JPH08201615A - 液晶用カラーフィルタの製造方法、該方法により製造された液晶用カラーフィルタ及び液晶パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 混色、色ムラ、色抜け等の障害のない信頼性
の高い液晶用カラーフィルタの製造方法を提供する。 【構成】 基板上に水性インク吸収性を有し、光照射に
よりインク吸収性が低下する組成物層を形成し、次いで
該組成物層のブラックマトリクスに対応する非着色用部
分を、予め光照射によりインク吸収性を低下させ、その
後インクジェット方式により該組成物層のうち光未照射
の着色用部分にインクを吐出させて着色した後、着色さ
れた該組成物層を光照射により硬化させる液晶用カラー
フィルタの製造方法において、該組成物層が、 （Ａ）下記構造単位（Ｉ）からなる単量体を少なくとも
含むビニル系単量体の共重合体 【化１】 （Ｂ）光重合開始剤との２種の化合物を少なくとも含
み、かつ（Ａ）の共重合体中の親水性単量体組成重量比
が５〜９５％である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カラーテレビ、車載テ
レビ、パーソナルコンピューター、パチンコ遊戯台等に
使用されているカラー液晶ディスプレイのカラーフィル
タの製造方法に関し、特にインクジェット記録技術を利
用した液晶用カラーフィルタの製造方法に関する。

【０００２】また、本発明は、インクジェット記録技術
を利用して製造された液晶用カラーフィルタに関する。

【０００３】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピューターの発達に伴い、液
晶ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が
増加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のた
めにはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重
の重いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高
まっている。

【０００４】従来から、カラーフィルタの要求特性を満
足しつつ上記の要求に応えるべく種々の方法が試みられ
ているが、いまだすべての要求特性を満足する方法は確
立されていない。以下に従来の方法を説明する。

【０００５】最も多く用いられている第一の方法が染色
法である。染色法は、まずガラス基板上に染色用の材料
である水溶性の高分子材料を形成し、これをフォトリソ
グラフィー工程により所望の形状にパターニングした
後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパ
ターンを得る。これを３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，
Ｂ（レッド，グリーン，ブラック）のカラーフィルタ層
を形成する。

【０００６】第二の方法は顔料分散法であり、近年染色
法に取って変わりつつある。この方法は、まず基板上に
顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニ
ングすることにより単色のパターンを得る。さらにこの
工程を３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，Ｂのカラーフィ
ルタ層を形成する。

【０００７】第三の方法としては電着法がある。この方
法は、まず基板上に透明電極をパターニングし、顔料、
樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色
を電着する。この工程を３回繰り返してＲ，Ｇ，Ｂのカ
ラーフィルタ層を形成し、最後に焼成するものである。

【０００８】第四の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色
層を形成するものである。また、いずれの方法において
も着色層上に保護層を形成するのが一般的である。

【０００９】これらの方法に共通している点は、Ｒ，
Ｇ，Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また、工程
が多いほど歩留りが低下するという問題を有している。
さらに、電着法においては、パターン形状が限定される
ため、現状の技術ではＴＦＴ用には適用できない。ま
た、印刷法は、解像性が悪いためファインピッチのパタ
ーンは形成できない。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】これらの問題を解決す
るためにインクジェット方式を用いカラーフィルタを製
造する方法が種々提案されている。その例として、特開
昭５９−７５２０５，特開昭６３−２３５９０１，特開
平１−２１７３２０等の提案があるが、これらは問題を
充分解決しているとは言えず、いまだ不十分である。

【００１１】本発明の目的は、従来法の有する耐熱性、
耐溶剤性、解像性等の必要特性を満足し、かつインクジ
ェット適性をも満足し、さらに工程の短縮された安価な
カラーフィルタの製造方法および該方法により製造され
た信頼性の高いカラーフィルタを提供するものである。
特にインクジェット方式を用いてインクの吐出により着
色剤の配列を行う際の混色、色抜けを防止する信頼性の
高い液晶用カラーフィルタの製造方法を提供するもので
ある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】かかる目的は、次に示す
手段により達成することができる。即ち本発明は、イン
クジェット方式を用いてインクの吐出により基板上に着
色剤を配列させる液晶用カラーフィルタの製造方法であ
って、 １）基板上に、水性インク吸収性を有し、光照射または
光照射と熱処理により光照射部分のインク吸収性が低下
する組成物層を形成する工程と、 ２）基板上に形成された該組成物層のブラックマトリク
スに対応する非着色用部分を、予め光照射もしくは光照
射と熱処理によりインク吸収性を低下させる工程と、 ３）インクジェット方式を用いてインクの吐出により、
基板上に形成された該組成物層のうち光未照射の着色用
部分に、インクを吐出させて着色用部分を着色する工程
と、 ４）着色された該組成物層を光照射または熱処理または
光照射と熱処理により硬化させる工程とを有することを
特徴とする液晶用カラーフィルタの製造方法において、
インクジェット方式を用いてインクの吐出により基板上
に形成された該組成物層が、 （Ａ）下記構造単位からなる単量体を含む他のビニル系
単量体の共重合体と

