JPH0820779B2 - 電子写真式平版印刷用原版 - Google Patents
電子写真式平版印刷用原版Info
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- JPH0820779B2 JPH0820779B2 JP63021354A JP2135488A JPH0820779B2 JP H0820779 B2 JPH0820779 B2 JP H0820779B2 JP 63021354 A JP63021354 A JP 63021354A JP 2135488 A JP2135488 A JP 2135488A JP H0820779 B2 JPH0820779 B2 JP H0820779B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、電子写真方式で製版される電子写真平版印
刷用原版に関するものであり、特に、該平版印刷原版の
光導電層形成用結着樹脂の改良に関する。
刷用原版に関するものであり、特に、該平版印刷原版の
光導電層形成用結着樹脂の改良に関する。
(従来技術) 現在ダイレクト製版用のオフセット原版には多種のも
のが提案され且つ実用化されているが、中でも導電性支
持体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子及び結着樹脂を
主成分とした光導電層を設けた感光体において、通常の
電子写真工程を経てその感光体表面に親油性の高いトナ
ー画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言われる
不感脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化するこ
とによってオフセット原版を得る技術が広く用いられて
いる。
のが提案され且つ実用化されているが、中でも導電性支
持体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子及び結着樹脂を
主成分とした光導電層を設けた感光体において、通常の
電子写真工程を経てその感光体表面に親油性の高いトナ
ー画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言われる
不感脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化するこ
とによってオフセット原版を得る技術が広く用いられて
いる。
良好な印刷物を得るには、先ず、オフセット原版に、
原画が忠実に複写されると共に、感光体表面が不感脂化
処理液となじみ易く非画像部が充分に親水化されると同
時に耐水性を有し、更に印刷においては、画像を有する
光導電層が離脱しないこと、及び湿し水とのなじみがよ
く、印刷枚数が多くなっても汚れが発生しない様に充分
に非画像部の親水性が保持されること等の性能を有する
必要がある。
原画が忠実に複写されると共に、感光体表面が不感脂化
処理液となじみ易く非画像部が充分に親水化されると同
時に耐水性を有し、更に印刷においては、画像を有する
光導電層が離脱しないこと、及び湿し水とのなじみがよ
く、印刷枚数が多くなっても汚れが発生しない様に充分
に非画像部の親水性が保持されること等の性能を有する
必要がある。
これらの性能には光導電層中の酸化亜鉛と結着樹脂の
比率が影響することは既に知られている。例えば、光導
電層の酸化亜鉛粒子に対する結着樹脂の比率を小さくす
れば、光導電層表面の不感脂化性が向上し、地汚れは少
なくなるが、他方で光導電層自体の内部凝集力が低下
し、機械的強度不足による耐刷力の低下が生じる。逆に
結着樹脂の比率を大きくすると、耐刷力は向上するが、
地汚れが増大する。特に地汚れは、光導電層表面の不感
脂化性の良否に関係する現象であることは言うまでもな
いが、光導電層表面の不感脂化性は光導電層中の酸化亜
鉛と結着樹脂の比率のみによって左右されるものではな
く、結着樹脂の種類によっても大きく左右されることが
明らかになってきている。
比率が影響することは既に知られている。例えば、光導
電層の酸化亜鉛粒子に対する結着樹脂の比率を小さくす
れば、光導電層表面の不感脂化性が向上し、地汚れは少
なくなるが、他方で光導電層自体の内部凝集力が低下
し、機械的強度不足による耐刷力の低下が生じる。逆に
結着樹脂の比率を大きくすると、耐刷力は向上するが、
地汚れが増大する。特に地汚れは、光導電層表面の不感
脂化性の良否に関係する現象であることは言うまでもな
いが、光導電層表面の不感脂化性は光導電層中の酸化亜
鉛と結着樹脂の比率のみによって左右されるものではな
く、結着樹脂の種類によっても大きく左右されることが
明らかになってきている。
古くから公知の樹脂として、例えばシリコーン樹脂
(特公昭34-6670)、スチレン−ブタジエン樹脂(特公
昭35-1950)、アルキッド樹脂、マレイン酸樹脂、ポリ
アミド(特公昭35-11219)、酢酸ビニル樹脂(特公昭41
-2425)、酢酸ビニル共重合体(特公昭41-2426)、アク
リル樹脂(特公昭35-11216)、アクリル酸エステル共重
合体(例えば特公昭35-11219、特公昭36-8510、特公昭4
1-13946等)等が知られている。しかし、これらの樹脂
を用いた電子写真感光材料においては、1)光導電層の
帯電性が低い、2)複写画像の画像部の品質(特に網点
再現性・解像力)が悪い、3)露光感度が低い、4)オ
フセットマスターとして用いるために不感脂化処理して
も不感脂化が行なわれず、このためオフセット印刷した
際に印刷物に地汚れを生ずる、5)感光層の膜強度が充
分でなく、オフセット印刷すると感光層の脱離等が生
じ、印刷枚数を多くできない、6)複写画像作成時の環
境(例えば高温高湿)にその画質が影響されやすい、等
のいずれかの問題があった。
(特公昭34-6670)、スチレン−ブタジエン樹脂(特公
昭35-1950)、アルキッド樹脂、マレイン酸樹脂、ポリ
アミド(特公昭35-11219)、酢酸ビニル樹脂(特公昭41
-2425)、酢酸ビニル共重合体(特公昭41-2426)、アク
リル樹脂(特公昭35-11216)、アクリル酸エステル共重
合体(例えば特公昭35-11219、特公昭36-8510、特公昭4
1-13946等)等が知られている。しかし、これらの樹脂
を用いた電子写真感光材料においては、1)光導電層の
帯電性が低い、2)複写画像の画像部の品質(特に網点
再現性・解像力)が悪い、3)露光感度が低い、4)オ
フセットマスターとして用いるために不感脂化処理して
も不感脂化が行なわれず、このためオフセット印刷した
際に印刷物に地汚れを生ずる、5)感光層の膜強度が充
分でなく、オフセット印刷すると感光層の脱離等が生
じ、印刷枚数を多くできない、6)複写画像作成時の環
境(例えば高温高湿)にその画質が影響されやすい、等
のいずれかの問題があった。
特にオフセット原版としては、前記の様に不感脂化性
不充分による地汚れ発生が大きな問題であり、これを改
良するために不感脂化性を向上させる酸化亜鉛結着用樹
脂の開発が種々検討されてきている。例えば、特公昭50
