JPH08201037A - Pattern inspection device and method - Google Patents

Pattern inspection device and method

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Publication number
JPH08201037A
JPH08201037A JP3014995A JP3014995A JPH08201037A JP H08201037 A JPH08201037 A JP H08201037A JP 3014995 A JP3014995 A JP 3014995A JP 3014995 A JP3014995 A JP 3014995A JP H08201037 A JPH08201037 A JP H08201037A
Authority
JP
Japan
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block
image data
pattern
master
pixels
Prior art date
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Pending
Application number
JP3014995A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takao Kanai
孝夫 金井
Kenta Nagai
健太 永井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP3014995A priority Critical patent/JPH08201037A/en
Publication of JPH08201037A publication Critical patent/JPH08201037A/en
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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
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  • Image Analysis (AREA)

Abstract

PURPOSE: To detect a difference part between two patterns by the rocking comparison for each local region without using a large-scale hardware and without requiring a long time. CONSTITUTION: The binary image data of an inspection target pattern are stored as object data and mask data (S10 and S12), data DP of each inspection block are successively extracted from the object data (S14), rocking is made and range is set with a position corresponding to a current inspection block in a mask pattern for each extraction, and data DM of each mask block which is successively shifted by one picture element two-dimensionally within the range are successively extracted (S18). Then, when all picture elements are '1' or '0' for both data DP and DM, a current inspection block is judged to be a matched part without rocking comparison (S22 and S32). Otherwise, rocking comparison (S24-S30) is performed, thus judging whether the inspection block is a matched part or a different part (S32 and S34).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、印刷工程の校正段階で
初校と再校とを比較して相違部分を検出するために使用
されるパターン検査装置及び方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pattern inspection apparatus and method used for comparing a first school and a second school to detect a difference in a calibration step of a printing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】印刷工程の校正段階では、校正刷り又は
製版フィルムの初校と再校とを比較して相違部分を検出
し、修正指示された箇所が正しく修正されているか、ま
た修正指示された箇所以外で変更された部分はないか、
を確かめるという検版作業が行なわれる。このような作
業を行なうための検版装置としては、初校と再校のフィ
ルムをテレビカメラで撮像して得られる画像をメモリに
記憶し、記憶された初校と再校の画像を比較照合して両
者間での相違部分を点滅表示させるもの(以下「従来例
1」という)が、特公平4−61345号公報において
開示されている。
2. Description of the Related Art At the proofreading stage of a printing process, a proof or a plate-making film is compared with a first school and a second school to detect a difference, and whether or not a correction-instructed portion is correctly corrected or not. There are no changes other than the above,
The plate inspection work is done to confirm. As a plate inspection device for performing such work, the images obtained by shooting the film of the first school and the re-school with a TV camera are stored in the memory, and the stored images of the first school and the re-school are compared and collated. Japanese Patent Publication No. 4-61345 discloses a method in which a difference between the two is displayed in a blinking manner (hereinafter referred to as "conventional example 1").

【0003】上記従来例1において初校と再校の画像を
比較照合する際には、初校と再校との位置合わせが必要
となる。上記公報には、この位置合わせについて次の二
つの方法が記載されている。 (1)ピン機構による方法 (2)メモリに記憶した初校の画像と、現在テレビカメ
ラで取り込んでいる再校の画像とを交互に表示しなが
ら、再校フィルムの位置を合わせるという方法
When the images of the first school and the re-school are compared and collated in the prior art example 1, it is necessary to align the positions of the first school and the re-school. The above publication describes the following two methods for this alignment. (1) Method using pin mechanism (2) Method to align the position of the re-school film while alternately displaying the first-school image stored in the memory and the re-school image currently captured by the TV camera

【0004】一方、二つの画像パターンを比較照合する
方法として、二つの画像パターンを所定範囲内でずらし
ながら局所領域毎に比較することにより、対象物の位置
ずれや位置合わせ誤差を吸収しつつ二つのパターンを照
合するという方法(以下「揺すらせ比較法」という)が
知られており、揺すらせ比較法の実施例としてのパター
ン欠陥検査装置(以下「従来例2」という)が特公平6
−21769号公報に開示されている。このパターン欠
陥検査装置は、2値画素信号の2次元オブジェクトパタ
ーンを2次元マスタパターンと所定の大きさの局所領域
毎に比較して欠陥検出を行なうものであって、オブジェ
クトパターンの一つの局所領域に対し、図5に示すよう
に、マスタパターンにおいて位置的に対応する局所領域
M0を中心として2次元的に所定画素数だけ周辺を広げ
たエリア(以下「揺すらせ範囲」といい、図5では上下
左右に3画素ずつ広げたエリアを揺すらせ範囲としてい
る)を設定し、その揺すらせ範囲内で2次元的に1画素
ずつ順次ずれた複数の局所領域M11〜M77のマスタパタ
ーンと、前記一つの局所領域のオブジェクトパターンと
を、検査ウィンドウWMを利用したパターンマッチング
法により比較する。このとき、パターン全体の検査に要
する時間を短縮するために、一つの局所領域のオブジェ
クトパターンと、複数の局所領域M11〜M77のマスタパ
ターンとのパターンマッチングが並列処理により行なわ
れる。
On the other hand, as a method of comparing and collating two image patterns, by comparing the two image patterns for each local area while shifting them within a predetermined range, it is possible to absorb the positional deviation and the positioning error of the object. A method of matching two patterns (hereinafter referred to as “shaking comparison method”) is known, and a pattern defect inspection apparatus (hereinafter referred to as “conventional example 2”) as an example of the shaking comparison method is disclosed in Japanese Patent Publication No.
-21769 gazette. This pattern defect inspection apparatus detects a defect by comparing a two-dimensional object pattern of a binary pixel signal with a two-dimensional master pattern for each local area having a predetermined size. One local area of the object pattern is detected. On the other hand, as shown in FIG. 5, an area (hereinafter referred to as a “shaking range”) in which the periphery is expanded two-dimensionally by a predetermined number of pixels centering on the local area M0 corresponding to the position in the master pattern is used. An area expanded by 3 pixels vertically and horizontally is set as a shaking range), and a master pattern of a plurality of local regions M11 to M77 which is sequentially shifted two-dimensionally by one pixel within the shaking range is set. The object pattern of one local area is compared with the pattern matching method using the inspection window WM. At this time, in order to reduce the time required to inspect the entire pattern, pattern matching between the object pattern of one local area and the master pattern of the plurality of local areas M11 to M77 is performed by parallel processing.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記従来例1において
初校と再校との位置合わせに(1)の方法を採用した場
合、ピン穴の無い検査対象物に対してはピン用の穴を新
たに設けなければならない。また、(2)の方法を採用
した場合には、作業者がモニタの画面を見ながら手で検
査対象物(再校フィルム)を移動させることになるた
め、位置合わせに精度的な限界がある。これに対し、別
途駆動機構を設けて検査対象物を移動させることも考え
られるが、この場合にはコストの上昇を招くとともに装
置も大型化するという問題が生じる。さらに、検査対象
物が紙のように伸縮を伴う場合には、(1)と(2)の
いずれの方法によっても検査対象物の各部を全て一致さ
せることはできない。
When the method (1) is used for the alignment between the first school and the re-school in the above-mentioned conventional example 1, a pin hole is provided for an inspection object having no pin hole. Must be newly established. Further, when the method of (2) is adopted, the operator moves the inspection object (revision film) by hand while looking at the screen of the monitor, so that there is a limit to the accuracy of alignment. . On the other hand, it is conceivable to separately provide a drive mechanism to move the inspection object, but in this case, there is a problem that the cost is increased and the apparatus is enlarged. Furthermore, when the inspection object is stretchable like paper, it is not possible to make all the parts of the inspection object match by any of the methods (1) and (2).

【0006】一方、従来例2では、従来例1における上
記欠点を解消することができるが、一つの局所領域のオ
ブジェクトパターンと、複数の局所領域M11〜M77のマ
スタパターンとのパターンマッチングが並列処理により
行なわれるため、そのパターンマッチングのためのハー
ドウェアが大規模化し、コスト上昇を招く。また、検版
装置では、紙のように伸縮を伴うものが検査対象物とさ
れたり、伸縮を無視できる検査対象物であっても検査対
象物の二つの画像の間に傾きが生じたりするため、伸縮
が蓄積されて位置ずれが大きくなったり、画像の傾きに
よって端部における位置ずれが大きくなったりする(図
6参照)。揺すらせ比較においてこれらに対処するため
には、揺すらせ範囲を大きくしなければならない。揺す
らせ範囲が大きくなると、従来例2のような並列処理を
行なう場合にはハードウェアが大規模化する。一方、ハ
ードウェアの大規模化を避けるために揺すらせ比較を逐
次的に行なう場合には、揺すらせ範囲が大きくなると処
理時間が長くなる。
On the other hand, in the conventional example 2, the above-mentioned drawbacks in the conventional example 1 can be solved, but the pattern matching of the object pattern of one local area and the master pattern of the plurality of local areas M11 to M77 is performed in parallel. The hardware for the pattern matching becomes large in scale, and the cost is increased. Further, in the plate inspection device, an object to be stretched like paper is regarded as an inspection object, or even an inspection object whose expansion and contraction can be ignored may cause an inclination between two images of the inspection object. As a result, expansion and contraction are accumulated to increase the positional deviation, or the positional deviation at the end portion is increased due to the inclination of the image (see FIG. 6). In order to deal with these in the shake comparison, the shake range must be increased. When the shaking range becomes large, the hardware becomes large in scale when performing parallel processing as in the second conventional example. On the other hand, in the case where the shake comparison is sequentially performed in order to avoid increasing the scale of the hardware, the processing time becomes longer as the shake range increases.

