JPH08204233A - 端面発光型ledの製造方法および端面発光型ledの検査方法 - Google Patents
端面発光型ledの製造方法および端面発光型ledの検査方法Info
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- JPH08204233A JPH08204233A JP859895A JP859895A JPH08204233A JP H08204233 A JPH08204233 A JP H08204233A JP 859895 A JP859895 A JP 859895A JP 859895 A JP859895 A JP 859895A JP H08204233 A JPH08204233 A JP H08204233A
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Landscapes
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- Led Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 チップに切り出す前のウェハ状態で、端面発
光型LEDの発光検査を行うことができるようにした、
端面発光型LEDの製造方法と端面発光型LEDの検査
方法を提供する。 【構成】 PN接合を有する発光素子部を備えた端面発
光型LEDの製造方法である。第1導電型の半導体下地
11に第2導電型の不純物領域13aを形成する工程
と、不純物領域13aをその中間部でエッチングする工
程と、半導体下地11上に絶縁膜19aを形成する工程
と、絶縁膜19a上に不純物領域13、13に接続する
電極部15を形成する工程と、半導体下地11に接続す
る電極17を形成する工程と、不純物領域13、13の
うち一方を発光部、他方を受光部として機能させ、発光
部の発光特性を受光部で測定する工程と、この検査工程
の後、半導体下地11を不純物領域13、13の中間部
にて切断する工程とを備えてなる。
光型LEDの発光検査を行うことができるようにした、
端面発光型LEDの製造方法と端面発光型LEDの検査
方法を提供する。 【構成】 PN接合を有する発光素子部を備えた端面発
光型LEDの製造方法である。第1導電型の半導体下地
11に第2導電型の不純物領域13aを形成する工程
と、不純物領域13aをその中間部でエッチングする工
程と、半導体下地11上に絶縁膜19aを形成する工程
と、絶縁膜19a上に不純物領域13、13に接続する
電極部15を形成する工程と、半導体下地11に接続す
る電極17を形成する工程と、不純物領域13、13の
うち一方を発光部、他方を受光部として機能させ、発光
部の発光特性を受光部で測定する工程と、この検査工程
の後、半導体下地11を不純物領域13、13の中間部
にて切断する工程とを備えてなる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、端面発光型LED(Li
ght Emitting Diode)の製造方法と、製造される端面発
光型LEDの発光特性を容易に検査することのできる端
面発光型LEDの検査方法に関する。
ght Emitting Diode)の製造方法と、製造される端面発
光型LEDの発光特性を容易に検査することのできる端
面発光型LEDの検査方法に関する。
【0002】
【従来の技術】LEDアレイは、例えば電子写真方式の
プリンタ用の光源などとして広く用いられている。この
LEDアレイには、その一つのタイプとして端面発光型
LEDアレイと称されるものがあり、このような端面発
光型LEDアレイについては、例えば特開平2−125
765号公報(以下、公報1と称する)、特開平5−3
1955号公報(以下、公報2と称する)に開示された
技術が知られている。
プリンタ用の光源などとして広く用いられている。この
LEDアレイには、その一つのタイプとして端面発光型
LEDアレイと称されるものがあり、このような端面発
光型LEDアレイについては、例えば特開平2−125
765号公報(以下、公報1と称する)、特開平5−3
1955号公報(以下、公報2と称する)に開示された
技術が知られている。
【0003】公報1においては、その第3頁左上欄に、
N電極、N−GaAs層(バッファ層)、N−AlGa
As層、P−AlGaAs層、絶縁膜およびP電極が積
層された構成の半導体ウェハをダイシングすることによ
り、図7に示すようにN電極41、N−GaAs層(バ
ッファ層)42、N−AlGaAs層43、P−AlG
aAs層44、絶縁膜45、P電極46が積層され、N
−AlGaAs層43とP−AlGaAs層44とのへ
き開面から線状発光する構造の端面発光型LEDアレイ
40が得られるとした技術が開示されている。
N電極、N−GaAs層(バッファ層)、N−AlGa
As層、P−AlGaAs層、絶縁膜およびP電極が積
層された構成の半導体ウェハをダイシングすることによ
り、図7に示すようにN電極41、N−GaAs層(バ
ッファ層)42、N−AlGaAs層43、P−AlG
aAs層44、絶縁膜45、P電極46が積層され、N
−AlGaAs層43とP−AlGaAs層44とのへ