【００１３】

【化２】 （Ｂ）光重合開始剤との２種の化合物を少なくとも含
み、上記（Ａ）の構造単位を含む共重合体中における親
水性の単量体重量組成比が５〜９５％であることを特徴
とする液晶用カラーフィルタの製造方法で、基板が予め
ブラックマトリクスを形成してなるものであること及び
予め光照射する組成物層の非着色用部分の幅がブラック
マトリクスの幅よりも狭いことを含む。

【００１４】また本発明は上記方法により製造された液
晶用カラーフィルタ及び同カラーフィルタと対向する基
板を有し、両基板間に液晶化合物を封入してなる構造を
有する液晶パネルである。

【００１５】以下、図面を参照して本発明を詳細に説明
する。

【００１６】図１は、本発明における液晶用カラーフィ
ルタの製造方法を示したものであり、本発明にかかる液
晶用カラーフィルタの構成の一例が示されている。

【００１７】本発明においては、基板として一般にガラ
ス基板が用いられるが、液晶用カラーフィルタとしての
透明性、機械的強度等の必要特性を有するものであれば
ガラス基板に限定されるものではない。

【００１８】図１（ａ）は、ガラス基板１上にブラック
マトリクス２が形成された図を示したものである。

【００１９】このブラックマトリクス２をガラス基板１
上に形成することにより、基板１に光透過部７とブラッ
クマトリクス２により光が遮断される遮光部８０とが形
成される。

【００２０】まず、ブラックマトリクス２の形成された
基板１上に、水性インク吸収性を有し、光照射または光
照射と熱処理により光照射部分のインク吸収性が低下す
る組成物層を塗布し、必要に応じてプリベークを行って
光照射または光照射と熱処理により光照射部分のインク
吸収性が低下する組成物層３を形成する（図１
（ｂ））。光照射手段としては特に限られるものではな
いが、本発明では特にＤｅｅｐＵＶ光が好ましく、光照
射条件１〜３０００ｍＪ／ｃｍ² 程度である。

【００２１】また、熱処理はオーブン、ホットプレート
等の手段が挙げられ温度条件は５０℃〜１８０℃１０秒
〜２０分行えばよい。この組成物層３は、前述のような
（Ａ），（Ｂ）の２種の化合物を少なくとも含んでい
る。以下それぞれについて説明する。

【００２２】

【化３】 の構造単位（Ｉ）からなる単量体を少なくとも含むビニ
ル系単量体の共重合体である。上記式（Ｉ）で表される
構造単位からなる単量体としては、Ｎ−メチロールアク
リルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−
エトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−イソプロポキシメ
チルアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミ
ド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−エトキ
シメチルメタクリルアミド等を挙げられるが、これらに
限られるものではない。これらの単量体は、他のビニル
系単量体と共重合される。また、これらの単量体は、親
水性単量体として扱われる。

【００２３】他のビニル系親水性単量体としては、アク
リル酸、メタクリル酸、カルボキシル基含有ビニル系単
量体、また、ヒドロキシメチルメタクリレート、ヒドロ
キシエチルメタクリレート、ヒドロキシメチルアクリレ
ート、ヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基を含有
したビニル系単量体、その他アクリルアミド、メタクリ
ルアミド、アクリロニトリル、アリルアミン、ビニルア
ミン等を挙げることが出来るが、もちろんこれらに限ら
れるものではない。親水性単量体のうち上記（Ｉ）の単
量体の含有量は５〜９５重量％、特に好ましくは１０〜
９０重量％である。

