JPH08187582A - レーザ描画装置 - Google Patents
レーザ描画装置Info
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- JPH08187582A JPH08187582A JP6328817A JP32881794A JPH08187582A JP H08187582 A JPH08187582 A JP H08187582A JP 6328817 A JP6328817 A JP 6328817A JP 32881794 A JP32881794 A JP 32881794A JP H08187582 A JPH08187582 A JP H08187582A
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- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザ光量をフィードフォアード的に制御し
て安定した描画線幅を得て良好な描画を行なうことがで
きるようなレーザ描画装置を提供する。 【構成】 コントローラ２００のメモリ２０２には、第
１のテーブルおよび第２のテーブル１３，１４の移動速
度パターンに関係づけられたレーザ光量のパターンが記
憶されており、テーブルドライバ２０４および位置指令
カウンタ２０３にも位置指令が与えられて、メモリ２０
２に記憶されたパターンを読出し、読出されたパターン
がＤ／Ａ変換器２０５に与えられてレーザ光量のパター
ン出力がパワーサーボ回路７に与えられる。パワーサー
ボ回路７は、フィードフォアード的にパワーコントロー
ル用ＡＯＭを制御することで、光学ヘッド１２に与えら
れるレーザ光量が制御されて、フィードバック制御のよ
うな検出遅れが生じることなく、安定した描画線幅が得
られて良好な描画となる。
て安定した描画線幅を得て良好な描画を行なうことがで
きるようなレーザ描画装置を提供する。 【構成】 コントローラ２００のメモリ２０２には、第
１のテーブルおよび第２のテーブル１３，１４の移動速
度パターンに関係づけられたレーザ光量のパターンが記
憶されており、テーブルドライバ２０４および位置指令
カウンタ２０３にも位置指令が与えられて、メモリ２０
２に記憶されたパターンを読出し、読出されたパターン
がＤ／Ａ変換器２０５に与えられてレーザ光量のパター
ン出力がパワーサーボ回路７に与えられる。パワーサー
ボ回路７は、フィードフォアード的にパワーコントロー
ル用ＡＯＭを制御することで、光学ヘッド１２に与えら
れるレーザ光量が制御されて、フィードバック制御のよ
うな検出遅れが生じることなく、安定した描画線幅が得
られて良好な描画となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、レーザ描画装置に関
し、特に、レーザ光を用いて微細パターンを描画するよ
うなレーザ描画装置に関する。
し、特に、レーザ光を用いて微細パターンを描画するよ
うなレーザ描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光を用いて微細パターンを描画す
るレーザ描画装置として、特開平４−１０６１３号公報
および特開平４−１０６１４号公報で提案されたものが
ある。
るレーザ描画装置として、特開平４−１０６１３号公報
および特開平４−１０６１４号公報で提案されたものが
ある。
【０００３】図５は、この提案されたレーザ描画装置の
全体の構成を示すブロック図である。図５において、レ
ーザ光源としてＨｅ−Ｃｄレーザチューブ１が設けら
れ、このＨｅ−Ｃｄレーザチューブ１から出射された書
込用レーザ１０１はミラー２で反射され、パワーコント
ロール用ＡＯＭ３に入射される。このパワーコントロー
ル用ＡＯＭ３は書込用レーザ１０１のレーザ出力を制御
するためのものである。パワーコントロール用ＡＯＭ３
によって出力が調整された書込用レーザ１０１はレーザ
パワーモニタ４に入射される。レーザパワーモニタ４は
書込用レーザ１０１をモニタし、モニタ出力をパワーサ
ーボ回路７に与え、パワーサーボ回路７はパワーコント
ロール用ＡＯＭ３をフィードバック制御する。モニタさ
れた書込用レーザ１０１はミラー５で反射され、光学ヘ
ッド１２に入射される。