き開面から線状発光する構造の端面発光型LEDアレイ
40が得られるとした技術が開示されている。
【0004】また、公報2においては、その第5頁の右
欄第31〜第32行目に、ダブルヘテロ構造を有する半
導体ウェハに、端面発光部を作製する際、塩素系ガスを
用いたドライエッチング法により行う点が記載されてお
り、このようなドライエッチングにより、図8に示すよ
うに第1導電型電極51、第1導電型基板52、第1導
電型クラッド層53、活性層54、第2導電型クラッド
層55、キャップ層56、第2導電型電極57が積層さ
れ、活性層54が発光部となる構造の発光装置が得られ
るとした技術が開示されている。
欄第31〜第32行目に、ダブルヘテロ構造を有する半
導体ウェハに、端面発光部を作製する際、塩素系ガスを
用いたドライエッチング法により行う点が記載されてお
り、このようなドライエッチングにより、図8に示すよ
うに第1導電型電極51、第1導電型基板52、第1導
電型クラッド層53、活性層54、第2導電型クラッド
層55、キャップ層56、第2導電型電極57が積層さ
れ、活性層54が発光部となる構造の発光装置が得られ
るとした技術が開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の端面発光型LEDアレイには以下に述べる不都
合がある。前記端面発光型LEDアレイでは、いずれも
発光面がLEDの出射側(発光側)端面に一致している
ことから、各発光素子部の発光特性については、多数の
発光素子部を形成したウェハを切断(ダイシング)して
チップ化し、発光面を形成した後でなくてはその発光特
性の検査を行うことができない。そして、このように切
断後でなくては発光特性検査を行うことができないこと
から、特に、発光素子部における発光方向の寸法を小さ
くして低コスト化を図ろうとした場合には、切断して取
り出したチップが小さくてそのままでは検査することが
できず、したがってワイヤボンディングなどで駆動回路
と接続してからでないと検査が行えなくなってしまう。
その結果、検査自体が難しくなってしまうとともに、時
間と手間がかかってしまうのである。
た従来の端面発光型LEDアレイには以下に述べる不都
合がある。前記端面発光型LEDアレイでは、いずれも
発光面がLEDの出射側(発光側)端面に一致している
ことから、各発光素子部の発光特性については、多数の
発光素子部を形成したウェハを切断(ダイシング)して
チップ化し、発光面を形成した後でなくてはその発光特
性の検査を行うことができない。そして、このように切
断後でなくては発光特性検査を行うことができないこと
から、特に、発光素子部における発光方向の寸法を小さ
くして低コスト化を図ろうとした場合には、切断して取
り出したチップが小さくてそのままでは検査することが
できず、したがってワイヤボンディングなどで駆動回路
と接続してからでないと検査が行えなくなってしまう。
その結果、検査自体が難しくなってしまうとともに、時
間と手間がかかってしまうのである。
【0006】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、チップに切り出す前のウ
ェハ状態で、端面発光型LEDの発光検査を行うことが
できるようにした、端面発光型LEDの製造方法および
端面発光型LEDの検査方法を提供することにある。
で、その目的とするところは、チップに切り出す前のウ
ェハ状態で、端面発光型LEDの発光検査を行うことが
できるようにした、端面発光型LEDの製造方法および
端面発光型LEDの検査方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の端面発光型LE
Dの製造方法では、第1導電型の半導体下地を用意する
とともに、この半導体下地の表面の所定位置に第2導電
型の不純物を導入して不純物領域を形成する工程と、前
記不純物領域が間隔をおいて二分されるように該不純物
領域の中間部をエッチングする工程と、前記半導体下地
上に、前記不純物領域が露出した状態となるように絶縁
膜を形成する工程と、前記絶縁膜上に、前記二分された
不純物領域に接続する電極部をそれぞれに独立して形成
する工程と、前記半導体下地の裏面に該半導体下地に接
続する電極を形成する工程と、前記二分された不純物領
域のうちの一方の側が発光部、他方の側が受光部として
機能するように前記電極間に電圧を印加し、発光部にお
ける発光特性を受光部において測定して発光部の発光特
性を検査する工程と、この検査工程の後、前記半導体下
地を前記不純物領域の中間部にて切断する工程とを備え
てなることを前記課題の解決手段とした。
Dの製造方法では、第1導電型の半導体下地を用意する
とともに、この半導体下地の表面の所定位置に第2導電
型の不純物を導入して不純物領域を形成する工程と、前
記不純物領域が間隔をおいて二分されるように該不純物
領域の中間部をエッチングする工程と、前記半導体下地
上に、前記不純物領域が露出した状態となるように絶縁
膜を形成する工程と、前記絶縁膜上に、前記二分された
不純物領域に接続する電極部をそれぞれに独立して形成
する工程と、前記半導体下地の裏面に該半導体下地に接
続する電極を形成する工程と、前記二分された不純物領
域のうちの一方の側が発光部、他方の側が受光部として
