JPH08184775A - 走査光学装置 - Google Patents
走査光学装置Info
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- JPH08184775A JPH08184775A JP33818394A JP33818394A JPH08184775A JP H08184775 A JPH08184775 A JP H08184775A JP 33818394 A JP33818394 A JP 33818394A JP 33818394 A JP33818394 A JP 33818394A JP H08184775 A JPH08184775 A JP H08184775A
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- optical
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光学箱内に塵埃が侵入することを防止する。
【構成】 光学箱21の周壁21aの上面に、カバー3
2を載置する載置面32bを内側に設けると共に、カバ
ー32の外周面を囲む囲壁21c、21dを外側に設け
る。方向Bに流れる風の風上側の囲壁21cの高さをカ
バー32の表面よりも高くし、風下側の囲壁の高さをカ
バー32の表面よりも低くする。カバー32の風上側及
び風下側でラビリンス効果による圧力低下が発生し、空
気や塵埃が光学箱21内に侵入することが少なくなる。
2を載置する載置面32bを内側に設けると共に、カバ
ー32の外周面を囲む囲壁21c、21dを外側に設け
る。方向Bに流れる風の風上側の囲壁21cの高さをカ
バー32の表面よりも高くし、風下側の囲壁の高さをカ
バー32の表面よりも低くする。カバー32の風上側及
び風下側でラビリンス効果による圧力低下が発生し、空
気や塵埃が光学箱21内に侵入することが少なくなる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザービームプリン
タやレーザーファクシミリ等に使用され、レーザー光束
を偏向して所定面に集光するための走査光学装置に関す
るものである。
タやレーザーファクシミリ等に使用され、レーザー光束
を偏向して所定面に集光するための走査光学装置に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の走査光学装置では、例え
ば図5の概略斜視図に示すように、レーザー光源1から
の光束の進行方向にコリメータレンズ2、開口絞り3、
シリンドリカルレンズ4、ポリゴンミラー5が順次に配
置され、ポリゴンミラー5がモータ6に取り付けられて
回転駆動されることにより、ポリゴンミラー5に入射し
た光束が偏向走査されようになっている。ポリゴンミラ
ー5により偏向された光束の進行方向にはfθレンズ
7、トーリックレンズ8、感光体ドラム9が順次に配置
され、光束は感光体ドラム9に集光されると共に、方向
Aへ繰り返して走査されるようになっている。光束の一
方の走査端には固定ミラー10が配置され、かつ固定ミ
ラー10の反射方向には集光レンズ11を介してタイミ
ング検知用のセンサ12が配置されている。そして、こ
のように配置された光学系のうち、感光ドラム9を除く
光学系は図示しない光学箱に内蔵されている。
ば図5の概略斜視図に示すように、レーザー光源1から
の光束の進行方向にコリメータレンズ2、開口絞り3、
シリンドリカルレンズ4、ポリゴンミラー5が順次に配
置され、ポリゴンミラー5がモータ6に取り付けられて
回転駆動されることにより、ポリゴンミラー5に入射し
た光束が偏向走査されようになっている。ポリゴンミラ
ー5により偏向された光束の進行方向にはfθレンズ
7、トーリックレンズ8、感光体ドラム9が順次に配置
され、光束は感光体ドラム9に集光されると共に、方向
Aへ繰り返して走査されるようになっている。光束の一
方の走査端には固定ミラー10が配置され、かつ固定ミ
ラー10の反射方向には集光レンズ11を介してタイミ
ング検知用のセンサ12が配置されている。そして、こ
のように配置された光学系のうち、感光ドラム9を除く
光学系は図示しない光学箱に内蔵されている。
【0003】このように構成された従来例では、レーザ
ー光源1から射出された光束は、コリメータレンズ2に
より平行光束とされ、開口絞り3によりその絞りに応じ
