JPH08187554A - 連続鋳造用鋳型 - Google Patents
連続鋳造用鋳型Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/02—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
- C23C28/021—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material including at least one metal alloy layer
-
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/02—Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 熱処理なしで耐熱、耐摩耗性に優れ、長期的
に安定操業のできる連続鋳造用鋳型の提供。 【構成】 銅若しくは銅合金製鋳型本体の内表面に、Ｎ
ｉ，Ｃｏ，Ｆｅ若しくはこれらを基材とする合金メッキ
層を施し、その上面に直接あるいはＮｉ−Ｃｒ系合金又
はＣｏ−Ｃｒ系合金溶射層を介して、Ｃｒ3 Ｃ2 １５〜
４０重量％，残部Ｎｉ−Ｃｒ系合金、又はＷＣ１５〜４
０重量％，残部Ｎｉ−Ｃｒ系合金を超音速フレーム溶射
法により溶射した連続鋳造用鋳型。
に安定操業のできる連続鋳造用鋳型の提供。 【構成】 銅若しくは銅合金製鋳型本体の内表面に、Ｎ
ｉ，Ｃｏ，Ｆｅ若しくはこれらを基材とする合金メッキ
層を施し、その上面に直接あるいはＮｉ−Ｃｒ系合金又
はＣｏ−Ｃｒ系合金溶射層を介して、Ｃｒ3 Ｃ2 １５〜
４０重量％，残部Ｎｉ−Ｃｒ系合金、又はＷＣ１５〜４
０重量％，残部Ｎｉ−Ｃｒ系合金を超音速フレーム溶射
法により溶射した連続鋳造用鋳型。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は耐熱、耐摩耗性に優れた
連続鋳造用鋳型に関するものである。
連続鋳造用鋳型に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】連続鋳造用鋳型は、一般に熱伝導性の良
い銅若しくは銅合金から成っており、寿命向上対策とし
て従来から種々の表面コーティングが行われて来た。例
えば特公昭６１−１５７８２号公報に示される技術は、
銅合金基材上に、Ｎｉ，Ｎｉ−Ｆｅ，Ｎｉ−Ｃｏあるい
はＮｉ−Ｍｎメッキ層を施し、その上面にＮｉ系あるい
はＮｉ−Ｃｒ系合金溶射層を施し、約１０００℃の熱処
理を行って溶射層そのものを融合させ強固にならしめる
と同時に、基材銅合金と下地メッキ層、そして溶射層が
各々境界部に拡散層をもち密着性を高めるというもので
あった。
い銅若しくは銅合金から成っており、寿命向上対策とし
て従来から種々の表面コーティングが行われて来た。例
えば特公昭６１−１５７８２号公報に示される技術は、
銅合金基材上に、Ｎｉ，Ｎｉ−Ｆｅ，Ｎｉ−Ｃｏあるい
はＮｉ−Ｍｎメッキ層を施し、その上面にＮｉ系あるい
はＮｉ−Ｃｒ系合金溶射層を施し、約１０００℃の熱処
理を行って溶射層そのものを融合させ強固にならしめる
と同時に、基材銅合金と下地メッキ層、そして溶射層が
各々境界部に拡散層をもち密着性を高めるというもので
あった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし乍ら、上記従来
技術で示した連続鋳造用鋳型は、約１０００℃の熱処理
を必要とするため、鋳型基材の銅合金が熱処理後に変形
し、そのため歪取り作業工程が要る、歪取り後でもバッ
クフレームに組み込めない場合がある、又組み込めても
平坦度等形状精度が劣るなどの欠点があり、又基材銅合
金の強度回復のための時効硬化熱処理が必要であり、製
造工程が、溶射→熱処理→検査→時効熱処理→検査→歪
取り→検査と複雑で多岐にわたる。しかも約１０００℃
の熱処理なしのときの基材との密着力は２〜３ｋｇ／ｍ
ｍ2 であり、耐摩耗性が不良であった。