機能するように前記電極間に電圧を印加し、発光部にお
ける発光特性を受光部において測定して発光部の発光特
性を検査する工程と、この検査工程の後、前記半導体下
地を前記不純物領域の中間部にて切断する工程とを備え
てなることを前記課題の解決手段とした。
【0008】本発明の端面発光型LEDの検査方法で
は、少なくとも一対の端面発光型LED素子部が、該対
をなす各端面発光型LED素子部の発光部が互いに間隔
をあけて形成配置されるとともにその発光方向が相対向
して形成配置された端面発光型LED中間品を、該対を
なす端面発光型LED素子部間を切断分離するに先立
ち、その一方を発光素子、他方を受光素子として機能さ
せることにより、発光素子として機能させた端面発光型
LED素子部の発光特性を測定することを前記課題の解
決手段とした。
は、少なくとも一対の端面発光型LED素子部が、該対
をなす各端面発光型LED素子部の発光部が互いに間隔
をあけて形成配置されるとともにその発光方向が相対向
して形成配置された端面発光型LED中間品を、該対を
なす端面発光型LED素子部間を切断分離するに先立
ち、その一方を発光素子、他方を受光素子として機能さ
せることにより、発光素子として機能させた端面発光型
LED素子部の発光特性を測定することを前記課題の解
決手段とした。
【0009】
【作用】本発明の端面発光型LEDの製造方法によれ
ば、第1導電型の半導体下地に第2導電型の不純物が導
入されることによってPN接合が形成される。そして、
不純物が導入されてなる不純物領域が所定の間隔をおい
てエッチングにより二分されることにより、これら二分
されてなる不純物領域はエッチング箇所において互いに
対向したものとなる。したがって、これら不純物領域と
前記半導体下地に電極を接続した後、該不純物領域の一
方を発光部、他方を受光部として機能させることによ
り、発光部とした側の発光特性を受光部において測定す
ることが可能になり、これによってウェハからチップと
して切り出される前に、得られるLEDの発光特性の検
査を行うことが可能になる。
ば、第1導電型の半導体下地に第2導電型の不純物が導
入されることによってPN接合が形成される。そして、
不純物が導入されてなる不純物領域が所定の間隔をおい
てエッチングにより二分されることにより、これら二分
されてなる不純物領域はエッチング箇所において互いに
対向したものとなる。したがって、これら不純物領域と
前記半導体下地に電極を接続した後、該不純物領域の一
方を発光部、他方を受光部として機能させることによ
り、発光部とした側の発光特性を受光部において測定す
ることが可能になり、これによってウェハからチップと
して切り出される前に、得られるLEDの発光特性の検
査を行うことが可能になる。
【0010】本発明の端面発光型LEDの検査方法によ
れば、対をなす端面発光型LED素子部間を切断分離す
るに先立ち、その一方を発光素子、他方を受光素子とし
て機能させ、発光素子として機能させた端面発光型LE
D素子部の発光特性を測定するので、ウェハからチップ
として切り出される前に、位置決めなどの手間をかける
ことなく容易に得られるLEDの発光特性の検査を行う
ことが可能になる。
れば、対をなす端面発光型LED素子部間を切断分離す
るに先立ち、その一方を発光素子、他方を受光素子とし
て機能させ、発光素子として機能させた端面発光型LE
D素子部の発光特性を測定するので、ウェハからチップ
として切り出される前に、位置決めなどの手間をかける
ことなく容易に得られるLEDの発光特性の検査を行う
ことが可能になる。
【0011】
【実施例】以下、本発明を図面を利用して詳しく説明す
る。まず、本発明の端面発光型LEDの製造方法を、L
EDアレイの製造に適用したた場合の一実施例について
図1(a)〜(e)、図2(a)〜(d)、図3
(a)、(b)を参照して説明する。本実施例では、図
1(a)に示すようにN型(第1導電型)半導体下地1
1を用意し、このN型半導体下地11上に拡散防止膜2
1を所定パターンに形成する。ここで、N型半導体下地
11としては、N型のガリウム・ヒ素(GaAs)基板
と、このN型GaAs基板上にエピタキシャル成長させ
たN型のガリウム・ヒ素・リン(N型GaAsP)層と
から構成されたものが用いられている。
る。まず、本発明の端面発光型LEDの製造方法を、L
EDアレイの製造に適用したた場合の一実施例について
図1(a)〜(e)、図2(a)〜(d)、図3
(a)、(b)を参照して説明する。本実施例では、図
1(a)に示すようにN型(第1導電型)半導体下地1
1を用意し、このN型半導体下地11上に拡散防止膜2
1を所定パターンに形成する。ここで、N型半導体下地
11としては、N型のガリウム・ヒ素(GaAs)基板
と、このN型GaAs基板上にエピタキシャル成長させ
たN型のガリウム・ヒ素・リン(N型GaAsP)層と
から構成されたものが用いられている。
【0012】また、拡散防止膜21は、後述するように
P型不純物をN型半導体下地11に導入する際、所定領
域以外に拡散するのを防止するためのものであり、具体
的にはアルミナ膜、窒化珪素膜、酸化珪素膜等からなる
ものである。このような拡散防止膜21は、公知の成膜
方法、例えば蒸着法、スパッタ法あるいはCVD法など
によって膜厚が例えば50〜500nm程度の範囲とな