た形状とされた後に、シリンドリカルレンズ4によりポ
リゴンミラー5のミラー面に集光される。ポリゴンミラ
ー5に集光された光束は、モータ6により偏向走査さ
れ、fθレンズ7及びトーリックレンズ8により感光体
ドラム9上に微小なスポット像として集光される。この
とき、ポリゴンミラー5により偏向された光束はfθレ
ンズ7により方向Aへ等速度で繰り返し走査されるが、
ポリゴンミラー5のミラー面に分割誤差が存在する場合
には、走査されるタイミングが外れてしまうため、セン
サ12により光束の先頭部が検出され、このタイミング
に合わせて光束が変調される。
ー光源1から射出された光束は、コリメータレンズ2に
より平行光束とされ、開口絞り3によりその絞りに応じ
た形状とされた後に、シリンドリカルレンズ4によりポ
リゴンミラー5のミラー面に集光される。ポリゴンミラ
ー5に集光された光束は、モータ6により偏向走査さ
れ、fθレンズ7及びトーリックレンズ8により感光体
ドラム9上に微小なスポット像として集光される。この
とき、ポリゴンミラー5により偏向された光束はfθレ
ンズ7により方向Aへ等速度で繰り返し走査されるが、
ポリゴンミラー5のミラー面に分割誤差が存在する場合
には、走査されるタイミングが外れてしまうため、セン
サ12により光束の先頭部が検出され、このタイミング
に合わせて光束が変調される。
【0004】近年、高速かつ高精度で作動する走査光学
装置が強く要求され、ポリゴンミラー5が高速で回転す
るようにされている。このため、ポリゴンミラー5が高
速で回転することにより、空気中の塵埃がミラー面に付
着することが多くなってミラー面の反射率が低下し、感
光ドラム9に形成された像の濃度が低下して画質が悪く
なるという問題点がある。
装置が強く要求され、ポリゴンミラー5が高速で回転す
るようにされている。このため、ポリゴンミラー5が高
速で回転することにより、空気中の塵埃がミラー面に付
着することが多くなってミラー面の反射率が低下し、感
光ドラム9に形成された像の濃度が低下して画質が悪く
なるという問題点がある。
【0005】このような問題点に対処するため、光学系
が内蔵された光学箱には図示しないカバーが被せられ、
空気中の塵埃等が光学箱の内部に侵入することが防止さ
れている。このカバーはポリプロピレン等の柔軟性を有
する合成樹脂材により形成され、スナップフィットによ
り光学箱に固定されるようになっている。
が内蔵された光学箱には図示しないカバーが被せられ、
空気中の塵埃等が光学箱の内部に侵入することが防止さ
れている。このカバーはポリプロピレン等の柔軟性を有
する合成樹脂材により形成され、スナップフィットによ
り光学箱に固定されるようになっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述した
従来例では、カバーが柔軟性を有する合成樹脂材により
形成されているため、たとえスナップフィットにより光
学箱に固定されても、光学箱とカバーの間に隙間が発生
し、空気中の塵埃が光学箱の内部に侵入して光学系に付
着し、光学系の透過率や反射率が低下して像の濃度が低
下し、画質が悪くなるという問題点がある。
従来例では、カバーが柔軟性を有する合成樹脂材により
形成されているため、たとえスナップフィットにより光
学箱に固定されても、光学箱とカバーの間に隙間が発生
し、空気中の塵埃が光学箱の内部に侵入して光学系に付
着し、光学系の透過率や反射率が低下して像の濃度が低
下し、画質が悪くなるという問題点がある。
【0007】本発明の目的は、上述した問題点を解消
し、塵埃が光学箱の内部に侵入することを防止して、画
質を向上することができる走査光学装置を提供すること
にある。
し、塵埃が光学箱の内部に侵入することを防止して、画
質を向上することができる走査光学装置を提供すること
にある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の第1発明に係る走査光学装置は、光束を偏向して所定
面に集光する光学系を内蔵する光学箱と、該光学箱の開
口部を覆うカバーとを備えた走査光学装置において、前
記光学箱の周壁の上面には前記カバーを載置する載置面
を内側に設けると共に、前記カバーの外周面を囲む囲壁
を外側に設け、前記カバーは前記囲壁の内側に嵌合した
ことを特徴とする。
の第1発明に係る走査光学装置は、光束を偏向して所定
面に集光する光学系を内蔵する光学箱と、該光学箱の開
口部を覆うカバーとを備えた走査光学装置において、前
