JPH08176408A - 導電性樹脂ペースト - Google Patents

導電性樹脂ペースト

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JPH08176408A
JPH08176408A JP32005194A JP32005194A JPH08176408A JP H08176408 A JPH08176408 A JP H08176408A JP 32005194 A JP32005194 A JP 32005194A JP 32005194 A JP32005194 A JP 32005194A JP H08176408 A JPH08176408 A JP H08176408A
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竜一 村山
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 銀粉、常温で液状のエポキシ樹脂、ビフェノ
ール誘導体、2−イミダゾールとビニルトリアジンの付
加物を必須成分とし、全導電性樹脂ペースト中に銀粉を
60〜85重量%、ビフェノール誘導体を0.5〜5重
量%、2−メチルイミダゾールとビニルトリアジンの付
加物を0.5〜3.0重量%含む導電性樹脂ペースト。 【効果】 ディスペンス時の塗布作業性に優れている。
イオン性の不純物が少ない。硬化性が良好なため200
℃以下で、30秒以下での硬化が可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はIC、LSI等の半導体
素子を金属フレーム等に接着する導電性樹脂ペーストに
関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造工程における半導体素子の接
着、いわゆるダイボンド工程において生産性の向上を目
的としダイボンダー、ワイヤーボンダー等を同一ライン
上に配置したインライン硬化方式が採用され、今後益々
増加する傾向にある。インライン硬化方式では、従来か
ら行われてきたバッチ方式による導電性樹脂ペーストの
硬化に比較し、硬化に要する時間は著しく制限される。
例えば、オーブン硬化方式の場合には、150〜200
℃、60〜90分間で硬化を行っていたが、インライン
硬化方式の場合には15〜90秒間での硬化が要求され
ている。更に、チップサイズが大きく、銅フレームを用
いる半導体製品のインライン硬化に際して、チップと銅
フレームの熱膨張係数の差に基づく、チップの反り量の
最小限化及びフレームの酸化防止のためにも低温硬化が
求められ、又硬化時間に関してもより短時間での硬化が
要求されている。
【0003】従来より用いられてきたポリイミド系の導
電性ペーストの場合、N−メチル−2−ピロリドン、ジ
メチルホルムアミド等の高沸点溶媒を使用しているため
90秒以下の短時間での硬化は難しく、短時間で硬化を
行うには硬化温度を250℃以上にしなければならない
ため、硬化中に多量のボイドが発生し接着力の低下、導
電性、熱伝導性の悪化等半導体製品の特性の低下につな
がっていた。一方、現在主流のエポキシ系の導電性ペー
ストの場合には、例えばアミン系硬化剤等を用いること
により60秒程度での硬化は可能であるが、15〜30
秒といった超短時間硬化への対応はなされていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、200℃以
下で30秒以下の硬化条件でも硬化可能で、かつナトリ
ウム、塩素等のイオン性不純物の少ない高信頼性の導電
性樹脂ペーストを提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、(A)銀粉、
(B)常温で液状のエポキシ樹脂、(C)下記式(1)
で示されるビフェノール誘導体、(D)下記式(2)で
示されるイミダゾール誘導体を必須成分とする導電性樹
脂ペーストであって、かつ全導電性樹脂ペースト中に銀
粉(A)を60〜85重量%、式(1)で示されるビフ
ェノール誘導体(C)を0.5〜5重量%、式(2)で
示されるイミダゾール誘導体(D)を0.5〜3.0重
量%含む導電性樹脂ペーストであり、塗布作業性が良好
で、かつ式(1)で示されるビフェノール誘導体及び式
(2)で示されるイミダゾール誘導体を併用することに
より、200℃以下で30秒以下の硬化が可能になると
共に、高温での接着性、応力緩和特性、低吸水性に優
れ、かつ十分なポットライフを有するものである。
【0006】
【化3】 (Rは、H、又はCH3で、同一でも異なってもよい)
【0007】
【化4】 (R1=CH3、C25、C1123、又はフェニル、
2、R3=H、CH3、又はC25
【0008】本発明に用いる銀粉は用いる分野が電子電
気分野のためハロゲンイオン、アルカリ金属イオン等の