技術で示した連続鋳造用鋳型は、約１０００℃の熱処理
を必要とするため、鋳型基材の銅合金が熱処理後に変形
し、そのため歪取り作業工程が要る、歪取り後でもバッ
クフレームに組み込めない場合がある、又組み込めても
平坦度等形状精度が劣るなどの欠点があり、又基材銅合
金の強度回復のための時効硬化熱処理が必要であり、製
造工程が、溶射→熱処理→検査→時効熱処理→検査→歪
取り→検査と複雑で多岐にわたる。しかも約１０００℃
の熱処理なしのときの基材との密着力は２〜３ｋｇ／ｍ
ｍ2 であり、耐摩耗性が不良であった。
【０００４】本発明は、上記従来技術の持つ欠点を解消
し、熱処理なしで耐熱、耐摩耗性に優れ、長期的に安定
操業のできる連続鋳造用鋳型を提供することを目的とす
るものである。
し、熱処理なしで耐熱、耐摩耗性に優れ、長期的に安定
操業のできる連続鋳造用鋳型を提供することを目的とす
るものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の如き手段を採用することによって達成された。即
ち、銅若しくは銅合金製鋳型本体の内表面に、Ｎｉ，Ｃ
ｏ，Ｆｅ若しくはこれらを基材とする合金メッキ層を施
し、該メッキ層上面に、Ｃｒ3 Ｃ2 １５〜４０重量％，
残部Ｎｉ−Ｃｒ系合金、又はＷＣ１５〜４０重量％，残
部Ｎｉ−Ｃｒ系合金を超音速フレーム溶射法により溶射
してなる連続鋳造用鋳型である。
下の如き手段を採用することによって達成された。即
ち、銅若しくは銅合金製鋳型本体の内表面に、Ｎｉ，Ｃ
ｏ，Ｆｅ若しくはこれらを基材とする合金メッキ層を施
し、該メッキ層上面に、Ｃｒ3 Ｃ2 １５〜４０重量％，
残部Ｎｉ−Ｃｒ系合金、又はＷＣ１５〜４０重量％，残
部Ｎｉ−Ｃｒ系合金を超音速フレーム溶射法により溶射
してなる連続鋳造用鋳型である。
【０００６】また、超音速フレーム溶射法による溶射の
前に上記メッキ層上に、該メッキ層とも、後に行う超音
速フレーム溶射法による溶射層ともなじみがよく全体の
密着性を高めるために、Ｎｉ−Ｃｒ系合金又はＣｏ−Ｃ
ｒ系合金の溶射層を施せばより効果的である。
前に上記メッキ層上に、該メッキ層とも、後に行う超音
速フレーム溶射法による溶射層ともなじみがよく全体の
密着性を高めるために、Ｎｉ−Ｃｒ系合金又はＣｏ−Ｃ
ｒ系合金の溶射層を施せばより効果的である。
【０００７】超音速フレーム溶射するサーメットの組成
については、Ｃｒ3 Ｃ2 、ＷＣ共に１５重量％未満では
耐摩耗性が不足し、逆に４０重量％を越えると耐摩耗性
は良いが、脆くなりクラックが発生するので１５〜４０
重量％とした。またその厚さは０．１ｍｍ未満ではダミ
ーバ等の疵でなくなるし、１．０ｍｍを超えると割れ易
くなるので０．１〜１．０ｍｍが好ましい。
については、Ｃｒ3 Ｃ2 、ＷＣ共に１５重量％未満では
耐摩耗性が不足し、逆に４０重量％を越えると耐摩耗性
は良いが、脆くなりクラックが発生するので１５〜４０
重量％とした。またその厚さは０．１ｍｍ未満ではダミ
ーバ等の疵でなくなるし、１．０ｍｍを超えると割れ易
くなるので０．１〜１．０ｍｍが好ましい。
【０００８】なお、上記した超音速フレーム溶射の前
に、Ｎｉ−Ｃｒ系合金、又はＣｏ−Ｃｒ系合金を溶射す
る場合には、下地に施したＮｉ，Ｃｏ，Ｆｅ若しくはこ
れらを基材とする合金メッキ層をブラスト材により、表
面粗度がＲｚ５０〜１５０μｍになるように粗度を調整
することが好ましい。粗度調整を行うことにより溶射被
膜の密着性が向上する。また、溶射により中間被膜層を
形成するＮｉ−Ｃｒ系合金又はＣｏ−Ｃｒ系合金の厚さ
は０．１〜１．５ｍｍが好ましい。即ち０．１ｍｍ未満
では密着性向上の効果がなく、又１．５ｍｍを越えると
厚くなりすぎて被膜が割れ易くなる。さらに、中間被膜
層を形成するＮｉ−Ｃｒ系合金、又はＣｏ−Ｃｒ系合金
を溶射する場合も、密着性向上の点から超音速フレーム
溶射を行うのが最も好ましい。
に、Ｎｉ−Ｃｒ系合金、又はＣｏ−Ｃｒ系合金を溶射す
る場合には、下地に施したＮｉ，Ｃｏ，Ｆｅ若しくはこ