記光学箱の周壁の上面には前記カバーを載置する載置面
を内側に設けると共に、前記カバーの外周面を囲む囲壁
を外側に設け、前記カバーは前記囲壁の内側に嵌合した
ことを特徴とする。
【0009】また、第2発明に係る走査光学装置は、光
束を偏向して所定面に集光する光学系を内蔵する光学箱
と、該光学箱の開口部を覆うカバーと、前記光学箱に風
を当てる送風機とを備えた走査光学装置において、前記
光学箱の周壁の上面には前記カバーを載置する載置面を
内側に設けると共に、前記カバーの外周面を囲む囲壁を
外側に設け、該囲壁の高さを前記カバーの表面よりも、
風上側で高く及び/又は風下側で低くしたことを特徴と
する。
束を偏向して所定面に集光する光学系を内蔵する光学箱
と、該光学箱の開口部を覆うカバーと、前記光学箱に風
を当てる送風機とを備えた走査光学装置において、前記
光学箱の周壁の上面には前記カバーを載置する載置面を
内側に設けると共に、前記カバーの外周面を囲む囲壁を
外側に設け、該囲壁の高さを前記カバーの表面よりも、
風上側で高く及び/又は風下側で低くしたことを特徴と
する。
【0010】
【作用】上述の構成を有する第1発明に係る走査光学装
置では、光学箱の上面にはカバーを載置する載置面を内
側に設けると共に、カバーの外周面を囲む囲壁を外側に
設け、カバーを囲壁の内側に嵌合して載置面に載置した
ので、カバーの外周面が囲壁の内周面に密着すると共
に、その密着力によりカバーの下面が載置面に密接し、
塵埃が光学箱の内部に侵入し難くなる。
置では、光学箱の上面にはカバーを載置する載置面を内
側に設けると共に、カバーの外周面を囲む囲壁を外側に
設け、カバーを囲壁の内側に嵌合して載置面に載置した
ので、カバーの外周面が囲壁の内周面に密着すると共
に、その密着力によりカバーの下面が載置面に密接し、
塵埃が光学箱の内部に侵入し難くなる。
【0011】また、第2発明に係る走査光学装置では、
光学箱の上面にはカバーを載置する載置面を内側に設け
ると共に、カバーの外周面を囲む囲壁を外側に設け、カ
バーを囲壁の内側の載置面に載置したので、囲壁の高さ
をカバーの表面よりも、風上側で高くした場合には囲壁
の内周面の背後で圧力降下が発生し、風下側で低くした
場合にはカバーの外周面の背後で圧力降下が発生して、
塵埃が光学箱の内部に侵入し難くなる。
光学箱の上面にはカバーを載置する載置面を内側に設け
ると共に、カバーの外周面を囲む囲壁を外側に設け、カ
バーを囲壁の内側の載置面に載置したので、囲壁の高さ
をカバーの表面よりも、風上側で高くした場合には囲壁
の内周面の背後で圧力降下が発生し、風下側で低くした
場合にはカバーの外周面の背後で圧力降下が発生して、
塵埃が光学箱の内部に侵入し難くなる。
【0012】
【実施例】本発明を図1〜図4に図示の実施例に基づい
て詳細に説明する。図1は実施例の斜視図であり、光学
箱21には電源ユニット22を構成する半導体レーザー
23及びコリメータレンズ24が取り付けられ、この半
導体レーザー23から出射されたレーザー光束Lの進行
方向には、シリンドリカルレンズ25及びポリゴンミラ
ー26が順次に配置されている。ポリゴンミラー26は
図示しないモータに取り付けられ、このモータの駆動力
によってレーザー光束Lが偏向走査されるようになって
いる。
て詳細に説明する。図1は実施例の斜視図であり、光学
箱21には電源ユニット22を構成する半導体レーザー
23及びコリメータレンズ24が取り付けられ、この半
導体レーザー23から出射されたレーザー光束Lの進行
方向には、シリンドリカルレンズ25及びポリゴンミラ
ー26が順次に配置されている。ポリゴンミラー26は
図示しないモータに取り付けられ、このモータの駆動力
によってレーザー光束Lが偏向走査されるようになって
いる。
【0013】ポリゴンミラー26により偏向走査された
レーザー光束Lの進行方向には、結像レンズ27及び折
返しミラー28が順次に配置され、折返しミラー28に
より反射されたレーザー光束Lの進行方向にはカバーガ
ラス29が配置されており、このカバーガラス29によ
り、光学箱21の一部の開口部が密閉されている。ポリ
ゴンミラー5により偏向されたレーザー光束Lの一走査
端には固定ミラー30が配置され、この固定ミラー30
により反射されたレーザー光束Lの進行方向にはタイミ
ング検出用のセンサ31が配置されている。
レーザー光束Lの進行方向には、結像レンズ27及び折
返しミラー28が順次に配置され、折返しミラー28に
