JPH08199374A - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents

シャドウマスクの製造方法

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JPH08199374A
JPH08199374A JP1049495A JP1049495A JPH08199374A JP H08199374 A JPH08199374 A JP H08199374A JP 1049495 A JP1049495 A JP 1049495A JP 1049495 A JP1049495 A JP 1049495A JP H08199374 A JPH08199374 A JP H08199374A
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etching
resist pattern
shadow mask
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recessed part
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Tsutomu Tomono
務 伴野
Nobumitsu Aihara
伸光 相原
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Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 小凹部のエッチングと大凹部のエッチングと
分離し、かつ大凹部のエツチングを2段階にして3段エ
ッチングとすることにより、幅が狭くかつ厚さ方向に厚
いブリッジ部を有するスロット型シャドウマスクの製造
方法を提供する。 【構成】 少なくとも金属薄板2表裏両面に形成したレ
ジスト膜に、それぞれ第一のレジストパターン15およ
び第二のレジストパターン13を形成する工程と、該裏
面のレジストパターン15の開口部14をエッチングし
て裏面に小凹部16を形成する工程と、裏面全体にエッ
チング抵抗層17を形成する工程と、前記表面のレジス
トパターン13の開口部をエッチングして表面に大凹部
18を形成する工程と、表面に形成した大凹部18の周
辺部を被覆する第三のレジストパターン19を形成する
工程と、表面の凹部18の中心部の金属露出部をエッチ
ングして裏面の凹部と貫通する孔を形成する工程と、両
面のレジストパターン13,19およびエッチング抵抗
層17を除去する工程とによりシャドウマスクを製造す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はカラー陰極線管用のシャ
ドウマスクの製造方法に関し、特にスロットタイプのシ
ャドウマスクのブリッジ部を幅狭く、厚さを減少させず
に透過率が高く、しかも強度の大きなシャドウマスクを
エッチングにより形成する製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ストライプ型カラー陰極線管は、画像の
表示されるパネルの内面には、電子銃から放射される電
子ビームの走査線に対して垂直方向に縦長の連続した3
色蛍光体ストライプを多数列配設した蛍光膜が形成さ
れ、その蛍光面に対向して所定のパターンに配列形成さ
れ、機械的強度を維持するようにブリッジ部で連結され
た多数のスロット状の透孔を有するシャドウマスクが装
着されている。このシャドウマスクの透孔1は、図3に
示すように、シャドウマスクに衝突して蛍光面方向に反
射する電子ビームを少なくするため、蛍光面と対向する
面の開口1aが反対側の電子銃と対向する面の開口1b
より大きく形成されている。
【0003】従来、一般のシャドウマスクの製造は、特
開昭63−286588号公報に開示されているような
2段エッチング法で行なわれていた。すなわち、この2
段エッチング法は、図4a〜dに示すように、金属薄板
2の両面にシャドウマスクの透孔に対応する露出部3
a,3bを有するレジストパターン4a,4bを形成し
た(図4a)のち、大きな開口を形成するための表面の
レジストパターン4a側に保護フィルム5を貼着し(図
4b)、小さな開口を形成するための裏面の小面積の露
出部3b側をエッチングして、小凹部6を形成する(図
4c)。その後、その小面積の露出部3b側のレジスト
パターン4bを剥離し、このレジストパターン4bを剥
離した金属薄板2の裏面全面にエポキシ樹脂からなるニ
スを塗布してエッチング抵抗層7を形成し、さらに、表
面の大面積の露出部3a側に貼着された保護フィルム5
を剥がして、大面積の露出部3a側を小凹部6に貫通す
るまでエッチング液を吹き付けて深さ方向に異方性を持
たせてエッチングして大凹孔8を形成する(図4d)。