れらを基材とする合金メッキ層をブラスト材により、表
面粗度がＲｚ５０〜１５０μｍになるように粗度を調整
することが好ましい。粗度調整を行うことにより溶射被
膜の密着性が向上する。また、溶射により中間被膜層を
形成するＮｉ−Ｃｒ系合金又はＣｏ−Ｃｒ系合金の厚さ
は０．１〜１．５ｍｍが好ましい。即ち０．１ｍｍ未満
では密着性向上の効果がなく、又１．５ｍｍを越えると
厚くなりすぎて被膜が割れ易くなる。さらに、中間被膜
層を形成するＮｉ−Ｃｒ系合金、又はＣｏ−Ｃｒ系合金
を溶射する場合も、密着性向上の点から超音速フレーム
溶射を行うのが最も好ましい。
【０００９】また、本発明連続鋳造用鋳型に於いても初
期のスプラッシュ対策として通常行われている最表面に
Ｃｒ層を施す場合もあるのは勿論である。
期のスプラッシュ対策として通常行われている最表面に
Ｃｒ層を施す場合もあるのは勿論である。
【００１０】
【作用】本発明では、酸化し脆くなり易い銅若しくは銅
合金製鋳型本体の内表面をＮｉ，Ｃｏ，Ｆｅ若しくはこ
れらを基材とする合金メッキ層で保護すると共に、これ
らのメッキ層は鋳型本体よりも硬質なので、その上面に
来る溶射層あるいは超音速フレーム溶射層の溶射粒子の
噛込後保持力を確保する。そして最後には超音速フレー
ム溶射法によりＮｉ−Ｃｒ−Ｃｒ3 Ｃ2 ，Ｎｉ−Ｃｒ−
ＷＣを溶射するので強固に密着する。
合金製鋳型本体の内表面をＮｉ，Ｃｏ，Ｆｅ若しくはこ
れらを基材とする合金メッキ層で保護すると共に、これ
らのメッキ層は鋳型本体よりも硬質なので、その上面に
来る溶射層あるいは超音速フレーム溶射層の溶射粒子の
噛込後保持力を確保する。そして最後には超音速フレー
ム溶射法によりＮｉ−Ｃｒ−Ｃｒ3 Ｃ2 ，Ｎｉ−Ｃｒ−
ＷＣを溶射するので強固に密着する。
【００１１】
【実施例】以下本発明をその実施例を示し乍ら説明す
る。図１及び図２は、それぞれ本発明実施例鋳型で、図
中１は鋳型本体、２はＮｉメッキ層、３はサーメット溶
射層、４は金属溶射層を示す。
る。図１及び図２は、それぞれ本発明実施例鋳型で、図
中１は鋳型本体、２はＮｉメッキ層、３はサーメット溶
射層、４は金属溶射層を示す。
【００１２】図１に示す実施例は、Ｃｒ，Ｚｒ入り銅鋳
型の内表面に、下地Ｎｉメッキ層を超音速フレーム溶射
を行う下端部には０．１ｍｍ，その他の上方には０．７
ｍｍ厚に施した。その場合のメッキ条件はＮｉＳｏ4 ３
５０ｇ／ｌ，ＮｉＣｌ2 ５ｇ／ｌ，Ｈ3 ＢＯ3 ３０ｇ／
ｌ，温度４５〜６０℃，Ｄｋ３Ａ／ｄｍ2 であった。次
いで上記Ｎｉメッキ層をＡｌ2 Ｏ3 粒子でＲｚ＝７０〜
８０μｍに粗面化した。その上面の鋳型の下半部に７５
重量％Ｎｉ−Ｃｒ、２５重量％Ｃｒ3 Ｃ2 から成るサー
メットを超音速フレーム溶射装置で厚さ０．６ｍｍに溶
射した。このときの溶射速度は７５０ｍ／ｓｅｃであっ
た。
型の内表面に、下地Ｎｉメッキ層を超音速フレーム溶射
を行う下端部には０．１ｍｍ，その他の上方には０．７
ｍｍ厚に施した。その場合のメッキ条件はＮｉＳｏ4 ３
５０ｇ／ｌ，ＮｉＣｌ2 ５ｇ／ｌ，Ｈ3 ＢＯ3 ３０ｇ／
ｌ，温度４５〜６０℃，Ｄｋ３Ａ／ｄｍ2 であった。次
いで上記Ｎｉメッキ層をＡｌ2 Ｏ3 粒子でＲｚ＝７０〜
８０μｍに粗面化した。その上面の鋳型の下半部に７５
重量％Ｎｉ−Ｃｒ、２５重量％Ｃｒ3 Ｃ2 から成るサー
メットを超音速フレーム溶射装置で厚さ０．６ｍｍに溶
射した。このときの溶射速度は７５０ｍ／ｓｅｃであっ
た。
【００１３】このようにして作製した鋳型を、熱処理は
行わずに実機鋳型で使用した結果、従来の同厚のＮｉ−
Ｃｒ合金溶射鋳型が１２００ｃｈもてたのに対し、本実
施例鋳型は１５００ｃｈでも摩耗量は従来のＮｉ−Ｃｒ
合金溶射鋳型の約２／３であり、同時サンプルでの超音
速フレーム溶射層の密着力は１８ｋｇ／ｍｍ2 であっ
た。
行わずに実機鋳型で使用した結果、従来の同厚のＮｉ−
Ｃｒ合金溶射鋳型が１２００ｃｈもてたのに対し、本実
施例鋳型は１５００ｃｈでも摩耗量は従来のＮｉ−Ｃｒ
