JPH09299242A - 加熱調理器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高周波加熱で加熱ムラが少なく、さらに高周
波加熱とヒータ加熱との併用ができ、スパークの発生が
ない加熱調理器を得る。 【解決手段】 加熱室２に設けられた一対の棚７に載置
される調理皿である棚皿１７において、棚皿をガラス、
陶器、セラミックなどの耐熱性を有する高周波透過性の
素材で構成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、高周波及びヒー
タにより加熱をする加熱調理器に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に高周波加熱調理器では、加熱室に
設けた棚に、金属の素材から成り、棚に載置される調理
皿である棚皿を直接載置した状態で高周波を照射する
と、棚皿と加熱室の間にスパークが発生、特に棚皿の周
縁端面と棚との間でスパークが集中的に発生する。そこ
で、例えば実公昭６１−２４０５号公報に示されたよう
に棚皿の周縁部に端面が棚の載置面に対面しないように
折り曲げ部を形成するとともに、上記棚皿全面にホーロ
ー被膜を施したものがある。図９は、この実公昭６１−
２４０５号公報に示された高周波加熱調理器の断面図で
ある。２は加熱室、７は加熱室２両側壁に設けられた凸
部であり、後述する棚皿を載置するための棚、１０はヒ
ータ加熱調理のために加熱室２の上部に配設された上ヒ
ータ、１１は上ヒータ１０を取付けるための取付板、１
２は上ヒータ１０で発生した熱を加熱室内へ反射させる
反射板、１３は加熱室２の下部に配設され、後述する回
転台を回転させるためのモータ、１４はモータ１３の回
転軸、１５は回転軸１４に着脱自在に配置された回転
台、１８はヒータ加熱調理のために加熱室２の下部に配
設された下ヒータである。２０は加熱室２に設けられた
一対の棚７に載置される棚皿であり、周縁部に端面が棚
の載置面に対面しないように折り曲げ部を形成するとと
もに、上記棚皿全面にホーロー被膜を施したものであ
る。このような、棚皿においてはスパークが発生せずに
加熱調理することができる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記のような、従来例
のホーロー被膜を施した金属の素材から成る棚皿２０で
は、棚皿の周縁部に折り曲げ部を形成し、さらにホーロ
ー被膜を施してあるため高周波加熱調理でのスパークの
発生はないが、素材が高周波を反射する金属であるた
め、高周波による加熱調理では、図１０に示すように被
加熱物である食品２１のの表面は高周波２２により加熱
されるが食品２１に吸収され、食品２１の棚皿載置面側
２１ａに高周波２２が到達せず、加熱されにくく、ま
た、棚皿の食品載置面の反対側では高周波２２が反射し
食品２１には当たらないので加熱されにくかった。

【０００４】このように、食品の表面側と棚皿載置面側
で極端に加熱温度差、すなわち加熱ムラが発生してしま
うという欠点があった。従って、棚皿を使う調理は高周
波加熱ではなくヒータ加熱とし、高周波加熱は回転によ
り加熱ムラを防ぐ回転台１５に載置された回転皿上に載
置された食品の調理に使用する他はないという欠点もあ
った。一方、加熱むらを少なくする例としては、例えば
特開平−３０１９８９号公報に複数個の給電口を設けた
ものが開示されている。しかし、棚皿についての明確な
記載がなく、一般的に使用されるホーロー被膜を施した
金属の素材からなる棚皿とすると食品載置面は高周波が
食品に届きにくいので加熱されにくく、食品の表面側と
棚皿載置面側で加熱ムラが発生してしまうという欠点が
ある。

【０００５】この発明は、上記のような課題を解決する
ためになされたものであり、高周波加熱で加熱ムラが少
なく、さらに高周波加熱とヒータ加熱との併用ができ、
スパークの発生がない加熱調理器を得ることを目的とし
ている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この発明に係る加熱調理
器の棚皿においては、高周波を発生する高周波発振器
と、被加熱物を収容する加熱室と、前記高周波を前記加
熱室へ供給する給電口と、前記加熱室内の側面に設けた
棚に載置され、高周波透過性材で形成された調理皿とを
備える。

