＭＰを表す。現在のマグネトロンでは
最大電力は１ｋＷ程度である。

【００３０】電力制御は、持続時間Ｔの連続する制御サ
イクル中にマグネトロンをスイッチングすることにより
行う。各制御サイクルはマグネトロンからの出力電力が
最大電力である駆動期間Ｔ１と、出力電力が０である休
止期間Ｔ２に分割される。次の事項が成立する。 制御サイクル持続時間Ｔ＝Ｔ１＋Ｔ２ 電力レベル Ｐ＝（Ｔ１／Ｔ）・ＭＰｍａｘ

【００３１】下記の表は、制御サイクルがＴ＝２０ｓｅ
ｃの持続時間を有する場合に達成しうる種々の電力レベ
ルを示す。電力レベルＰは最大電力ＭＰｍａｘの百分率
で与えられる。

【００３２】

【表１】

【００３３】図４は従来の電子レンジにおける不均一加
熱の問題を説明するためのものであり、この問題は底板
の回転時間が電力制御に使用する制御サイクルの持続時
間と本質的に同程度であるためである。この図におい
て、円弧はマグネトロンの駆動期間中に底板の回転に沿
って移動する食品又は皿の仮想点又は仮想部分の移動を
示す。各円弧は一駆動期間を表す。連続する回転を表す
ためにこれらの円弧の直径を相違させてある。

【００３４】食品の仮想点又は仮想部分が時針方向に移
動し、マグネトロンが最初の回転の約９０°に亘り駆動
され、次いで食品のこの仮想点又は仮想部分が１回転＋
約３０°回転し、次いでマグネトロンが約９０°に亘り
駆動され、次いでこの仮想点又は仮想部分が１回転＋３
０°回転し、以下同様であるものとする。図に示すよう
に、マグネトロンが駆動されないそれぞれ約３０°の３
つの扇形部が存在する。この結果、食品の仮想点又は仮
想部分が加熱室の対応する部分を通過するとき仮想点又
は仮想部分にマイクロ波エネルギーが供給されず、この
ことが不均一加熱の根本的原因である。上述のような”
高温領域”及び”低温領域”を発生する電子レンジの傾
向がマグネトロンの駆動期間に対応する加熱室の部分に
関連する場合には、このことが加熱の不均一性に更に寄
与する。

【００３５】図４から明らかなように、この問題は主と
して、マグネトロンの駆動期間が一回転の一部分のみで
あり、即ち回転時間より短いことに原因がある。この問
題は回転時間に等しい、又はその多数倍に等しい駆動時
間を用いることにより解決することができる。このよう
な可決方法は、加熱時間がかなり長いときに満足に機能
する。しかし、低電力レベルの場合には、このような解
決方法は不所望に長い制御サイクルを必要とする。例え
ば、回転時間が１２秒であり、且つ駆動期間が回転時間
に等しい場合には、最大電力の２５％の電力レベルは４
８秒の制御サイクル持続時間を必要とする。このような
持続時間の場合には、食品又は皿が制御サイクルの休止
期間中にさめて加熱処理が長引くことになる。

【００３６】従って、制御サイクルの持続時間及び底板
の回転時間の選択に課される実際上の要件又は幹線オペ
レータの要件の範囲内において、マグネトロンに対する
このような駆動期間を回転時間の一部分に選択すること
により低電力レベルを発生させる必要がある。図４に示
す不均一加熱を回避するためには、駆動期間に対応する
回転扇形部を回転全体に亘り均等に分布させる、例えば
これらの扇形部を順に隣接させることにより、又は２つ
の順次の扇形部が互いにほぼ直径方向に対向位置すると
ともに次の２つの扇形部がその前の扇形部の各々に隣接
するよう位置させ、以下同様に位置させることにより回
転全体に亘り均等に分布させればよいことがわかる。

【００３７】下記の表２は駆動期間、制御サイクル持続
時間及び電力レベルの値を示す。これらの値は１２秒の
底板回転時間に対し計算したものである。この表から明
らかなように、４０％以上の電力レベルでは駆動時間が
回転時間に等しいが、それ以下の電力レベルでは駆動時
間は回転時間の一部分のみになる。