より反射されたレーザー光束Lの進行方向にはカバーガ
ラス29が配置されており、このカバーガラス29によ
り、光学箱21の一部の開口部が密閉されている。ポリ
ゴンミラー5により偏向されたレーザー光束Lの一走査
端には固定ミラー30が配置され、この固定ミラー30
により反射されたレーザー光束Lの進行方向にはタイミ
ング検出用のセンサ31が配置されている。
【0014】これらの光学系は光学箱21の内部に配置
され、光学箱21の上部開口にはカバー32が被せられ
ている。また、カバー32が被せられた光学箱21の外
部には、図示しない送風機が設置され、光学箱21に内
蔵されたモータが冷却されるようになっている。
され、光学箱21の上部開口にはカバー32が被せられ
ている。また、カバー32が被せられた光学箱21の外
部には、図示しない送風機が設置され、光学箱21に内
蔵されたモータが冷却されるようになっている。
【0015】ここで、図2及び図3の部分拡大断面図に
示すように、送風機により風が光学箱21に対して方向
Bへ流されるようになっている。光学箱21の周壁21
aの上面の内側には、カバー32の周縁下部を載置する
ための載置面21bが設けられている。また、周壁21
aの上面の外側には、カバー32の周面を囲むための風
上側の囲壁21cと、風下側の囲壁21dとが設けられ
れている。カバー32は、塩化ビニル等の合成樹脂材や
金属材等により形成され、その大きさは囲壁21c、2
1dの内側に嵌合されるか、又は囲壁21c、21dと
の間に若干の隙間dを有するものとされている。載置面
21bは同一平面に形成され、載置されたカバー32が
載置面21bに平面状に接合するようにされている。そ
して、カバー32は載置面21bに載置された後に、例
えばスナップフィットやねじにより固定されている。
示すように、送風機により風が光学箱21に対して方向
Bへ流されるようになっている。光学箱21の周壁21
aの上面の内側には、カバー32の周縁下部を載置する
ための載置面21bが設けられている。また、周壁21
aの上面の外側には、カバー32の周面を囲むための風
上側の囲壁21cと、風下側の囲壁21dとが設けられ
れている。カバー32は、塩化ビニル等の合成樹脂材や
金属材等により形成され、その大きさは囲壁21c、2
1dの内側に嵌合されるか、又は囲壁21c、21dと
の間に若干の隙間dを有するものとされている。載置面
21bは同一平面に形成され、載置されたカバー32が
載置面21bに平面状に接合するようにされている。そ
して、カバー32は載置面21bに載置された後に、例
えばスナップフィットやねじにより固定されている。
【0016】更に、囲壁21c、21dのそれぞれの高
さはカバー32の表面に対して、風上側及び風下側の双
方で同等かそれよりも高くされるか、又は風上側のみが
高くされるか、又は風下側のみが低くされている。これ
により、風上側の囲壁21cの背後及び風下側のカバー
32の背後において、所謂ラビリンス効果による圧力降
下が発生し、風のエネルギが弱められることになる。
さはカバー32の表面に対して、風上側及び風下側の双
方で同等かそれよりも高くされるか、又は風上側のみが
高くされるか、又は風下側のみが低くされている。これ
により、風上側の囲壁21cの背後及び風下側のカバー
32の背後において、所謂ラビリンス効果による圧力降
下が発生し、風のエネルギが弱められることになる。
【0017】なお、図4の部分拡大断面図に示すよう
に、風上側の囲壁21eの高さをカバー32の表面をよ
りも低くすると、風が方向bに流れて空気が光学箱21
の載置面21bとカバー32の下面との間から光学箱2
1内に流入し易くなる。従って、風上側の囲壁21cの
高さはカバー32の表面よりも高くし、かつ風下側の囲
壁21dの高さをカバー32の表面よりも低くする方が
最も有効になる。
に、風上側の囲壁21eの高さをカバー32の表面をよ
りも低くすると、風が方向bに流れて空気が光学箱21
の載置面21bとカバー32の下面との間から光学箱2
1内に流入し易くなる。従って、風上側の囲壁21cの
高さはカバー32の表面よりも高くし、かつ風下側の囲
壁21dの高さをカバー32の表面よりも低くする方が
最も有効になる。
【0018】本実施例に係る走査光学装置は上述したよ
うに構成されているので、光学箱21は送風機により冷
却されながら作動し、電源ユニット22の半導体レーザ
ー23から出射されたレーザー光束Lは、コリメータレ
