JPH08203190A - 接触型磁気ディスク装置 - Google Patents
接触型磁気ディスク装置Info
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- JPH08203190A JPH08203190A JP1135595A JP1135595A JPH08203190A JP H08203190 A JPH08203190 A JP H08203190A JP 1135595 A JP1135595 A JP 1135595A JP 1135595 A JP1135595 A JP 1135595A JP H08203190 A JPH08203190 A JP H08203190A
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Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ヘッドスライダの跳躍を抑え、磁気ディ
スク媒体が摩耗損傷しない高信頼度の接触型磁気ディス
ク装置を提供する。 【構成】 本接触型磁気ディスク装置は、電磁変換素子
１を先端に有すると接触パッド４を備えており、この接
触パッド４は、ダンパー層３を介して磁気ヘッドスライ
ダ２に取り付けられている。また、電磁変換素子１を含
む接触パッドを磁気ディスク媒体の進行方向に対し前方
に配置し、電磁変換素子１を含まない２つの接触パッド
を後方に並列配置してもよく、ダンパー層３の硬度を１
〜１０ＧＰａに、材質をフッ素系樹脂，ポーラスＳｉＯ
2 ，ＺｒＯ2 にしてもよく、さらに接触パッド４の質量
を０．１ｇ以下にしてもよい。これにより、接触パッド
と磁気ディスク媒体との接触時の衝撃力を緩和し、磁気
ヘッドスライダによる摩耗損傷を低減し、耐久性および
信頼性の高い接触型磁気ディスク装置が得られる。
スク媒体が摩耗損傷しない高信頼度の接触型磁気ディス
ク装置を提供する。 【構成】 本接触型磁気ディスク装置は、電磁変換素子
１を先端に有すると接触パッド４を備えており、この接
触パッド４は、ダンパー層３を介して磁気ヘッドスライ
ダ２に取り付けられている。また、電磁変換素子１を含
む接触パッドを磁気ディスク媒体の進行方向に対し前方
に配置し、電磁変換素子１を含まない２つの接触パッド
を後方に並列配置してもよく、ダンパー層３の硬度を１
〜１０ＧＰａに、材質をフッ素系樹脂，ポーラスＳｉＯ
2 ，ＺｒＯ2 にしてもよく、さらに接触パッド４の質量
を０．１ｇ以下にしてもよい。これにより、接触パッド
と磁気ディスク媒体との接触時の衝撃力を緩和し、磁気
ヘッドスライダによる摩耗損傷を低減し、耐久性および
信頼性の高い接触型磁気ディスク装置が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、接触型磁気ディスク装
置に関し、特に、磁気ヘッドスライダが磁気ディスク媒
体に接触摺動しながら記録再生を行う接触型磁気ディス
ク装置に関する。
置に関し、特に、磁気ヘッドスライダが磁気ディスク媒
体に接触摺動しながら記録再生を行う接触型磁気ディス
ク装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報記憶ファイルの分野におい
て、高記録密度化が着実に向上している。このため、磁
気ディスク装置では、情報の書き込み・読み出しを行う
磁気ヘッドと情報を保持している磁気ディスク媒体との
間隙をより小さくすることが、高記録密度化の重要な要
素の１つとなっている。ところで、空気軸受面を形成し
た磁気ヘッドスライダを用いた浮上型磁気ディスク装置
に関しては、磁気ディスク媒体に対する磁気ヘッドスラ
イダの衝撃を緩和し、磁気ディスク媒体の機械的損傷を
防止するために、磁気ディスク媒体にダンパー層を設け
ることが知られている（例えば、特開昭５９−２２９７
４３号公報，特開昭６０−１９５７３８号公報，特開昭
６２−２６６２２号公報，特開昭６２−２８７４１５号
公報，特開昭６２−２８９９１３号公報，特開平３−１
７８１４号公報）。
て、高記録密度化が着実に向上している。このため、磁
気ディスク装置では、情報の書き込み・読み出しを行う
磁気ヘッドと情報を保持している磁気ディスク媒体との
間隙をより小さくすることが、高記録密度化の重要な要
素の１つとなっている。ところで、空気軸受面を形成し
た磁気ヘッドスライダを用いた浮上型磁気ディスク装置
に関しては、磁気ディスク媒体に対する磁気ヘッドスラ
イダの衝撃を緩和し、磁気ディスク媒体の機械的損傷を
防止するために、磁気ディスク媒体にダンパー層を設け
ることが知られている（例えば、特開昭５９−２２９７
４３号公報，特開昭６０−１９５７３８号公報，特開昭
６２−２６６２２号公報，特開昭６２−２８７４１５号
公報，特開昭６２−２８９９１３号公報，特開平３−１
７８１４号公報）。
【０００３】一方、磁気ヘッドスライダと磁気ディスク
媒体との間隔を小さくするために、上述したような浮上
型磁気ディスク装置に代って、磁気ヘッドスライダが、
磁気ディスク媒体面に接触摺動しながら記録再生を行
う、いわゆる、接触型磁気ディスク装置が開発されてい