るように成膜され、さらにホトリソグラフィ技術、エッ
チング技術によってパターニングされる。拡散防止膜2
1のパターンについては、N型半導体下地11の、P型
不純物を直接導入しない位置に略対応したパターンとさ
れる。すなわち、この例では、少なくとも不純物導入領
域を挟んでその両側に、拡散防止膜21がパターニング
されている。
P型不純物をN型半導体下地11に導入する際、所定領
域以外に拡散するのを防止するためのものであり、具体
的にはアルミナ膜、窒化珪素膜、酸化珪素膜等からなる
ものである。このような拡散防止膜21は、公知の成膜
方法、例えば蒸着法、スパッタ法あるいはCVD法など
によって膜厚が例えば50〜500nm程度の範囲とな
るように成膜され、さらにホトリソグラフィ技術、エッ
チング技術によってパターニングされる。拡散防止膜2
1のパターンについては、N型半導体下地11の、P型
不純物を直接導入しない位置に略対応したパターンとさ
れる。すなわち、この例では、少なくとも不純物導入領
域を挟んでその両側に、拡散防止膜21がパターニング
されている。
【0013】次に、N型半導体下地11および拡散防止
膜21上に、拡散制御膜25を公知の成膜方法によって
形成する。拡散制御膜25は、例えばアルミナ膜、窒化
珪素膜、酸化珪素膜、PSG(Phospho-Silicate Glas
s)膜等からなるもので、その膜厚は例えば10〜30
0nm程度の範囲とされる。次いで、N型半導体下地1
1の拡散防止膜21で覆われていない部分に、拡散制御
膜25を通して、P型(第2導電型)不純物を導入す
る。導入するP型不純物としては、例えば亜鉛(Zn)
を選択することができ、これを例えば気相拡散法によっ
て前記半導体下地11表層部中に拡散させることによ
り、図1(b)に示すようにP型GaAsP層(不純物
領域)13aを形成する。続いて、拡散制御膜25を公
知の適宜な手法で除去する。
膜21上に、拡散制御膜25を公知の成膜方法によって
形成する。拡散制御膜25は、例えばアルミナ膜、窒化
珪素膜、酸化珪素膜、PSG(Phospho-Silicate Glas
s)膜等からなるもので、その膜厚は例えば10〜30
0nm程度の範囲とされる。次いで、N型半導体下地1
1の拡散防止膜21で覆われていない部分に、拡散制御
膜25を通して、P型(第2導電型)不純物を導入す
る。導入するP型不純物としては、例えば亜鉛(Zn)
を選択することができ、これを例えば気相拡散法によっ
て前記半導体下地11表層部中に拡散させることによ
り、図1(b)に示すようにP型GaAsP層(不純物
領域)13aを形成する。続いて、拡散制御膜25を公
知の適宜な手法で除去する。
【0014】次いで、前記P型GaAsP層13aが間
隔をおいて二分されるようにその中間部をエッチングす
る。このエッチングを行うにあたっては、まず、図1
(c)に示すようにN型半導体下地11における、前記
P型GaAsP層13aの中間部を除く位置にホトレジ
スト等からなるエッチングマスク27を形成する。次
に、このエッチングマスク27を用いてエッチングを行
い、図1(d)に示すようにP型GaAsP層13aの
中間部に凹部29を形成して該P型GaAsP層13a
を二分する。エッチングとしては、クエン酸系やフッ酸
系、硫酸系などのエッチング液を用いたウェットエッチ
ングや、塩素系などのエッチングガスを用いたドライエ
ッチングなどが採用される。凹部29については、P型
GaAsP層13aとN型半導体下地11とで形成され
るPN接合を越える深さとなるように形成される。な
お、本実施例では、図1(d)に示すように凹部29の
両側面を順テーパ状としたが、垂直面としてよく、また
逆テーパ状としてもよい。また、この凹部29は、後述
する切断工程における切断ラインとなるものであり、し
たがってその底面の幅が切断幅より大きくなるように形
成されている。
隔をおいて二分されるようにその中間部をエッチングす
る。このエッチングを行うにあたっては、まず、図1
(c)に示すようにN型半導体下地11における、前記
P型GaAsP層13aの中間部を除く位置にホトレジ
スト等からなるエッチングマスク27を形成する。次
に、このエッチングマスク27を用いてエッチングを行
い、図1(d)に示すようにP型GaAsP層13aの
中間部に凹部29を形成して該P型GaAsP層13a
を二分する。エッチングとしては、クエン酸系やフッ酸
系、硫酸系などのエッチング液を用いたウェットエッチ
ングや、塩素系などのエッチングガスを用いたドライエ
ッチングなどが採用される。凹部29については、P型
GaAsP層13aとN型半導体下地11とで形成され
るPN接合を越える深さとなるように形成される。な
お、本実施例では、図1(d)に示すように凹部29の
両側面を順テーパ状としたが、垂直面としてよく、また
逆テーパ状としてもよい。また、この凹部29は、後述
する切断工程における切断ラインとなるものであり、し
たがってその底面の幅が切断幅より大きくなるように形
成されている。
【0015】次いで、図1(e)に示すようにエッチン
グマスク27を除去し、さらに図2(a)に示すように
N型半導体下地11の全面に公知の成膜方法によって絶
縁膜19aを形成する。この絶縁膜19aは、N型半導