そして、エッチング抵抗層7およびレジスト膜4aを除
去して、透孔の出っ張りが小孔側の開口寸法と同じにな
るまでエッチングすると、図3に示すような透孔1を有
するシャドウマスクが得られる。
【0004】ところが、最近、ディスプレイ管等のよう
に、高精細のカラー陰極線管においてはシャドウマスク
の精細化に対する要求が高まっている。そのためには、
シャドウマスクの透孔およびその配列ピッチは小さくす
る必要があり、シャドウマスク板としては板厚を薄くす
る方が製造し易くなる。しかし陰極線管としては、透過
孔面積率の増加や大型化にともないシャドウマスクの成
形精度を高めるために、機械的強度を維持するために板
厚を厚くすることが必要になってきている。そこで、シ
ャドウマスクの連結部を幅狭で厚く加工するために、図
5a〜cに示すように、特開平2−298283号公報
に、1段目のエッチングを両面からハーフエッチングし
て、大凹部9および小凹部10とを形成し(図5a)、
大凹部9の周辺部に第二のレジスト膜11を形成し、裏
面の小凹部側をエッチング抵抗層7で被覆し(図5
b)、大凹部9を2段エッチングして、裏面の小凹部1
0と貫通させて(図5c)シャドウマスクを製造する方
法が開示されている。一方、スロット型シャドウマスク
におけるブリッジ部は電子ビームの非透過部となるた
め、表示画面に影部分を発生させるので、電子ビームの
フォーカス特性を向上し、ビームスポット径を小さくす
ればするほど、表示画面に明暗の差が大きくなりモアレ
縞の影響が顕著となるため、ブリッジ幅は、例えばスロ
ット孔長手方向ピッチの10〜20%程度というよう
に、出来るだけ小さく設計する必要があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】したがって、ブリッジ
幅をシャドウマスクの機械的強度を保持する最低限の幅
に設計すると、上述の2段エッチングの際、例え異方性
エッチングを採用しても、大凹部形成時このブリッジ部
がエッチングされブリッジ部の板厚が薄くなり、機械的
強度が維持できなくなるという問題があり、これを防ぐ
ため、ブリッジ幅を広くすると、電子ビームの透過率が
減少し、表示特性が劣化するという問題があった。ま
た、1段目のエッチングを両面からハーフエッチングす
る方法では、両面を同時にエッチングするため、深さ方
向に異方性を持たせたエッチング、例えばエッチング液
をエッチング面に吹き付けて深さ方向のエッチング量を
大きくするような方法が採用できず、ブリッジ部へのエ
ッチングを制御することが困難であるという問題があっ
た。本発明の目的は、上記の問題点を解決するために、
小凹部のエッチングと大凹部のエッチングと分離し、か
つ大凹部のエツチングを2段階にして3段エッチングと
することにより、幅が狭くかつ厚さ方向に厚いブリッジ
部を有するシャドウマスクの製造方法を提供することに
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、金属薄板表裏
両面に形成したレジスト膜に、それぞれ第一のレジスト
パターンおよび第二のレジストパターンを形成する工程
と、該裏面の第一のレジストパターンの開口部をエッチ
ングして裏面に小凹部を形成する工程と、裏面全体にエ
ッチング抵抗層を形成する工程と、該表面の第二のレジ
ストパターンの開口部をエッチングして表面に大凹部を
形成する工程と、表面に形成した大凹部の周辺部を被覆
する第三のレジストパターンを形成する工程と、第三の
レジストパターンの開口部をエッチングして裏面の凹部
と貫通する孔を形成する工程と、両面のエッチング抵抗
層およびレジストパターンを除去する工程とからなるシ
ャドウマスクの製造方法を提供する。また、ストライプ
型カラー陰極線管用のスロツト型シャドウマスクの製造
方法であって、前記第一のレジストパターンの開口部寸
法が前記第二のレジストパターンの開口部寸法に比べ長
手方向は長く、短手方向は短く形成することが望まし
い。
【0007】
【作用】上記製造方法によれば、シャドウマスクの透孔
のエッチング加工時、小凹部のエッチングを大凹部のエ
ッチングと分離し、大凹部のエッチングを2段階として
異方性エッチングを可能とすることにより、幅が狭く、
深い透孔を形成できるので、機械的強度の低下がなく、
電子ビームの透過率の減少による画面表示特性の低下も
ない、厚くかつ幅狭のブリッジ部を有するシャドウマス
クを得ることができる。なお、第一のレジストパターン
の開口部寸法を第二のレジストパターンの開口部寸法よ
り長手方向は長く、短手方向は短く形成することにより
厚くかつ幅狭のブリッジ部を有するスロット型シャドウ
マスクが得られる。
【0008】
【実施例】以下、本発明について、図面を参照して説明
する。従来例と同一部分には同一参照符号を付し説明を
省略する。本発明のシャドウマスクの製造方法の一実施