る（例えば、H.Hamilton:Journal of Magnetic Society
of Japan, Vol.15,Supplement No.S2 (1991) 483 、お
よび特開平５−５０８８０８号公報）。
媒体との間隔を小さくするために、上述したような浮上
型磁気ディスク装置に代って、磁気ヘッドスライダが、
磁気ディスク媒体面に接触摺動しながら記録再生を行
う、いわゆる、接触型磁気ディスク装置が開発されてい
る（例えば、H.Hamilton:Journal of Magnetic Society
of Japan, Vol.15,Supplement No.S2 (1991) 483 、お
よび特開平５−５０８８０８号公報）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の浮上型
磁気ディスク装置では、磁気ヘッドスライダと磁気ディ
スク媒体との間隔をゼロにすることはできない。一方、
接触型磁気ディスク装置では、磁気ヘッドスライダが磁
気ディスク媒体面上で跳躍するのを防ぐ場合に、磁気ヘ
ッドスライダの押し付け荷重を大きくしなければならな
いが、そうすると、磁気ヘッドおよび磁気ディスク媒体
が摩耗損傷する危険性がある。また、摩耗損傷を防ぐた
めには、磁気ヘッドスライダの押し付け荷重を小さくし
なければならなず、相反する条件の中で、跳躍の抑制お
よび摩耗損傷の低減とを同時に満たす磁気ヘッドスライ
ダが必要となる。
磁気ディスク装置では、磁気ヘッドスライダと磁気ディ
スク媒体との間隔をゼロにすることはできない。一方、
接触型磁気ディスク装置では、磁気ヘッドスライダが磁
気ディスク媒体面上で跳躍するのを防ぐ場合に、磁気ヘ
ッドスライダの押し付け荷重を大きくしなければならな
いが、そうすると、磁気ヘッドおよび磁気ディスク媒体
が摩耗損傷する危険性がある。また、摩耗損傷を防ぐた
めには、磁気ヘッドスライダの押し付け荷重を小さくし
なければならなず、相反する条件の中で、跳躍の抑制お
よび摩耗損傷の低減とを同時に満たす磁気ヘッドスライ
ダが必要となる。
【０００５】この跳躍の抑制および摩耗損傷の低減に関
しては、浮上型磁気ディスク装置に用いられている磁気
ディスク媒体のように、ダンパー層または衝撃緩和層な
どと呼ばれる緩衝層を設けることは、磁気ディスク媒体
の機械的損傷を防止する上で効果はあるが、接触型磁気
ディスク装置の課題として挙げられる跳躍の抑制と摩耗
損傷の低減とを同時に満たせないという欠点がある。
しては、浮上型磁気ディスク装置に用いられている磁気
ディスク媒体のように、ダンパー層または衝撃緩和層な
どと呼ばれる緩衝層を設けることは、磁気ディスク媒体
の機械的損傷を防止する上で効果はあるが、接触型磁気
ディスク装置の課題として挙げられる跳躍の抑制と摩耗
損傷の低減とを同時に満たせないという欠点がある。
【０００６】本発明の目的は、このような問題点を解決
した高記録密度，高信頼性の接触型磁気ディスク装置を
提供することにある。
した高記録密度，高信頼性の接触型磁気ディスク装置を
提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の接触型磁気ディ
スク装置は、記録再生を行う電磁変換素子を先端部に形
成しかつ磁気ディスク媒体に接触摺動する接触パッド
と、この接触パッドを装着する磁気ヘッドスライダと、
この磁気ヘッドスライダを支持する磁気ヘッドスライダ
支持機構とを備える接触型磁気ディスク装置において、
前記磁気ヘッドスライダと前記接触パッドとの間にダン
パー層を有すること特徴とする。
スク装置は、記録再生を行う電磁変換素子を先端部に形
成しかつ磁気ディスク媒体に接触摺動する接触パッド
と、この接触パッドを装着する磁気ヘッドスライダと、
この磁気ヘッドスライダを支持する磁気ヘッドスライダ
支持機構とを備える接触型磁気ディスク装置において、
前記磁気ヘッドスライダと前記接触パッドとの間にダン
パー層を有すること特徴とする。
【０００８】また、前記接触パッドが３つの接触パッド
からなり、前記電磁変換素子を含む１つの接触パッドを
前記磁気ディスク媒体の進行方向に対して前方に配置
し、さらに前記電磁変換素子を含まない２つの接触パッ
ドを前記磁気ディスク媒体の進行方向に対して後方に並
列に配置してなることを特徴とする。
からなり、前記電磁変換素子を含む１つの接触パッドを
前記磁気ディスク媒体の進行方向に対して前方に配置
し、さらに前記電磁変換素子を含まない２つの接触パッ
ドを前記磁気ディスク媒体の進行方向に対して後方に並
列に配置してなることを特徴とする。
【０００９】さらに、前記ダンパー層の硬度が、１〜１
０ＧＰａであってもよく、前記ダンパー層の材質が、フ
ッ素系樹脂，ポーラス（Porous：多孔質の）ＳｉＯ2 も
しくはポーラスＺｒＯ2 のいずれか１つからなっていて
もよく、また、前記接触パッドの質量が、０．１ｇ以下
であってもよい。
０ＧＰａであってもよく、前記ダンパー層の材質が、フ
ッ素系樹脂，ポーラス（Porous：多孔質の）ＳｉＯ2 も
しくはポーラスＺｒＯ2 のいずれか１つからなっていて
もよく、また、前記接触パッドの質量が、０．１ｇ以下
であってもよい。
【００１０】
【作用】磁気ヘッド先端に形成された接触パッドと磁気