体下地11と後述するP側電極との間を絶縁するための
ものであり、例えばアルミナ膜、窒化珪素膜、酸化珪素
膜等からなるものである。また、その膜厚については、
例えば50〜500nm程度の範囲とされる。次いで、
この絶縁膜19aを公知のホトリソグラフィ技術、エッ
チング技術によって加工し、図2(b)に示すように二
分されてなるP型GaAsP領域(不純物領域)13、
13にそれぞれ対応する位置、すなわち該P型GaAs
P領域13、13の、前記凹部29と反対の側の拡散防
止膜21上にそれぞれ絶縁膜19を形成する。
グマスク27を除去し、さらに図2(a)に示すように
N型半導体下地11の全面に公知の成膜方法によって絶
縁膜19aを形成する。この絶縁膜19aは、N型半導
体下地11と後述するP側電極との間を絶縁するための
ものであり、例えばアルミナ膜、窒化珪素膜、酸化珪素
膜等からなるものである。また、その膜厚については、
例えば50〜500nm程度の範囲とされる。次いで、
この絶縁膜19aを公知のホトリソグラフィ技術、エッ
チング技術によって加工し、図2(b)に示すように二
分されてなるP型GaAsP領域(不純物領域)13、
13にそれぞれ対応する位置、すなわち該P型GaAs
P領域13、13の、前記凹部29と反対の側の拡散防
止膜21上にそれぞれ絶縁膜19を形成する。
【0016】次いで、P型GaAsP領域13、13に
それぞれ独立して接続するP側電極15を、公知の成膜
方法および微細加工技術によって図2(c)に示すよう
に前記絶縁膜19、19の上に形成する。また、これと
は別に、N型半導体下地11の裏面にN側電極17を形
成する。そして、これにより図3(a)、(b)に示す
ような端面発光型LED中間品10を得る。すなわち、
このLED中間品10は、発光層となるP型GaAsP
領域13、13と、これらにそれぞれ接続するP側電極
15とから構成された対の端面発光型LED素子部を、
N側電極17と接続するN型半導体下地11上に複数形
成したものであり、図3(a)に示すように、該対をな
す各端面発光型LED素子部の発光部(P型GaAsP
領域13、13)が互いに間隔をあけて形成配置される
とともに、その発光方向が相対向して形成配置されたも
のである。
それぞれ独立して接続するP側電極15を、公知の成膜
方法および微細加工技術によって図2(c)に示すよう
に前記絶縁膜19、19の上に形成する。また、これと
は別に、N型半導体下地11の裏面にN側電極17を形
成する。そして、これにより図3(a)、(b)に示す
ような端面発光型LED中間品10を得る。すなわち、
このLED中間品10は、発光層となるP型GaAsP
領域13、13と、これらにそれぞれ接続するP側電極
15とから構成された対の端面発光型LED素子部を、
N側電極17と接続するN型半導体下地11上に複数形
成したものであり、図3(a)に示すように、該対をな
す各端面発光型LED素子部の発光部(P型GaAsP
領域13、13)が互いに間隔をあけて形成配置される
とともに、その発光方向が相対向して形成配置されたも
のである。
【0017】なお、P側電極15を形成材料としては、
P型GaAsP領域13との間でオーミックコンタクト
がとれる材料であればよく、例えばアルミニウムが好適
に用いられる。また、N側電極17の形成については、
特性向上のため予めN型半導体下地11の裏面を研磨し
ておき、この研磨面にN側電極17を形成してもよい。
また、ここまでの工程において、凹部29の形成と、絶
縁膜19、19の形成、P側電極15、15の形成、お
よびN側電極17の形成との順序を逆にしてもよい。
P型GaAsP領域13との間でオーミックコンタクト
がとれる材料であればよく、例えばアルミニウムが好適
に用いられる。また、N側電極17の形成については、
特性向上のため予めN型半導体下地11の裏面を研磨し
ておき、この研磨面にN側電極17を形成してもよい。
また、ここまでの工程において、凹部29の形成と、絶
縁膜19、19の形成、P側電極15、15の形成、お
よびN側電極17の形成との順序を逆にしてもよい。
【0018】そして、このようにして得られた端面発光
型LED中間品10の、LED素子部がそれぞれ十分な
発光特性・電気特性を有しているか否かをプロービング
により検査する。この検査方法は、本発明における端面
発光型LEDの検査方法の実施例となる方法であり、向
かい合う発光部(P型GaAsP領域13、13)のう
ちの一方を発光素子として機能させ、他方を受光素子と
して機能させることにより、発光させたLED素子部の
特性を検査し、その後、これらを入れ換えることによっ
て他方のLED素子部の特性についても検査するもので
ある。
型LED中間品10の、LED素子部がそれぞれ十分な
発光特性・電気特性を有しているか否かをプロービング
により検査する。この検査方法は、本発明における端面
発光型LEDの検査方法の実施例となる方法であり、向
かい合う発光部(P型GaAsP領域13、13)のう
ちの一方を発光素子として機能させ、他方を受光素子と
して機能させることにより、発光させたLED素子部の
特性を検査し、その後、これらを入れ換えることによっ
て他方のLED素子部の特性についても検査するもので
ある。
【0019】このような検査方法について具体的に説明