全体の構成を示すブロック図である。図５において、レ
ーザ光源としてＨｅ−Ｃｄレーザチューブ１が設けら
れ、このＨｅ−Ｃｄレーザチューブ１から出射された書
込用レーザ１０１はミラー２で反射され、パワーコント
ロール用ＡＯＭ３に入射される。このパワーコントロー
ル用ＡＯＭ３は書込用レーザ１０１のレーザ出力を制御
するためのものである。パワーコントロール用ＡＯＭ３
によって出力が調整された書込用レーザ１０１はレーザ
パワーモニタ４に入射される。レーザパワーモニタ４は
書込用レーザ１０１をモニタし、モニタ出力をパワーサ
ーボ回路７に与え、パワーサーボ回路７はパワーコント
ロール用ＡＯＭ３をフィードバック制御する。モニタさ
れた書込用レーザ１０１はミラー５で反射され、光学ヘ
ッド１２に入射される。
【０００４】光学ヘッド１２は、ＸＹテーブル１１の上
側に設けられている。ＸＹテーブル１１は、第１のテー
ブル１３と、第２のテーブル１４とで構成される。第１
のテーブル１３は、第１の方向（Ｘ方向）に移動可能で
ある。第２のテーブル１４は、第１のテーブルとは直交
する第２の方向（Ｙ方向）に移動可能である。そして、
ＸＹテーブル１１には、被加工物（図示せず）が設けら
れている。第１のテーブル１３と第２のテーブル１４の
移動速度が位置検出用リニアエンコーダによって検出さ
れ、その検出出力であるＸ方向のパルス信号およびＹ方
向のパルス信号はそれぞれｆ／Ｖ変換回路１５ａ，１５
ｂに与えられる。ｆ／Ｖ変換回路１５ａ，１５ｂのそれ
ぞれは、与えられたパルス信号に対して周波数から電圧
への変換を行なって、この出力電圧がパワーサーボ回路
７に与えられる。パワーサーボ回路７は、与えられた電
圧値をレーザパワー制御の指令値として利用してパワー
コントロール用ＡＯＭ３をフィードバック制御してい
た。
側に設けられている。ＸＹテーブル１１は、第１のテー
ブル１３と、第２のテーブル１４とで構成される。第１
のテーブル１３は、第１の方向（Ｘ方向）に移動可能で
ある。第２のテーブル１４は、第１のテーブルとは直交
する第２の方向（Ｙ方向）に移動可能である。そして、
ＸＹテーブル１１には、被加工物（図示せず）が設けら
れている。第１のテーブル１３と第２のテーブル１４の
移動速度が位置検出用リニアエンコーダによって検出さ
れ、その検出出力であるＸ方向のパルス信号およびＹ方
向のパルス信号はそれぞれｆ／Ｖ変換回路１５ａ，１５
ｂに与えられる。ｆ／Ｖ変換回路１５ａ，１５ｂのそれ
ぞれは、与えられたパルス信号に対して周波数から電圧
への変換を行なって、この出力電圧がパワーサーボ回路
７に与えられる。パワーサーボ回路７は、与えられた電
圧値をレーザパワー制御の指令値として利用してパワー
コントロール用ＡＯＭ３をフィードバック制御してい
た。
【０００５】すなわち、従来のレーザ描画装置では、第
１のテーブル１３および第２のテーブル１４の実際の移
動速度が検出されて、制御されていた。
１のテーブル１３および第２のテーブル１４の実際の移
動速度が検出されて、制御されていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
提案されたレーザ描画装置では、テーブル速度検出の
際、ｆ／Ｖ変換に伴う検出遅れが生じていた。したがっ
て、実際のテーブル速度との間に差が生じ、そのためテ
ーブル移動速度に対応したレーザ光量が得られず、描画
線幅を安定させるための調整が困難であるという問題が
あった。また、ｆ／Ｖ変換に伴うリップルに従って、レ
ーザ光量の微少変動が生じていた。そのため、描画線幅
の変動が生じてしまうという問題もあった。さらに、テ
ーブルの速度検出の結果が利用されているため、レーザ
光量の制御がフィードバック的になっていた。したがっ
て、レーザ光量の変化の大きな場合の描画に対応するこ
とが困難であるという問題があった。
提案されたレーザ描画装置では、テーブル速度検出の
際、ｆ／Ｖ変換に伴う検出遅れが生じていた。したがっ
て、実際のテーブル速度との間に差が生じ、そのためテ
ーブル移動速度に対応したレーザ光量が得られず、描画
線幅を安定させるための調整が困難であるという問題が
あった。また、ｆ／Ｖ変換に伴うリップルに従って、レ
ーザ光量の微少変動が生じていた。そのため、描画線幅
の変動が生じてしまうという問題もあった。さらに、テ