ヘッドスライダとの間にダンパー層を設けることによ
り、接触パッドと磁気ディスク媒体とが接触することに
よって生じる衝撃力を緩和することができるが、衝撃力
は、衝突する際の速度の２乗と衝撃力を受けて移動する
質量との積に比例するため、この質量を低減することに
より衝撃力を効率よく緩和することができる。
ヘッドスライダとの間にダンパー層を設けることによ
り、接触パッドと磁気ディスク媒体とが接触することに
よって生じる衝撃力を緩和することができるが、衝撃力
は、衝突する際の速度の２乗と衝撃力を受けて移動する
質量との積に比例するため、この質量を低減することに
より衝撃力を効率よく緩和することができる。
【００１１】本発明では、衝撃力を受けて移動する箇所
は接触パッドのみとし、その質量を小さすくることを可
能としている。そして、衝撃力を効率よく緩和すること
により、跳躍の抑制と摩耗損傷の低減とを同時に満足さ
せ、高記録密度かつ高信頼性の接触型磁気ディスク装置
を提供できる。
は接触パッドのみとし、その質量を小さすくることを可
能としている。そして、衝撃力を効率よく緩和すること
により、跳躍の抑制と摩耗損傷の低減とを同時に満足さ
せ、高記録密度かつ高信頼性の接触型磁気ディスク装置
を提供できる。
【００１２】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【００１３】図１は、本発明の一実施例の基本構成を示
す断面図である。本発明の接触型磁気ディスク装置は、
図１に示すように、磁気ディスク媒体１２に対して記録
再生を行う電磁変換素子１と、この電磁変換素子１の先
端に形成された接触パッド４と、電磁変換素子１および
接触パッド４を装着する磁気ヘッドスライダ２と、この
磁気ヘッドスライダ２を支持する磁気ヘッドスライダ支
持機構６とを備えており、磁気ヘッドスライダ２と接触
パッド４との間にダンパー層３が設けられている。さら
に、磁気ヘッドスライダ２には電磁変換素子１の電極５
が取り付けられ、磁気ヘッドスライダ支持機構６の基部
近傍には、リード線７を接続するための電極（図示せ
ず）が設けられている。
す断面図である。本発明の接触型磁気ディスク装置は、
図１に示すように、磁気ディスク媒体１２に対して記録
再生を行う電磁変換素子１と、この電磁変換素子１の先
端に形成された接触パッド４と、電磁変換素子１および
接触パッド４を装着する磁気ヘッドスライダ２と、この
磁気ヘッドスライダ２を支持する磁気ヘッドスライダ支
持機構６とを備えており、磁気ヘッドスライダ２と接触
パッド４との間にダンパー層３が設けられている。さら
に、磁気ヘッドスライダ２には電磁変換素子１の電極５
が取り付けられ、磁気ヘッドスライダ支持機構６の基部
近傍には、リード線７を接続するための電極（図示せ
ず）が設けられている。
【００１４】本実施例の磁気ヘッドスライダ支持機構６
は、寸法が長さ１０ｍｍ，幅０．５ｍｍ，厚さ０．０３
ｍｍの弾性を有するステンレス鋼を用いた。また、磁気
ディスク媒体１２は、下地体１１の上に磁気記録坦体１
０が形成され、さらに、その上には保護膜９および潤滑
層８が設けられている。そして、この磁気ディスク媒体
１２は、矢印Ａの方向に回転するように構成されてい
る。
は、寸法が長さ１０ｍｍ，幅０．５ｍｍ，厚さ０．０３
ｍｍの弾性を有するステンレス鋼を用いた。また、磁気
ディスク媒体１２は、下地体１１の上に磁気記録坦体１
０が形成され、さらに、その上には保護膜９および潤滑
層８が設けられている。そして、この磁気ディスク媒体
１２は、矢印Ａの方向に回転するように構成されてい
る。
【００１５】図４（ａ），同図（ｂ）および図５は、磁
気ヘッドスライダ２の詳細を示す分解斜視図および断面
図であり、図６は、本発明の接触型磁気ディスク装置の
磁気ヘッドスライダ支持機構および磁気ヘッドスライダ
を示す斜視図である。
気ヘッドスライダ２の詳細を示す分解斜視図および断面
図であり、図６は、本発明の接触型磁気ディスク装置の
磁気ヘッドスライダ支持機構および磁気ヘッドスライダ
を示す斜視図である。
【００１６】本発明の接触型磁気ディスク装置に用いら
れる磁気ヘッドスライダ２は、図４（ａ）および図５に
示すように、中央近傍に穴開け加工されたダイヤモンド
からなる基板１３の上には、Ｃｕ薄膜からなるコイル１
５が形成され、絶縁膜１８が被覆されている。そして、
絶縁膜１８の上にはＦｅ−Ｎｉ合金からなるヨーク１４
ａが形成されている。このヨーク１４ａは、同様にＦｅ
−Ｎｉ合金からなるリターンヨーク１７に接続され、磁
束の通路となる磁気回路を形成している。また、コイル
１５の両端は電極１６に接続される。
れる磁気ヘッドスライダ２は、図４（ａ）および図５に
示すように、中央近傍に穴開け加工されたダイヤモンド
からなる基板１３の上には、Ｃｕ薄膜からなるコイル１
５が形成され、絶縁膜１８が被覆されている。そして、
絶縁膜１８の上にはＦｅ−Ｎｉ合金からなるヨーク１４
ａが形成されている。このヨーク１４ａは、同様にＦｅ
−Ｎｉ合金からなるリターンヨーク１７に接続され、磁
束の通路となる磁気回路を形成している。また、コイル
１５の両端は電極１６に接続される。
【００１７】接触パッド４は、中心部にヨークが貫通す
る構造を有し、図４（ｂ）に示すように、ダイヤモンド