-31011では、フマル酸存在下で(メタ)アクリレート系
モノマーと他のモノマーと共重合させたMw1.8〜10×104
でTg10〜80℃の樹脂と(メタ)アクリレート系モノマー
とフマル酸以外の他のモノマーとから成る共重合体とを
併用したもの、特開昭53-54027では、カルボン酸基をエ
ステル結合から少なくとも原子数7個離れて有する置換
基をもつ(メタ)アクリル酸エステルを含む三元共重合
体を用いるもの、特開昭54-20735・特開昭57-202544で
は、アクリル酸及びヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ートを含む4元又は5元共重合体を用いるもの、特開昭
58-68046では、炭素数6〜12のアルキル基を置換基とす
る(メタ)アクリル酸エステル及びカルボン酸含有のビ
ニルモノマーを含む3元共重合体を用いるもの等が光導
電層の不感脂化性の向上に効果があると記載されてい
る。しかし、これらの不感脂化性向上に効果があるとさ
れる樹脂であっても、現実に評価してみると地汚れ、耐
刷力等において不充分であった。
不充分による地汚れ発生が大きな問題であり、これを改
良するために不感脂化性を向上させる酸化亜鉛結着用樹
脂の開発が種々検討されてきている。例えば、特公昭50
-31011では、フマル酸存在下で(メタ)アクリレート系
モノマーと他のモノマーと共重合させたMw1.8〜10×104
でTg10〜80℃の樹脂と(メタ)アクリレート系モノマー
とフマル酸以外の他のモノマーとから成る共重合体とを
併用したもの、特開昭53-54027では、カルボン酸基をエ
ステル結合から少なくとも原子数7個離れて有する置換
基をもつ(メタ)アクリル酸エステルを含む三元共重合
体を用いるもの、特開昭54-20735・特開昭57-202544で
は、アクリル酸及びヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ートを含む4元又は5元共重合体を用いるもの、特開昭
58-68046では、炭素数6〜12のアルキル基を置換基とす
る(メタ)アクリル酸エステル及びカルボン酸含有のビ
ニルモノマーを含む3元共重合体を用いるもの等が光導
電層の不感脂化性の向上に効果があると記載されてい
る。しかし、これらの不感脂化性向上に効果があるとさ
れる樹脂であっても、現実に評価してみると地汚れ、耐
刷力等において不充分であった。
更に、結着樹脂として、分解により親水性基を生成す
る官能基を含有する樹脂を用いるものが検討されてお
り、例えば分解によりヒドロキシル基を生成する官能基
を含有するもの(特開昭62-195684号、特開昭62-210475
号、特開昭62-210476号)や分解によりカルボキシル基
を生成する官能基を含有するもの(特開昭62-21269号)
等が開示されている。
る官能基を含有する樹脂を用いるものが検討されてお
り、例えば分解によりヒドロキシル基を生成する官能基
を含有するもの(特開昭62-195684号、特開昭62-210475
号、特開昭62-210476号)や分解によりカルボキシル基
を生成する官能基を含有するもの(特開昭62-21269号)
等が開示されている。
これらの樹脂は不感脂化液又は印刷時に用いる湿し水
により加水分解又は加水素分解されて親水性基を生成す
る樹脂であり、これらを平版印刷用原版の結着樹脂とし
て用いると、親水性基自身をはじめから含有する樹脂を
用いた場合に該親水性基と光導電性酸化亜鉛粒子表面と
の強い相互作用によって生ずると思われる種々の問題
(平滑性の悪化、電子写真特性の悪化等)を回避できる
とともに、不感脂化液により親水化される非画像部の親
水性が、樹脂中において分解により生成される上記親水
性基によってより一層高められる為、画像部の親油性と
非画像部の親水性が明確となり、印刷時に非画像部に印
刷インキが付着するのを防止し、その結果として地汚れ
のない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可能
となると記載されている。
により加水分解又は加水素分解されて親水性基を生成す
る樹脂であり、これらを平版印刷用原版の結着樹脂とし
て用いると、親水性基自身をはじめから含有する樹脂を
用いた場合に該親水性基と光導電性酸化亜鉛粒子表面と
の強い相互作用によって生ずると思われる種々の問題
(平滑性の悪化、電子写真特性の悪化等)を回避できる
とともに、不感脂化液により親水化される非画像部の親
水性が、樹脂中において分解により生成される上記親水
性基によってより一層高められる為、画像部の親油性と
非画像部の親水性が明確となり、印刷時に非画像部に印
刷インキが付着するのを防止し、その結果として地汚れ
のない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可能
となると記載されている。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、これらの樹脂を用いても地汚れ、耐刷
力において未だ満足できるものではなく、上記の如き親
水性基生成官能基を含有する樹脂を用いた場合でも、非
画像部における親水性を更に向上させるべく、その含有
量を増大させた場合には、分解により生成した親水性基
により親水性が増大するとともに水溶性となってしまう
ため、特にその持続性において問題のあることが判っ
た。
力において未だ満足できるものではなく、上記の如き親
水性基生成官能基を含有する樹脂を用いた場合でも、非
画像部における親水性を更に向上させるべく、その含有
量を増大させた場合には、分解により生成した親水性基
により親水性が増大するとともに水溶性となってしまう
ため、特にその持続性において問題のあることが判っ
た。
従って、非画像部の親水性による効果がより向上し、
更に持続性が向上する技術の出現が望まれる。
更に持続性が向上する技術の出現が望まれる。
より具体的にいえば、全結着樹脂中における上記の如
き親水性基生成官能基を含有する樹脂の含有量を減少さ
せても親水性向上の効果が変わらず維持でき、ないしは
向上し、あるいは印刷機の大型化又は印圧の変動等の如
き印刷条件が厳しくなった場合でも、地汚れのない鮮明
な画質の印刷物を多数枚印刷することのできる技術の出
現が望まれる。
き親水性基生成官能基を含有する樹脂の含有量を減少さ
せても親水性向上の効果が変わらず維持でき、ないしは
向上し、あるいは印刷機の大型化又は印圧の変動等の如
き印刷条件が厳しくなった場合でも、地汚れのない鮮明
な画質の印刷物を多数枚印刷することのできる技術の出
現が望まれる。
(問題点を解決するための手段) 上記問題点は、導電性支持体上に、少なくとも光導電
性酸化亜鉛、下記樹脂(A)、下記樹脂(B)及びトル
エンを含む液を塗布して光導電層を設けてなる電子写真
感光体を利用した平版印刷用原版により解決されること
が見出された。
性酸化亜鉛、下記樹脂(A)、下記樹脂(B)及びトル
エンを含む液を塗布して光導電層を設けてなる電子写真
感光体を利用した平版印刷用原版により解決されること
が見出された。
(i)樹脂(A):分解により少なくとも1つのカルボ
キシル基を生成する官能基を少なくとも1種含有する共