【0007】本発明はこのような問題を解決するために
成されたものであり、その目的とするところは、大規模
なハードウェアを使用することなく、かつ、長い処理時
間を要することなく、揺すらせ比較法に基づく局所領域
毎の比較によって二つの画像パターン間での相違部分を
検出するパターン検査装置及び方法を提供することにあ
る。
The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to use a large-scale hardware without requiring a long processing time. It is an object of the present invention to provide a pattern inspection apparatus and method for detecting a difference between two image patterns by comparing each local area based on the shake comparison method.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明に係る第1のパターン検査装置では、
二つの検査対象パターンを照合し、該二つの検査対象パ
ターン間での相違部分を検出するパターン検査装置にお
いて、 a)前記二つの検査対象パターンを2次元的に走査して
画素毎に読み取ることにより、"1"と"0"の2種類の値
から成る二つの2値画像データを生成する画像入力手段
と、 b)画像入力手段によって生成された二つの2値画像デ
ータを、それぞれオブジェクトパターンを表わすオブジ
ェクトデータ及びマスタパターンを表わすマスタデータ
として記憶する画像記憶手段と、 c)オブジェクトパターンにおける複数画素から成るブ
ロックを単位として各ブロックに対応する画像データを
オブジェクトデータから順次抽出するオブジェクト抽出
手段と、 d)オブジェクト抽出手段によって1ブロック分の画像
データが抽出される毎に、該ブロックにおける"1"の画
素の数及び"0"の画素の数を求めるオブジェクト計数手
段と、 e)オブジェクト抽出手段によってブロック単位で抽出
される画像データに対し、マスタパターンにおいて該画
像データのブロックと位置的に対応するブロックを中心
ブロックとして2次元的に所定画素数だけ周辺に広げた
拡張ブロックを設定し、該拡張ブロック内で2次元的に
1画素ずつ順次ずれた各ブロックに対応する画像データ
をマスタデータから順次抽出するマスタ抽出手段と、 f)オブジェクトパターンの1ブロックに対してオブジ
ェクト計数手段によって求められた"1"の画素の数及
び"0"の画素の数に基づき、"1"の画素の割合又は"0"
の画素の割合が100%近傍の所定値よりも大きいか否
かを調べ、該所定値よりも大きい場合は、オブジェクト
パターンの前記ブロックは相違部分ではないと判定し
て、オブジェクト抽出手段に未抽出の1ブロック分の画
像データを次のブロックの画像データとして抽出させ、
該所定値以下の場合は、オブジェクトパターンの前記ブ
ロックに対応するマスタパターンの拡張ブロック内の各
ブロックの画像データの抽出をマスタ抽出手段に順次行
なわせる第1制御手段と、 g)オブジェクト抽出手段によってブロック単位で抽出
される画像データを、該画像データに対応してマスタ抽
出手段によって拡張ブロック内からブロック単位で順次
抽出される各画像データと比較し、比較される二つの画
像データによって表わされる二つのパターンが一致する
か否かを順次判定する照合手段と、 h)前記拡張ブロック内のいずれかのブロックについて
前記二つのパターンが一致すると照合手段によって判定
されると、マスタ抽出手段による該拡張ブロック内から
の画像データの抽出を中止するとともに、オブジェクト
抽出手段に次のブロックの画像データとして未抽出の1
ブロック分の画像データを抽出させる第2制御手段と、
を備えることを特徴としている。
A first pattern inspection apparatus according to the present invention made to solve the above problems,
In a pattern inspection apparatus for collating two inspection target patterns and detecting a difference between the two inspection target patterns, a) by two-dimensionally scanning the two inspection target patterns and reading each pixel , An image input means for generating two binary image data composed of two kinds of values of "1" and "0", and b) two binary image data generated by the image input means, respectively, as an object pattern. Image storage means for storing as object data and master data representing a master pattern; and c) object extraction means for sequentially extracting from the object data image data corresponding to each block in units of a block consisting of a plurality of pixels in the object pattern. d) Image data for one block is extracted by the object extracting means. Object counting means for determining the number of pixels of "1" and the number of pixels of "0" in each block, and e) the image in the master pattern for the image data extracted in block units by the object extracting means. An extension block is set which is two-dimensionally expanded to a periphery by a predetermined number of pixels with a block positionally corresponding to a block of data as a central block, and each block is sequentially shifted one-dimensionally by two pixels in the extension block. Master extraction means for sequentially extracting corresponding image data from the master data, and f) based on the number of "1" pixels and the number of "0" pixels obtained by the object counting means for one block of the object pattern. , Ratio of pixels of "1" or "0"
Is larger than a predetermined value in the vicinity of 100%, and if it is larger than the predetermined value, it is determined that the block of the object pattern is not a different portion, and it is not extracted by the object extraction means. Image data for one block is extracted as image data for the next block,
When the value is less than the predetermined value, the first control means for causing the master extraction means to sequentially extract the image data of each block in the extended block of the master pattern corresponding to the block of the object pattern, and g) by the object extraction means The image data extracted in block units is compared with each image data sequentially extracted in block units from the extension block by the master extraction unit corresponding to the image data, and the image data represented by the two image data to be compared is compared. Collating means for sequentially determining whether two patterns match, and h) if the collating means determines that the two patterns match for any block in the extension block, the extension block by the master extracting means. The extraction of the image data from the inside is stopped and the object extracting means Unextracted as image data of the next block 1
Second control means for extracting image data for blocks,
It is characterized by having.

【0009】本発明に係る第2のパターン検査装置で
は、上記第1のパターン検査装置において、マスタ抽出
手段によって抽出された1ブロック分の画像データに基
づいて該ブロックにおける"1"の画素の数及び"0"の画
素の数を求めるマスタ計数手段を更に備え、第1制御手
段は、オブジェクトパターンの1ブロックにおける"1"
の画素の割合又は"0"の画素の割合が前記所定値よりも
大きい場合に、 i)オブジェクトパターンの該ブロックに対応するマス
タパターンの拡張ブロック内の各ブロックの画像データ
をマスタ抽出手段に順次抽出させ、 ii)該拡張ブロック内の1ブロックに対してマスタ計数
手段によって求められた"1"の画素の数及び"0"の画素
の数に基づき、"1"の画素の割合又は"0"の画素の割合
が100%近傍の所定値よりも大きいか否かを調べ、該
所定値よりも大きいときにのみ、オブジェクトパターン
の該ブロックは相違部分ではないと判定して、マスタ抽
出手段による該拡張ブロック内からの画像データの抽出
を中止するとともに、オブジェクト抽出手段に次のブロ
ックの画像データとして未抽出の1ブロック分の画像デ
ータを抽出させる、ことを特徴としている。
In a second pattern inspection apparatus according to the present invention, in the first pattern inspection apparatus, the number of "1" pixels in the block is determined based on the image data for one block extracted by the master extraction means. And master counting means for determining the number of pixels of "0", and the first control means is "1" in one block of the object pattern.
When the ratio of the pixels of "0" or the ratio of the pixels of "0" is larger than the predetermined value, i) the image data of each block in the extended block of the master pattern corresponding to the block of the object pattern is sequentially transmitted to the master extraction unit. Ii) based on the number of pixels of "1" and the number of pixels of "0" obtained by the master counting means for one block in the extension block, the ratio of pixels of "1" or "0" It is determined by the master extraction means whether the block of the object pattern is not a different portion only when the ratio of the pixels of "is larger than a predetermined value in the vicinity of 100%. Stopping the extraction of the image data from within the extended block, and causing the object extraction means to extract the unextracted image data of one block as the image data of the next block. It is characterized.

【0010】本発明に係る第1のパターン検査方法で
は、二つの検査対象パターンを2次元的に走査して画素
毎に読み取ることにより、"1"と"0"の2種類の値から
成る二つの2値画像データを生成して、該二つの2値画
像データを、それぞれオブジェクトパターンを表わすオ
ブジェクトデータ及びマスタパターンを表わすマスタデ
ータとして記憶し、オブジェクトパターンにおける複数
画素から成るブロックを単位として各ブロックに対応す
る画像データをオブジェクトデータから順次抽出し、オ
ブジェクトデータからブロック単位で抽出される画像デ
ータに対し、マスタパターンにおいて該画像データのブ
ロックと位置的に対応するブロックを中心ブロックとし
て2次元的に所定画素数だけ周辺に広げた拡張ブロック
を設定して、該拡張ブロック内で2次元的に1画素ずつ
順次ずれた各ブロックに対応する画像データをマスタデ
ータから順次抽出し、オブジェクトデータからブロック
単位で抽出された画像データを、該画像データに対応し
て前記拡張ブロック内からブロック単位で順次抽出され
る各画像データと比較し、比較される二つの画像データ
によって表わされる二つのパターンが一致するか否かを
順次判定する、という処理により、ブロック単位で前記
二つの検査対象パターンにおける相違部分を検出するパ
ターン検査方法において、 a)オブジェクトパターンにおける1ブロック分の画像
データがオブジェクトデータから抽出される毎に、該画
像データに基づいて"1"の画素の割合又は"0"の画素の
割合が100%近傍の所定値よりも大きいか否かを調
べ、 b)前記所定値よりも大きい場合に、オブジェクトパタ
ーンにおける前記ブロックは相違部分ではないと判定し
て、オブジェクパターンにおける次のブロックの画像デ
ータとして未抽出の1ブロック分の画像データをオブジ
ェクトデータから抽出し、 c)前記所定値以下である場合に、オブジェクトパター
ンにおける前記ブロックに対応するマスタパターンの拡
張ブロック内の各ブロックの画像データを前記比較の対
象の画像データとしてマスタデータから順次抽出する、
ことを特徴としている。
According to the first pattern inspection method of the present invention, two patterns to be inspected are two-dimensionally scanned and read out for each pixel, so that two patterns of "1" and "0" are formed. One binary image data is generated, and the two binary image data are stored as object data representing an object pattern and master data representing a master pattern, respectively, and each block is made up of a block composed of a plurality of pixels in the object pattern as a unit. The image data corresponding to the image data is sequentially extracted from the object data, and the image data extracted in block units from the object data is two-dimensionally set with the block positionally corresponding to the block of the image data in the master pattern as the central block. Set an expansion block that expands to the periphery by a specified number of pixels and The image data corresponding to each block which is two-dimensionally shifted by one pixel in the lock is sequentially extracted from the master data, and the image data extracted in block units from the object data is expanded according to the image data. By comparing with each image data sequentially extracted from within the block in block units, it is sequentially determined whether or not two patterns represented by the two image data to be compared coincide with each other. In a pattern inspection method for detecting a different portion in two inspection target patterns, a) every time one block of image data in an object pattern is extracted from the object data, the ratio of pixels of "1" based on the image data or Check whether the ratio of "0" pixels is larger than a predetermined value near 100%, b) If it is larger than the value, it is determined that the block in the object pattern is not a different portion, and one block of unextracted image data is extracted from the object data as image data of the next block in the object pattern, and c). If the predetermined value or less, the image data of each block in the extended block of the master pattern corresponding to the block in the object pattern is sequentially extracted from the master data as the image data of the comparison,
It is characterized by:

【0011】本発明に係る第2のパターン検査方法で
は、上記第1のパターン検査方法において、オブジェク
トパターンの1ブロックにおける"1"の画素の割合又
は"0"の画素の割合が前記所定値よりも大きい場合に、 i)オブジェクトパターンの該ブロックに対応するマス
タパターンの拡張ブロック内の各ブロックの画像データ
を順次抽出し、 ii)該拡張ブロック内の1ブロック分の画像データに基
づいて"1"の画素の割合又は"0"の画素の割合が100
%近傍の所定値よりも大きいか否かを調べ、該所定値よ
りも大きいときにのみ、オブジェクトパターンの該ブロ
ックは相違部分ではないと判定して、該拡張ブロック内
からの画像データの抽出を中止するとともに、オブジェ
クパターンにおける次のブロックの画像データとして未
抽出の1ブロック分の画像データをオブジェクトデータ
から抽出する、ことを特徴としている。
A second pattern inspection method according to the present invention is the same as the first pattern inspection method, wherein a ratio of "1" pixels or a ratio of "0" pixels in one block of the object pattern is smaller than the predetermined value. If i is also large, i) the image data of each block in the extension block of the master pattern corresponding to the block of the object pattern is sequentially extracted, and ii) "1" based on the image data of one block in the extension block. The percentage of "pixels" or the percentage of "0" pixels is 100
% It is checked whether or not it is larger than a predetermined value in the vicinity, and only when it is larger than the predetermined value, it is determined that the block of the object pattern is not a different portion, and image data extraction from the extension block is performed. It is characterized in that the image data for one block that has not been extracted as the image data for the next block in the object pattern is extracted from the object data while being stopped.

【0012】[0012]

【作用】 [第1のパターン検査装置の作用]本発明に係る第1の
パターン検査装置によると、二つの検査対象パターンを
読み取って得られた2値画像データであるオブジェクト
データ及びマスタデータが画像記憶手段に記憶され、こ
れらのデータに基づき、以下のようにして二つの検査対
象パターン間での相違部分が検出される。
[Operation of First Pattern Inspection Apparatus] According to the first pattern inspection apparatus of the present invention, object data and master data, which are binary image data obtained by reading two patterns to be inspected, form an image. The difference between the two patterns to be inspected is detected in the following manner based on these data stored in the storage means.

【0013】まず、オブジェクト抽出手段により、オブ
ジェクトデータからブロック単位で画像データが順次抽
出される。この抽出毎に、オブジェクト計数手段によ
り、抽出された画像データに基づいてオブジェクトパタ
ーンの1ブロックにおける"1"の画素の数及び"0"の画
素の数が求められ、第1制御手段によってそのブロック
における"1"の画素の割合又は"0"の画素の割合が10
0%近傍の所定値よりも大きいか否かが調べられる。
First, the object extraction means sequentially extracts image data from the object data in block units. For each extraction, the object counting means determines the number of pixels of "1" and the number of pixels of "0" in one block of the object pattern based on the extracted image data, and the first control means determines that block. The ratio of "1" pixels or the ratio of "0" pixels in
It is checked whether it is larger than a predetermined value near 0%.

【0014】"1"の画素の割合又は"0"の画素の割合が
所定値よりも大きい場合は、そのブロックは空白部分又
はベタ部分と判断することができる。そして、検版作業
の対象である初校における空白部分やベタ部分に再校に
おいて文字や絵柄が追加挿入される場合は少ないため、
空白部分又はベタ部分については、通常、オブジェクト
パターンとマスタパターンとは一致するとみなすことが
できる。そこで、"1"の画素の割合又は"0"の画素の割
合が所定値よりも大きい場合は、そのブロックは一致部
分であると判定され、オブジェクトパターンにおける次
のブロックの画像データがオブジェクト抽出手段によっ
て抽出される。
When the ratio of pixels of "1" or the ratio of pixels of "0" is larger than a predetermined value, it can be judged that the block is a blank part or a solid part. And since there are few cases where additional characters and patterns are inserted in the blank part and solid part in the first school which is the target of plate inspection work in the re-school,
Regarding the blank portion or the solid portion, it can be generally considered that the object pattern and the master pattern match. Therefore, when the ratio of the pixels of "1" or the ratio of the pixels of "0" is larger than a predetermined value, it is determined that the block is a matching portion, and the image data of the next block in the object pattern is the object extracting means. Extracted by.

【0015】"1"の画素の割合又は"0"の画素の割合が
所定値以下の場合は、そのブロックは空白部分でもベタ
部分でもないとして、揺すらせ比較法に基づき、そのブ
ロックについてオブジェクトパターンとマスタパターン
とが一致するか否かが判定される。
When the ratio of pixels of "1" or the ratio of pixels of "0" is less than a predetermined value, it is determined that the block is neither a blank part nor a solid part, and the object pattern is determined for the block based on the shake comparison method. And the master pattern match.

【0016】このために、まず、オブジェクト抽出手段
によってブロック単位で抽出された画像データに対し、
マスタ抽出手段により、その抽出に係るオブジェクトパ
ターンのブロックと位置的に対応するマスタパターンの
ブロックを中心ブロックとする拡張ブロックがマスタパ
ターンに設定され、この拡張ブロック内で2次元的に1
画素ずつ順次ずれた各ブロックに対応する画像データが
マスタデータから順次抽出される。
To this end, first, for the image data extracted in block units by the object extracting means,
By the master extraction means, an extension block whose central block is a block of the master pattern that positionally corresponds to the block of the object pattern related to the extraction is set as the master pattern, and within this extension block, one is two-dimensionally set.
The image data corresponding to each block sequentially shifted pixel by pixel is sequentially extracted from the master data.

【0017】このようにして拡張ブロック内の各ブロッ
ク分としてマスタデータから順次抽出される画像データ
は、その拡張ブロックに対応するオブジェクトパターン
の1ブロック分としてオブジェクトデータから抽出され
た画像データと照合手段によって比較され、それら二つ
の画像データによって表わされる二つのパターンが一致
するか否かが順次判定される。これにより、オブジェク
トパターンとマスタパターンとの位置ずれを拡張ブロッ
クの範囲内で補正しつつ両パターンをブロック単位で照
合するという処理、すなわちブロック単位の揺すらせ比
較が逐次的に行なわれることになる。
The image data sequentially extracted from the master data as each block in the extension block in this manner is compared with the image data extracted from the object data as one block of the object pattern corresponding to the extension block. Are compared, and it is sequentially determined whether or not the two patterns represented by the two image data match. Thus, the process of collating both patterns in block units while correcting the positional deviation between the object pattern and the master pattern within the range of the extended block, that is, the shaking comparison in block units is sequentially performed.

【0018】照合手段による比較の結果、一致すると判
定された場合は、オブジェクトパターンにおける現時点
のブロックは一致部分であるとされ、現時点の拡張ブロ
ックについてマスタ抽出手段による画像データの抽出が
終了する。この後、オブジェクトパターンの次のブロッ
クについてマスタパターンと一致するか否かを判定する
ために、オブジェクト抽出手段によって次のブロックの
画像データが抽出される。一方、照合手段による比較の
結果、拡張ブロック内で1画素ずつ順次ずれた全てのブ
ロックについて一致しないと判定された場合は、オブジ
ェクトパターンにおける現時点のブロックは相違部分と
され、オブジェクト抽出手段によって次のブロックの画
像データが抽出される。
If it is determined as a result of comparison by the collating means that the current block in the object pattern is the matching portion, the extraction of image data by the master extracting means for the current extended block is completed. After that, the image data of the next block is extracted by the object extracting means in order to determine whether or not the next block of the object pattern matches the master pattern. On the other hand, as a result of the comparison by the collating means, if it is determined that all blocks sequentially shifted by one pixel in the extended block do not match, the current block in the object pattern is determined as a different portion, and the object extracting means The image data of the block is extracted.

【0019】以上のようにしてオブジェクトパターンの
各ブロック毎にマスタパターンと一致するか否かが判定
され、オブジェクトパターンにおいて一致/不一致の未
判定ブロックが無くなると、本パターン検査装置による
動作が完了する。
As described above, it is determined for each block of the object pattern whether or not it matches the master pattern, and when there is no undetermined block of matching / mismatching in the object pattern, the operation of this pattern inspection apparatus is completed. .

【0020】[第2のパターン検査装置の作用]本発明
に係る第2のパターン検査装置によると、上記第1のパ
ターン検査装置と同様、オブジェクトデータ及びマスタ
データが画像記憶手段に記憶され、オブジェクト抽出手
段及びオブジェクト計数手段が動作する。そして、オブ
ジェクトデータから抽出された1ブロック分の画像デー
タに基づいて"1"の画素の数及び"0"の画素の数が求め
られた結果、そのブロックにおける"1"の画素の割合又
は"0"の画素の割合が所定値以下の場合は、マスタ抽出
手段及び照合手段により、そのブロックについての揺す
らせ比較が逐次的に行なわれる。
[Operation of Second Pattern Inspecting Device] According to the second pattern inspecting device of the present invention, the object data and the master data are stored in the image storing means as in the first pattern inspecting device. The extraction means and the object counting means operate. Then, the number of pixels of "1" and the number of pixels of "0" are obtained based on the image data of one block extracted from the object data, and as a result, the ratio of the pixels of "1" in the block or " When the ratio of 0 "pixels is equal to or less than the predetermined value, the master extraction unit and the collation unit sequentially perform the shaking comparison for the block.