を加工した接触パッドＡ２１と、中央部にヨーク１４ｂ
を埋め込んだ接触パッドＢ２２とから構成され、これら
２つ接触パッドを貼り合わせ、さらに、ダンパー層３を
設けた基板１３に接着剤等で固定した後、中心線平均粗
さＲmax が０．５ｎｍ程度の球面研磨を行って作製し
た。
る構造を有し、図４（ｂ）に示すように、ダイヤモンド
を加工した接触パッドＡ２１と、中央部にヨーク１４ｂ
を埋め込んだ接触パッドＢ２２とから構成され、これら
２つ接触パッドを貼り合わせ、さらに、ダンパー層３を
設けた基板１３に接着剤等で固定した後、中心線平均粗
さＲmax が０．５ｎｍ程度の球面研磨を行って作製し
た。
【００１８】このようにして作製した磁気ヘッドスライ
ダ２は、図６に示すように、両端に電極２３ａ，２３ｂ
を設けたＣｕ薄膜の配線膜１９を有する磁気ヘッドスラ
イダ支持機構６に接着剤等で固定され、ヨーク１４ａと
ヨーク１４ｂとが接続されるとともに、図５に示すよう
に、Ａｕのワイヤー２０を介して磁気ヘッドスライダ支
持機構６に設けられた電極２３ａに接続される。
ダ２は、図６に示すように、両端に電極２３ａ，２３ｂ
を設けたＣｕ薄膜の配線膜１９を有する磁気ヘッドスラ
イダ支持機構６に接着剤等で固定され、ヨーク１４ａと
ヨーク１４ｂとが接続されるとともに、図５に示すよう
に、Ａｕのワイヤー２０を介して磁気ヘッドスライダ支
持機構６に設けられた電極２３ａに接続される。
【００１９】ここで、図２は、１つの接触パッド４を有
する磁気ヘッドスライダ２の一例を示し、図３は、３つ
の接触パッド４ａ，４ｂ，４ｃを有する磁気ヘッドスラ
イダ２ａの一例を示す。また、図中の矢印Ｂおよひ矢印
Ｃは、それぞれ磁気ディスク媒体の回転方向（進行方
向）を示している。
する磁気ヘッドスライダ２の一例を示し、図３は、３つ
の接触パッド４ａ，４ｂ，４ｃを有する磁気ヘッドスラ
イダ２ａの一例を示す。また、図中の矢印Ｂおよひ矢印
Ｃは、それぞれ磁気ディスク媒体の回転方向（進行方
向）を示している。
【００２０】次に、磁気ヘッドスライダの接触パッド部
の材質および質量をそれぞれ変えて作製した実施例１〜
１０の内容について説明する。また、これらの実施例と
の比較を行うために、比較例１〜４を併せて作製した。
の材質および質量をそれぞれ変えて作製した実施例１〜
１０の内容について説明する。また、これらの実施例と
の比較を行うために、比較例１〜４を併せて作製した。
【００２１】〔実施例１〕 ダンパー層３は、基板１３
の上にポリテトラフルオルエチレンを１μｍの厚さに形
成した。この被膜は、ポリテトラフルオルエチエンの微
粒子粉末を吹き付け加熱溶融させて形成した。
の上にポリテトラフルオルエチレンを１μｍの厚さに形
成した。この被膜は、ポリテトラフルオルエチエンの微
粒子粉末を吹き付け加熱溶融させて形成した。
【００２２】次に、図１に示す磁気ディスク媒体１２
は、ガラス基板（図示せず）上に形成したＣｒの下地体
１１の上に、磁気記録坦体１０が形成されている。この
磁気記録坦体１０は、スパッタ法によりＣｏＣｒＰｔを
３０ｎｍの膜厚に成膜した。また、保護膜９は、スパッ
タ法により水素１０％添加カーボンを２０ｎｍの膜厚に
成膜し、潤滑層８は、ディップ法によりパーフルオロポ
リエーテルを３ｎｍの膜厚に成膜した。
は、ガラス基板（図示せず）上に形成したＣｒの下地体
１１の上に、磁気記録坦体１０が形成されている。この
磁気記録坦体１０は、スパッタ法によりＣｏＣｒＰｔを
３０ｎｍの膜厚に成膜した。また、保護膜９は、スパッ
タ法により水素１０％添加カーボンを２０ｎｍの膜厚に
成膜し、潤滑層８は、ディップ法によりパーフルオロポ
リエーテルを３ｎｍの膜厚に成膜した。
【００２３】なお、接触パッド４および磁気ディスク媒
体１２に用いた下地体１１，磁気記録坦体１０，保護膜
９，潤滑層８の種類，形成方法などは特に限定されるも
ではなく、公知の材料，形成方法を特別な制限なく用い
ることができる。
体１２に用いた下地体１１，磁気記録坦体１０，保護膜
９，潤滑層８の種類，形成方法などは特に限定されるも
ではなく、公知の材料，形成方法を特別な制限なく用い
ることができる。
【００２４】〔実施例２〕 ダンパー層３として、ペル
フルオロアルコキシフッ素樹脂を用いた。また、ダンパ
ー層３の材質以外は実施例１と同様にした。
フルオロアルコキシフッ素樹脂を用いた。また、ダンパ
ー層３の材質以外は実施例１と同様にした。
【００２５】〔実施例３〕 ダンパー層３としてエチレ
ン四フッ化エチレン共重合体を用いた。また、ダンパー
層３の材質以外は実施例１と同様にした。
ン四フッ化エチレン共重合体を用いた。また、ダンパー
層３の材質以外は実施例１と同様にした。
【００２６】〔実施例４〕 ダンパー層３として、フッ
化ビニリデンを用いた。また、ダンパー層３の材質以外
は実施例１と同様にした。
化ビニリデンを用いた。また、ダンパー層３の材質以外
は実施例１と同様にした。
【００２７】〔実施例５〕 ダンパー層３として、ポリ
クロロ三フッ化エチレンを用いた。また、ダンパー層３
の材質以外は実施例１と同様にした。
クロロ三フッ化エチレンを用いた。また、ダンパー層３
の材質以外は実施例１と同様にした。
【００２８】〔実施例６〕 ダンパー層３として、フッ