重合成分及び樹脂〔B〕と架橋反応する官能基を少なく
とも1種含有する共重合成分をそれぞれ少なくとも1種
含有するメタクリレート系共重合体、 (ii)樹脂(B):熱及び/又は光で硬化反応する官能
基を少なくとも1種含有する成分を少なくとも1種含有
するメタクリレート系共重合体。
キシル基を生成する官能基を少なくとも1種含有する共
重合成分及び樹脂〔B〕と架橋反応する官能基を少なく
とも1種含有する共重合成分をそれぞれ少なくとも1種
含有するメタクリレート系共重合体、 (ii)樹脂(B):熱及び/又は光で硬化反応する官能
基を少なくとも1種含有する成分を少なくとも1種含有
するメタクリレート系共重合体。
本発明は平版印刷用原版の光導電層の結着樹脂の少なく
とも1部に、分解して少なくとも1個のカルボキシル基
を生成する官能基を少なくとも1種含有する樹脂と熱及
び/又は光硬化樹脂とを用いる事を特徴としている。こ
れにより本発明による平版印刷用原版は、原画に対して
忠実な複写画像を再現し、非画像部の親水性が良好であ
るため地汚れも発生せず、光導電層の平滑性及び静電特
性が良好であり、更に耐刷力が優れているという利点を
有する。
とも1部に、分解して少なくとも1個のカルボキシル基
を生成する官能基を少なくとも1種含有する樹脂と熱及
び/又は光硬化樹脂とを用いる事を特徴としている。こ
れにより本発明による平版印刷用原版は、原画に対して
忠実な複写画像を再現し、非画像部の親水性が良好であ
るため地汚れも発生せず、光導電層の平滑性及び静電特
性が良好であり、更に耐刷力が優れているという利点を
有する。
更に、本発明の平版印刷用原版は製版処理時の環境に
左右されず、また処理前の保存性に優れているという特
徴を有する。
左右されず、また処理前の保存性に優れているという特
徴を有する。
以下に、本発明において用いられる分解して少なくと
も1個のカルボキシル基を生成する官能基(以下単に、
カルボキシル基生成官能基と称することもある)につい
て詳しく説明する。
も1個のカルボキシル基を生成する官能基(以下単に、
カルボキシル基生成官能基と称することもある)につい
て詳しく説明する。
本発明のカルボキシル基生成官能基は分解によってカ
ルボキシル基を生成するが、1つの官能基から生成する
カルボキシル基は1個でも2個以上でもよい。
ルボキシル基を生成するが、1つの官能基から生成する
カルボキシル基は1個でも2個以上でもよい。
本発明の1つの好ましい態様によれば、カルボキシル
基生成官能基含有樹脂は、一般式(I)〔−COO−L1〕
で示される官能基を少なくとも1種含有する樹脂であ
る。
基生成官能基含有樹脂は、一般式(I)〔−COO−L1〕
で示される官能基を少なくとも1種含有する樹脂であ
る。
一般式(I)〔−COO−L1〕において、 L1は、 −N=CH−Q1, −NH−OH, を表わす。
但し、R1,R2は互いに同じでも異なっていてもよく、水
素原子又は脂肪族基を表わし、Xは、芳香族基を表わ
し、Zは、水素原子、ハロゲン原子,トリハロメチル
基,アルキル基,−CN,−NO2,−SO2R1′(但し、R1′
は炭化水素基を示す)、−COOR2′(但しR2′は炭化水
素基を示す)、又は、−O−R3′(但しR3′は炭化水素
基を示す)を表わし、n,mは、0,1,又は2を表わす。
素原子又は脂肪族基を表わし、Xは、芳香族基を表わ
し、Zは、水素原子、ハロゲン原子,トリハロメチル
基,アルキル基,−CN,−NO2,−SO2R1′(但し、R1′
は炭化水素基を示す)、−COOR2′(但しR2′は炭化水
素基を示す)、又は、−O−R3′(但しR3′は炭化水素
基を示す)を表わし、n,mは、0,1,又は2を表わす。
R3,R4,R5は、互いに同じでも異なっていてもよく、炭
化水素基又は−O−R4′(但し、R4′は炭化水素基を示
す)を表わし、Mは、Si,Sn又はTiを表わす。
化水素基又は−O−R4′(但し、R4′は炭化水素基を示
す)を表わし、Mは、Si,Sn又はTiを表わす。
Q1,Q2は、各々、炭化水素基を表わす。
Y1は酸素原子又はイオウ原子を表わし、R6、R7、R8は
同じでも異なってもよく、各々水素原子又は脂肪族基を
表わし、pは3または4の整数を表わす。Y2は環状イミ
ド基を形成する有機残基を表わす。
同じでも異なってもよく、各々水素原子又は脂肪族基を
表わし、pは3または4の整数を表わす。Y2は環状イミ
ド基を形成する有機残基を表わす。
一般式〔−COO−L1〕の官能基は、分解によってカル
ボキシル基を生成するものであり、以下更に詳しく説明
する。
ボキシル基を生成するものであり、以下更に詳しく説明
する。
L1が を表わす場合において、 R1,R2は、互いに同じでも異なっていてもよく好ましく
は水素原子、又は置換されてもよい炭素数1〜12の直鎖
状又は分枝状アルキル基(例えばメチル基,エチル基,
プロピル基,クロロメチル基,ジクロロメチル基,トリ
クロロメチル基,トリフルオロメチル基,ブチル基,ヘ
キシル基,オクチル基,デシル基,ヒドロキシエチル
基,3−クロロプロピル基等)を表わし、Xは好ましくは
置換されてもよいフェニル基又はナフチル基(例えばフ
ェニル基,メチルフェニル基,クロロフェニル基,ジメ
チルフェニル基,クロロメチルフェニル基,ナフチル基
等)を表わし、Zは好ましくは水素原子、ハロゲン原子
(例えば塩素原子、フッ素原子等)、トリハロメチル基
(例えばトリクロロメチル基,トリフルオロメチル基
等)、炭素数1〜12の置換されてもよい直鎖状又は分枝
状アルキル基(例えば、メチル基,クロロメチル基,ジ
クロロメチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ヘ
キシル基,テトラフルオロエチル基,オクチル基,シア
ノエチル基,クロロエチル基等)、−CN,−NO2,−SO2R
1′〔R1′は脂肪族基(例えば炭素数1〜12の置換され
てもよいアルキル基:具体的にはメチル基,エチル基,
プロピル基,ブチル基,クロロエチル基,ペンチル基,
オクチル基等、炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基:具体的にはベンジル基、フェネチル基、クロロ
ベンジル基、メトキシベンジル基、クロロフェネチル
基、メチルフェネチル基等)又は芳香族基(例えば置換
基を含有してもよいフェニル基又はナフチル基:具体的
には、フェニル基,クロロフェニル基,ジクロロフェニ
ル基,メチルフェニル基,メトキシフェニル基,アセチ
ルフェニル基,アセトアミドフェニル基,メトキシカル
ボニルフェニル基,ナフチル基,等)を表わす〕、−CO
OR2′(R2′は上記R1′と同義である)又は−O−R3′
(R3′は上記R1′と同義である)を表わす。n,mは0,1又
は2を表わす。
は水素原子、又は置換されてもよい炭素数1〜12の直鎖
状又は分枝状アルキル基(例えばメチル基,エチル基,
プロピル基,クロロメチル基,ジクロロメチル基,トリ
クロロメチル基,トリフルオロメチル基,ブチル基,ヘ
キシル基,オクチル基,デシル基,ヒドロキシエチル
基,3−クロロプロピル基等)を表わし、Xは好ましくは
置換されてもよいフェニル基又はナフチル基(例えばフ