ンズ24により平行光束とされ、シリンドリカルレンズ
25によりポリゴンミラー26に線状に集光される。ポ
リゴンミラー26に集光されたレーザー光束Lは、モー
タにより回転駆動されるポリゴンミラー26により偏向
走査され、結像レンズ27により等速度で走査される光
束とされ、折り返しミラー28により反射され、カバー
ガラス29を透過して回転ドラム上にスポット像として
集光される。
うに構成されているので、光学箱21は送風機により冷
却されながら作動し、電源ユニット22の半導体レーザ
ー23から出射されたレーザー光束Lは、コリメータレ
ンズ24により平行光束とされ、シリンドリカルレンズ
25によりポリゴンミラー26に線状に集光される。ポ
リゴンミラー26に集光されたレーザー光束Lは、モー
タにより回転駆動されるポリゴンミラー26により偏向
走査され、結像レンズ27により等速度で走査される光
束とされ、折り返しミラー28により反射され、カバー
ガラス29を透過して回転ドラム上にスポット像として
集光される。
【0019】このとき、回転ドラム上に集光されるレー
ザー光束Lにより、ポリゴンミラー26の回転による主
走査と、回転ドラムの回転による副走査とによって静電
潜像が形成される。また、ポリゴンミラー26により偏
向されたレーザー光束Lの一部は、固定ミラー30によ
り反射され、センサ31により走査開始信号が半導体レ
ーザー23に送信される。この信号によりタイミングが
合わされて半導体レーザー23の書き込み変調が開始さ
れる。
ザー光束Lにより、ポリゴンミラー26の回転による主
走査と、回転ドラムの回転による副走査とによって静電
潜像が形成される。また、ポリゴンミラー26により偏
向されたレーザー光束Lの一部は、固定ミラー30によ
り反射され、センサ31により走査開始信号が半導体レ
ーザー23に送信される。この信号によりタイミングが
合わされて半導体レーザー23の書き込み変調が開始さ
れる。
【0020】このように、レーザー光束Lが偏向走査さ
れる間に、送風機により風が方向Bに流され、光学箱2
1が冷却される。このとき、風上側の囲壁21cの背後
と風下側のカバー32の背後にラビリンス効果による圧
力降下が発生し、そこでの風のエネルギが失われて、隙
間dから光学箱21の内部に入り込もうとする空気の力
が弱くなる。
れる間に、送風機により風が方向Bに流され、光学箱2
1が冷却される。このとき、風上側の囲壁21cの背後
と風下側のカバー32の背後にラビリンス効果による圧
力降下が発生し、そこでの風のエネルギが失われて、隙
間dから光学箱21の内部に入り込もうとする空気の力
が弱くなる。
【0021】このように実施例では、カバー32を囲壁
21c、21dの内側に嵌合した場合には、カバー32
の外周面が囲壁21c、21dの内周面に密着するた
め、その密着力によりカバー32の周縁下面を載置面2
1bに密着させることができる。また、載置面21bを
同一平面を形成するように設けたため、カバー32が載
置面21bに平面状に当接させることができて、カバー
32と載置面21bの密着度を向上させることができ
る。カバー32を金属板により形成した場合には、平面
度が向上すると共に高温時の変形による影響が少なくな
るため、カバー32と載置面21bの密着度を更に向上
させることができる。更に、囲壁21c、21dの高さ
をカバー32よりも高くした場合には、カバー32と囲
壁21c、21dの密着度を安定させることができる。
21c、21dの内側に嵌合した場合には、カバー32
の外周面が囲壁21c、21dの内周面に密着するた
め、その密着力によりカバー32の周縁下面を載置面2
1bに密着させることができる。また、載置面21bを
同一平面を形成するように設けたため、カバー32が載
置面21bに平面状に当接させることができて、カバー
32と載置面21bの密着度を向上させることができ
る。カバー32を金属板により形成した場合には、平面
度が向上すると共に高温時の変形による影響が少なくな
るため、カバー32と載置面21bの密着度を更に向上
させることができる。更に、囲壁21c、21dの高さ
をカバー32よりも高くした場合には、カバー32と囲
壁21c、21dの密着度を安定させることができる。
【0022】そして、風上側の囲壁21cの高さをカバ
ー32の表面よりも高くした場合には、囲壁21cの背
後に圧力降下が発生し、風下側の囲壁21dの高さをカ
バー32の表面よりも低くした場合には、風下側のカバ