化ビニルを用いた。また、ダンパー層３の材質以外は実
施例１と同様にした。
化ビニルを用いた。また、ダンパー層３の材質以外は実
施例１と同様にした。
【００２９】〔実施例７〕 ダンパー層３として、ポー
ラス（多孔質）ＳｉＯ2 を用いた。このポーラスＳｉＯ
2 の製法は、次のようにして行った。まず、テトラエト
キシシリケートを原料としたゾルゲル法を用い、ディッ
プ法により成膜した後、凍結乾燥法により１μｍの膜厚
に形成した。また、ダンパー層３の材質以外は実施例１
と同様にした。
ラス（多孔質）ＳｉＯ2 を用いた。このポーラスＳｉＯ
2 の製法は、次のようにして行った。まず、テトラエト
キシシリケートを原料としたゾルゲル法を用い、ディッ
プ法により成膜した後、凍結乾燥法により１μｍの膜厚
に形成した。また、ダンパー層３の材質以外は実施例１
と同様にした。
【００３０】〔実施例８〕 ダンパー層３として、ポー
ラス（多孔質）ＺｒＯ2 を用いた。このポーラスＺｒＯ
2 の製法は、実施例７と同様の方法で形成した。また、
ダンパー層３の材質以外は実施例１と同様にした。
ラス（多孔質）ＺｒＯ2 を用いた。このポーラスＺｒＯ
2 の製法は、実施例７と同様の方法で形成した。また、
ダンパー層３の材質以外は実施例１と同様にした。
【００３１】〔実施例９〕 ダンパー層３は実施例１と
同様の方法で形成した。ただし、接触パッドは、図３に
示すように、接触パッドが３つの接触パッド４ａ，４
ｂ，４ｃからなり、電磁変換素子（図示せず）を含む接
触パッド４ａを磁気ディスク媒体（図示せず）の進行方
向（矢印Ｃの方向）に対して前方に配置し、さらに電磁
変換素子を含まない接触パッド４ｂ，４ｃを磁気ディス
ク媒体の進行方向に対して後方に並列に配置した。
同様の方法で形成した。ただし、接触パッドは、図３に
示すように、接触パッドが３つの接触パッド４ａ，４
ｂ，４ｃからなり、電磁変換素子（図示せず）を含む接
触パッド４ａを磁気ディスク媒体（図示せず）の進行方
向（矢印Ｃの方向）に対して前方に配置し、さらに電磁
変換素子を含まない接触パッド４ｂ，４ｃを磁気ディス
ク媒体の進行方向に対して後方に並列に配置した。
【００３２】〔実施例１０〕 ダンパー層３は実施例１
と同様の方法で形成した。ただし、接触パードの質量を
０．１ｇとなるようにした。
と同様の方法で形成した。ただし、接触パードの質量を
０．１ｇとなるようにした。
【００３３】次に、これらの実施例と比較するするため
の比較例として、次のような接触パッド部を併せて作製
した。
の比較例として、次のような接触パッド部を併せて作製
した。
【００３４】〔比較例１〕 ダンパー層３を設けていな
いもの用いた。この製作方法および材質は、ダンパー層
を設けていない点を除いて実施例１と同様にした。
いもの用いた。この製作方法および材質は、ダンパー層
を設けていない点を除いて実施例１と同様にした。
【００３５】〔比較例２〕 ダンパー層３として、スパ
ッタＳｉＯ2 を用いた。この製作方法および材質は、ダ
ンパー層以外の点は実施例１と同様にした。
ッタＳｉＯ2 を用いた。この製作方法および材質は、ダ
ンパー層以外の点は実施例１と同様にした。
【００３６】〔比較例３〕 ダンパー層３は実施例１と
同様の方法で形成した。ただし、接触パードの質量を
０．５ｇとなるようにした。
同様の方法で形成した。ただし、接触パードの質量を
０．５ｇとなるようにした。
【００３７】〔比較例３〕 ダンパー層３は実施例１と
同様の方法で形成した。ただし、接触パードの質量を
１．０ｇとなるようにした。
同様の方法で形成した。ただし、接触パードの質量を
１．０ｇとなるようにした。
【００３８】上記のように作製した磁気ヘッドスライダ
を用いて摺動耐久性試験を行った。この摺動耐久性試験
時の磁気ディスク媒体の回転数は５４００ｒｐｍとし
た。また、摺動試験２０００時間後における磁気ディス
ク媒体面の平均摩耗厚さ、および定常摺動状態での最大
跳躍量を求めた。
を用いて摺動耐久性試験を行った。この摺動耐久性試験
時の磁気ディスク媒体の回転数は５４００ｒｐｍとし
た。また、摺動試験２０００時間後における磁気ディス
ク媒体面の平均摩耗厚さ、および定常摺動状態での最大
跳躍量を求めた。
【００３９】ここで、最大跳躍量とは、摺動耐久性試験
中に磁気ヘッドスライダと磁気ディスク媒体とは常に接
触しているわけではなく、磁気ディスク媒体表面の異常
突起などで跳躍を示した場合に、これを最大跳躍量とし
て求めたものであって、この跳躍量は、レーザードップ
ラー振動計（ＬＤＶ）を用い、レーザービームを磁気ヘ
ッドスライダの背面に照射し、その反射光の周波数変化
を観測して速度を測定し、さらに、積分することにより
変位に換算して求めた。また、レーザードップラー振動
計を２つ用いて、磁気ヘッドスライダの背面の２箇所の
変位をそれぞれ測定し、ロール角（図２の矢印Ｄの方
向）の大きさを求めた。
中に磁気ヘッドスライダと磁気ディスク媒体とは常に接
触しているわけではなく、磁気ディスク媒体表面の異常
突起などで跳躍を示した場合に、これを最大跳躍量とし
て求めたものであって、この跳躍量は、レーザードップ
ラー振動計（ＬＤＶ）を用い、レーザービームを磁気ヘ
ッドスライダの背面に照射し、その反射光の周波数変化