ェニル基,メチルフェニル基,クロロフェニル基,ジメ
チルフェニル基,クロロメチルフェニル基,ナフチル基
等)を表わし、Zは好ましくは水素原子、ハロゲン原子
(例えば塩素原子、フッ素原子等)、トリハロメチル基
(例えばトリクロロメチル基,トリフルオロメチル基
等)、炭素数1〜12の置換されてもよい直鎖状又は分枝
状アルキル基(例えば、メチル基,クロロメチル基,ジ
クロロメチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ヘ
キシル基,テトラフルオロエチル基,オクチル基,シア
ノエチル基,クロロエチル基等)、−CN,−NO2,−SO2R
1′〔R1′は脂肪族基(例えば炭素数1〜12の置換され
てもよいアルキル基:具体的にはメチル基,エチル基,
プロピル基,ブチル基,クロロエチル基,ペンチル基,
オクチル基等、炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基:具体的にはベンジル基、フェネチル基、クロロ
ベンジル基、メトキシベンジル基、クロロフェネチル
基、メチルフェネチル基等)又は芳香族基(例えば置換
基を含有してもよいフェニル基又はナフチル基:具体的
には、フェニル基,クロロフェニル基,ジクロロフェニ
ル基,メチルフェニル基,メトキシフェニル基,アセチ
ルフェニル基,アセトアミドフェニル基,メトキシカル
ボニルフェニル基,ナフチル基,等)を表わす〕、−CO
OR2′(R2′は上記R1′と同義である)又は−O−R3′
(R3′は上記R1′と同義である)を表わす。n,mは0,1又
は2を表わす。
以上記述したL1が を表わす場合について、より具体的に説明すると、以下
の様な置換基例を挙げることができる。
の様な置換基例を挙げることができる。
例えば、β,β,β−トリクロロエチル基,β,β,
β−トリフルオロエチル基,ヘキサフルオロ−i−プロ
ピル基,−CH2CF2CF2 n′H基(n′は1〜5を示
す)、2−シアノエチル基,2−ニトロエチル基,2−メタ
ンスルホニルエチル基,2−エタンスルホニルエチル基,2
−ブタンスルホニルエチル基,ベンゼンスルホニルエチ
ル基,4−ニトロベンゼンスルホニルエチル基,4−シアノ
ベンゼンスルホニルエチル基、4−メチルベンゼンスル
ホニルエチル基、置換基を含有してもよいベンジル基
(例えばベンジル基,メトキシベンジル基,トリメチル
ベンジル基,ペンタメチルベンジル基,ニトロベンジル
基等)、置換基を含有してもよいフェナシル基(例えば
フェナシル基,ブロモフェナシル基等)、置換基を含有
してもよいフェニル基(例えばフェニル基,ニトロフェ
ニル基,シアノフェニル基,メタンスルホニルフェニル
基,トリフルオロメチルフェニル基,ジニトロフェニル
基,等)を表わす。
β−トリフルオロエチル基,ヘキサフルオロ−i−プロ
ピル基,−CH2CF2CF2 n′H基(n′は1〜5を示
す)、2−シアノエチル基,2−ニトロエチル基,2−メタ
ンスルホニルエチル基,2−エタンスルホニルエチル基,2
−ブタンスルホニルエチル基,ベンゼンスルホニルエチ
ル基,4−ニトロベンゼンスルホニルエチル基,4−シアノ
ベンゼンスルホニルエチル基、4−メチルベンゼンスル
ホニルエチル基、置換基を含有してもよいベンジル基
(例えばベンジル基,メトキシベンジル基,トリメチル
ベンジル基,ペンタメチルベンジル基,ニトロベンジル
基等)、置換基を含有してもよいフェナシル基(例えば
フェナシル基,ブロモフェナシル基等)、置換基を含有
してもよいフェニル基(例えばフェニル基,ニトロフェ
ニル基,シアノフェニル基,メタンスルホニルフェニル
基,トリフルオロメチルフェニル基,ジニトロフェニル
基,等)を表わす。
又L1が を表わす場合において、R3,R4,R5は互いに同じでも異な
っていてもよく、好ましくは炭素数1〜18の置換されて
もよい脂肪族基〔脂肪族基はアルキル基,アルケニル
基,アラルキル基,又は脂環式基を示し、置換基として
は例えばハロゲン原子、−CN基、−OH基、−O−Q′
(Q′はアルキル基,アラルキル基,脂環式基,アリー
ル基を示す)等が挙げられる〕、炭素数6〜18の置換さ
れてもよい芳香族基(例えばフェニル基,トリル基,ク
ロロフェニル基,メトキシフェニル基,アセトアミドフ
ェニル基,ナフチル基等)、又は−O−R4′〔R4′は置
換されてもよい炭素数1〜12のアルキル基、置換されて
もよい炭素数2〜12のアルケニル基、置換されてもよい
炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数5〜18の置換され
てもよい脂環式基、炭素数6〜18の置換されてもよいア
リール基を示す〕を表わす。
っていてもよく、好ましくは炭素数1〜18の置換されて
もよい脂肪族基〔脂肪族基はアルキル基,アルケニル
基,アラルキル基,又は脂環式基を示し、置換基として
は例えばハロゲン原子、−CN基、−OH基、−O−Q′
(Q′はアルキル基,アラルキル基,脂環式基,アリー
ル基を示す)等が挙げられる〕、炭素数6〜18の置換さ
れてもよい芳香族基(例えばフェニル基,トリル基,ク
ロロフェニル基,メトキシフェニル基,アセトアミドフ
ェニル基,ナフチル基等)、又は−O−R4′〔R4′は置
換されてもよい炭素数1〜12のアルキル基、置換されて
もよい炭素数2〜12のアルケニル基、置換されてもよい
炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数5〜18の置換され
てもよい脂環式基、炭素数6〜18の置換されてもよいア
リール基を示す〕を表わす。
MはSi,Ti,又はSnの各原子を表わし、より好ましくは
Si原子を表わす。又L1が−N=CH−Q1又は を表わす場合においては、Q1,Q2は好ましくは各々炭素
数1〜18の置換されてもよい脂肪族基(脂肪族基として
は、アルキル基,アルケニル基,アラルキル基,脂環式
基を示す。置換基としては例えば、ハロゲン原子、CN
基、アルコキシ基等を挙げることができる)又は炭素数
6〜18の置換されてもよいアリール基(例えばフェニル
基,メトキシフェニル基,トリル基,クロロフェニル
基,ナフチル基等)を表わす。
Si原子を表わす。又L1が−N=CH−Q1又は を表わす場合においては、Q1,Q2は好ましくは各々炭素
数1〜18の置換されてもよい脂肪族基(脂肪族基として
は、アルキル基,アルケニル基,アラルキル基,脂環式
基を示す。置換基としては例えば、ハロゲン原子、CN
基、アルコキシ基等を挙げることができる)又は炭素数
6〜18の置換されてもよいアリール基(例えばフェニル
基,メトキシフェニル基,トリル基,クロロフェニル
基,ナフチル基等)を表わす。
L1が、 を表わす場合において、Y1は酸素原子又はイオウ原子を
表わす。R6、R7、R8は互いに同じでも異なっていてもよ
く、好ましくは水素原子、置換されてもよい炭素数1〜
18の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基,エ
チル基,プロピル基,ブチル基,ヘキシル基,オクチル
基,デシル基,ドデシル基,オクタデシル基,クロロエ
チル基,メトキシエチル基,メトキシプロピル基,