すると、例えば図4(a)に示す第一の検査例(太陽電
池モード)では、発光側素子に順方向電圧を印加してこ
れを発光させる。一方、受光側素子には電圧を印加せ
ず、この状態で受光側素子に入射した光による起電力を
測定し、これによって発光側素子の発光特性・電気特性
を検査する。
すると、例えば図4(a)に示す第一の検査例(太陽電
池モード)では、発光側素子に順方向電圧を印加してこ
れを発光させる。一方、受光側素子には電圧を印加せ
ず、この状態で受光側素子に入射した光による起電力を
測定し、これによって発光側素子の発光特性・電気特性
を検査する。
【0020】図4(b)に示す第二の検査例(フォトダ
イオードモード)では、発光側素子に順方向電圧を印加
してこれを発光させる。一方、受光側素子には逆方向電
圧を印加し、この状態で受光素子に入射した光によって
流れる電流を測定し、発光側素子の発光特性・電気特性
を検査する。図4(c)に示す第三の検査例(アバラン
シェフォトダイオードモード)では、発光側素子に順方
向電圧を印加してこれを発光させる。一方、受光側素子
には逆方向電圧を印加する。このとき、逆方向電圧を受
光側素子のブレークダウン電圧近傍まで印加すると、入
射した光によって流れる電流は非常に大きくなる。そし
て、この電流を測定することにより、発光側素子の発光
特性・電気特性を検査する。
イオードモード)では、発光側素子に順方向電圧を印加
してこれを発光させる。一方、受光側素子には逆方向電
圧を印加し、この状態で受光素子に入射した光によって
流れる電流を測定し、発光側素子の発光特性・電気特性
を検査する。図4(c)に示す第三の検査例(アバラン
シェフォトダイオードモード)では、発光側素子に順方
向電圧を印加してこれを発光させる。一方、受光側素子
には逆方向電圧を印加する。このとき、逆方向電圧を受
光側素子のブレークダウン電圧近傍まで印加すると、入
射した光によって流れる電流は非常に大きくなる。そし
て、この電流を測定することにより、発光側素子の発光
特性・電気特性を検査する。
【0021】図5は、図4のバイアス電圧Vbを変化さ
せたときの電流ILの変化を示す図である。図5におい
て「光照射なし」の曲線は、受光側素子に対向したLE
D素子が点灯していない状態での、該受光側素子の電圧
−電流特性である。また、「光照射あり」の曲線は、対
向したLED素子が点灯している状態での、該受光側素
子の電圧−電流特性である。この図から明らかなよう
に、対向したLED素子の点灯・消灯によって受光側素
子の電圧−電流特性が変化する。ここで、受光側素子の
バイアス電圧Vbを一定にして、受光側素子に流れる電
流ILを測定すると、LED素子の発光強度によってI
Lが変化する。
せたときの電流ILの変化を示す図である。図5におい
て「光照射なし」の曲線は、受光側素子に対向したLE
D素子が点灯していない状態での、該受光側素子の電圧
−電流特性である。また、「光照射あり」の曲線は、対
向したLED素子が点灯している状態での、該受光側素
子の電圧−電流特性である。この図から明らかなよう
に、対向したLED素子の点灯・消灯によって受光側素
子の電圧−電流特性が変化する。ここで、受光側素子の
バイアス電圧Vbを一定にして、受光側素子に流れる電
流ILを測定すると、LED素子の発光強度によってI
Lが変化する。
【0022】図6に、発光側素子の発光強度と、受光側
素子に流れる電流との関係の一例を示す。図6に示した
ように、発光側LED素子の発光強度によって受光側素
子に流れる電流が変化する。したがって、受光側素子に
流れる電流を測定することにより、発光側素子の発光強
度を測定することができるのである。このような発光側
素子と受光側素子との関係は、図4(a)〜(c)に示
した三つのモードのいずれにおいて成立する。よって、
いずれのモードでも発光特性の測定が可能となるのであ
る。このようにして発光特性の検査を行うとともに、L
ED素子の電気的特性(しきい値電圧、逆耐圧など)を
も測定し、各素子の良否を判定する。その後、発光側と
受光側との接続を入れ換えて同様の測定を行うことによ
り、全素子の発光特性と電気特性とを測定する。
素子に流れる電流との関係の一例を示す。図6に示した
ように、発光側LED素子の発光強度によって受光側素
子に流れる電流が変化する。したがって、受光側素子に
流れる電流を測定することにより、発光側素子の発光強
度を測定することができるのである。このような発光側
素子と受光側素子との関係は、図4(a)〜(c)に示
した三つのモードのいずれにおいて成立する。よって、
いずれのモードでも発光特性の測定が可能となるのであ
る。このようにして発光特性の検査を行うとともに、L
ED素子の電気的特性(しきい値電圧、逆耐圧など)を
も測定し、各素子の良否を判定する。その後、発光側と
受光側との接続を入れ換えて同様の測定を行うことによ
り、全素子の発光特性と電気特性とを測定する。
【0023】このようにして検査を終了したら、図2
(d)に示すように凹部29を切断ラインとしてダイシ
ング(切断)を行い、相対向したLED素子部を互いに
分離させ、これにより一対のLEDアレイチップを得
る。その後、プロービングによる検査での良否判定デー
タをもとに、良品チップのみを取り出し、例えば駆動回
路と接続してプリンタヘッド等を作製する。