【００３８】

【表２】

【００３９】図５は最大電力の２０％の電力レベル（Ｐ
＝２０％）の場合を示す。この場合には、 制御サイクル持続時間Ｔ＝１５ｓｅｃ 底板の回転時間＝１２ｓｅｃ 駆動時間Ｔ１＝３ｓｅｃ である。これらの値の選択の結果として、順次の駆動期
間に対応する円弧が順に互いに隣接するようになる。こ
の場合、駆動期間が底板全体に均等に分布され、図４に
示す場合のような”不活動”扇形部を生じない。

【００４０】図５に示す例では、加熱処理の最適化のた
めに加熱処理の加熱時間も考慮されている。これは、図
５には４つの扇形部の各々に同数の円弧が存在すること
から明らかである。加熱時間が短くなればなるほど、こ
の調整の重要性が増大する。所定の扇形部内の一つの円
弧の減少は、食品の対応する部分に供給されるマイクロ
波エネルギーが周囲の部分に供給されるマイクロ波エネ
ルギーより少なくなることを意味する。底板の多数回の
回転を含む長い加熱時間は加熱の均一性に及ばすこのよ
うな不均等エネルギー供給の影響を低減する。図５に示
す例では、制御サイクル持続時間及び選択した駆動期間
は、所望の電力レベルに関し、１分の整数倍からなる加
熱時間に最適である。これは、駆動期間が４つのサイク
ル持続時間、即ち４・１５＝６０ｓｅｃの周期で回転の
同一位置に発生するためである。図５に示す加熱期間の
均等分布を達成するためには、加熱時間をこのようない
わゆる加熱パターンの繰り返しインターバルの整数倍に
等しくするのが最適であり、実質的に等しくする必要が
ある。

【００４１】通常、予めプログラムされた自動加熱又は
調理プログラムは関連する種々の電力レベル及び加熱時
間を有する数ステップに分割されている。これらのステ
ップは予め決められた順序で順に実行される。冷凍食品
の自動解凍はこのようなプログラムの一例である。この
シーケンスは代表的には３−５ステップを具え、それら
の関連する電力レベル及び加熱時間は制御ユニットの一
部を形成するマイクロプロセッサにより計算される。本
発明によれば、種々のステップの加熱時間を総加熱時間
内において互いに調整することにより更なる最適化を達
成することができる。この場合には、各ステップの加熱
時間を、電子レンジの加熱パターンに対する上述の繰り
返しインターバルの整数倍に精密に等しくなるように精
密に調整する。加熱時間の残りの時間は最後に総加熱時
間に不活動時間として導入することができる。

【００４２】各ステップの個々の加熱時間の対応する相
互調整は、使用者がステップのシーケンスの選択時に行
うこともできる点に注意されたい。

【００４３】上記の表２から明らかなように、低電力設
定時には、駆動期間を０．５又は０．２５回転に等しく
選択し、所定数の制御サイクル持続時間で繰り返す加熱
パターンを発生させるのが好ましい。例えば、電力レベ
ルが３３％である場合には、食品が底板の半回転中加熱
され、次いで１回転中加熱が休止される。次の駆動期間
において、次の半回転中底板の対応する部分が加熱され
る。従って、加熱パターンが２制御サイクル持続時間ご
とに繰り返す。この場合には、最適加熱時間はこのパタ
ーンの繰り返し時間、即ち２制御サイクル持続時間の偶
数倍である。同様に、最大電力の２５％に対する最適加
熱時間は３制御サイクル持続時間の偶数倍である。

【００４４】表２の値を使用する場合には、最適に調整
された加熱時間は、制御サイクル持続時間の項で、下式
に従って計算することができる。 ＮＴ＝（ＴＲ／Ｔ１）・整数部〔（ＴＨ／Ｔ）・（Ｔ１／ＴＲ）〕 （１） ここに、Ｔ＝制御サイクル持続時間 ＮＴ＝制御サイクル持続時間の数 ＮＲ＝回転時間 Ｔ１＝駆動期間 ＴＨ＝所望の加熱時間

【００４５】次の一連のステップからなる処理を実行す
る必要があるものとする。 ステップ１ 電力レベル＝３３％、 加熱時間＝１９０ｓｅｃ ステップ２ 電力レベル＝２５％、 加熱時間＝２５０ｓｅｃ ステップ３ 電力レベル＝２０％、 加熱時間＝２９０ｓｅｃ この処理は７３０ｓｅｃの総加熱時間を有する。