等)、置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペンチ
ル基,シクロヘキシル基等)、置換されてもよい、炭素
数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル基,フェネチ
ル基,クロロベンジル基,メトキシベンジル基,等)又
は、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基,ナ
フチル基,クロロフェニル基,トリル基,メトキシフェ
ニル基,メトキシカルボニルフェニル基,ジクロロフェ
ニル基等)又は−O−R5′(R5′は、炭化水素基を表わ
し、具体的には、上記R6、R7、R8の炭化水素基と同一の
置換基類を示す)を表わす。
表わす。R6、R7、R8は互いに同じでも異なっていてもよ
く、好ましくは水素原子、置換されてもよい炭素数1〜
18の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基,エ
チル基,プロピル基,ブチル基,ヘキシル基,オクチル
基,デシル基,ドデシル基,オクタデシル基,クロロエ
チル基,メトキシエチル基,メトキシプロピル基,
等)、置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペンチ
ル基,シクロヘキシル基等)、置換されてもよい、炭素
数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル基,フェネチ
ル基,クロロベンジル基,メトキシベンジル基,等)又
は、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基,ナ
フチル基,クロロフェニル基,トリル基,メトキシフェ
ニル基,メトキシカルボニルフェニル基,ジクロロフェ
ニル基等)又は−O−R5′(R5′は、炭化水素基を表わ
し、具体的には、上記R6、R7、R8の炭化水素基と同一の
置換基類を示す)を表わす。
Pは3又は4の整数を表わす。
L1が、 を表わす場合において、Y2は、環状イミド基を形成する
有機残基を表わす。好ましくは、一般式(II)又は(II
I)で示される有機残基を表わす。
有機残基を表わす。好ましくは、一般式(II)又は(II
I)で示される有機残基を表わす。
一般式(II) 一般式(III) 式(II)中、R9、R10は各々同じでも異なってもよ
く、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭
素原子等)、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキル
基(例えばメチル基,エチル基,プロピル基,ブチル
基,ヘキシル基,オクチル基,デシル基,ドデシル基,
ヘキサデシル基,オクタデシル基,2−クロロエチル基,2
−メトキシエチル基,2−シアノエチル基,3−クロロプロ
ピル基,2−(メタンスルホニル)エチル基,2−(エトキ
シオキシ)エチル基,等)、炭素数7〜12の置換されて
もよいアラルキル基(例えば、ベンジル基,フェネチル
基,3−フェニルプロピル基,メチルベンジル基,ジメチ
ルベンジル基,メトキシベンジル基,クロロベンジル
基,ブロモベンジル基,等)、炭素数3〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、アリル基,3−メチル−
2−プロペニル基,2−ヘキセニル基,4−プロピル−2−
ペンテニル基,12−オクタデセニル基,等)、−S−
R6′(R6′は前記R9又はR10のアルキル基,アラルキル
基,アルケニル基と同一の内容を表わす)、又は置換さ
れてもよいアリール基(例えばフェニル基、トリル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニ
ル基,エトキシフェニル基、エトキシカルボニルフェニ
ル基,等)、又は−NHR7′(R7′は前記R6′と同一の内
容を表わす)を表わす。又、R9とR10で環を形成する残
基を表わしてもよい〔例えば5〜6員環の単環(例えば
シクロペンチル環,シクロヘキシル環)、又は5〜6員
環のビシクロ環(例えば,ビシクロヘプタン環,ビシク
ロヘプテン環,ビシクロオクタン環,ビシクロオクテン
環,等)、更には、これらの環は、置換されていてもよ
く、置換基としては、R9、R10で前記した内容と同一の
ものを含む。) qは2又は3の整数を表わす。
く、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭
素原子等)、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキル
基(例えばメチル基,エチル基,プロピル基,ブチル
基,ヘキシル基,オクチル基,デシル基,ドデシル基,
ヘキサデシル基,オクタデシル基,2−クロロエチル基,2
−メトキシエチル基,2−シアノエチル基,3−クロロプロ
ピル基,2−(メタンスルホニル)エチル基,2−(エトキ
シオキシ)エチル基,等)、炭素数7〜12の置換されて
もよいアラルキル基(例えば、ベンジル基,フェネチル
基,3−フェニルプロピル基,メチルベンジル基,ジメチ
ルベンジル基,メトキシベンジル基,クロロベンジル
基,ブロモベンジル基,等)、炭素数3〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、アリル基,3−メチル−
2−プロペニル基,2−ヘキセニル基,4−プロピル−2−
ペンテニル基,12−オクタデセニル基,等)、−S−
R6′(R6′は前記R9又はR10のアルキル基,アラルキル
基,アルケニル基と同一の内容を表わす)、又は置換さ
れてもよいアリール基(例えばフェニル基、トリル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニ
ル基,エトキシフェニル基、エトキシカルボニルフェニ
ル基,等)、又は−NHR7′(R7′は前記R6′と同一の内
容を表わす)を表わす。又、R9とR10で環を形成する残
基を表わしてもよい〔例えば5〜6員環の単環(例えば
シクロペンチル環,シクロヘキシル環)、又は5〜6員
環のビシクロ環(例えば,ビシクロヘプタン環,ビシク
ロヘプテン環,ビシクロオクタン環,ビシクロオクテン
環,等)、更には、これらの環は、置換されていてもよ
く、置換基としては、R9、R10で前記した内容と同一の
ものを含む。) qは2又は3の整数を表わす。
式(III)中、R11、R12は、同一でも異なってもよ
く、前記R9、R10と同一の内容のものを表わす。更に
は、R11とR12は、連結して芳香族環を形成する有機残基
を表わしてもよい(例えば、ベンゼン環,ナフタレン
環、等)。
く、前記R9、R10と同一の内容のものを表わす。更に
は、R11とR12は、連結して芳香族環を形成する有機残基
を表わしてもよい(例えば、ベンゼン環,ナフタレン
環、等)。
本発明の好ましい他の1つの態様として、一般式(I
V)〔−CO−L2〕で示される官能基を少なくとも1種含
有する樹脂である。
V)〔−CO−L2〕で示される官能基を少なくとも1種含