【0021】しかし、上記第1のパターン検査装置と異
なり、"1"の画素の割合又は"0"の画素の割合が所定値
よりも大きい場合にもマスタ抽出手段が動作し、マスタ
計数手段により、マスタデータから抽出された1ブロッ
ク分の画像データに基づいて、そのブロックにおける"
1"の画素の数及び"0"の画素の数が求められる。そし
て、そのブロックにおける"1"の画素の割合又は"0"の
画素の割合も所定値よりも大きいときにのみ、すなわ
ち、オブジェクトパターンにおけるブロックとそれに対
応するマスタパターンにおける拡張ブロック内の1ブロ
ックとが共に空白部分又はベタ部分であるときにのみ、
オブジェクトパターンにおけるそのブロックは一致部分
と判定され、現時点の拡張ブロックについてのマスタ抽
出手段による画像データの抽出が終了する。この後、オ
ブジェクトパターンの次のブロックについてマスタパタ
ーンと一致するか否かを判定するために、オブジェクト
抽出手段によって次のブロックの画像データが抽出され
る。
However, unlike the first pattern inspection apparatus, the master extraction means operates even when the ratio of "1" pixels or the ratio of "0" pixels is larger than a predetermined value, and the master counting means operates. , Based on the image data for one block extracted from the master data,
The number of pixels of "1" and the number of pixels of "0" are obtained, and only when the ratio of pixels of "1" or the ratio of pixels of "0" in the block is also larger than a predetermined value, that is, Only when both the block in the object pattern and the one block in the extended block in the corresponding master pattern are blank portions or solid portions,
It is determined that the block in the object pattern is the matching portion, and the extraction of the image data by the master extracting means for the extension block at the present time is completed. After that, the image data of the next block is extracted by the object extracting means in order to determine whether or not the next block of the object pattern matches the master pattern.

【0022】[パターン検査方法の作用]本発明に係る
第1及び第2のパターン検査方法の作用は、それぞれ、
上記第1及び第2のパターン検査装置の作用と同様であ
って、オブジェクトパターンのブロック毎に空白部分又
はベタ部分であるか否かが調べられ、空白部分でもベタ
部分でもないブロックについては逐次的に揺すらせ比較
が行なわれる。これにより、二つの検査対象パターン間
での相違部分がブロック単位で検出される。
[Operation of Pattern Inspection Method] The operations of the first and second pattern inspection methods according to the present invention are as follows.
Similar to the operation of the first and second pattern inspection apparatuses, it is checked for each block of the object pattern whether or not it is a blank part or a solid part, and the blocks that are neither the blank part nor the solid part are sequentially examined. Shake to make a comparison. Thereby, the difference between the two inspection target patterns is detected in block units.

【0023】[0023]

【実施例】【Example】

[実施例のハードウェア構成]図2は、本発明の一実施
例(以下「実施例1」という)であるパターン検査シス
テムにおけるハードウェア構成を示す図である。このパ
ターン検査システムは、ポインティングデバイスとして
のマウス22が接続されたホストコンピュータ20、ス
キャナ12、及びプリンタ14から構成され、校正刷り
又は製版フィルムの初校と再校とを検査対象物10とす
るものであって、印刷工程の校正段階での検版作業に使
用される。
[Hardware Configuration of Embodiment] FIG. 2 is a diagram showing a hardware configuration of a pattern inspection system which is an embodiment (hereinafter referred to as “embodiment 1”) of the present invention. This pattern inspection system includes a host computer 20 to which a mouse 22 as a pointing device is connected, a scanner 12 and a printer 14, and uses a proof or a plate-making film as a first school and a re-school as an inspection object 10. It is used for plate inspection work in the proofreading stage of the printing process.

【0024】このパターン検査システムにおいてスキャ
ナ12は、検査対象物10である初校及び再校のパター
ンを読み取ってそれらの画像データを生成する。この画
像データはホストコンピュータ20に転送される。な
お、スキャナ12の代わりにテレビカメラで検査対象物
10のパターンを読み取ることにより画像データを生成
してもよい。
In this pattern inspection system, the scanner 12 reads the patterns of the first school and the second school which are the inspection object 10 and generates image data thereof. This image data is transferred to the host computer 20. The image data may be generated by reading the pattern of the inspection object 10 with a television camera instead of the scanner 12.

【0025】ホストコンピュータ20は、CPU、メモ
リ、CRTディスプレイ、及びI/Oポート等を備えて
おり、スキャナ12から転送された上記画像データを2
値化した後、初校に対する2値画像データをオブジェク
トデータとして、再校に対する2値画像データをマスタ
データとして、それぞれ内部のメモリに記憶する。そし
て、これらのマスタデータ及びオブジェクトデータとマ
ウス22による入力操作に基づいて後述の処理を行な
い、初校と再校との相違部分を検出する。この相違部分
を示すデータは検査結果としてプリンタ14に転送され
る。
The host computer 20 is equipped with a CPU, a memory, a CRT display, an I / O port, etc., and stores the image data transferred from the scanner 12 in two.
After the binarization, the binary image data for the first school is stored as the object data, and the binary image data for the re-school is stored as the master data in the internal memories. Then, based on these master data and object data and the input operation by the mouse 22, the processing described later is performed to detect the difference between the first school and the re-school. The data indicating this difference is transferred to the printer 14 as the inspection result.

【0026】プリンタ14は、ホストコンピュータ20
から転送された検査結果のデータに基づき、初校と再校
との相違部分を出力する。なお、プリンタの代わりにプ
ロッタ、CRTディスプレイ等に初校と再校との相違部
分を出力させてもよい。
The printer 14 is a host computer 20.
Based on the inspection result data transferred from, the difference between the first school and the re-school is output. Instead of the printer, a plotter, a CRT display or the like may output the difference between the first school and the second school.

【0027】[相違検出処理]本実施例では、初校と再
校との相違部分を検出するための処理(以下「相違検出
処理」という)は、ホストコンピュータ20において所
定のプログラムに基づくCPUの動作により行なわれ
る。この相違検出処理の原理は既述の従来例2の欠陥検
出処理の原理と基本的には同一であり、局所領域(以下
「検査ブロック」という)毎に揺すらせ比較が行なわれ
る。以下、本実施例の相違検出処理の詳細につき図1の
フローチャートを参照しつつ説明する。
[Difference Detection Processing] In the present embodiment, the processing for detecting the difference between the first school and the re-school (hereinafter referred to as “difference detection processing”) is performed by the CPU based on a predetermined program in the host computer 20. It is performed by operation. The principle of this difference detection processing is basically the same as the principle of the defect detection processing of the conventional example 2 described above, and the comparison is performed by shaking each local area (hereinafter referred to as "inspection block"). The details of the difference detection process of this embodiment will be described below with reference to the flowchart of FIG.

【0028】まずステップS10において、校正刷り又
は製版フィルムの初校である修正前のパターンを読み取
って得られたデータを2値化した後、オブジェクトデー
タとしてメモリに記憶する。同様にステップS12にお
いて、校正刷り又は製版フィルムの再校である修正後の
パターンを読み取って得られたデータを2値化した後、
マスタデータとしてメモリに記憶する。本実施例では、
スキャナ12において初校及び再校が載置される位置が
ピン機構によって決定され、これにより、マスタデータ
によって表わされるマスタパターンとオブジェクトデー
タによって表わされるオブジェクトパターンとは概略的
な位置合わせが行なわれた状態となっている。なお、位
置合わせ手段としてのピン機構が採用されていない場合
には、上記のようにして初校と再校のパターンを読み取
った後に、例えば次のようにして位置合わせを行なって
もよい。すなわち、ホストコンピュータのCRTディス
プレイにマスタパターンとオブジェクトパターンを異な
る色で表示させ、作業者がこの表示を見ながらマウス2
2を操作して両パターンの相対的な位置を変化させるこ
とにより、概略的な位置合わせを行なってもよい。
First, in step S10, data obtained by reading an uncorrected pattern, which is the first school of a proof or a plate-making film, is binarized and then stored in a memory as object data. Similarly, in step S12, after the data obtained by reading the corrected pattern that is the proof or the reprint of the plate-making film is binarized,
Stored in memory as master data. In this embodiment,
The positions at which the first school and the second school are placed in the scanner 12 are determined by the pin mechanism, whereby the master pattern represented by the master data and the object pattern represented by the object data are roughly aligned. It is in a state. When the pin mechanism as the alignment means is not used, the alignment may be performed as follows, for example, after reading the patterns of the first school and the re-school as described above. That is, the master pattern and the object pattern are displayed in different colors on the CRT display of the host computer, and the operator looks at this display and uses the mouse 2
A rough alignment may be performed by manipulating 2 to change the relative positions of both patterns.

【0029】上記のようにしてマスタデータ及びオブジ
ェクトデータを得た後は、ステップS14において、オ
ブジェクトデータから一つの検査ブロック分のデータD
Pを抽出する(以下、データDPが抽出された検査ブロッ
クを「現検査ブロック」といい、抽出されたデータDP
を「オブジェクト検査データ」という)。ここで、検査
ブロックのサイズは、検査対象の初校及び再校における
最小文字サイズ程度となるように選択する。
After the master data and the object data are obtained as described above, in step S14, the data D corresponding to one inspection block is extracted from the object data.
P is extracted (hereinafter, the inspection block from which the data DP is extracted is referred to as "current inspection block", and the extracted data DP
Is called "object inspection data"). Here, the size of the inspection block is selected to be about the minimum character size in the first school and the second school to be inspected.

【0030】次のステップS16では、抽出されたオブ
ジェクト検査データDPにおける"1"の画素の数及び"
0"の画素の数を求める。
In the next step S16, the number of pixels of "1" in the extracted object inspection data DP and "
The number of 0 "pixels is calculated.