ーブルの速度検出の結果が利用されているため、レーザ
光量の制御がフィードバック的になっていた。したがっ
て、レーザ光量の変化の大きな場合の描画に対応するこ
とが困難であるという問題があった。
【０００７】ゆえに、本発明の目的は、上記のような問
題点を解決し、レーザ光量をフィードフォアード的に制
御して、描画線幅の変動を抑制して安定させ、良好な描
画を得ることができるようなレーザ描画装置を提供する
ことである。
題点を解決し、レーザ光量をフィードフォアード的に制
御して、描画線幅の変動を抑制して安定させ、良好な描
画を得ることができるようなレーザ描画装置を提供する
ことである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係るレ
ーザ描画装置は、レーザ光で被加工物を描画するレーザ
描画装置であって、その上に設けられた被加工物をＸＹ
平面に移動可能なＸＹテーブルと、被加工物にレーザ光
を出力するためのレーザ出力手段と、レーザ出力手段が
出力すべきレーザ光の光量パターンを記憶した記憶手段
と、ＸＹテーブルの移動時に、記憶手段が記憶したレー
ザ光の光量パターンを読出すとともに、その光量パター
ンでレーザ出力手段がレーザ光を出力するようにレーザ
出力手段を制御する制御手段とを備えて構成される。
ーザ描画装置は、レーザ光で被加工物を描画するレーザ
描画装置であって、その上に設けられた被加工物をＸＹ
平面に移動可能なＸＹテーブルと、被加工物にレーザ光
を出力するためのレーザ出力手段と、レーザ出力手段が
出力すべきレーザ光の光量パターンを記憶した記憶手段
と、ＸＹテーブルの移動時に、記憶手段が記憶したレー
ザ光の光量パターンを読出すとともに、その光量パター
ンでレーザ出力手段がレーザ光を出力するようにレーザ
出力手段を制御する制御手段とを備えて構成される。
【０００９】請求項２では、請求項１の記憶手段は、Ｘ
Ｙテーブルの移動パターンに対応づけられたレーザ光の
光量パターンを記憶しており、制御手段は、ＸＹテーブ
ルを移動させるための指令値が与えられたことに応じ
て、記憶手段に記憶されたレーザ光の光量パターンを読
出す読出手段と、読出手段が読出したレーザ光の光量パ
ターンに応じたレーザ光を、レーザ出力手段に供給する
レーザ供給手段とを含んでいる。
Ｙテーブルの移動パターンに対応づけられたレーザ光の
光量パターンを記憶しており、制御手段は、ＸＹテーブ
ルを移動させるための指令値が与えられたことに応じ
て、記憶手段に記憶されたレーザ光の光量パターンを読
出す読出手段と、読出手段が読出したレーザ光の光量パ
ターンに応じたレーザ光を、レーザ出力手段に供給する
レーザ供給手段とを含んでいる。
【００１０】
【作用】この発明に係るレーザ描画装置は、被加工物に
出力されるべきレーザ光の光量パターンを記憶し、その
記憶されたレーザ光の光量パターンを読出して、読出さ
れた光量パターンに応じたレーザ光を被加工物に出力す
るので、レーザ光の光量をフィードフォアード的に決定
して制御することができる。
出力されるべきレーザ光の光量パターンを記憶し、その
記憶されたレーザ光の光量パターンを読出して、読出さ
れた光量パターンに応じたレーザ光を被加工物に出力す
るので、レーザ光の光量をフィードフォアード的に決定
して制御することができる。
【００１１】さらに、この発明に係るレーザ描画装置
は、ＸＹテーブルの移動パターンに対応づけられたレー
ザ光の光量パターンを記憶して、ＸＹテーブルの移動に
対してより最適なレーザ光の光量をフィードフォアード
的に決定して制御することができる。
は、ＸＹテーブルの移動パターンに対応づけられたレー
ザ光の光量パターンを記憶して、ＸＹテーブルの移動に
対してより最適なレーザ光の光量をフィードフォアード
的に決定して制御することができる。
【００１２】
【実施例】図１は、この発明の一実施例によるレーザ描
画装置の全体の構成を示すブロック図である。図１を参
照して、図５に示す従来例と異なる部分について特に説
明する。
画装置の全体の構成を示すブロック図である。図１を参
照して、図５に示す従来例と異なる部分について特に説
明する。
【００１３】ｆ／Ｖ変換回路１５ａ，１５ｂの代わり
に、コントローラ２００が設けられる。コントローラ２