を観測して速度を測定し、さらに、積分することにより
変位に換算して求めた。また、レーザードップラー振動
計を２つ用いて、磁気ヘッドスライダの背面の２箇所の
変位をそれぞれ測定し、ロール角（図２の矢印Ｄの方
向）の大きさを求めた。
【００４０】次に、実施例１〜１０および比較例１〜３
を用いて摺動耐久性試験を行った結果を表１に示す。
を用いて摺動耐久性試験を行った結果を表１に示す。
【００４１】
【表１】
【００４２】表１によれば、実施例１〜実施例１０のい
ずれもが、比較例１のダンパー層を設けていないものと
比較して、平均摩耗厚さおよび最大跳躍量の値が著しく
小さくなっている。すなわち、ダンパー層を設けること
により、跳躍と摩耗損傷に対する要求を同時に満足さ
せ、高記録密度で高信頼性の接触型磁気ディスク装置を
提供できることになる。
ずれもが、比較例１のダンパー層を設けていないものと
比較して、平均摩耗厚さおよび最大跳躍量の値が著しく
小さくなっている。すなわち、ダンパー層を設けること
により、跳躍と摩耗損傷に対する要求を同時に満足さ
せ、高記録密度で高信頼性の接触型磁気ディスク装置を
提供できることになる。
【００４３】次に、接触パッドを３つ設けた実施例９
と、接触パッドが１つの実施例１とを比較すると、さら
に、平均摩耗厚さおよび最大跳躍量の値が小さくなって
おり、また、ロール角が他の実施例と比較しても著しく
小さくなっているのがわかる。これにより、磁気ヘッド
スライダ面に設けた３つの接触パッドのうち、電磁変換
素子を含む１つの接触パッドを磁気ディスク媒体の進行
方向に対して前方に配置し、かつ電磁変換素子を含まな
い２つの接触パッドを磁気ディスク媒体の進行方向に対
して後方に並列に配置することによって、さらに、性能
を向上させることができる。
と、接触パッドが１つの実施例１とを比較すると、さら
に、平均摩耗厚さおよび最大跳躍量の値が小さくなって
おり、また、ロール角が他の実施例と比較しても著しく
小さくなっているのがわかる。これにより、磁気ヘッド
スライダ面に設けた３つの接触パッドのうち、電磁変換
素子を含む１つの接触パッドを磁気ディスク媒体の進行
方向に対して前方に配置し、かつ電磁変換素子を含まな
い２つの接触パッドを磁気ディスク媒体の進行方向に対
して後方に並列に配置することによって、さらに、性能
を向上させることができる。
【００４４】また、接触パッド部の質量を変化させた実
施例および比較例を見ると、実施例１および実施例１０
の結果から、接触パッド部の質量が０．１ｇ以下では、
平均摩耗厚さおよび最大跳躍量の値が小さいが、比較例
３および比較例４の結果から、接触パッド部の質量が
０．５ｇや１．０ｇでは、平均摩耗厚さおよび最大跳躍
量の値が大きくなることがわかる。この結果から、接触
パッド部の質量が０．１ｇ以下でダンパー層の効果が大
きく表れてくることである。
施例および比較例を見ると、実施例１および実施例１０
の結果から、接触パッド部の質量が０．１ｇ以下では、
平均摩耗厚さおよび最大跳躍量の値が小さいが、比較例
３および比較例４の結果から、接触パッド部の質量が
０．５ｇや１．０ｇでは、平均摩耗厚さおよび最大跳躍
量の値が大きくなることがわかる。この結果から、接触
パッド部の質量が０．１ｇ以下でダンパー層の効果が大
きく表れてくることである。
【００４５】さらに、接触パッド部の硬度について着目
すると、すべての実施例は、接触パッド部の硬度が１Ｇ
Ｐａから１０ＧＰａの範囲内であるが、比較例２のよう
に、１０ＧＰａよりも大きな硬度のダンパー層を設ける
と、平均摩耗厚さおよび最大跳躍量の値が大きくなって
いる。すなわち、ダンパー層の硬度は、１ＧＰａから１
０ＧＰａが適切な範囲であることがわかる。
すると、すべての実施例は、接触パッド部の硬度が１Ｇ
Ｐａから１０ＧＰａの範囲内であるが、比較例２のよう
に、１０ＧＰａよりも大きな硬度のダンパー層を設ける
と、平均摩耗厚さおよび最大跳躍量の値が大きくなって
いる。すなわち、ダンパー層の硬度は、１ＧＰａから１
０ＧＰａが適切な範囲であることがわかる。
【００４６】従って、本発明の接触型磁気ディスク装置
は、従来の接触型磁気ディスク装置と比較して、少なく
とも数分の一から数百分の一の平均摩耗厚さと、数分の
一から数十分の一の最大跳躍量を実現することができ、
全体として少なくとも３倍の耐久性が達成され、高信頼
性を確保することができた。また、本発明の接触型磁気
ディスク装置を用いることにより、従来の４倍の線記録
密度を得ることができた。
は、従来の接触型磁気ディスク装置と比較して、少なく
とも数分の一から数百分の一の平均摩耗厚さと、数分の
一から数十分の一の最大跳躍量を実現することができ、
全体として少なくとも３倍の耐久性が達成され、高信頼
性を確保することができた。また、本発明の接触型磁気
ディスク装置を用いることにより、従来の４倍の線記録
密度を得ることができた。
【００４７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の触型磁気
ディスク装置は、磁気ヘッド先端に形成された接触パッ
ドと磁気ヘッドスライダとの間にダンパー層を設けるこ
とにより、衝撃力を効率よく緩和することができる。ま