有する樹脂である。
一般式(IV)〔−CO−L2〕において L2は を表わす。但し、R13,R14,R15,R16,R17は、各々水素原
子又は脂肪族基を表わす。
子又は脂肪族基を表わす。
脂肪族基としては、好ましくは前記R6、R7、R8の置換
基と同一の内容を表わす。又、R14とR15及びR16、R17は
連結して、縮合環を形成してもよい有機残基を表わす。
好ましくは5〜6員環の単環(例えばシクロペンチル
環、シクロヘキシル環等)、5員〜12員環の芳香族環
(例えば、ベンゼン環,ナフタレン環,チオフェン環,
ピロール環,ピラン環,キノリン環,等)等を表わす。
更に、本発明の好ましい他の1つの態様として、下記一
般式(V)で示されるオキサゾロン環を少なくとも1種
含有する樹脂である。
基と同一の内容を表わす。又、R14とR15及びR16、R17は
連結して、縮合環を形成してもよい有機残基を表わす。
好ましくは5〜6員環の単環(例えばシクロペンチル
環、シクロヘキシル環等)、5員〜12員環の芳香族環
(例えば、ベンゼン環,ナフタレン環,チオフェン環,
ピロール環,ピラン環,キノリン環,等)等を表わす。
更に、本発明の好ましい他の1つの態様として、下記一
般式(V)で示されるオキサゾロン環を少なくとも1種
含有する樹脂である。
一般式(V) 一般式(V)において、R18、R19は、互いに同じでも
異なっていてもよく各々水素原子、炭化水素基を表わす
か又は、R18とR19とが一緒に環を形成してもよい。
異なっていてもよく各々水素原子、炭化水素基を表わす
か又は、R18とR19とが一緒に環を形成してもよい。
好ましくは、R18、R19は、互いに同じでも異なっても
よく、各々水素原子、置換されていてもよい炭素数1〜
12の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基,プロピル基,ブチル基,ヘキシル基,2−クロロ
エチル基,2−メトキシエチル基,2−メトキシカルボニル
エチル基,3−ヒドロキシプロピル基等)、置換されてい
てもよい炭素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル
基,4−クロロベンジル基,4−アセトアミドベンジル基,
フェネチル基,4−メトキシベンジル基,等)、置換され
ていてもよい炭素数2〜12のアルケニル基(例えばエチ
レン基,アリル基,イソプロペニル基,ブテニル基,ヘ
キセニル基等)、置換されていてもよい5〜7員環の脂
環式基(例えばシクロペンチル基,シクロヘキシル基,
クロロシクロヘキシル基等)、置換されてもよい芳香族
基(例えばフェニル基,クロロフェニル基,メトキシフ
ェニル基,アセトアミドフェニル基,メチルフェニル
基,ジクロロフェニル基,ニトロフェニル基,ナフチル
基,ブチルフェニル基,ジメチルフェニル基等)を表わ
すか又は、R18とR19とが一緒に環(例えば、テトラメチ
レン基,ペンタメチレン基,ヘキサメチレン基等)を形
成してもよい。
よく、各々水素原子、置換されていてもよい炭素数1〜
12の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基,プロピル基,ブチル基,ヘキシル基,2−クロロ
エチル基,2−メトキシエチル基,2−メトキシカルボニル
エチル基,3−ヒドロキシプロピル基等)、置換されてい
てもよい炭素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル
基,4−クロロベンジル基,4−アセトアミドベンジル基,
フェネチル基,4−メトキシベンジル基,等)、置換され
ていてもよい炭素数2〜12のアルケニル基(例えばエチ
レン基,アリル基,イソプロペニル基,ブテニル基,ヘ
キセニル基等)、置換されていてもよい5〜7員環の脂
環式基(例えばシクロペンチル基,シクロヘキシル基,
クロロシクロヘキシル基等)、置換されてもよい芳香族
基(例えばフェニル基,クロロフェニル基,メトキシフ
ェニル基,アセトアミドフェニル基,メチルフェニル
基,ジクロロフェニル基,ニトロフェニル基,ナフチル
基,ブチルフェニル基,ジメチルフェニル基等)を表わ
すか又は、R18とR19とが一緒に環(例えば、テトラメチ
レン基,ペンタメチレン基,ヘキサメチレン基等)を形
成してもよい。
本発明に用いられる一般式(I)〜(V)で示される
官能基の群から選択される官能基を少なくとも1種含有
する樹脂は、重合体に含有されるカルボキシル基を反応
によって一般式〔−COO−L1〕あるいは〔−CO−L2〕の
官能基に変換する、いわゆる高分子反応による方法、又
は、一般式〔−COO−L1〕あるいは〔−CO−L2〕の官能
基を1種又はそれ以上含有する1種又はそれ以上の単量
体の又は、該単量体及びこれと共重合し得る他の単量体
の重合反応により重合体とする方法により得られる。
官能基の群から選択される官能基を少なくとも1種含有
する樹脂は、重合体に含有されるカルボキシル基を反応
によって一般式〔−COO−L1〕あるいは〔−CO−L2〕の
官能基に変換する、いわゆる高分子反応による方法、又
は、一般式〔−COO−L1〕あるいは〔−CO−L2〕の官能
基を1種又はそれ以上含有する1種又はそれ以上の単量
体の又は、該単量体及びこれと共重合し得る他の単量体
の重合反応により重合体とする方法により得られる。
これらの方法は、例えば、日本化学会編、「新実験化
学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔V〕」第2535
頁(丸善株式会社刊)、岩倉義男:栗田恵輔著、「反応
性高分子」第170頁(講談社刊)等の総説引例の公知文
献等に詳細に記載されている。
学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔V〕」第2535
頁(丸善株式会社刊)、岩倉義男:栗田恵輔著、「反応
性高分子」第170頁(講談社刊)等の総説引例の公知文
献等に詳細に記載されている。
重合体中の一般式〔−COO−L1〕あるいは〔−CO−
L2〕の官能基を任意に調整し得ることあるいは、不純物
を混入しないこと等の理由から、一般式〔−COO−L1〕
あるいは〔−CO−L2〕の官能基を1種又はそれ以上含有
する単量体から重合反応により製造する方法が好まし
い。具体的には重合性の二重結合を含むカルボン酸類あ
るいはその酸ハライド類を、例えば前記した公知文献等
に記載された方法に従って、そのカルボキシル基を一般
式〔−COO−L1〕あるいは〔−CO−L2〕の官能基に変換
した後、重合反応を行ない製造することができる。
L2〕の官能基を任意に調整し得ることあるいは、不純物
を混入しないこと等の理由から、一般式〔−COO−L1〕
あるいは〔−CO−L2〕の官能基を1種又はそれ以上含有
する単量体から重合反応により製造する方法が好まし
い。具体的には重合性の二重結合を含むカルボン酸類あ
るいはその酸ハライド類を、例えば前記した公知文献等
に記載された方法に従って、そのカルボキシル基を一般
式〔−COO−L1〕あるいは〔−CO−L2〕の官能基に変換
した後、重合反応を行ない製造することができる。