００は、ＸＹテーブル１１を構成する第１のテーブル１
３および第２のテーブル１４の移動を制御するために、
Ｘ方向の移動指令値を第１のテーブル１３に与え、Ｙ方
向の移動指令値を第２のテーブル１４に与えるととも
に、レーザパワーサーボ回路７にレーザ光量の指令値を
フィードフォアード的に与える。この与えられるレーザ
光量の指令値は、第１および第２のテーブル１３，１４
の移動速度パターンと予め定められた関係で対応づけら
れたものである。
に、コントローラ２００が設けられる。コントローラ２
００は、ＸＹテーブル１１を構成する第１のテーブル１
３および第２のテーブル１４の移動を制御するために、
Ｘ方向の移動指令値を第１のテーブル１３に与え、Ｙ方
向の移動指令値を第２のテーブル１４に与えるととも
に、レーザパワーサーボ回路７にレーザ光量の指令値を
フィードフォアード的に与える。この与えられるレーザ
光量の指令値は、第１および第２のテーブル１３，１４
の移動速度パターンと予め定められた関係で対応づけら
れたものである。
【００１４】図２は、図１のコントローラ２００の内部
構成を示した図であり、図３は、図２に示す構成の動作
を説明するための図であり、特に、図３（ａ）は、横軸
に移動方向ｘを示し、縦軸に移動指令速度パターンｇ
（ｘ）を示したパターン図であり、図３（ｂ）は、横軸
に移動方向ｘを示し、縦軸にレーザ光量パターンｆ
（ｘ）を示したパターン図であり、図３（ｃ）は、横軸
に移動方向ｘを示し、縦軸にテーブルの実速度を示した
図である。
構成を示した図であり、図３は、図２に示す構成の動作
を説明するための図であり、特に、図３（ａ）は、横軸
に移動方向ｘを示し、縦軸に移動指令速度パターンｇ
（ｘ）を示したパターン図であり、図３（ｂ）は、横軸
に移動方向ｘを示し、縦軸にレーザ光量パターンｆ
（ｘ）を示したパターン図であり、図３（ｃ）は、横軸
に移動方向ｘを示し、縦軸にテーブルの実速度を示した
図である。
【００１５】図２および図３を参照して、以下に具体的
に説明する。コントローラ２００は、システムコントロ
ーラ（コンピュータ）２０１と、記憶手段の一例のメモ
リ２０２と、読出手段の一例の位置指令カウンタ２０３
と、テーブルドライバ２０４と、Ｄ／Ａ変換器２０５と
を含む。
に説明する。コントローラ２００は、システムコントロ
ーラ（コンピュータ）２０１と、記憶手段の一例のメモ
リ２０２と、読出手段の一例の位置指令カウンタ２０３
と、テーブルドライバ２０４と、Ｄ／Ａ変換器２０５と
を含む。
【００１６】ここで、第１のテーブル１３がＸ方向にｘ
0 からｘ3 まで移動する場合を考える。システムコント
ローラ２０１は、テーブルの動特性から図３（ａ）に示
すようなｇ（ｘ）の最適速度パターンを算出する。さら
に、システムコントローラ２０１は、最適な位置の指令
速度パターンｇ（ｘ）に対応するレーザ光量のパターン
を図３（ｂ）に示すようなｆ（ｘ）として決定する。そ
して、決定された書込パターンがメモリ２０２に書込ま
れる。その結果、メモリ２０２は位置の指令速度パター
ンと対応づけられたレーザ光量パターンを記憶する。
0 からｘ3 まで移動する場合を考える。システムコント
ローラ２０１は、テーブルの動特性から図３（ａ）に示
すようなｇ（ｘ）の最適速度パターンを算出する。さら
に、システムコントローラ２０１は、最適な位置の指令
速度パターンｇ（ｘ）に対応するレーザ光量のパターン
を図３（ｂ）に示すようなｆ（ｘ）として決定する。そ
して、決定された書込パターンがメモリ２０２に書込ま
れる。その結果、メモリ２０２は位置の指令速度パター
ンと対応づけられたレーザ光量パターンを記憶する。
【００１７】次に、実際にテーブルが移動される場合に
は、システムコントローラ２０１はｇ（ｘ）のパターン
でテーブルを移動すべく、位置指令をテーブルドライバ
２０４に出力するとともに、この位置指令をカウントす
る位置指令カウンタ２０３にも出力する。位置指令カウ
ンタ２０３は、位置指令をカウントすることで、メモリ
２０２に記憶されたレーザ光量のパターンを読出す。メ
モリ２０２から読出された読出パターンは、Ｄ／Ａ変換
器２０５に与えられる。Ｄ／Ａ変換器２０５は、Ｄ／Ａ
（ディジタル／アナログ）変換を行なって、レーザパワ
ーサーボ回路７への指令値としてのレーザ光量パターン
を出力する。