【００４６】この場合の計算は次の通りである。ステッ
プ１ 加熱時間＝１９０ｓｅｃ 駆動期間及び制御サイクル持続時間は表２に基づいて選
択され、それぞれ６ｓｅｃ及び１８ｓｅｃであり、制御
サイクル持続時間＝駆動期間／電力レベル＝６／０．３
３≒１８ｓｅｃである。この場合には２制御サイクル持
続時間ごとに繰り返す加熱パターンが得られる。式
（１）に従って、 ＮＴ＝（１２／６）・整数部〔（１９０／１８）・（６
／１２）〕＝１０ ステップ１における調整された加熱時間＝ＮＴ・Ｔ＝１
０・１８＝１８０ｓｅｃ； ステップ２になるまでのステップ１の残存加熱時間＝１
０ｓｅｃ；

【００４７】ステップ２ 所望の加熱時間＝加熱時間ステップ２＋残存加熱時間ステップ１ ＝２５０＋１０＝２６０ｓｅｃ 駆動期間及び制御サイクル持続時間は表２から選択さ
れ、それぞれ４ｓｅｃ及び１６ｓｅｃである。 この場合には３制御サイクル持続時間ごとに繰り返す加
熱パターンが得られる。式（１）に従って、ＮＴ＝１５
が得られる。 ステップ２における調整された加熱時間＝１５・１６＝
２４０ｓｅｃ； ステップ３になるまでのステップ２の残存加熱時間＝２
０ｓｅｃ；

【００４８】ステップ３ 所望の加熱時間＝２９０＋２０＝３１０ｓｅｃ 駆動期間及び制御サイクル持続時間は表２から選択さ
れ、それぞれ３ｓｅｃ及び１５ｓｅｃである。この場合
には４制御サイクル持続時間ごとに繰り返す加熱パター
ンが得られる。式（１）に従って、ＮＴ＝２０が得られ
る。 ステップ３における調整された加熱時間＝２０・１５＝
３００ｓｅｃ； ステップ３における残存加熱時間＝１０ｓｅｃ、この残
存加熱時間が加熱処理の終了ごとに不活動時間として導
入される。

【００４９】当業者であれば、上述した本発明方法及び
電子レンジを本発明の範囲内において種々に変更するこ
とが可能である。上述の記載及び特許請求の範囲の記載
は回転底板を具える電子レンジに関連しているが、これ
はこのような底板が既存の電子レンジに使用されている
という簡単な理由からである。しかし、原理的には、対
応するサイクル持続時間を有する他の周期的運動を実行
する他のタイプの底板を用いることもできる。このよう
な変更は便宜上本願明細書中の”回転時間”を”運動サ
イクル時間”と置き換えることにより得られ、本発明の
上述の特徴を有する。更に、当業者であれば、特許請求
の範囲に明記された本発明の個々の特徴の組み合わせと
異なる組み合わせも考えられる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明電子レンジを示す図である。

【図２】図１に示す電子レンジのブロック構成図であ
る。

【図３】本発明で使用する電力制御方法を説明するタイ
ムチャートである。

【図４】従来の電子レンジにおけるマイクロ波供給イン
ターバルと底板の回転との関係を示す図である。

【図５】本発明による電子レンジにおけるマイクロ波供
給インターバルと底板の回転との関係を示す図である。

【符号の説明】

１ 外部ケース ２ ドア ３ 加熱室 ４ 回転底板 ５ 制御パネル ６ ディスプレイ ７ 電子レンジ選択ボタン ８ グリル選択ボタン ９ タイマノブ １０、１１ オン、オフスイッチ １２ プログラム選択ボタン １３ 排気口 １４ プラグ １５ 制御ユニット １６ マイクロプロセッサ １７ 入力ブロック １８ ドライバ １９ マイクロ波電源 ２０ マイクロ波放射源 ２１ ドライバ ２２ グリル素子 Ｔ 制御サイクル持続時間 Ｔ１ 駆動期間 Ｔ２ 休止期間