例は、図1a〜fに示すように、板厚0.18mmのア
ンバー材(Ni:36%、残部鉄)からなる金属薄板2
の裏面にシャドウマスクの透孔1に対応する幅60μ
m、長さ300μmの開口部12を長手方向のピッチ3
60μmで配列した第一のレジストパターン13を形成
し、表面に幅120μm、長さ260μmの長円形の開
口部14を同一ピッチで配列した第二のレジストパター
ン15を形成する(図1a)。ついで、表面側に保護フ
ィルム5を貼着し(図1b)、裏面側を異方性エッチン
グして、深さ45μmの小凹部16を形成する(図1
c)。その後、裏面側の第一のレジストパターン13を
剥離し、この金属薄板2の裏面全面にエポキシ樹脂から
なるニスを塗布してエッチング抵抗層17を形成し(図
1d),さらに、表面側に貼着された保護フィルム5を
剥がして、表面側を、例えば、エッチング液を吹き付け
るなどの異方性を持たせたハーフエッチングにより、深
さ80μmの大凹部18を形成する(図1e)。さら
に、この大凹部18の周辺部を20μmの幅で被覆する
第三のレジストパターン19を形成(図1f)してか
ら、表面側を裏面側の小凹部16と貫通するまでエッチ
ングして、エッチング抵抗層17および第二のレジスト
パターン15,19を除去すると、図2に示すような透
孔を有するシャドウマスクが得られる。この実施例のシ
ャドウマスクの製造方法によれば、図2に示すような幅
狭で、かつ板厚の減少のない断面形状のブリッジ部が形
成できるため、機械的強度の低下のない、しかも電子ビ
ームの透過率の高いスロット型シャドウマスクが得られ
る。
【0009】以上、表面側の開口部が120μm、裏面
側の開口部が60μmでブリッジ幅が略60μmのスロ
ット型シャドウマスクを異方性エッチングを採用して製
造した例について説明したが、本発明は上述の例に限定
されず、シャドウマスクの材質、板厚、スロットピッ
チ、開口部寸法等によりブリッジ幅は最適値に設計でき
るとともに、異方性エッチング法の採用の組合せも自由
にできることは言うまでもない。
【0010】
【発明の効果】本発明によれば、シャドウマスクの透孔
のエッチング加工時、小凹部のエッチングを大凹部のエ
ッチングと分離し、大凹部のエッチングを2段階とした
3段エッチングとすることにより、幅が狭く、深い透孔
を形成できるので、機械的強度の低下がなく、電子ビー
ムの透過率の減少による画面表示特性の低下もない、厚
くかつ幅狭のブリッジ部を有するシャドウマスクを得る
ことができる。なお、第一のレジストパターンの開口部
寸法を第二のレジストパターンの開口部寸法より長手方
向は長く、短手方向は短く形成することにより、厚くか
つ幅狭のブリッジ部を有するスロット型シャドウマスク
が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 a〜f 本発明の一実施例のシャドウマスク
の製造方法の工程説明図
【図2】 本発明の製造方法によるシャドウマスクの要
部断面図
【図3】 従来のシャドウマスクの要部断面図
【図4】 a〜d 従来のシャドウマスクの製造方法の
工程説明図
【図5】 a〜d 従来の他のシャドウマスクの製造方
法の工程説明図
【符号の説明】
2 金属薄板 5 保護フィルム 12,14 開口部 13 第一のレジストパターン 15 第二のレジストパターン 16 小凹部 17 エッチング抵抗層 18 大凹部 19 第三のレジストパターン

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】金属薄板両面に形成したレジスト膜に、そ
    れぞれ第一のレジストパターンおよび第二のレジストパ
    ターンを形成する工程と、該第一のレジストパターンの
    開口部をエッチングして裏面に小凹部を形成する工程
    と、裏面全体にエツチング抵抗層を形成し、かつ前記第
    二のレジストパターンの開口部をエッチングして表面に
    大凹部を形成する工程と、表面に形成した大凹部の周辺
    部を被覆する第三のレジストパターンを形成する工程
    と、第三のレジストパターンの開口部をエッチングして
    裏面の小凹部と貫通する孔を形成する工程と、両面のエ
    ッチング抵抗層およびレジストパターンを除去する工程
    とからなるシャドウマスクの製造方法。
  2. 【請求項2】ストライプ型カラー陰極線管用のスロット
    型シャドウマスクの製造方法であって、前記第一のレジ
    ストパターンの開口部寸法が前記第二のレジストパター
    ンの開口部寸法に比べ長手方向は長く、短手方向は短く
    形成することを特徴とする請求項1記載のシャドウマス
    クの製造方法。
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