た、この接触パッドの接触箇所が３つ有するもの、ダン
パー層の硬度が１〜１０ＧＰａのもの、ダンパー層がフ
ッ素系樹脂，ポーラスＳｉＯ2 もしくはポーラスＺｒＯ
2 からなるものを用いても、摩耗量および跳躍量を小さ
く抑えることができ、磁気ヘッドおよび磁気ディスク媒
体の摩耗損傷を低減し、装置の耐久性および信頼性を向
上させ、高記録密度を達成できるという効果がある。
ディスク装置は、磁気ヘッド先端に形成された接触パッ
ドと磁気ヘッドスライダとの間にダンパー層を設けるこ
とにより、衝撃力を効率よく緩和することができる。ま
た、この接触パッドの接触箇所が３つ有するもの、ダン
パー層の硬度が１〜１０ＧＰａのもの、ダンパー層がフ
ッ素系樹脂，ポーラスＳｉＯ2 もしくはポーラスＺｒＯ
2 からなるものを用いても、摩耗量および跳躍量を小さ
く抑えることができ、磁気ヘッドおよび磁気ディスク媒
体の摩耗損傷を低減し、装置の耐久性および信頼性を向
上させ、高記録密度を達成できるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例の基本構成を示す断面図であ
る。
る。
【図２】本発明の接触型磁気ディスク装置に適用する１
つの接触パッドを有する磁気ヘッドスライダの例を示す
部分斜視図である。
つの接触パッドを有する磁気ヘッドスライダの例を示す
部分斜視図である。
【図３】本発明の接触型磁気ディスク装置に適用する３
つの接触パッドを有する磁気ヘッドスライダの例を示す
部分斜視図である。
つの接触パッドを有する磁気ヘッドスライダの例を示す
部分斜視図である。
【図４】本発明の接触型磁気ディスク装置の磁気ヘッド
スライダの詳細を示す分解斜視図である。
スライダの詳細を示す分解斜視図である。
【図５】図４の断面図である。
【図６】本発明の接触型磁気ディスク装置の磁気ヘッド
スライダ支持機構および磁気ヘッドスライダを示す斜視
図である。
スライダ支持機構および磁気ヘッドスライダを示す斜視
図である。
１ 電磁変換素子 ２，２ａ 磁気ヘッドスライダ ３ ダンパー層 ４，４ａ，４ｂ，４ｃ 接触パッド ５，１６，２３ａ，２３ｂ 電極 ６ 磁気ヘッドスライダ支持機構 ７ リード線 ８ 潤滑層 ９ 保護膜 １０ 磁気記録坦体 １１ 下地体 １２ 磁気ディスク媒体 １３ 基板 １４ａ，１４ｂ ヨーク １５ コイル １７ リターンヨーク １８ 絶縁膜 １９ 配線膜 ２０ ワイヤー ２１ 接触パッドＡ ２２ 接触パッドＢ
Claims (5)
- 【請求項１】 記録再生を行う電磁変換素子を先端部に
形成しかつ磁気ディスク媒体に接触摺動する接触パッド
と、この接触パッドを装着する磁気ヘッドスライダと、
この磁気ヘッドスライダを支持する磁気ヘッドスライダ
支持機構とを備える接触型磁気ディスク装置において、
前記磁気ヘッドスライダと前記接触パッドとの間にダン
パー層を有すること特徴とする接触型磁気ディスク装
置。 - 【請求項２】 前記接触パッドが３つの接触パッドから
なり、前記電磁変換素子を含む１つの接触パッドを前記
磁気ディスク媒体の進行方向に対して前方に配置し、さ
らに前記電磁変換素子を含まない２つの接触パッドを前
記磁気ディスク媒体の進行方向に対して後方に並列に配
置してなることを特徴とする請求項１記載の接触型磁気
ディスク装置。 - 【請求項３】 前記ダンパー層の硬度が、１〜１０ＧＰ
ａであることを特徴とする請求項１または２記載の接触
型磁気ディスク装置。 - 【請求項４】 前記ダンパー層の材質が、フッ素系樹
脂，ポーラス（多孔質）ＳｉＯ2 もしくはポーラス（多
孔質）ＺｒＯ2 のいずれか１つからなることを特徴とす
る請求項１または２記載の接触型磁気ディスク装置。 - 【請求項５】 前記接触パッドの質量が、０．１ｇ以下
であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項記
載の接触型磁気ディスク装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7011355A JP3033670B2 (ja) | 1995-01-27 | 1995-01-27 | 接触型磁気ディスク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7011355A JP3033670B2 (ja) | 1995-01-27 | 1995-01-27 | 接触型磁気ディスク装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08203190A true JPH08203190A (ja) | 1996-08-09 |
| JP3033670B2 JP3033670B2 (ja) | 2000-04-17 |
Family