合金溶射鋳型の約２／３であり、同時サンプルでの超音
速フレーム溶射層の密着力は１８ｋｇ／ｍｍ2 であっ
た。
【００１４】次に超音速フレーム溶射の溶射材を、Ｎｉ
−Ｃｒ６５重量％，Ｃｒ3 Ｃ2 ３５重量％と変えて実験
したが、上記鋳型とほぼ同様の性能を示した。
−Ｃｒ６５重量％，Ｃｒ3 Ｃ2 ３５重量％と変えて実験
したが、上記鋳型とほぼ同様の性能を示した。
【００１５】図２に示す実施例は、図１に示す実施例と
同様にＮｉメッキ→同粗面化を行った後、Ｎｉ−Ｃｒ系
合金超音波フレームを溶射し、その上面に、Ｎｉ−Ｃｒ
６５％，Ｃｒ3 Ｃ2 ３５％を溶射速度７５０ｍ／ｓｅｃ
で超音速フレーム溶射したものである。溶射厚は０．５
ｍｍであった。
同様にＮｉメッキ→同粗面化を行った後、Ｎｉ−Ｃｒ系
合金超音波フレームを溶射し、その上面に、Ｎｉ−Ｃｒ
６５％，Ｃｒ3 Ｃ2 ３５％を溶射速度７５０ｍ／ｓｅｃ
で超音速フレーム溶射したものである。溶射厚は０．５
ｍｍであった。
【００１６】このようにして作製した鋳型を熱処理を行
わずに実機鋳型で使用した結果、従来のＮｉ−Ｃｒ合金
溶射鋳型が１２００ｃｈもてたのに対し、本実施例鋳型
は１６００ｃｈでも摩耗量は前記従来鋳型の約２／３で
あり、同時サンプルでの超音速フレーム溶射層の密着力
は２０ｋｇ／ｍｍ2 であった。
わずに実機鋳型で使用した結果、従来のＮｉ−Ｃｒ合金
溶射鋳型が１２００ｃｈもてたのに対し、本実施例鋳型
は１６００ｃｈでも摩耗量は前記従来鋳型の約２／３で
あり、同時サンプルでの超音速フレーム溶射層の密着力
は２０ｋｇ／ｍｍ2 であった。
【００１７】次に超音速フレーム溶射材をＮｉ−Ｃｒ６
５％，ＷＣ３５％と変えて実験したが、上記鋳型とほぼ
同様の性能を示した。
５％，ＷＣ３５％と変えて実験したが、上記鋳型とほぼ
同様の性能を示した。
【００１８】
【発明の効果】以上述べて来た如く、本発明によれば、
鋳型本体の表面に密着性の大なる超音速フレーム溶射層
が施されているため、そしてそれが耐摩耗性に優れたＮ
ｉ−Ｃｒ−Ｃｒ3 Ｃ2 又はＮｉ−Ｃｒ−ＷＣであるため
に、鋳型の寿命が従来のＮｉ−Ｃｒ系合金を施した鋳型
の１．５倍以上となった。また、熱処理を行わないので
寸法の大きな長辺（１．５〜３Ｍ幅）にも施工できるよ
うになった。更には製造工程の省略ができコスト低減に
なると共に、析出硬化銅でなくても溶射が可能となっ
た。そしてまた、Ｃｒ3 Ｃ2 やＷＣの炭化物が長辺にあ
るため短辺のすべりがよく幅可変疵が減少する等種々の
効果を奏する。
鋳型本体の表面に密着性の大なる超音速フレーム溶射層
が施されているため、そしてそれが耐摩耗性に優れたＮ
ｉ−Ｃｒ−Ｃｒ3 Ｃ2 又はＮｉ−Ｃｒ−ＷＣであるため
に、鋳型の寿命が従来のＮｉ−Ｃｒ系合金を施した鋳型
の１．５倍以上となった。また、熱処理を行わないので
寸法の大きな長辺（１．５〜３Ｍ幅）にも施工できるよ
うになった。更には製造工程の省略ができコスト低減に
なると共に、析出硬化銅でなくても溶射が可能となっ
た。そしてまた、Ｃｒ3 Ｃ2 やＷＣの炭化物が長辺にあ
るため短辺のすべりがよく幅可変疵が減少する等種々の
効果を奏する。
【図１】本発明の実施例鋳型の断面図である。
【図２】本発明の他の実施例鋳型の断面図である。
１ 鋳型本体 ２ Ｎｉメッキ層 ３ サーメット溶射層 ４ 金属溶射層
Claims (2)
- 【請求項１】 銅若しくは銅合金製鋳型本体の内表面
に、Ｎｉ，Ｃｏ，Ｆｅ若しくはこれらを基材とする合金
メッキ層を施し、該メッキ層上面に、Ｃｒ3 Ｃ2 １５〜
４０重量％，残部Ｎｉ−Ｃｒ系合金、又はＷＣ１５〜４
０重量％，残部Ｎｉ−Ｃｒ系合金を超音速フレーム溶射
法により溶射してなることを特徴とする連続鋳造用鋳
型。 - 【請求項２】 銅若しくは銅合金製鋳型本体の内表面
に、Ｎｉ，Ｃｏ，Ｆｅ若しくはこれらを基材とする合金
メッキ層を施し、該メッキ層上面に、Ｎｉ−Ｃｒ系合金
又はＣｏ−Ｃｒ系合金溶射層を施し、該溶射層上面に、