【００２４】また、疎水性のビニル系単量体としては、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エ
ステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等の
メタクリル酸エステル、スチレン、α−メチルスチレ
ン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等を挙げることが
出来るが、もちろんこれらに限られるものではない。

【００２５】ここで、上記式（Ｉ）の構造単位からなる
単量体を含む親水性単量体の、共重合体中での単量体重
量組成比は、５〜９５重量％であることが必要であり、
好ましくは７〜９０重量％、さらに好ましくは１０〜８
５重量％である。５重量％未満の場合、光照射していな
い、インク吸収性が低下していない部分のインク吸収性
が元々小さく、インク中の色材分が十分に染着、吸着せ
ず、後工程で色材分の染み出しを行った際支障をきたし
たり、画素内での白抜けが起こりやすく好ましくない。
また、９５重量％を超えた場合は、光照射または光照射
と熱処理により光照射部分のインク吸収性の低下の度合
いが小さく、隣接画素間における混色が多発したりする
問題があり好ましくない。

【００２６】次に（Ｂ）の光重合開始剤としてはとくに
限られるものではないが、オニウム塩、ハロゲン化トリ
アジン化合物が好ましく用いられる。具体例には、オニ
ウム塩としては、トリフェニルスルホニウムヘキサフル
オロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムテトラ
フルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフ
ルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムトリフ
ルオロメチルスルホネート、またこれらの誘導体等、さ
らに、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモ
ネート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレー
ト、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェー
ト、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメチルスルホ
ネート、またこれらの誘導体等が挙げられるが、もちろ
ん、これらに限られるものではないが、ハロゲン化トリ
アジン化合物としては、トリアジン環にトリクロロメチ
ル基を導入した化合物が一般的である。またこれらの誘
導体等が挙げられるが、もちろん、これらに限られるも
のではない。

【００２７】上記組成物中の（Ｂ）の光重合開始剤の配
合量は（Ａ）の化合物に対して重量基準で０．０１〜２
０％、好ましくは０．１〜１０％である。

【００２８】また、この組成物層３の形成には、スピン
コート、ロールコート、バーコート、スプレーコート、
ディップコート等の塗布方法を用いることができ、特に
限定されるものではない。また、組成物層３中には、増
感剤として、ペリレン、アントラセン等の化合物を加え
てもよい。

【００２９】次いで、ブラックマトリクス２に対応する
非着色用部分８１の組成物層３をあらかじめフォトマス
ク４を介してパターン露光を行うことにより、組成物層
３のうち非着色用部分８１のインク吸収性を低下させた
（図（ｃ））。

【００３０】パターン露光の際のフォトマスク４として
は、ブラックマトリクス２に対応する非着色用部分８１
のインク吸収性を低下させるための開口部９０を有する
ものを使用する。この際、ブラックマトリクス２に接す
る部分での色抜けを防止するためには、多めのインクを
吐出する必要があることを考慮するとブラックマトリク
ス２の幅Ｘよりも狭い開口部幅Ｙを有するマスクを用い
ることが好ましい。

【００３１】これにより形成された非着色用部分８１の
幅がブラックマトリクス２の幅よりも狭くなる。

【００３２】具体的にはＹ／Ｘ＝０．０５〜０．９５が
好ましく、特に０．１〜０．９が好ましい。

【００３３】また着色に用いるインクとしては、色素
系、顔料系共に用いることが可能であり、また液状イン
ク、ソリッドインク共に使用可能である。

【００３４】次に、インクジェットヘッド５を用いて未
露光部分であり、従ってインク吸収性が低下していない
着色用部分８５，８６，８７をＲ，Ｇ，Ｂの各色で順次
着色し（図（ｄ））、必要に応じてインク乾燥を行う。

【００３５】さらにインクジェット方式としては、エネ
ルギー発生素子として電気熱変換体を用いたがバルブジ
ェットタイプ、あるいは圧電素子を用いたピエゾジェッ
トタイプ等が使用可能である。着色面積および着色パタ
ーンは任意に設定することができる。

【００３６】ブラックマトリクスの形成方法としては、
基板上にスパッタもしくは蒸着により金属薄膜を形成
し、フィトリソ工程によりパターニングすることが一般
的であり、これに限定されるものではない。