また、一般式(V)で示されるオキサゾロン環を含有
する樹脂は、該オキサゾロン環を含有する1種又はそれ
以上の単量体又は該単量体及びこれと共重合し得る他の
単量体の重合反応により重合体とする方法により得られ
る。
する樹脂は、該オキサゾロン環を含有する1種又はそれ
以上の単量体又は該単量体及びこれと共重合し得る他の
単量体の重合反応により重合体とする方法により得られ
る。
このオキサゾロン環を含有する単量体は、重合性不飽
和結合を含有するN−アシロイル−α−アミノ酸類の脱
水閉環反応により製造することができる。具体的には、
岩倉義男.栗田恵輔、「反応性高分子」第3章(講談社
刊)の総説引例の文献記載の方法によって製造すること
ができる。
和結合を含有するN−アシロイル−α−アミノ酸類の脱
水閉環反応により製造することができる。具体的には、
岩倉義男.栗田恵輔、「反応性高分子」第3章(講談社
刊)の総説引例の文献記載の方法によって製造すること
ができる。
これらの単量体と共重合しうる他の単量体としては、
例えば、酢酸ビニル,プロピオン酸ビニル,酢酸ビニ
ル,酢酸アリル,プロピオン酸アリル等の如き脂肪族カ
ルボン酸ビニルあるいはアリルエステル類,アクリル
酸,メタクリル酸,クロトン酸,イタコン酸,マレイン
酸,フマール酸等の如き不飽和カルボン酸のエステル類
又はアミド類、スチレン,ビニルトルエン,α−メチル
スチレンの如きスチレン誘導体,α−オレフィン類,ア
クリロニトリル,メタクロニトリル,N−ビニルピロリド
ンの如きビニル基置換のヘテロ環化合物等が挙げられ
る。
例えば、酢酸ビニル,プロピオン酸ビニル,酢酸ビニ
ル,酢酸アリル,プロピオン酸アリル等の如き脂肪族カ
ルボン酸ビニルあるいはアリルエステル類,アクリル
酸,メタクリル酸,クロトン酸,イタコン酸,マレイン
酸,フマール酸等の如き不飽和カルボン酸のエステル類
又はアミド類、スチレン,ビニルトルエン,α−メチル
スチレンの如きスチレン誘導体,α−オレフィン類,ア
クリロニトリル,メタクロニトリル,N−ビニルピロリド
ンの如きビニル基置換のヘテロ環化合物等が挙げられ
る。
前記した如く、重合反応で所望の樹脂を製造する方法
において用いられる一般式(I)〜(V)の官能基を含
有する共重合体成分について更に具体的に述べると、例
えば下記一般式(VI)の如き成分が挙げられる。但しこ
れらの共重合体成分に限定されるものではない。
において用いられる一般式(I)〜(V)の官能基を含
有する共重合体成分について更に具体的に述べると、例
えば下記一般式(VI)の如き成分が挙げられる。但しこ
れらの共重合体成分に限定されるものではない。
一般式(VI) 式(VI)中、X′は−O−,−CO−,−COO−,−OCO
−, −SO2−, −CH2COO−,−CH2OCO−, 芳香族基,又はヘテロ環基を示す〔但し、d1,d2,d3,d4
は、各々水素原子,炭化水素基,又は式(VI)中の
Y′−W〕を表わし、b1,b2は同じでも異なっていても
よく、水素原子、炭化水素基又は式(VI)中のY′−
W〕を表わし、lは0〜18の整数を示す〕。
−, −SO2−, −CH2COO−,−CH2OCO−, 芳香族基,又はヘテロ環基を示す〔但し、d1,d2,d3,d4
は、各々水素原子,炭化水素基,又は式(VI)中の
Y′−W〕を表わし、b1,b2は同じでも異なっていても
よく、水素原子、炭化水素基又は式(VI)中のY′−
W〕を表わし、lは0〜18の整数を示す〕。
Y′は、結合基X′と結合基〔W〕を連結する、ヘテ
ロ原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わし(ヘ
テロ原子としては、酸素原子,イオウ原子,窒素原子を
示す)、 CH=CH,−O−,−S−, −COO−,−CONH−,−SO2−,−SO2NH−,−NHCOO−,
−NHCONH−,等の結合単位の単独又は組合せの構成より
成るものである(但しb3,b4,b5は、各々前記b1,b2と同
義である。) Wは式(I)〜(V)で表わされる官能基を表わす。
ロ原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わし(ヘ
テロ原子としては、酸素原子,イオウ原子,窒素原子を
示す)、 CH=CH,−O−,−S−, −COO−,−CONH−,−SO2−,−SO2NH−,−NHCOO−,
−NHCONH−,等の結合単位の単独又は組合せの構成より
成るものである(但しb3,b4,b5は、各々前記b1,b2と同
義である。) Wは式(I)〜(V)で表わされる官能基を表わす。
a1,a2は同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ
基,炭化水素基(例えば,メチル基,エチル基,プロピ
ル基,ブチル基,メトキシカルボニル基,エトキシカル
ボニル基,プロポキシカルボニル基,ブトキシカルボニ
ル基,ヘキシルオキシカルボニル基,メトキシカルボニ
ルメチル基,エトキシカルボニルメチル基,ブトキシカ
ルボニルメチル基,等の置換されてもよい炭素数1〜12
のアルキル基,ベンジル基,フェネチル基等のアラルキ
ル基,フェニル基,トリル基,キシリル基,クロロフェ
ニル基等のアリール基等)、又は式(VI)中の−W基を
含む置換基で置換されていてもよい、炭素数1〜18のア
ルキル基,アルケニル基,アラルキル基,脂環式基,芳
香族基を示す)を表わす。
ロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ
基,炭化水素基(例えば,メチル基,エチル基,プロピ
ル基,ブチル基,メトキシカルボニル基,エトキシカル
ボニル基,プロポキシカルボニル基,ブトキシカルボニ
ル基,ヘキシルオキシカルボニル基,メトキシカルボニ
ルメチル基,エトキシカルボニルメチル基,ブトキシカ
ルボニルメチル基,等の置換されてもよい炭素数1〜12
のアルキル基,ベンジル基,フェネチル基等のアラルキ
ル基,フェニル基,トリル基,キシリル基,クロロフェ
ニル基等のアリール基等)、又は式(VI)中の−W基を
含む置換基で置換されていてもよい、炭素数1〜18のア
ルキル基,アルケニル基,アラルキル基,脂環式基,芳
香族基を示す)を表わす。
又、式(VI)中の〔−X′−Y′−〕結合残基は 部と−Wを直接連結させてもよい。
Wは、一般式(I)〜(V)で表わされる記号内容を
表わす。
表わす。
本発明の一般式(I)〜(V)で表わされる官能基
〔式(VI)中のW基〕について具体的例を以下に述べ
る。但し、本発明の範囲はこれらに限定されるものでは
ない。
〔式(VI)中のW基〕について具体的例を以下に述べ
る。但し、本発明の範囲はこれらに限定されるものでは
ない。
(12)−COOCH2CF3 (48)−COOCH2OCH3 (50)−COOC(C6H5)3 (51)−COOCH(C6H5)2 本発明の樹脂〔A〕におけるカルボキシル基生成官能
基を含有する重合体成分は、樹脂〔A〕が共重合体であ
る場合には、全重合体中の0.1〜95重量%、特に0.5〜70
重量%,であることが好ましい。また、樹脂〔A〕の重
合体の分子量は103〜106、特に5×103〜5×105、であ
ることが好ましい。