【0031】その後、ステップS18において、オブジ
ェクトパターンの現検査ブロックと位置的に対応する同
一サイズのマスタパターンのブロック(以下「マスタ基
準ブロック」という)を求め、そのマスタ基準ブロック
を中心ブロックとして所定画素数だけ周辺を広げた領域
を揺すらせ範囲として設定し、その揺すらせ範囲内で2
次元的に1画素ずつ順次ずれた複数の同一サイズのブロ
ック(以下「マスタブロック」という)のうち一つを現
マスタブロックとして選択する。本実施例におけるこの
選択の開始点はマスタ基準ブロックであり、現時点はス
テップS18の最初の実行時点であるため、ここではマ
スタ基準ブロックを現マスタブロックとして選択する。
そして、マスタデータから現マスタブロック分のデータ
(以下「マスタ検査データ」という)DMを抽出する。
Then, in step S18, a block of a master pattern of the same size (hereinafter referred to as "master reference block") that corresponds in position to the current inspection block of the object pattern is obtained, and the master reference block is used as a central block for predetermined pixels. Set the area widened by the number as the shaking range, and within the shaking range, 2
One of a plurality of blocks having the same size (hereinafter, referred to as “master block”) that are dimensionally shifted one pixel at a time is selected as a current master block. Since the starting point of this selection in the present embodiment is the master reference block, and the present execution time is the first execution point of step S18, the master reference block is selected as the current master block here.
Then, the data for the current master block (hereinafter referred to as "master inspection data") DM is extracted from the master data.

【0032】次のステップS20では、抽出されたマス
タ検査データDMにおける"1"の画素の数及び"0"の画
素の数を求める。
In the next step S20, the number of pixels of "1" and the number of pixels of "0" in the extracted master inspection data DM are obtained.

【0033】このようにしてオブジェクト検査データD
P及びマスタ検査データDMについて"1"の画素の数及
び"0"の画素の数を求めた結果、両データDP、DMにつ
いて共に全画素が"1"又は全画素が"0"の場合は、現オ
ブジェクトブロック及び現マスタブロックは共に空白部
分か又はベタ部分であって、両ブロックについてはオブ
ジェクトパターンとマスタパターンとの間に相違がない
と判断することができる。一方、検査対象物10である
初校及び再校のパターンは例えば図3に示すようなもの
であって、検査対象物10において、周辺部に空白が多
く存在し、また絵柄部などではベタ部分も多い。そし
て、前述のように検査ブロックのサイズは、検査対象の
初校及び再校における最小文字サイズ程度となるように
選択されているため、文章の改行箇所や行間に文字を含
まない空白のブロックが多く生じる。そこで、この点を
利用して処理時間を短縮するために、ステップS22で
は、オブジェクト検査データDP及びマスタ検査データ
DMについて共に全画素が"1"又は全画素が"0"である
か否かを判定し、共に全画素が"1"又は全画素が"0"で
あると判定されれば、ステップS32へ進み、現検査ブ
ロックは一致部分であると判定する。これは、再校にお
いて現検査ブロックに対応する領域内で初校に対し変更
が加えられていないことを意味する。ステップS32の
実行後は、オブジェクトパターンの次の検査ブロックに
ついてマスタパターンと一致するか否かを調べるため
に、ステップS36へ進む。
In this way, the object inspection data D
As a result of obtaining the number of pixels of "1" and the number of pixels of "0" for P and the master inspection data DM, if all the pixels are "1" or all the pixels are "0" for both data DP and DM, The current object block and the current master block are both blank parts or solid parts, and it can be determined that there is no difference between the object pattern and the master pattern for both blocks. On the other hand, the patterns of the first school and the re-school which are the inspection object 10 are as shown in FIG. 3, for example, and there are many blanks in the peripheral portion of the inspection object 10 and the solid portion in the pattern part etc. There are also many. Then, as mentioned above, the size of the inspection block is selected so that it will be about the minimum character size in the first school and the re-school of the inspection target, so there are blank blocks that do not contain characters between line breaks and lines between sentences. Many occur. Therefore, in order to shorten the processing time by utilizing this point, in step S22, it is determined whether all the pixels of the object inspection data DP and the master inspection data DM are "1" or all the pixels are "0". When it is determined that all the pixels are "1" or all the pixels are "0", the process proceeds to step S32, and it is determined that the current inspection block is the coincident portion. This means that no changes have been made to the first school in the area corresponding to the current inspection block at the re-school. After execution of step S32, the process proceeds to step S36 to check whether or not the next inspection block of the object pattern matches the master pattern.

【0034】ステップS22において共に全画素が"1"
又は全画素が"0"であるとは判定されなかった場合は、
ステップS24において、オブジェクト検査データDP
及びマスタ検査データDMによって表わされる二つのパ
ターンを比較照合する。そしてステップS26におい
て、これら二つのパターンに一定以上の相違があるか否
かを判定する。例えば、従来例2と同様に、検査ウィン
ドウを利用したパターンマッチング法により上記二つの
パターンを比較して相違の有無を判定すればよい。すな
わち、複数画素からなる検査ウィンドウ(例えば2×2
画素サイズのウィンドウ)WPを現検査ブロック内に走
査させると共に、同一サイズの検査ウィンドウWMを現
マスタブロック内に検査ウィンドウWPと位置的に対応
させながら走査させ、いずれかの走査位置において検査
ウィンドウWP、WM内に含まれる相対応する画素の値が
全て不一致のときに両検査データによって表わされる二
つのパターンに相違があると判定し、それ以外のときに
相違が無いと判定すればよい。このような検査ウィンド
ウを利用したパターンマッチング法によれば、初校及び
再校の読み取りの際の量子化誤差に起因する誤判定を防
止できるという利点がある。
In step S22, all pixels are "1".
Or, if it is not determined that all pixels are "0",
In step S24, the object inspection data DP
And the two patterns represented by the master inspection data DM are compared and collated. Then, in step S26, it is determined whether or not these two patterns have a certain difference or more. For example, similar to the second conventional example, it is sufficient to compare the above two patterns by a pattern matching method using an inspection window and determine whether there is a difference. That is, an inspection window including a plurality of pixels (for example, 2 × 2)
Pixel-sized window) WP is scanned within the current inspection block, and the same-sized inspection window WM is scanned within the current master block while being positioned corresponding to the inspection window WP, and the inspection window WP is detected at any scanning position. , WM, it may be determined that there is a difference between the two patterns represented by the two inspection data when the values of corresponding pixels included in WM do not match, and it is determined that there is no difference in other cases. According to the pattern matching method using such an inspection window, there is an advantage that it is possible to prevent erroneous determination due to a quantization error at the time of reading the first school and the second school.

【0035】ステップS26において相違があると判定
された場合は、揺すらせ範囲内において、マスタブロッ
クの選択の開始点であるマスタ基準ブロックから次第に
遠ざかるような順序で、1画素分ずれた他のマスタブロ
ックを現マスタブロックとして順次選択し、上記の処理
(ステップS18〜S26)を繰り返し実行する。この
ために、まずステップS28において、揺すらせ範囲内
で2次元的に1画素ずつ順次ずれた全てのマスタブロッ
クについて比較照合が行なわれたか否か、すなわちマス
タブロックのずらしが終了したか否かを判定し、マスタ
ブロックのずらしが終了していなければステップS30
へ進む。ステップS30では、次に比較照合の対象とす
べきマスタブロックを現マスタブロックとして揺すらせ
範囲内から選択し、その現マスタブロック分のデータを
マスタ検査データとしてマスタデータから抽出するため
に、その抽出の開始アドレスを1画素分だけ変更する。
その後、ステップS18へ戻って、変更後の開始アドレ
スに基づき新たにマスタ検査データDMを抽出する。そ
して、そのマスタ検査データDMを用いて、上記と同様
にして、現マスタブロック及び現検査ブロックにつき、
空白部分又はベタ部分であるか否かを判定し(ステップ
S22)、空白部分でもベタ部分でもないと判定される
とオブジェクトパターンとマスタパターンとを比較照合
する(ステップS24)。以下同様にして、現検査ブロ
ック及び現マスタブロックが空白部分でもベタ部分でも
なく(ステップS22参照)、かつ、現マスタブロック
及び現検査ブロックの二つのパターン間で相違ありと判
定される限り(ステップS26参照)、ステップS28
→S30→S18→S20→S22→S24→S26→
S28というループが繰り返し実行される。その結果、
揺すらせ範囲内で2次元的に1画素ずつ順次ずれた全て
のマスタブロックについて相違があると判定されれば、
ステップS34へ進み、現検査ブロックは相違部分であ
ると判定する。これは、再校において現検査ブロックに
対応する領域内で初校に対し変更が加えられていること
を意味する。ステップS34の実行後は、オブジェクト
パターンの次の検査ブロックについてマスタパターンと
一致するか否かを調べるために、ステップS36へ進
む。
If it is determined in step S26 that there is a difference, another master shifted by one pixel in an order of gradually moving away from the master reference block, which is the starting point of the master block selection, within the shaking range. The blocks are sequentially selected as the current master block, and the above processing (steps S18 to S26) is repeated. For this reason, first, in step S28, it is determined whether or not the comparison and collation has been performed for all the master blocks which are two-dimensionally sequentially shifted by one pixel within the shaking range, that is, whether or not the master block shifting has been completed. If it is determined that the shift of the master block is not completed, step S30
Go to. In step S30, the master block to be compared and collated next is selected as the current master block from within the range to be shaken, and the current master block data is extracted as master inspection data from the master data. The start address of is changed by one pixel.
Then, the process returns to step S18 to newly extract the master inspection data DM based on the changed start address. Then, using the master inspection data DM, the current master block and the current inspection block are
It is determined whether it is a blank portion or a solid portion (step S22), and if it is determined that it is neither a blank portion nor a solid portion, the object pattern and the master pattern are compared and collated (step S24). Similarly, as long as it is determined that the current inspection block and the current master block are neither blank nor solid (see step S22) and there is a difference between the two patterns of the current master block and the current inspection block (step S22) (step S22). S26), step S28
→ S30 → S18 → S20 → S22 → S24 → S26 →
The loop of S28 is repeatedly executed. as a result,
If it is determined that there is a difference in all the master blocks that are two-dimensionally shifted one pixel at a time within the shaking range,
In step S34, it is determined that the current inspection block is a different portion. This means that at the re-school, changes were made to the first school within the area corresponding to the current inspection block. After execution of step S34, the process proceeds to step S36 to check whether or not the next inspection block of the object pattern matches the master pattern.