【００３７】次いで光照射あるいは、熱処理あるいは、
光照射と熱処理を行って着色された組成物を硬化させ
（図１（ｅ））、必要に応じて保護層６を形成（図１
（ｆ））する。保護層６としては、光硬化タイプ、熱硬
化タイプあるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、ス
パッタ等によって形成された無機膜等を用いることがで
き、カラーフィルタとした場合の透明性を有し、その後
のＩＴＯ形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えう
るものであれば使用可能である。

【００３８】保護層６の光照射の手段としては特に限ら
れるものではなく、ＵＶ，ＥＢ等がが挙げられ、光照射
条件は１〜５０００ｍＪ／ｃｍ²程度である。

【００３９】また熱処理はオーブン、ホットプレート等
の手段が挙げられ、１００℃〜３００℃、１０〜２４０
分行えばよい。

【００４０】次に本発明の液晶カラーフィルタを組込ん
だ液晶パネルについて説明する。

【００４１】図２に、本発明によるカラーフィルタを組
み込んだＴＦＴカラー液晶パネルの断面図を示す。な
お、その形態は本例に限定されるものではない。

【００４２】カラー液晶パネルは、一般的にカラーフィ
ルタ９と対向する基板１４を合わせ込み、液晶化合物１
２を封入することにより形成される。液晶パネルの対向
する基板１４の内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素
電極１３がマトリクス状に形成される。また、もう一方
の基板１の内側には、画素電極１３に対向する位置にＲ
ＧＢの色材が配列するようカラーフィルタ９が設置さ
れ、その上に透明な対向電極である共通電極１０が一面
に形成される。さらに、両基板の面内には配向膜１１が
形成されており、これをラビング処理することにより液
晶分子を一定方向に配列することができる。また、それ
ぞれのガラス基板１，１４の外側には偏光板１５が接着
されており、液晶化合物１２は、これらのガラス基板の
間隙（２〜５μｍ程度）に充填される。また、バックラ
イト光１６としては蛍光灯（不図示）と散乱板（不図
示）の組合せが一般的に用いられており、液晶化合物を
バックライト光の透過率を変化させる光シャッターとし
て機能することにより表示を行うのである。

【００４３】上記の例においては、基板上にブラックマ
トリクスが形成された例を示してある。しかしブラック
マトリクスは、水性インク吸収性を有し、光照射または
光照射と熱処理により光照射部分のインク吸収性が低下
する組成物層を形成後、あるいは着色後に組成物層上に
形成されたものであっても特に問題はなく、その形態は
本例に限定されるものではない。

【００４４】図３は基板上にブラックマトリクスが形成
されていない場合のカラーフィルタの製造工程の一例を
示すものである。

【００４５】まず基板１（図３（ａ））上に組成物層３
を形成する（図３（ｂ））。次いで、ブラックマトリク
スに対応する非着色用部分８１を形成するためフォトマ
スク４を介して光照射を行う（図３）ｃ））。この場
合、非着色用部分８１の幅Ｙを後述する図４中の液晶パ
ネルの他の部分に設けられたブラックマトリクス２の幅
Ｘよりも狭くすることが好ましいのは前述のとおりであ
る。

【００４６】その後着色用部分８５，８６，８７に順次
Ｒ，Ｇ，Ｂの各色で着色する（図３（ｄ））。次いで光
処理、熱処理により着色された組成物層を硬化させ（図
３（ｅ））、必要に応じて保護層６を形成する（図３
（ｆ））もので、これらの操作は前述と同様であるので
同一部分に同一符号を付してその詳細な説明を省略す
る。

【００４７】上記のようにして製造したカラーフィルタ
を液晶パネルに組込んだ例を図４に示す。

【００４８】この場合にも、その構成は図２の液晶パネ
ルの構成とほぼ同等であるので、同一部分に同一符号を
付してその説明を省略する。上記構成にすることによ
り、以下の利点がある。

【００４９】すなわち、画素部段差の少ない合わせ精度
の高い液晶パネルを作成でき、かつ、混色、白抜けの少
ないカラーフィルタを簡便に作成できる。

【００５０】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。

【００５１】実施例１ （１）Ｎ−メチロールアクリルアミドとメタクリル酸メ
チルとヒドロキシエチルメタクリレートの３元共重合体
（モノマー組成比 ２０：３０：５０）１０重量部 （２）トリフェニルスルホニウムトリフルオロメチルス
ルホネート（ミドリ化学製 ＴＰＳ−１０５）０．２重
量部 からなる水性インク吸収性を有し光照射または光照射と
熱処理により光照射部分のインク吸収性が低下する組成
物層を調製し、ブラックマトリクスを形成されたガラス
基板上に、スピンコートし、６０℃で１０分間のプリベ
ークを行って、光照射または光照射と熱処理により光照
射部分のインク吸収性が低下する組成物層を形成した。
この時その膜厚は、１μｍであった。