は、システムコントローラ２０１はｇ（ｘ）のパターン
でテーブルを移動すべく、位置指令をテーブルドライバ
２０４に出力するとともに、この位置指令をカウントす
る位置指令カウンタ２０３にも出力する。位置指令カウ
ンタ２０３は、位置指令をカウントすることで、メモリ
２０２に記憶されたレーザ光量のパターンを読出す。メ
モリ２０２から読出された読出パターンは、Ｄ／Ａ変換
器２０５に与えられる。Ｄ／Ａ変換器２０５は、Ｄ／Ａ
（ディジタル／アナログ）変換を行なって、レーザパワ
ーサーボ回路７への指令値としてのレーザ光量パターン
を出力する。
【００１８】その結果、実際にテーブルは、テーブルの
動特性の関係で図３（ｃ）に示すように指令速度パター
ンとは少し異なる形状であるが、ほぼ指令どおりに移動
を行なう。
動特性の関係で図３（ｃ）に示すように指令速度パター
ンとは少し異なる形状であるが、ほぼ指令どおりに移動
を行なう。
【００１９】このように、描画時のレーザ光量が予め実
測されたテーブルの実速度や描画パターンに対して最適
なパターンとして準備される。そして、レーザ光量はフ
ィードフォアード的に制御される。その結果、安定した
描画線幅が得られる。特に、円の描画においては、始点
と終点がきれいにつなげられる必要があるが、本発明の
ようにフィードフォアード的に制御が行なわれること
で、良好な円形の描画が可能となる。さらに、テーブル
駆動サーボ系でのテーブル移動時の動特性（特に追従
性）が不十分な場合であっても、これに応じたレーザ光
量のパターンが設定されればよい。その結果、良好な描
画が可能となる。
測されたテーブルの実速度や描画パターンに対して最適
なパターンとして準備される。そして、レーザ光量はフ
ィードフォアード的に制御される。その結果、安定した
描画線幅が得られる。特に、円の描画においては、始点
と終点がきれいにつなげられる必要があるが、本発明の
ようにフィードフォアード的に制御が行なわれること
で、良好な円形の描画が可能となる。さらに、テーブル
駆動サーボ系でのテーブル移動時の動特性（特に追従
性）が不十分な場合であっても、これに応じたレーザ光
量のパターンが設定されればよい。その結果、良好な描
画が可能となる。
【００２０】なお、本発明で用いられる光学ヘッドに、
特願平５−１８９８０１号で提案されたレンズ交換機構
が設けられてもよい。
特願平５−１８９８０１号で提案されたレンズ交換機構
が設けられてもよい。
【００２１】図４は、そのようなレンズ交換機構を示し
た側面図である。図４におけるレンズ交換機構は電動レ
ボルバユニット９であり、その電動レボルバユニット９
は、図１の光学ヘッド１２の先端に取付けられている。
光学ヘッド１２内にはミラー６が設けられている。この
ミラー６によって図１に示したミラー５で反射された書
込用レーザ１０１がさらに垂直方向に反射され、電動レ
ボルバユニット９に入射される。電動レボルバユニット
９は、それぞれの焦点距離が異なる複数のレンズ１０を
電動で切換え可能としている。電動レボルバユニット９
に導かれた書込用レーザ１０１はレンズ１４よりテーブ
ル上に置かれた被加工物１００表面に集光される。この
とき、電動レボルバユニット９を回転させてレンズが偏
光されることにより、集光されるレーザ光の径が変えら
れる。これによって、描画される線幅が変えられる。
た側面図である。図４におけるレンズ交換機構は電動レ
ボルバユニット９であり、その電動レボルバユニット９
は、図１の光学ヘッド１２の先端に取付けられている。
光学ヘッド１２内にはミラー６が設けられている。この
ミラー６によって図１に示したミラー５で反射された書
込用レーザ１０１がさらに垂直方向に反射され、電動レ
ボルバユニット９に入射される。電動レボルバユニット
９は、それぞれの焦点距離が異なる複数のレンズ１０を
電動で切換え可能としている。電動レボルバユニット９
に導かれた書込用レーザ１０１はレンズ１４よりテーブ
ル上に置かれた被加工物１００表面に集光される。この
とき、電動レボルバユニット９を回転させてレンズが偏
光されることにより、集光されるレーザ光の径が変えら
れる。これによって、描画される線幅が変えられる。
【００２２】このようなレンズ交換機構が設けられるこ
とで、従来例で示した特開平４−１０６１３号公報およ
び特開平４−１０６１４号公報で提案されたレーザ描画