Claims (19)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マイクロ波放射源（２０）と、加熱室
   （３）へのマイクロ波の供給を制御する制御ユニット
   （１５）とを具え、加熱中に食品又は皿の周期的に変化
   するマイクロ波照射をもたらす手段が加熱室内に設けら
   れ、且つ供給マイクロ波の最大電力より低い所望の電力
   レベルを、制御サイクルシーケンスの一部分の制御サイ
   クル中にマイクロ波放射源を周期的に駆動することによ
   り発生させる電子レンジのマイクロ波供給制御方法にお
   いて、 加熱の均一性を向上させるために、各制御サイクルの持
   続時間（Ｔ）と前記周期的に変化するマイクロ波照射の
   変化周期を互いに調整し、この調整は、前記制御サイク
   ルの持続時間と前記変化周期との関係を、食品又は皿の
   任意の部分が加熱処理中に回転のすべての扇形部にマイ
   クロ波放射源のほぼ同程度の総駆動時間に亘り位置する
   ように選択することにより実行することを特徴とするマ
   イクロ波供給制御方法。
2. 【請求項２】 加熱室内に設けられた前記手段が、加熱
   中食品又は皿を支持する回転底板（４）として構成さ
   れ、この底板の回転により周期的に変化するマイクロ波
   照射がもたらされる電子レンジにおいて、 前記制御サイクルの持続時間（Ｔ）とこの底板の回転時
   間（ＴＲ）を互いに調整することにより加熱の均一性を
   向上させることを特徴とする請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 加熱室内に設けられた前記手段が、回転
   電界攪拌器又はアンテナとして構成され、この電界攪拌
   器又はアンテナの回転により周期的に変化するマイクロ
   波照射がもたらされる電子レンジにおいて、 前記制御サイクルの持続時間（Ｔ）とこの電界攪拌器又
   はアンテナの回転時間を互いに調整することにより加熱
   の均一性を向上させることを特徴とする請求項１又は２
   記載の方法。
4. 【請求項４】 各制御サイクルが駆動期間（Ｔ１）と休
   止期間（Ｔ２）に分けられ、両期間の関係により電力レ
   ベル（Ｐ）が決まり、底板が一定の回転時間（ＴＲ）で
   回転する電子レンジにおいて、 制御サイクルの持続時間（Ｔ）を底板の回転時間（Ｔ
   Ｒ）に関し、マイクロ波放射源の駆動期間（Ｔ１）に対
   応する回転扇形部が加熱処理中底板全体にほぼ均等に分
   布するように選択することを特徴とする請求項２記載の
   方法。
5. 【請求項５】 制御サイクル中の駆動期間（Ｔ１）が直
   前の駆動期間に対応する回転扇形部にほぼ隣接する回転
   扇形部に対応するように制御サイクルの持続時間（Ｔ）
   を選択することを特徴とする請求項４記載の方法。
6. 【請求項６】 制御サイクル中の駆動期間（Ｔ１）が直
   前の駆動期間に対応する回転扇形部に対し直径方向にほ
   ぼ対向して位置する回転扇形部に対応するように制御サ
   イクルの持続時間を選択することを特徴とする請求項４
   記載の方法。
7. 【請求項７】 駆動期間（Ｔ１）が底板の回転時間（Ｔ
   Ｒ）のほぼ整数倍になるように制御サイクルの持続時間
   （Ｔ）を選択することを特徴とする請求項４記載の方
   法。
8. 【請求項８】 種々の所定の電力レベルを選択可能にす
   るために、 回転時間（ＴＲ）の全部又は一部を駆動期間（Ｔ１）と
   して選択し、 制御サイクルの持続時間（Ｔ）を各電力レベルに対応し
   て調整することにより各電力レベルを得ることを特徴と
   する請求項４記載の方法。
9. 【請求項９】 制御サイクルの持続時間（Ｔ）を所定の
   電力レベル及び加熱処理の持続時間に応じて選択するこ
   とにより所定の電力レベルを得ることを特徴とする請求
   項４記載の方法。
10. 【請求項１０】 加熱処理がそれぞれ異なる電力レベル
    及び関連する加熱時間を有する一連のステップからなる
    場合には、 制御サイクルの持続時間（Ｔ）を各ステップ中の現電力
    レベル（Ｐ）に従って選択するとともに、 種々のステップの加熱時間を当該加熱処理の総加熱時間
    において互いに調整することにより加熱の均一性を最適
    にすることを特徴とする請求項４記載の方法。
11. 【請求項１１】 加熱室（３）と、マイクロ波放射源
    （２０）と、加熱室内へのマイクロ波の供給を制御する