(d)に示すように凹部29を切断ラインとしてダイシ
ング(切断)を行い、相対向したLED素子部を互いに
分離させ、これにより一対のLEDアレイチップを得
る。その後、プロービングによる検査での良否判定デー
タをもとに、良品チップのみを取り出し、例えば駆動回
路と接続してプリンタヘッド等を作製する。
【0024】このような製造方法にあっては、LED素
子部を互いに対向させて形成し、これらを切断するに先
立ってその発光特性を検査することから、ワイヤボンデ
ィングなどによって駆動回路と接続することなく発光検
査を行うことができ、時間や手間を多くかけることなく
容易に検査を行うことができる。また、特に検査方法に
あっても、製造方法の場合と同様に位置決めなどの手間
をかけることなく発光検査を容易に行うことができる。
なお、前記実施例では第1導電型としてN型を、第2導
電型としてP型を選択してPN接合を形成したが、これ
らを逆にしてもよいのはもちろんである。
子部を互いに対向させて形成し、これらを切断するに先
立ってその発光特性を検査することから、ワイヤボンデ
ィングなどによって駆動回路と接続することなく発光検
査を行うことができ、時間や手間を多くかけることなく
容易に検査を行うことができる。また、特に検査方法に
あっても、製造方法の場合と同様に位置決めなどの手間
をかけることなく発光検査を容易に行うことができる。
なお、前記実施例では第1導電型としてN型を、第2導
電型としてP型を選択してPN接合を形成したが、これ
らを逆にしてもよいのはもちろんである。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように本発明における端面
発光型LEDの製造方法は、二分した不純物領域と半導
体下地に電極を接続した後、該不純物領域の一方を発光
部、他方を受光部として機能させることにより、発光部
とした側の発光特性を受光部において測定するようにし
たものであるから、ウェハからチップとして切り出され
る前に、得られるLEDの発光特性の検査を行うことが
できる。したがって、従来は困難であった端面発光型L
EDの良否判定を容易に行うことができ、しかも不良品
を駆動回路に接続する工程の前に除去できるため、生産
コストの低減を可能にすることができる。
発光型LEDの製造方法は、二分した不純物領域と半導
体下地に電極を接続した後、該不純物領域の一方を発光
部、他方を受光部として機能させることにより、発光部
とした側の発光特性を受光部において測定するようにし
たものであるから、ウェハからチップとして切り出され
る前に、得られるLEDの発光特性の検査を行うことが
できる。したがって、従来は困難であった端面発光型L
EDの良否判定を容易に行うことができ、しかも不良品
を駆動回路に接続する工程の前に除去できるため、生産
コストの低減を可能にすることができる。
【0026】本発明における端面発光型LEDの検査方
法は、対をなす端面発光型LED素子部間を切断分離す
るに先立ち、その一方を発光素子、他方を受光素子とし
て機能させ、発光素子として機能させた端面発光型LE
D素子部の発光特性を測定するものであるから、ウェハ
からチップとして切り出される前に、位置決めなどの手
間をかけることなく容易に得られるLEDの発光特性の
検査を行うことができ、検査の効率化を図れるととも
に、検査に要するコストの低減を可能にすることができ
る。
法は、対をなす端面発光型LED素子部間を切断分離す
るに先立ち、その一方を発光素子、他方を受光素子とし
て機能させ、発光素子として機能させた端面発光型LE
D素子部の発光特性を測定するものであるから、ウェハ
からチップとして切り出される前に、位置決めなどの手
間をかけることなく容易に得られるLEDの発光特性の
検査を行うことができ、検査の効率化を図れるととも
に、検査に要するコストの低減を可能にすることができ
る。
【図1】(a)〜(e)は本発明の製造方法を工程順に
説明するための要部側断面図である。
説明するための要部側断面図である。
【図2】(a)〜(d)は図1に続く工程を説明するた
めの要部側断面図である。
めの要部側断面図である。
【図3】(a)は端面発光型LED中間品の拡大平面
図、(b)は(a)のA−A線矢視断面図である。
図、(b)は(a)のA−A線矢視断面図である。
【図4】(a)〜(c)はいずれも本発明における検査
方法の具体例を示す図であり、(a)は太陽電池モード
を示す図、(b)はフォトダイオードモードを示す図、
(c)はアバランシェフォトダイオードモードを示す図
である。
方法の具体例を示す図であり、(a)は太陽電池モード
を示す図、(b)はフォトダイオードモードを示す図、
(c)はアバランシェフォトダイオードモードを示す図
である。
【図5】受光側素子の特性例を示すグラフである。
【図6】発光側素子の発光強度と、受光側素子に流れる
電流との関係を示すグラフである。
電流との関係を示すグラフである。
【図7】従来の端面発光型LEDの一例を示す要部斜視
図である。
図である。
【図8】従来の端面発光型LEDの他の例を示す要部側
断面図である。
断面図である。