装置の問題点が解決される。ここで、問題点について説
明する。上述の提案されたレーザ描画装置では、光学ヘ
ッドの先端にレーザ光を絞り込むためのレンズが固定的
に取付けられていた。このため、光学ヘッドから出射さ
れるレーザ光による描画可能な線幅の範囲が限られてし
まうという問題があった。たとえば、線幅が細くされる
ためのレンズが使用された場合、太い線が一度に描画さ
れることは不可能であり、その線に沿って細い線が何回
も描画される必要があるという問題があった。特に、大
面積の塗り潰しパターンを描画するには、長時間を必要
とする問題があった。
とで、従来例で示した特開平４−１０６１３号公報およ
び特開平４−１０６１４号公報で提案されたレーザ描画
装置の問題点が解決される。ここで、問題点について説
明する。上述の提案されたレーザ描画装置では、光学ヘ
ッドの先端にレーザ光を絞り込むためのレンズが固定的
に取付けられていた。このため、光学ヘッドから出射さ
れるレーザ光による描画可能な線幅の範囲が限られてし
まうという問題があった。たとえば、線幅が細くされる
ためのレンズが使用された場合、太い線が一度に描画さ
れることは不可能であり、その線に沿って細い線が何回
も描画される必要があるという問題があった。特に、大
面積の塗り潰しパターンを描画するには、長時間を必要
とする問題があった。
【００２３】これに対し、図４に示すレンズ交換機構が
設けられることで、上記のような問題点が解決される。
すなわち、たとえばレンズ１０として１μｍ程度から数
１０μｍ程度までの線幅が描画可能な焦点距離が設定さ
れることができて、様々なパターンへの対応幅が広くな
るという効果が得られる。また、太い線幅がもたされる
ことができ、大面積の塗り潰しパターンなどであっても
描画時間が大幅に短縮されるという効果が得られる。
設けられることで、上記のような問題点が解決される。
すなわち、たとえばレンズ１０として１μｍ程度から数
１０μｍ程度までの線幅が描画可能な焦点距離が設定さ
れることができて、様々なパターンへの対応幅が広くな
るという効果が得られる。また、太い線幅がもたされる
ことができ、大面積の塗り潰しパターンなどであっても
描画時間が大幅に短縮されるという効果が得られる。
【００２４】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、被加
工物に出力されるべきレーザ光の光量パターンを記憶
し、その記憶されたレーザ光の光量パターンを読出し
て、読出されたレーザ光の光量パターンでレーザ光を被
加工物に出力するので、フィードフォアード的にレーザ
光の光量を制御でき、安定した描画線幅を得ることがで
きて、良好な描画が可能となる。
工物に出力されるべきレーザ光の光量パターンを記憶
し、その記憶されたレーザ光の光量パターンを読出し
て、読出されたレーザ光の光量パターンでレーザ光を被
加工物に出力するので、フィードフォアード的にレーザ
光の光量を制御でき、安定した描画線幅を得ることがで
きて、良好な描画が可能となる。
【図１】この発明の一実施例によるレーザ描画装置の全
体の構成を示すブロック図である。
体の構成を示すブロック図である。
【図２】図１のコントローラの内部構成を示したブロッ
ク図である。
ク図である。
【図３】図２に示すコントローラの動作を説明するため
の図である。
の図である。
【図４】図１の光学ヘッドの先端に取付けられたレンズ
交換機構の側面図である。
交換機構の側面図である。
【図５】従来のレーザ描画装置の全体構成を示したブロ
ック図である。
ック図である。
１ Ｈｅ−Ｃｄレーザチューブ ２，５，６ ミラー ３ パワーコントロール用ＡＯＭ ４ レーザパワーモニタ ７ パワーサーボ回路 ９ 電動レボルバユニット １０ 集光レンズ １１ ＸＹテーブル １２ 光学ヘッド １３ 第１のテーブル １４ 第２のテーブル １００ 被加工物 １０１ 書込用レーザ ２００ コントローラ ２０１ システムコントローラ（コンピュータ） ２０２ メモリ ２０３ 位置指令カウンタ
Claims (2)
- 【請求項１】 レーザ光で被加工物を描画するレーザ描
画装置であって、 その上に設けられた前記被加工物をＸＹ平面に移動可能
なＸＹテーブルと、 前記被加工物にレーザ光を出力するためのレーザ出力手