【０００７】また、高周波を供給する給電口を、棚に載
置された調理皿の少なくとも上方と下方に備える。

【０００８】また、調理皿を棚の下方に設けられた回転
台に載置したことものである。

【０００９】

【発明の実施の形態】

実施の形態１．図１は、この発明の実施の形態１を示す
加熱調理器の斜視図、図２は、図１で示した加熱調理器
の断面図、図３は、棚に載置して使用する調理皿である
棚皿である。図において、１は加熱調理器本体、２は加
熱室、３は加熱室２前面に開閉自在に軸支されたドア、
４は加熱調理を制御するための操作パネル、５は高周波
を加熱室２へ給電するため加熱室２側壁に設けられた給
電口、５ａは給電口５を閉塞する高周波透過性の素材か
ら成る閉塞部材、７は加熱室２両側壁を突出させて成形
した後述する棚皿を載置するための棚、８は高周波を給
電口５まで導く導波管、９は導波管８に取付けられた高
周波を発振させるマグネトロン、１０はヒータ加熱調理
のために加熱室２の上部に配設された上ヒータ、１１は
上ヒータ１０を取付けるための取付板、１２は上ヒータ
１０で発生した熱を加熱室２内へ反射させる反射板、１
３は加熱室２の下部に配設され、後述する回転台を回転
させるためのモータ、１４はモータ１３の回転軸、１５
は回転軸１４に着脱自在に配置された回転台、１７はガ
ラス、陶器、セラミック等の高周波透過性の素材で構成
され、加熱室２に設けられた一対の棚７に載置される調
理皿である棚皿、１８はヒータ加熱調理のために加熱室
２の下部に配設された下ヒータである。

【００１０】次に、加熱調理方法について説明する。ま
ず、加熱室内２の棚７上に載置され、高周波透過性の素
材で構成された棚皿１７での高周波加熱調理について説
明する。一般的に知られているように、高周波加熱調理
に使用される高周波は、食品に当たると被加熱物である
食品に含まれる水分に吸収され、水分が発熱することに
より食品が加熱され、ガラス、陶器等は透過し、金属に
当たると反射するという性質がある。高周波透過性の素
材で構成された棚皿１７（この実施の形態１では四角形
を呈している）に食品（図示せず）を載せ、加熱室２の
棚７に載置し、ドア３を閉成し、操作パネル４により所
定の高周波加熱制御指示を行うと、マグネトロン９から
高周波が発振し、高周波は導波管８を通り給電口５から
加熱室２に給電される。加熱室２に給電された高周波
は、棚皿１７に載置された食品上部に当たり吸収され、
食品上部を加熱する。食品に吸収されなかった高周波
は、棚皿１７を透過し、加熱室２の底部、側部等に反射
してふたたび棚皿１７を透過し、食品の棚載置面側、す
なわち食品の下部に当たり吸収され、食品下部を加熱す
る。所定の調理時間が経過すると調理終了となる。

【００１１】次に、高周波加熱とヒータ加熱とを併用し
た加熱調理について説明する。棚皿１７に食品を載せ、
加熱室２の棚７に載置し、ドア３を閉成し、操作パネル
４により所定の加熱制御指示を行う。このときに使用す
る棚皿１７は、セラミック等の耐熱性が良好で高周波透
過性の素材が適している。この加熱制御指示では、まず
高周波加熱を行い食品を内部から加熱し、続いて、ヒー
タ加熱を行い食品の表面にコゲ目をつける制御を行う。
または、まずヒータ加熱を行い、食品の表面にコゲ目を
つけてから高周波加熱を行い食品内部を加熱する制御が
ある。さらに高周波加熱とヒータ加熱を交互に行う加熱
制御等の加熱制御指示ができる。前記加熱制御指示は、
各種食品の調理形態により最適な加熱制御を選択的に指
示することができる。所定の調理時間が経過すると調理
終了となる。

【００１２】以上のように、従来のホーロー被膜を施し
た金属の素材から成る棚皿では、高周波が棚皿の上部か
らしか食品に当たらないので著しい加熱ムラが発生して
いたが、この実施の形態１のように棚皿１７を高周波透
過性の素材にしたことで、高周波加熱調理で食品の全面
に高周波が当たり、加熱ムラを少なくすることができ、
さらに棚皿１７と棚７との間にスパークが発生するのを
防止することができる。

【００１３】また、棚皿１７を高周波透過性で耐熱性の
良好な素材としたことで高周波加熱とヒータ加熱を併用
することができ、調理時間を短縮することができる。

【００１４】さらに高周波加熱とヒータ加熱とで調理皿
を変えることなく加熱調理することができ、調理の手間
を省くことができる。

【００１５】なお、棚皿１７の形状は、四角形に限定す
るものではなく、六角形、楕円形等加熱室２の形状や用
途に合わせて棚に載置できる形状であればよい。

【００１６】さらに、棚皿１７の少なくとも食品載置面
に非粘着性のフッ素樹脂（ＰＴＦＥ）等の表面処理を施
すことで調理による油、食品カス等のコゲつきがなく調
理後の清掃を簡単にすることができる。