    制御ユニット（１５）と、加熱室内に配置され、加熱中
    食品又は皿の周期的に変化するマイクロ波照射をもたら
    す手段とを具え、前記制御ユニットが制御サイクルシー
    ケンスの一部分の制御サイクル中にマイクロ波放射源を
    周期的に駆動することにより最大電力より低いマイクロ
    波電力レベルを発生するよう構成された電子レンジにお
    いて、 各制御サイクルの持続時間（Ｔ）が、前記周期的に変化
    するマイクロ波照射の変化周期に対し、食品又は皿の任
    意の部分が加熱処理中に回転のすべての扇形部にマイク
    ロ波放射源のほぼ同程度の総駆動時間に亘り位置するよ
    うな関係に選択されていることを特徴とする電子レン
    ジ。
12. 【請求項１２】 前記手段が、加熱中食品又は皿を支持
    する回転底板（４）を具え、この底板の回転が周期的に
    変化するマイクロ波照射をもたらす電子レンジにおい
    て、 前記制御サイクルの持続時間（Ｔ）がこの底板の回転時
    間（ＴＲ）に対し前記の関係に選択されていることを特
    徴とする請求項１１記載の電子レンジ。
13. 【請求項１３】 前記手段が、回転電界攪拌器又はアン
    テナを具え、この攪拌器又はアンテナの回転が周期的に
    変化するマイクロ波照射をもたらす電子レンジにおい
    て、 前記制御サイクルの持続時間（Ｔ）が前記電界攪拌器又
    はアンテナの回転時間（ＴＲ）に対し前記の関係に選択
    されていることを特徴とする請求項１１又は１２記載の
    電子レンジ。
14. 【請求項１４】 前記制御ユニット（１５）が、各制御
    サイクルをマイクロ波放射源（２０）に対する駆動期間
    （Ｔ１）と休止期間（Ｔ２）に分割し、電力レベル
    （Ｐ）が前記駆動期間と休止期間との関係により決ま
    り、底板が一定の回転時間（ＴＲ）で回転する電子レン
    ジにおいて、 制御サイクルは、マイクロ波放射源の駆動期間（Ｔ１）
    に対応する回転扇形部が加熱処理中底板全体にほぼ均等
    に分布するような持続時間（Ｔ）を有していることを特
    徴とする請求項１２記載の電子レンジ。
15. 【請求項１５】 制御サイクルは、順次の駆動期間（Ｔ
    １）が互いにほぼ隣接する回転扇形部に対応するような
    持続時間（Ｔ）を有していることを特徴とする請求項１
    ４記載の電子レンジ。
16. 【請求項１６】 制御サイクルは、順次の駆動期間（Ｔ
    １）が互いにほぼ直径方向に対向する回転扇形部に対応
    するような持続時間（Ｔ）を有していることを特徴とす
    る請求項１４記載の電子レンジ。
17. 【請求項１７】 それぞれ異なる電力レベル（Ｐ）及び
    関連する加熱時間を有する一連のステップからなる予め
    プログラムされた自動加熱処理を選択するよう構成され
    た電子レンジにおいて、 各ステップ中の駆動期間（Ｔ１）の持続時間が回転時間
    （ＴＲ）に、又はその整数倍又はその一部分に等しく選
    択され、 各ステップ中の制御サイクルの持続時間（Ｔ）が駆動時
    間（Ｔ１）に対し、所望の電力レベル（Ｐ）を与えるよ
    うに調整され、且つ各ステップの加熱時間が、加熱の均
    一性を最適にするように当該加熱処理の総加熱時間内に
    おいて互いに調整されるように構成されていることを特
    徴とする請求項１４記載の電子レンジ。
18. 【請求項１８】 制御ユニット（１５）がプログラムメ
    モリを有するマイクロプロセッサ（１６）を具え、各駆
    動期間（Ｔ１）の持続時間が回転時間（ＴＲ）の一部分
    に等しく選択されている電子レンジにおいて、マイクロ
    プロセッサが、各ステップに対し、 駆動期間（Ｔ１）が回転の同一位置に現れる繰り返し周
    期を制御サイクル持続時間（Ｔ）に基づいて設定し、 各ステップの加熱時間内において前記繰り返し周期の整
    数倍に等しく調整した加熱時間を選択し、 各ステップの残りの加熱時間を次のステップの加熱時間
    に加算し、 最後のステップの残りの加熱時間を総加熱時間内の負活
    動時間として導入するようプログラムされていることを
    特徴とする請求項１７記載の電子レンジ。
19. 【請求項１９】 互いに関連する電力レベル（Ｐ）、制
    御サイクル持続時間（Ｔ）及び駆動期間（Ｔ１）の値が
    プログラムメモリに表の形に記憶されていることを特徴
    とする請求項１１〜１８のいずれかに記載の電子レン
    ジ。