【００５２】次いで、ブラックマトリクスの幅（４０μ
ｍ）よりも狭い開口部（３０μｍ）を有するフォトマス
クを介してブラックマトリクス上の組成物層の一部をＤ
ｅｅｐＵＶ光にて１００ｍＪ／ｃｍ²のエネルギー量で
パターン露光し、その部分のインク吸収性を低下させ
た。さらにインクジェットプリンターを用いて染料イン
クにより開口部のＲ，Ｇ，Ｂのマトリクスパターンを着
色した後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。引き
続き２３０℃、１時間の熱処理によりこの着色ずみ組成
物層を硬化させて、本発明によるカラーフィルタを作成
した。なお、Ｙ／Ｘ＝０．７５であった。

【００５３】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。

【００５４】実施例２ 実施例１において組成物層の（１）のＮ−メチロールア
クリルアミドとメタクリル酸メチルとヒドロキシエチル
メタクリレートの３元共重合体のモノマー組成比を、
５：９０：５に変えたほかは全く同様にして本発明によ
るカラーフィルタを作成した。

【００５５】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観測したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。

【００５６】実施例３ 実施例１において組成物層の（１）のＮ−メチロールア
クリルアミドとメタクリル酸メチルとヒドロキシエチル
メタクリレートの３元共重合体のモノマー組成比を、４
０：１５：４５に変えたほかは全く同様にして本発明に
よるカラーフィルタを作成した。

【００５７】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観測したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。

【００５８】実施例４ 実施例１において組成物層の（１）のＮ−メチロールア
クリルアミドとメタクリル酸メチルとヒドロキシエチル
メタクリレートの３元共重合体をＮ−メトキシメチルア
クリルアミドとメタクリル酸メチルの２元共重合体（モ
ノマー組成比５０：５０）に変えたほかは全く同様にし
て本発明によるカラーフィルタを作成した。

【００５９】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観測したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。

【００６０】実施例５ 実施例１において組成物層の（１）のＮ−メチロールア
クリルアミドとメタクリル酸メチルとヒドロキシエチル
メタクリレートの３元共重合体をＮ−メトキシメチルア
クリルアミドとヒドロキシエチルアクリレートの３元共
重合体（モノマー組成比 １０：４０：５０）に変えた
ほかは全く同様にして本発明によるカラーフィルタを作
成した。

【００６１】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観測したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。

【００６２】実施例６ 実施例１において組成物層の（１）のＮ−メチロールア
クリルアミドとメタクリル酸メチルとヒドロキシエチル
メタクリレートの３元共重合体をＮ−メチロールアクリ
ルアミドとメタクリル酸メチルとアクリル酸とヒドロキ
シエチルメタクリレートの４元共重合体（モノマー組成
比 ２０：４０：３５：５）に変えたほかは全く同様に
して本発明によるカラーフィルタを作成した。

【００６３】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観測したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。

【００６４】実施例７ 実施例１により得られた着色剤の基板上に、二液型の熱
硬化型樹脂組成物（日本合成ゴム（株）社製 商品名ｓ
ｓ６６８８）を膜厚１μｍとなるようスピンコートし、
９０℃で３０分間のプリベークを行って第二の樹脂層を
形成した。次いで、２３０℃で３０分間の熱処理を行っ
て第二の樹脂層を硬化させることにより液晶用カラーフ
ィルタを作成した。

【００６５】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観測したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。

【００６６】実施例８ ブラックマトリクスの形成されていないガラス基板上
に、実施例１と同様にして組成物層を形成し、インクジ
ェットプリンターを用いて実施例１と全く同様にして本
発明によるカラーフイルタを形成した。これは混色、色
ムラ、色抜け等の障害は観察されなかった。次いで、ブ
ラックマトリクスの形成された対向基板を液晶化合物を
封入した上、ブラックマトリクスの開口部とカラーフイ
ルタの画素部の位置合わせを行なって合わせこみ、液晶
パネルを形成した。