Ｃｒ3 Ｃ2 １５〜４０重量％，残部Ｎｉ−Ｃｒ系合金、
又はＷＣ１５〜４０重量％，残部Ｎｉ−Ｃｒ系合金を超
音速フレーム溶射法により溶射してなることを特徴とす
る連続鋳造用鋳型。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6340130A JPH08187554A (ja) | 1994-12-29 | 1994-12-29 | 連続鋳造用鋳型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6340130A JPH08187554A (ja) | 1994-12-29 | 1994-12-29 | 連続鋳造用鋳型 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08187554A true JPH08187554A (ja) | 1996-07-23 |
Family
ID=18334017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6340130A Pending JPH08187554A (ja) | 1994-12-29 | 1994-12-29 | 連続鋳造用鋳型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08187554A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003105520A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Tocalo Co Ltd | 冶金用ランスチップおよびその製造方法 |
| KR100665531B1 (ko) * | 2005-06-15 | 2007-01-09 | 주식회사 서머텍 코리아 | 연속주조용 주형 |
| JP2017517631A (ja) * | 2014-05-27 | 2017-06-29 | ウエスチングハウス・エレクトリック・カンパニー・エルエルシー | 原子力発電用ジルコニウム合金への金属含有層とクロム含有層とを含む保護被膜の付着 |
| KR101942932B1 (ko) * | 2017-07-20 | 2019-04-17 | 주식회사 포스코 | 주형 및 이의 제조방법 |
| WO2020101138A1 (ko) * | 2018-11-13 | 2020-05-22 | 주식회사 포스코 | 연속주조용 몰드 및 그 코팅방법 |
-
1994
- 1994-12-29 JP JP6340130A patent/JPH08187554A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003105520A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Tocalo Co Ltd | 冶金用ランスチップおよびその製造方法 |
| KR100665531B1 (ko) * | 2005-06-15 | 2007-01-09 | 주식회사 서머텍 코리아 | 연속주조용 주형 |
| JP2017517631A (ja) * | 2014-05-27 | 2017-06-29 | ウエスチングハウス・エレクトリック・カンパニー・エルエルシー | 原子力発電用ジルコニウム合金への金属含有層とクロム含有層とを含む保護被膜の付着 |
| KR101942932B1 (ko) * | 2017-07-20 | 2019-04-17 | 주식회사 포스코 | 주형 및 이의 제조방법 |
| WO2020101138A1 (ko) * | 2018-11-13 | 2020-05-22 | 주식회사 포스코 | 연속주조용 몰드 및 그 코팅방법 |
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