段と、 前記レーザ出力手段が出力すべきレーザ光の光量パター
ンを記憶した記憶手段と、 前記ＸＹテーブルの移動時に、前記記憶手段が記憶した
レーザ光の光量パターンを読出すとともに、その光量パ
ターンで前記レーザ出力手段がレーザ光を出力するよう
に前記レーザ出力手段を制御する制御手段とを備えた、
レーザ描画装置。 - 【請求項２】 前記記憶手段は、前記ＸＹテーブルの移
動パターンに対応づけられたレーザ光の光量パターンを
記憶しており、 前記制御手段は、 前記ＸＹテーブルを移動させるための指令値が与えられ
たことに応じて、前記記憶手段に記憶されたレーザ光の
光量パターンを読出す読出手段と、 前記読出手段が読出したレーザ光の光量パターンに応じ
たレーザ光を、前記レーザ出力手段に供給するレーザ供
給手段とを含む、請求項１記載のレーザ描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6328817A JPH08187582A (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | レーザ描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6328817A JPH08187582A (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | レーザ描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08187582A true JPH08187582A (ja) | 1996-07-23 |
Family
ID=18214431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6328817A Withdrawn JPH08187582A (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | レーザ描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08187582A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010528877A (ja) * | 2007-06-12 | 2010-08-26 | テクノラインズ エルエルシー | 高速・高出力レーザースクライビング方法およびレーザースクライビングシステム |
-
1994
- 1994-12-28 JP JP6328817A patent/JPH08187582A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010528877A (ja) * | 2007-06-12 | 2010-08-26 | テクノラインズ エルエルシー | 高速・高出力レーザースクライビング方法およびレーザースクライビングシステム |
| US8921732B2 (en) | 2007-06-12 | 2014-12-30 | Revolaze, LLC | High speed and high power laser scribing methods and systems |
| US9364920B2 (en) | 2007-06-12 | 2016-06-14 | Revolaze, LLC | High speed and high power laser scribing methods and systems |
| US9873277B2 (en) | 2007-06-12 | 2018-01-23 | Revolaze, LLC | High speed and high power laser scribing methods and systems |
| US10618334B2 (en) | 2007-06-12 | 2020-04-14 | Revolaze, LLC | High speed and high power laser scribing methods and systems |
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