イオン性不純物量が10ppm以下であることが望まし
い。又、形状としてはフレーク状、樹枝状あるいは球状
のものを単独あるいは混合して用いることができる。更
に粒径に関しては、通常平均粒径が2〜10μm、最大
粒径は50μm程度のものが好ましく、比較的細かい銀
粉と粗い銀粉を混合して用いてもよい。全導電性樹脂ペ
ースト中の銀粉量が60重量%未満だと、硬化物の電気
伝導性が低下し、85重量%を越えると樹脂ペーストの
粘度が高くなり過ぎ塗布作業性の低下の原因となるので
好ましくない。
【0009】本発明に用いるエポキシ樹脂は、常温で液
状のものであり、常温で液状のものでないと銀粉との混
練において溶剤を必要とする。溶剤は気泡の原因となり
硬化物の接着強度、熱伝導率を低下させてしまうので好
ましくない。常温で液状のエポキシ樹脂とは、例えば常
温で固形のものでも常温で液状のエポキシ樹脂と混合す
ることで常温で安定して液状を示すものを含む。本発明
に用いるエポキシ樹脂としては、ビスフェノールA、ビ
スフェノールF、フェノールノボラック樹脂、クレゾー
ル型ノボラック樹脂等とエピクロルヒドリンとの反応に
より得られるポリグリシジルエーテル、1、6ージヒド
ロキシナフタレンジグリシジルエーテル、ブタンジオー
ルジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグ
リシジルエーテル等の脂肪族エポキシ、ジグリシジルヒ
ダントイン等の複素環式エポキシ、ビニルシクロヘキセ
ンジオキサイド、ジシクロペンタジエンジオキサイド、
アリサイクリックジエポキシーアジペイト等の脂環式エ
ポキシ、更にはn−ブチルグリシジルエーテル、バーサ
ティック酸グリシジルエステル、スチレンオキサイド、
エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、ブチルフェ
ニルグリシジルエーテル等の通常のエポキシ樹脂の希釈
剤として用いられるものがあり、これらは単独でも混合
して用いても差し支えない。
【0010】本発明で用いる式(1)のビフェノール誘
導体は、融点が高く、又通常のエポキシ樹脂には常温で
溶解しないので、導電性樹脂ペースト中に粉末にして分
散させるため保存性に優れている。又ビフェニル骨格は
内部回転のエネルギーが比較的小さいため得られた硬化
物は強靭であり、更に硬化物の自由体積が小さくなるの
で低吸水化が図れる。式(1)のRは、H、又はCH3
で、同一でも異なってもよいが、好ましいのは、全ての
Rが、CH3又はHである。式(1)のビフェノール誘
導体は、全導電性樹脂ペースト中に0.5〜5重量%、
好ましくは1〜3重量%含まれる。0.5重量%未満だ
と、目的とする強靭性、低吸水性が発現されず、5重量
%を越えると導電性樹脂ペーストの粘度が高くなり過ぎ
実用的でない。
【0011】本発明の式(2)のイミダゾール誘導体
は、式(1)のビフェノール誘導体単独では硬化性が悪
く、インライン硬化対応材としての速硬化性を有してい
ないため併用するものである。又式(2)以外の通常の
イミダゾール類を用いた場合、反応性は良好となるが、
反面保存性が悪くなり実用性に乏しい。本発明のイミダ
ゾール類とビニルトリアジンとの付加物を使用すること
により反応性と保存性を両立することが可能となった。
式(2)で示されるイミダゾール誘導体は、全導電性樹
脂ペースト中に0.5〜3.0重量%含まれる。0.5
重量%未満だと十分な硬化性が発現されず、3.0重量
%を越えるとイミダゾール類を用いた硬化物の欠点であ
る高温での接着力が低下するので好ましくない。式
(2)のR1は、CH3、C25、C1123、又はフェニ
ル、R2、R3=H、CH3、又はC25であるが、好ま
しいのは、R1がCH3で、R2とR3はHである。即ち、
2−メチルイミダゾールとビニルトリアジンの付加物で
ある。
【0012】又必要に応じ、潜在性アミン硬化剤等の他
の硬化剤と併用してもよい。併用するものとして、例え
ば第3級アミン、他のイミダゾール類、トリフェニルホ
スフィン、テトラフェニルホスフィン・テトラフェニル
ボレート、1,8−ジアザビシクロウンデセン等の一般
にエポキシ樹脂とフェノール系硬化剤との硬化促進剤が
挙げられる。本発明においては、必要に応じ可撓性付与
剤、消泡剤、カップリング剤等を用てもよい。本発明の
製造方法は例えば各成分を予備混合した後、3本ロール
を用いて混練し、混練後真空下脱泡し樹脂ペーストを得
るなどがある。
【0013】以下実施例を用いて本発明を具体的に説明
する。配合割合は重量部で示す。 実施例1〜5 粒径1〜30μmで平均粒径3μmのフレーク状銀粉
と、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンとの反応に
より得られるジグリシジルビスフェノールA(エポキシ
当量180、常温で液体、以下ビスAエポキシ)、クレ
ジルグリシジルエーテル(エポキシ当量185)、3,