ー32の背後で圧力降下が発生し、風上側の囲壁21c
を高くしかつ風下側の囲壁21dを低くした場合には双
方で圧力降下を発生するため、空気が隙間dに入ること
を減少することができる。
ー32の表面よりも高くした場合には、囲壁21cの背
後に圧力降下が発生し、風下側の囲壁21dの高さをカ
バー32の表面よりも低くした場合には、風下側のカバ
ー32の背後で圧力降下が発生し、風上側の囲壁21c
を高くしかつ風下側の囲壁21dを低くした場合には双
方で圧力降下を発生するため、空気が隙間dに入ること
を減少することができる。
【0023】従って、上述した実施例は、カバー32と
光学箱21の密着度を向上させることができる上に、カ
バー32と光学箱21の密着部を流れる空気の圧力を降
下させることができるため、塵埃が光学箱21の内部に
侵入することを防止することができる。このため、光学
系の透過率や反射率を良好に保持することができ、像の
濃度を低下させることがなく、画質を向上させることが
できる。
光学箱21の密着度を向上させることができる上に、カ
バー32と光学箱21の密着部を流れる空気の圧力を降
下させることができるため、塵埃が光学箱21の内部に
侵入することを防止することができる。このため、光学
系の透過率や反射率を良好に保持することができ、像の
濃度を低下させることがなく、画質を向上させることが
できる。
【0024】なお、この実施例ではカバーガラス29に
より光学箱21の開口部を密閉するようにしたが、結像
レンズ27とカバー32の間を例えばモルトプレン(商
品名)等の弾性体により密閉すれば、ポリゴンミラー2
6の周囲の空間を密閉したことになって、カバーガラス
29により光学箱21の開口部を密閉する必要がない。
また、カバー32はスナップフィット又はねじにより固
定されたが、カバー32を載置面21bに両面テープに
より貼り付ければ、光学箱21の密閉度をより向上させ
ることができる。そして、結像レンズ27を1枚で構成
したが2枚以上で構成してもよい。
より光学箱21の開口部を密閉するようにしたが、結像
レンズ27とカバー32の間を例えばモルトプレン(商
品名)等の弾性体により密閉すれば、ポリゴンミラー2
6の周囲の空間を密閉したことになって、カバーガラス
29により光学箱21の開口部を密閉する必要がない。
また、カバー32はスナップフィット又はねじにより固
定されたが、カバー32を載置面21bに両面テープに
より貼り付ければ、光学箱21の密閉度をより向上させ
ることができる。そして、結像レンズ27を1枚で構成
したが2枚以上で構成してもよい。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように第1及び第2発明に
係る走査光学装置は、塵埃が光学箱の内部に侵入するこ
とを防止することができるため、塵埃が光学系に付着す
ることを少なくすることができ、光学系の透過率や反射
率を良好に保持することができて、像の濃度を低下させ
ることなく画質を向上させることができる。
係る走査光学装置は、塵埃が光学箱の内部に侵入するこ
とを防止することができるため、塵埃が光学系に付着す
ることを少なくすることができ、光学系の透過率や反射
率を良好に保持することができて、像の濃度を低下させ
ることなく画質を向上させることができる。
【0026】特に、第1発明に係る走査光学装置は、光
学箱の上面にカバーを載置する載置面を内側に設けると
共に、カバーの外周面を囲む囲壁を外側に設けて、カバ
ーを囲壁の内側に嵌合したため、カバーの外周面を囲壁
の内周面に密着させることができ、かつその密着力によ
りカバーの外周下面を載置面に密接させることができ
て、塵埃が光学箱の内部に侵入することを防止すること
ができる。
学箱の上面にカバーを載置する載置面を内側に設けると
共に、カバーの外周面を囲む囲壁を外側に設けて、カバ
ーを囲壁の内側に嵌合したため、カバーの外周面を囲壁
の内周面に密着させることができ、かつその密着力によ
りカバーの外周下面を載置面に密接させることができ
て、塵埃が光学箱の内部に侵入することを防止すること
ができる。
【0027】また、第2発明に係る走査光学装置は、光
学箱の上面にカバーを載置する載置面を内側に設けると
共に、カバーの外周面を囲む囲壁を外側に設け、カバー
を囲壁の内側の載置面に載置したので、囲壁の高さをカ
バーの表面よりも風上側で高くした場合には、囲壁の背
後で圧力降下が発生し、風下側で低くした場合には、カ