【0036】なお上記処理において、ステップS20及
びS22は各揺すらせ範囲内で最初に抽出されるマスタ
検査データDMに対してのみ実行し、各揺すらせ範囲内
で2回目以降に抽出されるマスタ検査データDMについ
てはステップS18の後にステップS24へ進むように
してもよい。
In the above process, steps S20 and S22 are executed only for the master inspection data DM which is first extracted within each shaking range, and the master inspection data extracted after the second time within each shaking range. For the data DM, the process may proceed to step S24 after step S18.

【0037】ステップS26において現マスタブロック
と現検査ブロックの二つのパターン間で相違が無いと判
定されると、ステップS32へ進み、現検査ブロックは
一致部分であると判定する。これは、再校において現検
査ブロックに対応する領域内では初校に対し変更が無い
ことを意味する。ステップS32の実行後は、オブジェ
クトパターンの次の検査ブロックについてマスタパター
ンと一致するか否かを調べる。
When it is determined in step S26 that there is no difference between the two patterns of the current master block and the current inspection block, the process proceeds to step S32, and it is determined that the current inspection block is the matching portion. This means that in the re-school, there is no change from the first school in the area corresponding to the current inspection block. After execution of step S32, it is checked whether or not the inspection block next to the object pattern matches the master pattern.

【0038】このために、まず、ステップS36におい
て、オブジェクトパターンの全ての検査ブロックについ
てマスタパターンとの一致/不一致が調べられたか否
か、すなわち検査ブロックが終了したか否かを判定し、
検査ブロックが終了していなければステップS38へ進
む。ステップS38では、次にマスタパターンとの一致
/不一致を調べるべき検査ブロックを現検査ブロックと
して選択し、その現検査ブロック分のデータであるオブ
ジェクト検査データをオブジェクトデータから抽出する
ために、その抽出の開始アドレスを算出する。ここで、
一致/不一致を調べるべき検査ブロックは、例えば、ス
キャナ12による再校パターンの読み取りの際の走査順
に選択する。すなわち、読み取りの際の主走査方向に検
査ブロックを順次選択し、主走査ラインに対応する一つ
の検査ブロック列の選択が終了する毎に、選択すべき検
査ブロックの位置が副走査方向に1検査ブロック分だけ
移動する。
For this purpose, first, in step S36, it is determined whether or not all the inspection blocks of the object pattern have been checked for a match / mismatch with the master pattern, that is, whether or not the inspection block has ended.
If the inspection block is not completed, the process proceeds to step S38. In step S38, the next inspection block to be checked for a match / mismatch with the master pattern is selected as the current inspection block, and the object inspection data corresponding to the current inspection block is extracted from the object data. Calculate the start address. here,
The inspection block for which the match / mismatch is to be checked is selected, for example, in the scanning order when the scanner 12 reads the refresh pattern. That is, the inspection blocks are sequentially selected in the main scanning direction at the time of reading, and every time the selection of one inspection block row corresponding to the main scanning line is completed, the position of the inspection block to be selected is one inspection in the sub scanning direction. Move by blocks.

【0039】ステップS38において開始アドレスが算
出されると、ステップS14へ戻って、この開始アドレ
スに基づき新たにオブジェクト検査データDPを抽出
し、そのオブジェクト検査データDPを用いて、上記と
同様にして、現検査ブロックについてオブジェクトパタ
ーンがマスタパターンと一致するか否かを調べる。以下
同様にして、オブジェクトパターンに未処理の検査ブロ
ックがある限り、ステップS36→S38→S14→…
…→S36というループが繰り返し実行され、ステップ
S36で検査ブロックが終了したと判定されると、本実
施例の相違検出処理が完了する。
When the start address is calculated in step S38, the process returns to step S14, new object inspection data DP is extracted based on this start address, and the object inspection data DP is used in the same manner as described above. Check if the object pattern matches the master pattern for the current test block. Similarly, as long as there is an unprocessed inspection block in the object pattern, steps S36 → S38 → S14 → ...
The loop of ...-> S36 is repeatedly executed, and when it is determined in step S36 that the inspection block is completed, the difference detection process of this embodiment is completed.

【0040】上記相違検出処理により相違ありと判定さ
れた検査ブロック(ステップS34参照)は初校と再校
との相違部分に相当し、この相違部分は、プリンタ14
に、オブジェクトパターン及びマスタパターンの双方の
色と異なる色で示される。作業者は、このような出力結
果を見て、初校に対して修正指示された箇所が正しく修
正されているか、また修正指示された箇所以外で変更さ
れた部分はないか、を確かめる。
The inspection block determined to have a difference by the difference detection processing (see step S34) corresponds to the difference between the first school and the re-school, and this difference is the printer 14.
In a different color from both the object pattern and the master pattern. The worker looks at such output results and confirms whether the portion instructed to correct for the first school has been correctly corrected, and whether or not there is a changed portion other than the portion instructed to correct.

【0041】[実施例の効果]上記実施例1によれば、
初校を示すオブジェクトパターンと再校を示すマスタパ
ターンとについて各検査ブロック毎の揺すらせ比較が逐
次的に行なわれるため(ステップS18〜S30)、並
列処理により揺すらせ比較を行なっていた従来例2のよ
うな大規模なハードウェアは不要である。また上記実施
例1によれば、検査ブロック及びそれに対応するマスタ
ブロックが共に空白部分又はベタ部分であれば、その検
査ブロックについては揺すらせ比較を行なうことなく一
致部分であると判定されるため(ステップS22、S3
2)、相違検出処理に要する時間を短縮することができ
る。
[Effects of Embodiment] According to the above-mentioned Embodiment 1,
Since the shake comparison for each inspection block is sequentially performed for the object pattern indicating the first school and the master pattern indicating the re-school (steps S18 to S30), the shake comparison is performed by parallel processing. No large-scale hardware like is needed. Further, according to the first embodiment, if both the inspection block and the master block corresponding to the inspection block are blank portions or solid portions, it is determined that the inspection blocks are coincident portions without shaking and comparison ( Steps S22 and S3
2) The time required for the difference detection process can be shortened.

【0042】[他の実施例]以下、本発明の他の実施例
(以下「実施例2」という)であるパターン検査システ
ムについて説明する。このパターン検査システムは上記
実施例1と同一のハードウェア構成(図2参照)を有す
るが、相違検出処理の内容が実施例1と異なる。以下で
は、本実施例における相違検出処理について説明する。
[Other Embodiments] A pattern inspection system which is another embodiment of the present invention (hereinafter referred to as "Embodiment 2") will be described below. This pattern inspection system has the same hardware configuration as that of the first embodiment (see FIG. 2), but the content of the difference detection processing is different from that of the first embodiment. The difference detection processing in this embodiment will be described below.

【0043】通常の校正では、初校における空白部分や
ベタ部分に再校において文字や絵柄が追加挿入される場
合は少ない。そこで本実施例では、初校を示すオブジェ
クトパターンの検査ブロックが空白部分又はベタ部分で
あれば、その検査ブロックについては初校と再校とは一
致すると判定し、マスタ検査データを抽出することな
く、したがってその検査ブロックについての揺すらせ比
較を行なうことなく、次の検査ブロックついての処理へ
移行する。
In the normal proofreading, it is rare that additional characters or patterns are inserted in the blank part or the solid part in the first school in the re-school. Therefore, in the present embodiment, if the inspection block of the object pattern indicating the first school is a blank portion or a solid portion, it is determined that the first school and the re-school are the same for the inspection block, and the master inspection data is not extracted. Therefore, the process shifts to the process for the next inspection block without performing shaking comparison for that inspection block.

【0044】図4は、このような本実施例の相違検出処
理を示すフローチャートである。このフローチャートで
は、図1のフローチャートと同様に、修正前のパターン
を示す初校及び修正後のパターンを示す再校を読み取っ
て得られた二つの2値画像データを、それぞれオブジェ
クトパターンを表わすオブジェクトデータ及びマスタパ
ターンを表わすマスタデータとして記憶し(ステップS
50、S52)、その後、オブジェクトパターンの各検
査ブロック毎にマスタパターンと一致するか否かを調べ
る。
FIG. 4 is a flow chart showing the difference detection processing of this embodiment. In this flowchart, as in the case of the flowchart in FIG. 1, two binary image data obtained by reading a first school showing a pattern before correction and a second school showing a pattern after correction are respectively converted into object data representing an object pattern. And as master data representing the master pattern (step S
50, S52), and then, it is checked for each inspection block of the object pattern whether or not it matches the master pattern.

【0045】このために、まず、ステップS54におい
て、オブジェクトデータから一つの検査ブロック分のデ
ータをオブジェクト検査データDPとして抽出した後、
ステップS56において、このオブジェクト検査データ
DPにおける"1"の画素の数及び"0"の画素の数を求め
る。
For this purpose, first, in step S54, data of one inspection block is extracted from the object data as object inspection data DP, and then,
In step S56, the number of pixels of "1" and the number of pixels of "0" in the object inspection data DP are obtained.

【0046】次のステップS58では、抽出されたオブ
ジェクト検査データDPについて全画素が"1"又は全画
素が"0"であるか否かを判定する。ここで全画素が"1"
又は全画素が"0"であると判定されれば、現検査ブロッ
クは空白部分又はベタ部分であるため、ステップS70
へ進み、現検査ブロックは一致部分であると判定する。
その後、オブジェクトパターンの次の検査ブロックにつ
いてマスタパターンと一致するか否かを調べるために、
ステップS74へ進む。
In the next step S58, it is determined whether or not all the pixels of the extracted object inspection data DP are "1" or all the pixels are "0". Here, all pixels are "1"
Alternatively, if it is determined that all the pixels are "0", the current inspection block is a blank part or a solid part.
Then, it is determined that the current inspection block is the matching portion.
Then, in order to check whether the next inspection block of the object pattern matches the master pattern,
It proceeds to step S74.