3’,5,5’−テトラメチルビフェノール(本州化学
工業(株)・製、以下ビフェノールA)、2−メチルイ
ミダゾールアジン(2−メチルイミダゾールとビニルト
リアジンの付加物)(四国化成工業(株)・製2MZ−
A、以下2MZ−A)、ジシアンジアミド、1,8−ジ
アザビシクロウンデセンを表1に示す割合で配合し、3
本ロールで混練して導電性樹脂ペーストを得た。この導
電性樹脂ペーストを真空チャンバーにて2mmHgで3
0分間脱泡した後、以下の方法により各種性能を評価し
た。
【0014】ゲルタイム :導電性樹脂ペースト1cc
を170℃の熱板上に置きスパチュラでかきまぜ導電性
樹脂ペーストが流動性を示さなくなるまでの時間を測
定。 粘度 :E型粘度計(3°コーン)を用い、25
℃、2.5rpmでの値を測定し粘度とした。又、25
℃で3日間放置後の粘度を測定。 糸引き性 :導電性樹脂ペーストの中へ直径1mmφ
のピンを深さ5mmまで入れ、ピンを300mm/分の
速度で引き上げ、ペーストが切れたときの高さを測定。 体積抵抗率 :スライドガラス上に導電性樹脂ペースト
を幅4mm、厚さ30μmに塗布し、200℃のホット
プレート上で30秒間硬化した後、硬化物の体積抵抗率
を測定。 弾性率 :テフロンシート上に導電性樹脂ペースト
を10×150×0.1mmになるように塗布し、15
0℃のオーブン中で30分間硬化した後引張り試験機に
て試験長100mm、試験速度1mm/分で加重−変位
曲線を測定し、その初期勾配より弾性率を算出。
【0015】吸水率 :テフロンシート上に導電性
樹脂ペーストを50×50×0.1mmになるように塗
布し、150℃のオーブン中で30分間硬化した後、8
5℃、85%、72時間吸水処理を行い、処理前後の重
量変化より吸水率を算出。 チップの反り:6×15×0.3mmシリコンチップを
銅フレーム(厚さ200μm)に導電性樹脂ペーストで
マウントし、200℃、30秒硬化した後、チップの反
りを表面粗さ計(測定長13mm)で測定。 接着強度 :5×5mmのシリコンチップを導電性樹
脂ペーストを用いて銅フレームにマウントし200℃の
ホットプレート上で、30秒間硬化した。硬化後プッシ
ュプルゲージを用い240℃での熱時ダイシェア強度を
測定。 不純物 :硬化、粉砕した導電性樹脂ペースト2g
及び純水40mlを125℃、20時間抽出して、得ら
れた抽出液のナトリウムおよび塩素イオン濃度をイオン
クロマトグラフィーにて測定。
【0016】実施例6 硬化剤としてp,p’−ビフェノール(本州化学工業
(株)・製、以下ビフェノールB)を使用した他は、実
施例1〜5と同様にして導電性樹脂ペーストを作製し評
価した。評価結果を表1に示す。 比較例1〜6 表2に示す配合割合で実施例と全く同様にして導電性樹
脂ペーストを作製した。なお比較例5では、硬化剤とし
てフェノールノボラック樹脂(水酸基当量104、軟化
点85℃)を用いた。又比較例6では使用する硬化剤と
して2−メチルイミダゾール(四国化成工業(株)・
製、2MZ、以下2MZ)を用いた。評価結果を表2に
示す。
【0017】
【表1】
【0018】
【表2】
【0019】
【発明の効果】本発明の導電性樹脂ペーストは、ディス
ペンス塗布時の作業性が良好で、又ナトリウム、塩素な
どのイオン性不純物が少なく銅、42合金等の金属フレ
ーム、セラミック基板、ガラスエポキシ等の有機基板へ
のIC,LSI等の半導体素子の接着に用いることがで
きる。特に硬化性が良好なため、200℃以下、30秒
以下で硬化が可能であり、従来になかった高信頼性の半
導体素子接着用の導電性樹脂ペーストである。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09J 9/02

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)銀粉、(B)常温で液状のエポキ
    シ樹脂、(C)下記式(1)で示されるビフェノール誘
    導体、(D)下記式(2)で示されるイミダゾール誘導
    体を必須成分とする導電性樹脂ペーストであって、かつ
    全導電性樹脂ペースト中に銀粉(A)を60〜85重量
    %、式(1)で示されるビフェノール誘導体(C)を
    0.5〜5重量%、式(2)で示されるイミダゾール誘
    導体(D)を0.5〜3.0重量%含むことを特徴とす
    る導電性樹脂ペースト。 【化1】 (Rは、H、又はCH3で、同一でも異なってもよい) 【化2】 (R1=CH3、C25、C1123、又はフェニル、
    2、R3=H、CH3、又はC25
  2. 【請求項2】 イミダゾール誘導体が、2−メチルイミ
    ダゾールとビニルトリアジンの付加物である請求項1記
    載の導電性樹脂ペースト。
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