10 端面発光型LED中間品 11 N型(第1導電型)半導体下地 13 P型GaAsP領域 13a P型GaAsP層(不純物領域) 15 P側電極 17 N側電極 19、19a 絶縁膜 21 拡散防止膜 29 凹部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 蒋 一超 東京都港区虎ノ門1丁目7番12号 沖電気 工業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 PN接合を有する発光素子部を備えた端
面発光型LEDの製造方法であって、 第1導電型の半導体下地を用意するとともに、この半導
体下地の表面の所定位置に第2導電型の不純物を導入し
て不純物領域を形成する工程と、 前記不純物領域が間隔をおいて二分されるように該不純
物領域の中間部をエッチングする工程と、 前記半導体下地上に、前記不純物領域が露出した状態と
なるように絶縁膜を形成する工程と、 前記絶縁膜上に、前記二分された不純物領域に接続する
電極部をそれぞれに独立して形成する工程と、 前記半導体下地の裏面に該半導体下地に接続する電極を
形成する工程と、 前記二分された不純物領域のうちの一方の側が発光部、
他方の側が受光部として機能するように前記電極間に電
圧を印加し、発光部における発光特性を受光部において
測定して発光部の発光特性を検査する工程と、 この検査工程の後、前記半導体下地を前記不純物領域の
中間部にて切断する工程とを備えてなることを特徴とす
る端面発光型LEDの製造方法。 - 【請求項2】 少なくとも一対の端面発光型LED素子
部が、該対をなす各端面発光型LED素子部の発光部が
互いに間隔をあけて形成配置されるとともにその発光方
向が相対向して形成配置された端面発光型LED中間品
を、該対をなす端面発光型LED素子部間を切断分離す
るに先立ち、その一方を発光素子、他方を受光素子とし
て機能させることにより、発光素子として機能させた端
面発光型LED素子部の発光特性を測定することを特徴
とする端面発光型LEDの検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP859895A JPH08204233A (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | 端面発光型ledの製造方法および端面発光型ledの検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP859895A JPH08204233A (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | 端面発光型ledの製造方法および端面発光型ledの検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08204233A true JPH08204233A (ja) | 1996-08-09 |
Family
ID=11697413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP859895A Pending JPH08204233A (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | 端面発光型ledの製造方法および端面発光型ledの検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08204233A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008135793A (ja) * | 2008-02-28 | 2008-06-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体発光装置及びledアレイ |
| US8114689B2 (en) | 2006-10-31 | 2012-02-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method for manufacturing light emitting diode chip and light emitting diode light source module |
-
1995
- 1995-01-24 JP JP859895A patent/JPH08204233A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8114689B2 (en) | 2006-10-31 | 2012-02-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method for manufacturing light emitting diode chip and light emitting diode light source module |
| JP2008135793A (ja) * | 2008-02-28 | 2008-06-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体発光装置及びledアレイ |
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