【0047】ステップS58において全画素が"1"又は
全画素が"0"であるとは判定されなかった場合は、実施
例1とは異なり、マスタ検査データDMにおける"1"の
画素の数や"0"の画素の数を求めて全画素が"1"又は全
画素が"0"であるか否かを判定するという処理(図1に
おけるステップS20、S22)を行なうことなく、現
検査ブロックについて揺すらせ比較を行なう(ステップ
S60〜S68)。この揺すらせ比較の具体的な手順は
実施例1と同様であり、揺すらせ範囲内で2次元的に1
画素ずつ順次ずれた全てのマスタブロックについて相違
があると判定されれば、ステップS72へ進み、現検査
ブロックは相違部分であると判定する。その後、オブジ
ェクトパターンの次の検査ブロックについてマスタパタ
ーンと一致するか否かを調べるために、ステップS74
へ進む。
If it is not determined in step S58 that all pixels are "1" or all pixels are "0", the number of pixels of "1" in the master inspection data DM is different from the first embodiment. Without performing the processing (steps S20 and S22 in FIG. 1) of determining whether all pixels are "1" or all pixels are "0" by obtaining the number of pixels of "0", the current inspection block Are shaken for comparison (steps S60 to S68). The specific procedure of this shaking comparison is the same as that of the first embodiment, and is two-dimensionally set within the shaking range.
If it is determined that there is a difference in all master blocks that are sequentially shifted pixel by pixel, the process proceeds to step S72, and it is determined that the current inspection block is a different portion. Then, in order to check whether the next inspection block of the object pattern matches the master pattern, step S74 is performed.
Go to.

【0048】ステップS64において、現マスタブロッ
クと現検査ブロックの二つのパターン間で相違が無いと
判定されると、ステップS70へ進み、現検査ブロック
は一致部分であると判定する。その後、オブジェクトパ
ターンの次の検査ブロックについてマスタパターンと一
致するか否かを調べるために、ステップS74へ進む。
When it is determined in step S64 that there is no difference between the two patterns of the current master block and the current inspection block, the process proceeds to step S70, and it is determined that the current inspection block is the matching portion. After that, the process proceeds to step S74 to check whether or not the next inspection block of the object pattern matches the master pattern.

【0049】以下、オブジェクトパターンに未処理の検
査ブロックがある限り、ステップS74→S76→S5
4→……→S74というループが繰り返し実行され、ス
テップS74で検査ブロックが終了したと判定される
と、本実施例の相違検出処理が完了する。
Hereinafter, as long as there is an unprocessed inspection block in the object pattern, steps S74 → S76 → S5.
The loop of 4 → ... → S74 is repeatedly executed, and when it is determined in step S74 that the inspection block is completed, the difference detection process of this embodiment is completed.

【0050】以上のように本実施例によれば、検査ブロ
ックが空白部分又はベタ部分であれば、その検査ブロッ
クについては揺すらせ比較を行なうことなく、一致部分
であると判定されるため(ステップS58、S70)、
相違検出処理に要する時間を短縮することができる。ま
た、実施例1と同様、オブジェクトパターンの各検査ブ
ロック毎の揺すらせ処理が逐次的に行なわれるため、大
規模なハードウェアは不要である。
As described above, according to the present embodiment, if the inspection block is a blank portion or a solid portion, the inspection block is judged to be a coincident portion without shaking and comparison (step). S58, S70),
The time required for the difference detection process can be shortened. Further, as in the first embodiment, since the shaking process for each inspection block of the object pattern is sequentially performed, no large-scale hardware is required.

【0051】[変形例]上記実施例1及び実施例2で
は、オブジェクトデータ又はマスタデータから抽出され
た1ブロック分のデータについて全画素が"1"又は全画
素が"0"の場合に、そのブロックは空白部分又はベタ部
分であるとしているが(ステップS22、S58参
照)、全画素が"1"又は全画素が"0"でなくとも、"1"
の画素の割合又は"0"の画素の割合が100%に近い場
合には、そのブロックは空白部分又はベタ部分とみなす
ようにしてもよい。このようにすると、本来空白部分又
はベタ部分であるブロックが初校や再校の読み取りの際
の量子化誤差などによって空白部分又はベタ部分でない
と誤認されるのを防止することができる。
[Modification] In the first and second embodiments described above, when all the pixels are "1" or all the pixels are "0" in the data of one block extracted from the object data or the master data, Although the block is assumed to be a blank part or a solid part (see steps S22 and S58), "1" is set even if all pixels are "1" or all pixels are not "0".
When the ratio of the pixels of “0” or the ratio of the pixels of “0” is close to 100%, the block may be regarded as a blank part or a solid part. By doing so, it is possible to prevent a block that is originally a blank portion or a solid portion from being erroneously recognized as a blank portion or a solid portion due to a quantization error when reading the first school or the re-school.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明によれば、オブジェクトパターン
の各ブロック毎の揺すらせ比較が逐次的に行なわれるた
め、従来の揺すらせ比較よりも小規模のハードウェアで
二つのパターン間での相違部分を検出することができ
る。
As described above, according to the present invention, since the shake comparison for each block of the object pattern is sequentially performed, the difference between the two patterns can be achieved by a smaller hardware than the conventional shake comparison. Can be detected.

【0053】また、本発明に係る第1のパターン検査装
置及び方法ではオブジェクトパターンにおける1ブロッ
クの略全画素が"1"又は略全画素が"0"の場合に、本発
明に係る第2のパターン検査装置及び方法ではそれに加
えて位置的に対応するマスタパターンの1ブロックにつ
いても略全画素が"1"又は略全画素が"0"の場合に、オ
ブジェクトパターンのそのブロックは空白部分又はベタ
部分であるとして揺すらせ比較が省略される。これによ
り、二つの検査対象パターン全体を検査するのに要する
時間を短縮することができる。
Further, in the first pattern inspection apparatus and method according to the present invention, when almost all pixels of one block in the object pattern are "1" or substantially all pixels are "0", the second pattern inspection apparatus according to the present invention is provided. In addition to this, in the pattern inspection apparatus and method, when substantially all pixels are "1" or almost all pixels are "0" in one block of the master pattern corresponding to the position, the block of the object pattern is a blank part or a solid pattern. It is shaken as a part and comparison is omitted. Thereby, the time required to inspect the entire two inspection target patterns can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施例であるパターン検査システ
ムにおける相違検出処理を示すフローチャート。
FIG. 1 is a flowchart showing a difference detection process in a pattern inspection system that is an embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の一実施例であるパターン検査システ
ムにおけるハードウェア構成を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a hardware configuration of a pattern inspection system that is an embodiment of the present invention.

【図3】 検版作業における検査対象物のパターンの一
例を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a pattern of an inspection object in a plate inspection work.

【図4】 本発明の他の実施例であるパターン検査シス
テムにおける相違検出処理を示すフローチャート。
FIG. 4 is a flowchart showing a difference detection process in a pattern inspection system which is another embodiment of the present invention.

【図5】 揺すらせ比較法を概念的に示す図。FIG. 5 is a view conceptually showing a shake comparison method.

【図6】 オブジェクトパターンとマスタパターンとの
間における傾きを伴う位置ずれを示す図。
FIG. 6 is a diagram showing a positional shift that accompanies an inclination between an object pattern and a master pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…検査対象物(初校及び再校) 12…スキャナ 14…プリンタ 20…ホストコンピュータ 22…マウス 10 ... Object to be inspected (first school and re-school) 12 ... Scanner 14 ... Printer 20 ... Host computer 22 ... Mouse