バーの背後で圧力降下が発生し、塵埃が光学箱の内部に
侵入することを防止することができる。
学箱の上面にカバーを載置する載置面を内側に設けると
共に、カバーの外周面を囲む囲壁を外側に設け、カバー
を囲壁の内側の載置面に載置したので、囲壁の高さをカ
バーの表面よりも風上側で高くした場合には、囲壁の背
後で圧力降下が発生し、風下側で低くした場合には、カ
バーの背後で圧力降下が発生し、塵埃が光学箱の内部に
侵入することを防止することができる。
【図1】実施例の分解斜視図である。
【図2】部分拡大断面図である。
【図3】部分拡大断面図である。
【図4】作用説明図である。
【図5】従来例の光学系の斜視図である。
21 光学箱 21a 周壁 21b 載置面 21c、21d、21e 囲壁 26 ポリゴンミラー 32 カバー
Claims (5)
- 【請求項1】 光束を偏向して所定面に集光する光学系
を内蔵する光学箱と、該光学箱の開口部を覆うカバーと
を備えた走査光学装置において、前記光学箱の周壁の上
面には前記カバーを載置する載置面を内側に設けると共
に、前記カバーの外周面を囲む囲壁を外側に設け、前記
カバーは前記囲壁の内側に嵌合したことを特徴とする走
査光学装置。 - 【請求項2】 前記載置面を同一平面に形成した請求項
1に記載の走査光学装置。 - 【請求項3】 前記カバーを金属材料により形成した請
求項1に記載の走査光学装置。 - 【請求項4】 前記囲壁の高さを前記カバーの表面より
も高くした請求項1に記載の走査光学装置。 - 【請求項5】 光束を偏向して所定面に集光する光学系
を内蔵する光学箱と、該光学箱の開口部を覆うカバー
と、前記光学箱に風を当てる送風機とを備えた走査光学
装置において、前記光学箱の周壁の上面には前記カバー
を載置する載置面を内側に設けると共に、前記カバーの
外周面を囲む囲壁を外側に設け、該囲壁の高さを前記カ
バーの表面よりも、風上側で高く及び/又は風下側で低
くしたことを特徴とする走査光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33818394A JPH08184775A (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | 走査光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33818394A JPH08184775A (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | 走査光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08184775A true JPH08184775A (ja) | 1996-07-16 |
Family
ID=18315712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33818394A Pending JPH08184775A (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | 走査光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08184775A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021100300A1 (ja) * | 2019-11-21 | 2021-05-27 | 浜松ホトニクス株式会社 | ミラーユニット |
-
1994
- 1994-12-27 JP JP33818394A patent/JPH08184775A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021100300A1 (ja) * | 2019-11-21 | 2021-05-27 | 浜松ホトニクス株式会社 | ミラーユニット |
| JPWO2021100300A1 (ja) * | 2019-11-21 | 2021-05-27 | ||
| US12345874B2 (en) | 2019-11-21 | 2025-07-01 | Hamamatsu Photonics K.K. | Mirror unit |
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