ID=11775732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7011355A Expired - Lifetime JP3033670B2 (ja) | 1995-01-27 | 1995-01-27 | 接触型磁気ディスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3033670B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5796553A (en) * | 1997-03-31 | 1998-08-18 | Hutchinson Technology Incorporated | Disk drive head suspension having gaps in the load beam which are at least partially filled with or covered by damping material |
| US6005750A (en) * | 1997-11-12 | 1999-12-21 | Hutchinson Technology Incorporated | Head suspension including coupled flexure and damper constraint layer |
| US6046883A (en) * | 1996-12-31 | 2000-04-04 | Hutchinson Technology Incorporated | Head suspension having a flexure motion limiter |
| US6271996B1 (en) | 1997-11-10 | 2001-08-07 | Hutchinson Technology Incorporated | Damper with unconstrained surface for a disk drive head suspension |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0246516A (ja) * | 1988-08-06 | 1990-02-15 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘッド装置 |
| JPH06333379A (ja) * | 1993-05-19 | 1994-12-02 | Hitachi Ltd | 磁気記録装置 |
| JPH06349221A (ja) * | 1993-06-10 | 1994-12-22 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドスライダ及び磁気ディスク装置 |
-
1995
- 1995-01-27 JP JP7011355A patent/JP3033670B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0246516A (ja) * | 1988-08-06 | 1990-02-15 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘッド装置 |
| JPH06333379A (ja) * | 1993-05-19 | 1994-12-02 | Hitachi Ltd | 磁気記録装置 |
| JPH06349221A (ja) * | 1993-06-10 | 1994-12-22 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドスライダ及び磁気ディスク装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6046883A (en) * | 1996-12-31 | 2000-04-04 | Hutchinson Technology Incorporated | Head suspension having a flexure motion limiter |
| US5796553A (en) * | 1997-03-31 | 1998-08-18 | Hutchinson Technology Incorporated | Disk drive head suspension having gaps in the load beam which are at least partially filled with or covered by damping material |
| US6271996B1 (en) | 1997-11-10 | 2001-08-07 | Hutchinson Technology Incorporated | Damper with unconstrained surface for a disk drive head suspension |
| US6005750A (en) * | 1997-11-12 | 1999-12-21 | Hutchinson Technology Incorporated | Head suspension including coupled flexure and damper constraint layer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3033670B2 (ja) | 2000-04-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19980106 |