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 二つの検査対象パターンを照合し、該二
つの検査対象パターン間での相違部分を検出するパター
ン検査装置において、 a)前記二つの検査対象パターンを2次元的に走査して
画素毎に読み取ることにより、"1"と"0"の2種類の値
から成る二つの2値画像データを生成する画像入力手段
と、 b)画像入力手段によって生成された二つの2値画像デ
ータを、それぞれオブジェクトパターンを表わすオブジ
ェクトデータ及びマスタパターンを表わすマスタデータ
として記憶する画像記憶手段と、 c)オブジェクトパターンにおける複数画素から成るブ
ロックを単位として各ブロックに対応する画像データを
オブジェクトデータから順次抽出するオブジェクト抽出
手段と、 d)オブジェクト抽出手段によって1ブロック分の画像
データが抽出される毎に、該ブロックにおける"1"の画
素の数及び"0"の画素の数を求めるオブジェクト計数手
段と、 e)オブジェクト抽出手段によってブロック単位で抽出
される画像データに対し、マスタパターンにおいて該画
像データのブロックと位置的に対応するブロックを中心
ブロックとして2次元的に所定画素数だけ周辺に広げた
拡張ブロックを設定し、該拡張ブロック内で2次元的に
1画素ずつ順次ずれた各ブロックに対応する画像データ
をマスタデータから順次抽出するマスタ抽出手段と、 f)オブジェクトパターンの1ブロックに対してオブジ
ェクト計数手段によって求められた"1"の画素の数及
び"0"の画素の数に基づき、"1"の画素の割合又は"0"
の画素の割合が100%近傍の所定値よりも大きいか否
かを調べ、該所定値よりも大きい場合は、オブジェクト
パターンの前記ブロックは相違部分ではないと判定し
て、オブジェクト抽出手段に未抽出の1ブロック分の画
像データを次のブロックの画像データとして抽出させ、
該所定値以下の場合は、オブジェクトパターンの前記ブ
ロックに対応するマスタパターンの拡張ブロック内の各
ブロックの画像データの抽出をマスタ抽出手段に順次行
なわせる第1制御手段と、 g)オブジェクト抽出手段によってブロック単位で抽出
される画像データを、該画像データに対応してマスタ抽
出手段によって拡張ブロック内からブロック単位で順次
抽出される各画像データと比較し、比較される二つの画
像データによって表わされる二つのパターンが一致する
か否かを順次判定する照合手段と、 h)前記拡張ブロック内のいずれかのブロックについて
前記二つのパターンが一致すると照合手段によって判定
されると、マスタ抽出手段による該拡張ブロック内から
の画像データの抽出を中止するとともに、オブジェクト
抽出手段に次のブロックの画像データとして未抽出の1
ブロック分の画像データを抽出させる第2制御手段と、
を備えることを特徴とするパターン検査装置。
1. A pattern inspection apparatus for collating two inspection object patterns and detecting a difference between the two inspection object patterns, wherein: a) two-dimensionally scanning the two inspection object patterns Image input means for generating two binary image data composed of two kinds of values of "1" and "0" by reading each of them, and b) two binary image data generated by the image input means. Image storage means for storing object data representing an object pattern and master data representing a master pattern, respectively, and c) image data corresponding to each block is sequentially extracted from the object data in units of a block composed of a plurality of pixels in the object pattern. Object extraction means, and d) one block of image data by the object extraction means. Object counting means for determining the number of pixels of "1" and the number of pixels of "0" in each block each time is extracted, and e) a master for the image data extracted in block units by the object extracting means. In the pattern, an extension block is set that is two-dimensionally expanded to the periphery by a block that corresponds to the block of the image data as a central block, and two-dimensionally sequentially shifted by one pixel in the extension block. Master extraction means for sequentially extracting the image data corresponding to each block from the master data; and f) the number of "1" pixels and "0" pixels obtained by the object counting means for one block of the object pattern. Based on the number of pixels, the ratio of pixels of "1" or "0"
Is larger than a predetermined value in the vicinity of 100%, and if it is larger than the predetermined value, it is determined that the block of the object pattern is not a different portion, and it is not extracted by the object extraction means. Image data for one block is extracted as image data for the next block,
When the value is less than the predetermined value, the first control means for causing the master extraction means to sequentially extract the image data of each block in the extended block of the master pattern corresponding to the block of the object pattern, and g) by the object extraction means The image data extracted in block units is compared with each image data sequentially extracted in block units from the extension block by the master extraction unit corresponding to the image data, and the image data represented by the two image data to be compared is compared. Collating means for sequentially determining whether two patterns match, and h) if the collating means determines that the two patterns match for any block in the extension block, the extension block by the master extracting means. The extraction of the image data from the inside is stopped and the object extracting means Unextracted as image data of the next block 1
Second control means for extracting image data for blocks,
A pattern inspection apparatus comprising:
【請求項2】 請求項1に記載のパターン検査装置にお
いて、 マスタ抽出手段によって抽出された1ブロック分の画像
データに基づいて該ブロックにおける"1"の画素の数及
び"0"の画素の数を求めるマスタ計数手段を更に備え、 第1制御手段は、オブジェクトパターンの1ブロックに
おける"1"の画素の割合又は"0"の画素の割合が前記所
定値よりも大きい場合に、 i)オブジェクトパターンの該ブロックに対応するマス
タパターンの拡張ブロック内の各ブロックの画像データ
をマスタ抽出手段に順次抽出させ、 ii)該拡張ブロック内の1ブロックに対してマスタ計数
手段によって求められた"1"の画素の数及び"0"の画素
の数に基づき、"1"の画素の割合又は"0"の画素の割合
が100%近傍の所定値よりも大きいか否かを調べ、該
所定値よりも大きいときにのみ、オブジェクトパターン
の該ブロックは相違部分ではないと判定して、マスタ抽
出手段による該拡張ブロック内からの画像データの抽出
を中止するとともに、オブジェクト抽出手段に次のブロ
ックの画像データとして未抽出の1ブロック分の画像デ
ータを抽出させる、ことを特徴とするパターン検査装
置。
2. The pattern inspection apparatus according to claim 1, wherein the number of pixels of "1" and the number of pixels of "0" in the block are based on the image data of one block extracted by the master extracting unit. Further comprising a master counting means for determining, i) the object pattern, when the ratio of the pixels of "1" or the ratio of pixels of "0" in one block of the object pattern is larger than the predetermined value. The image data of each block in the extended block of the master pattern corresponding to the block is sequentially extracted by the master extracting means, and ii) "1" of one block in the extended block obtained by the master counting means. Based on the number of pixels and the number of pixels of "0", it is checked whether the ratio of the pixels of "1" or the ratio of the pixels of "0" is larger than a predetermined value near 100%, and the predetermined value is determined. Only when is larger, it is determined that the block of the object pattern is not a different part, the extraction of the image data from the extension block by the master extraction unit is stopped, and the image data of the next block is sent to the object extraction unit. The pattern inspection apparatus is characterized in that the image data of one block that has not been extracted as is extracted.
【請求項3】 二つの検査対象パターンを2次元的に走
査して画素毎に読み取ることにより、"1"と"0"の2種
類の値から成る二つの2値画像データを生成して、該二
つの2値画像データを、それぞれオブジェクトパターン
を表わすオブジェクトデータ及びマスタパターンを表わ
すマスタデータとして記憶し、 オブジェクトパターンにおける複数画素から成るブロッ
クを単位として各ブロックに対応する画像データをオブ
ジェクトデータから順次抽出し、 オブジェクトデータからブロック単位で抽出される画像
データに対し、マスタパターンにおいて該画像データの
ブロックと位置的に対応するブロックを中心ブロックと
して2次元的に所定画素数だけ周辺に広げた拡張ブロッ
クを設定して、該拡張ブロック内で2次元的に1画素ず
つ順次ずれた各ブロックに対応する画像データをマスタ
データから順次抽出し、 オブジェクトデータからブロック単位で抽出された画像
データを、該画像データに対応して前記拡張ブロック内
からブロック単位で順次抽出される各画像データと比較
し、比較される二つの画像データによって表わされる二
つのパターンが一致するか否かを順次判定する、という
処理により、ブロック単位で前記二つの検査対象パター
ンにおける相違部分を検出するパターン検査方法におい
て、 a)オブジェクトパターンにおける1ブロック分の画像
データがオブジェクトデータから抽出される毎に、該画
像データに基づいて"1"の画素の割合又は"0"の画素の
割合が100%近傍の所定値よりも大きいか否かを調
べ、 b)前記所定値よりも大きい場合に、オブジェクトパタ
ーンにおける前記ブロックは相違部分ではないと判定し
て、オブジェクパターンにおける次のブロックの画像デ
ータとして未抽出の1ブロック分の画像データをオブジ
ェクトデータから抽出し、 c)前記所定値以下である場合に、オブジェクトパター
ンにおける前記ブロックに対応するマスタパターンの拡
張ブロック内の各ブロックの画像データを前記比較の対
象の画像データとしてマスタデータから順次抽出する、
ことを特徴とするパターン検査方法。
3. Two-dimensional image data consisting of two kinds of values of "1" and "0" is generated by scanning two patterns to be inspected two-dimensionally and reading for each pixel, The two binary image data are respectively stored as object data representing an object pattern and master data representing a master pattern, and image data corresponding to each block is sequentially arranged from the object data in units of a block composed of a plurality of pixels in the object pattern. An extended block in which image data extracted and extracted in block units from object data is two-dimensionally expanded to the periphery by a predetermined number of pixels with a block corresponding to a block of the image data in the master pattern as a central block. Is set to sequentially shift two-dimensionally by one pixel in the extension block. Image data corresponding to each block are sequentially extracted from the master data, and image data extracted in block units from the object data are sequentially extracted in block units from the extension block corresponding to the image data. A pattern inspection for detecting a different portion in the two inspection target patterns on a block-by-block basis by a process of sequentially comparing data and two patterns represented by two image data to be compared to determine whether or not they match. In the method: a) Every time one block of image data in the object pattern is extracted from the object data, the ratio of "1" pixels or the ratio of "0" pixels is close to 100% based on the image data. Check if it is larger than a predetermined value, and b) If it is larger than the predetermined value, the object It is determined that the block in the turn is not a different portion, and image data for one block that has not yet been extracted as image data for the next block in the object pattern is extracted from the object data. C) If the image data is less than the predetermined value , Image data of each block in the extended block of the master pattern corresponding to the block in the object pattern is sequentially extracted from the master data as the image data of the comparison target,
A pattern inspection method characterized by the above.
【請求項4】 請求項3に記載のパターン検査方法にお
いて、 オブジェクトパターンの1ブロックにおける"1"の画素
の割合又は"0"の画素の割合が前記所定値よりも大きい
場合に、 i)オブジェクトパターンの該ブロックに対応するマス
タパターンの拡張ブロック内の各ブロックの画像データ
を順次抽出し、 ii)該拡張ブロック内の1ブロック分の画像データに基
づいて"1"の画素の割合又は"0"の画素の割合が100
%近傍の所定値よりも大きいか否かを調べ、該所定値よ
りも大きいときにのみ、オブジェクトパターンの該ブロ
ックは相違部分ではないと判定して、該拡張ブロック内
からの画像データの抽出を中止するとともに、オブジェ
クパターンにおける次のブロックの画像データとして未
抽出の1ブロック分の画像データをオブジェクトデータ
から抽出する、ことを特徴とするパターン検査方法。
4. The pattern inspection method according to claim 3, wherein when the ratio of the pixels of "1" or the ratio of pixels of "0" in one block of the object pattern is larger than the predetermined value, i) the object The image data of each block in the extension block of the master pattern corresponding to the block of the pattern is sequentially extracted, and ii) the ratio of pixels of "1" or "0" based on the image data of one block in the extension block. "The pixel ratio is 100
% It is checked whether or not it is larger than a predetermined value in the vicinity, and only when it is larger than the predetermined value, it is determined that the block of the object pattern is not a different portion, and image data extraction from the extension block is performed. A pattern inspection method, characterized in that the image data for one block that has not yet been extracted as the image data for the next block in the object pattern is extracted from the object data while being stopped.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015099585A (en) * 2013-10-16 2015-05-28 富士ゼロックス株式会社 Image processing apparatus and image processing program

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015099585A (en) * 2013-10-16 2015-05-28 富士ゼロックス株式会社 Image processing apparatus and image processing program

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