【００６７】実施例９ 実施例１において組成物層の（Ｉ）をＮ−イソプロポキ
シメチルアクリルアミドとメタクリル酸メチルとヒドロ
キシエチルメタクリレートの３元共重合体（モノマー組
成比 ２０：３０：５０）に変えたほかは全く同様にし
て本発明によるカラーフィルタを作成した。

【００６８】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観測したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。 比較例１ 実施例１において組成物層の（１）のＮ−メチロールア
クリルアミドとメタクリル酸メチルとヒドロキシエチル
メタクリレートの３元共重合体のモノマー組成比を、
２：９６：２に変えたほかは全く同様にして本発明によ
るカラーフィルタを作成した。

【００６９】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観測したところ、白抜けが発
生した。また、着色剤の基板上に、二液型の熱硬化型樹
脂組成物（日本合成ゴム（株）社製 商品名ｓｓ６６８
８）を膜厚１μｍとなるようスピンコートし、９０℃で
３０分間のプリベークを行って第二の樹脂層を形成し
た。次いで、２３０℃で３０分間の熱処理を行って第二
の樹脂層を硬化させることにより液晶用カラーフィルタ
を作成したところ、画素部のインク染着が十分でないこ
とによると考えられ、色材のにじみ出しが発生した。

【００７０】比較例２ 実施例１において組成物層の（１）のＮ−メチロールア
クリルアミドとメタクリル酸メチルとヒドロキシエチル
メタクリレートの３元共重合体のモノマー組成比を、４
０：４：５６に変えたほかは全く同様にして本発明によ
るカラーフィルタを作成した。

【００７１】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観測したところ、混色が発生
した。

【００７２】

【発明の効果】本発明による液晶用カラーフィルタの製
造方法を採用することにより、混色、色ムラ、色抜け等
の障害のない信頼性の高い液晶用カラーフィルタを安価
に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による液晶用カラーフィルタの製造方法
の一例を示す工程図である。

【図２】図１に示すカラーフィルタを組込んだ液晶パネ
ル断面部分図である。

【図３】本発明による液晶用カラーフィルタの製造方法
の他の例を示す工程図である。

【図４】図３に示すカラーフィルタを組込んだ液晶パネ
ル断面部分図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ ブラックマトリクス ３ 組成物層 ４ フォトマスク ５ インクジェットヘッド ６ 保護層 ７ 光透過部 ８ 非着色用部分 ９ カラーフィルタ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 インクジェット方式を用いてインクの吐
   出により基板上に着色剤を配列させる液晶用カラーフィ
   ルタの製造方法であって、 １）基板上に、水性インク吸収性を有し、光照射または
   光照射と熱処理により光照射部分のインク吸収性が低下
   する組成物層を形成する工程と、 ２）基板上に形成された該組成物層のブラックマトリク
   スに対応する非着色用部分を、予め光照射もしくは光照
   射と熱処理によりインク吸収性を低下させる工程と、 ３）インクジェット方式を用いて、基板上に形成された
   該組成物層のうち光未照射の着色用部分にインクを吐出
   させて着色用部分を着色する工程と、 ４）着色された該組成物層を光照射または熱処理により
   硬化させる工程とを有する液晶用カラーフィルタの製造
   方法において、該組成物層が、 （Ａ）下記構造単位（Ｉ）からなる単量体を少なくとも
   含むビニル系単量体の共重合体 【化１】 （Ｂ）光重合開始剤との２種の化合物を少なくとも含
   み、かつ（Ａ）の共重合体中の親水性単量体組成重量比
   が５〜９５％であることを特徴とする液晶用カラーフィ
   ルタの製造方法。
2. 【請求項２】 基板が予めブラックマトリクスを形成し
   てなる請求項１に記載の液晶用カラーフィルタの製造方
   法。
3. 【請求項３】 予め光照射する組成物層の非着色用の部
   分の幅がブラックマトリクスの幅よりも狭い請求項１ま
   たは２に記載の液晶用カラーフィルタの製造方法。
4. 【請求項４】 請求項１乃至３のいずれかの記載の方法
   により製造された液晶用カラーフィルタ。
5. 【請求項５】 請求項４に記載のカラーフィルタと対向
   する基板を有し、両基板間に液晶化合物を封入してなる
   構造を有する液晶パネル。