【００１７】実施の形態２．実施の形態１においては、
給電口５が１個所の加熱調理器について説明したが、給
電口５が複数個ある加熱調理器について説明する。図４
はこの発明の実施の形態２を示す加熱調理器の斜視図、
図５は、図４で示した加熱調理器の断面図であり、実施
の形態１を示す図２と同等の部分は同一符合を付し説明
を省略する。

【００１８】図において、５は高周波を加熱室２へ給電
するため加熱室２側壁上部に設けられた上部給電口、６
は高周波を加熱室２へ給電するため加熱室２側壁下部に
設けられた下部給電口、５ａ、６ａはそれぞれ設けられ
た給電口５、６を閉塞する高周波透過性の素材から成る
閉塞部材である。

【００１９】次に加熱調理方法について説明する。ヒー
タの加熱は実施の形態１と同様であるので、ここでは高
周波による加熱調理方法について説明する。また、加熱
調理の手順は、実施の形態１と同様の手順であるのでこ
こでは加熱動作について説明する。上部給電口５から加
熱室２に給電された高周波は、棚皿１７に載置された食
品（図示せず）上部に当たり吸収され食品上部を加熱す
る。食品に吸収されなかった高周波は、棚皿１７を透過
し、加熱室２底部等に反射して再び棚皿１７を透過し、
食品の棚載置面側、すなわち食品の下部に当たり吸収さ
れ、食品の下部を加熱する。また、下部給電口６から加
熱室２に給電された高周波は、棚皿１７を透過し、食品
の棚載置面側、すなわち食品下部に当たり吸収され食品
下部を加熱する。食品に吸収されなかった高周波は、棚
皿１７を透過し、加熱室２上部等に反射して食品上部に
当たり吸収され、食品上部を加熱する。

【００２０】以上のように、棚皿１７を高周波透過性の
素材とし、給電口５、６を上部と下部に２個所設け、棚
皿１７を上部、及び下部給電口５、６の間に配設したの
で、棚皿１７上の食品に対する上部、下部から高周波が
当たり、加熱ムラを少なくすることができる。

【００２１】また、棚皿１７を高周波透過性で耐熱性の
良好な素材としたことで高周波加熱とヒータ加熱を併用
することができ、調理時間を短縮することができる。

【００２２】さらに高周波加熱とヒータ加熱とで調理皿
を変えることなく加熱調理することができ、調理の手間
を省くことができる。

【００２３】なお、この実施の形態２では給電口５、６
を加熱室２の側壁の上下に２個所設けた例で説明した
が、上部給電口５は加熱室２の天面に設けてもよく、ま
た、下部給電口６は、加熱室２の底面に設けてもよい、
さらに上下給電口５、６とは別に他の給電口を設けても
よい。すなわち棚皿１７は上部給電口５と下部給電口６
の間に配置されればよい。

【００２４】また、図６に示す通り棚皿１７または棚７
は複数段形成してもよく、要は上・下給電口５、６の中
間に棚皿１７が配置されれば良いものであり、さらに多
量の調理を加熱ムラが少なく行うことができる。

【００２５】実施の形態３．実施の形態１、２において
は、高周波透過性の素材から成る棚皿での高周波加熱調
理について説明したが、本実施の形態３では棚皿と回転
台１５に載置して使用される調理皿である回転皿を同時
に使用した高周波加熱調理について説明する。

【００２６】図７は、この実施の形態３の加熱調理器の
断面図であり、実施の形態１を示す図２と同等の部分は
同一符合を付し説明を省略する。図において、１６は回
転台１５に載置されれた調理皿であり、棚皿１７と同一
の材料、すなわち、ガラス、陶器、セラミック等高周波
透過性の素材で構成されたほぼ円形の回転皿である。

【００２７】次に加熱調理方法について説明する。ここ
ではヒータの加熱は実施の形態１と同様であるので高周
波による加熱調理方法について説明する。それぞれ高周
波透過性の素材から成る棚皿１７及び回転皿１６に各々
食品（図示せず）を載置し、加熱室２の棚７に棚皿１７
を、回転台１５に回転皿１６を載置し、前記実施の形態
１と同様の手順で高周波加熱調理を行う。ここで給電口
５、６が上下２個所であることで、棚皿１７に載置され
た食品は主に上部給電口５から給電された高周波が加熱
し、回転皿１６に載置された食品は主に下部給電口６か
ら給電された高周波が加熱する。各々の皿は高周波透過
性の素材で構成されているため、上部給電口５から給電
され棚皿１７に載置された食品に吸収されなかった一部
の高周波は棚皿１７を透過して、回転皿１６に載置され
た食品に当たり吸収される。また下部給電口６から給電
され回転皿１６に載置された食品に吸収されなかった一
部の高周波は棚皿１７を透過して棚皿１７に載せられた
食品に当たり吸収される。さらに回転皿１６は、モータ
１３により回転させられているので、加熱室２内の高周
波を満遍なく受け、さらに均一に加熱される。

【００２８】以上のように、棚皿１７と回転皿１６を高
周波透過性の素材とし、給電口５、６を２個所設け、さ
らに棚皿１７を前記それぞれの給電口５、６の間に配置
されるように構成したので、回転皿１６での高周波加熱
はもちろんのこと棚皿１７と回転皿１６とを同時に使用
した２段調理ができ、一度に多量の食品調理が可能とな
ると共に、上下２個の給電口５、６からの高周波を受け
るので各々の皿に載せた食品の加熱ムラを少なくするこ
とができる。

【００２９】また、棚皿１７を高周波透過性で耐熱性の
良好な素材としたことで高周波加熱とヒータ加熱を併用
することができ、調理時間を短縮することができる。

【００３０】さらに高周波加熱とヒータ加熱とで調理皿
を変えることなく加熱調理することができ、調理の手間
を省くことができる。

【００３１】なお、回転皿１６の形状も円形に限定する
ものではなく、楕円形、六角形、四角形等、回転台１５
に載置し、加熱室内２を回転できる形態であればよい。

【００３２】さらに、回転皿１６の少なくとも食品載置
面に非粘着性のフッ素樹脂（ＰＴＦＥ）等の表面処理を
施すことで調理による油、食品カス等のコゲつきがなく
調理後の清掃を簡単にすることができる。

【００３３】また、図８に示す通り棚皿１７または棚７
を複数段形成してもよく、要は上、下給電口５、６の間
に棚皿１７が配置されれば良いものであり、さらに多量
の調理を加熱ムラを少なく行うことができる。

【００３４】

【発明の効果】この発明は、以上説明したように構成さ
れているので、以下に示すような効果を奏する。

【００３５】高周波を発生する高周波発振器と、被加熱
物を収容する加熱室と、前記高周波を前記加熱室へ供給
する給電口と、前記加熱室内の側面に設けた棚に載置さ
れ、高周波透過性材で形成された調理皿とを備えたの
で、被加熱物の全面に高周波が当たり、加熱ムラを少な
くすることができ、さらに棚皿と棚に載置した調理皿と
の間にスパークが発生するのを防止することができる。

【００３６】また、高周波を供給する給電口を、棚に載
置された調理皿の少なくとも上方と下方に備えたので、
さらに多量の調理を加熱ムラが少なく行うことができ
る。

【００３７】また、調理皿を棚の下方に設けられた回転
台に載置したので、被加熱物の加熱ムラを少なくするこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の実施の形態１を示す加熱調理器の
斜視図である。

【図２】 図１に示した加熱調理器の断面図である。

【図３】 図２に示した加熱調理器の調理用棚皿の斜視
図である。

【図４】 この発明の実施の形態２を示す加熱調理器の
斜視図である。

【図５】 図４に示した加熱調理器の断面図である。

【図６】 この発明の実施の形態２において棚を２段形
成した場合の加熱調理器の断面図である。

【図７】 この発明の実施の形態３を示す加熱調理器の
断面図である。

【図８】 この発明の実施の形態３において棚を２段形
成した場合の加熱調理器の断面図である。

【図９】 従来の加熱調理器の断面図である。

【符号の説明】 １ 加熱調理器本体、２ 加熱室、３ ドア、４ 操作
パネル、５ 上部給電口、６ 下部給電口、７ 棚、８
導波管、９ マグネトロン、１０ 上ヒータ、１１
上ヒータ取付板、１２ 上ヒータ反射板、１３ モー
タ、１４ 回転軸、１５ 回転台、１６ 回転皿、１７
棚皿、１８ 下ヒータ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮前 哲也 埼玉県大里郡花園町大字小前田1728番地１ 三菱電機ホーム機器株式会社内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 高周波を発生する高周波発振器と、被加
   熱物を収容する加熱室と、前記高周波を前記加熱室へ供
   給する給電口と、前記加熱室内の側面に設けた棚に載置
   され、高周波透過性材で形成された調理皿とを備えたこ
   とを特徴とする加熱調理器。
2. 【請求項２】 高周波を供給する給電口を、棚に載置さ
   れた調理皿の少なくとも上方と下方に備えたことを特徴
   とする請求項１記載の加熱調理器。
3. 【請求項３】 調理皿を棚の下方に設けられた回転台に
   載置したことを特徴とする請求項１または請求項２記載
   の加熱調理器。