基を含有する重合体成分は、樹脂〔A〕が共重合体であ
る場合には、全重合体中の0.1〜95重量%、特に0.5〜70
重量%,であることが好ましい。また、樹脂〔A〕の重
合体の分子量は103〜106、特に5×103〜5×105、であ
ることが好ましい。
更に、本発明の樹脂〔A〕は、樹脂〔B〕と加熱又は
光照射等によって、架橋反応をする官能基を含有する。
それらの官能基としては、後述の樹脂〔B〕中に含有さ
れる架橋反応を示す官能基と同様の官能基を挙げること
ができる。
光照射等によって、架橋反応をする官能基を含有する。
それらの官能基としては、後述の樹脂〔B〕中に含有さ
れる架橋反応を示す官能基と同様の官能基を挙げること
ができる。
これらの官能基を含有する共重合体成分に相当する単
量体としては、樹脂〔A〕におけるカルボキシル基生成
官能基を含有する重合体成分(例えば一般式(VI)の化
合物)と共重合し得る、該架橋性官能基を含有するビニ
ル系化合物を挙げることができる。
量体としては、樹脂〔A〕におけるカルボキシル基生成
官能基を含有する重合体成分(例えば一般式(VI)の化
合物)と共重合し得る、該架橋性官能基を含有するビニ
ル系化合物を挙げることができる。
例えば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブック
〔基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されている。具
体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸
(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−(2−アミノメチル体、α−クロロ体、α−ブロモ
体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シア
ノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−
メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、
イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半ア
ミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例
えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2
−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチ
ル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エ
ステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカル
ボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン
酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はア
リル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又
はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基
中に該官能基を含有する化合物等が挙げられる。
〔基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されている。具
体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸
(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−(2−アミノメチル体、α−クロロ体、α−ブロモ
体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シア
ノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−
メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、
イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半ア
ミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例
えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2
−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチ
ル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エ
ステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカル
ボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン
酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はア
リル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又
はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基
中に該官能基を含有する化合物等が挙げられる。
以上の如き、本発明の樹脂〔A〕において、前記した
架橋性官能基を含有する場合「該架橋性官能基を含有す
る共重合体成分の含有量」は、樹脂〔A〕中の好ましく
は1〜20重量%、より好ましくは3〜10重量%である。
架橋性官能基を含有する場合「該架橋性官能基を含有す
る共重合体成分の含有量」は、樹脂〔A〕中の好ましく
は1〜20重量%、より好ましくは3〜10重量%である。
一方、本発明に供せられる樹脂〔B〕は、熱及び/又
は光によって架橋反応を行なう硬化性樹脂であり、好ま
しくは、前記した樹脂〔A〕中の官能基と架橋反応を行
なうものである。
は光によって架橋反応を行なう硬化性樹脂であり、好ま
しくは、前記した樹脂〔A〕中の官能基と架橋反応を行
なうものである。
好ましくは熱硬化性樹脂として、具体的には、遠藤剛
「熱硬化性高分子の精密化」(C.M.C.(株)、1986年
刊)、原崎勇次「最新バインダー技術便覧」第II-1章
(総合技術センター、1985年刊)、大津隆行「アクリル
樹脂の合成・設計と新用途開発」(中部経営開発センタ
ー出版部、1985年刊)、大森英三「機能性アクリル系樹
脂」(テクノシステム 1985年刊)等の総説に引例され
た熱硬化性樹脂として従来公知のメタクリレート系共重
合体からなる樹脂が用いられる。
「熱硬化性高分子の精密化」(C.M.C.(株)、1986年
刊)、原崎勇次「最新バインダー技術便覧」第II-1章
(総合技術センター、1985年刊)、大津隆行「アクリル
樹脂の合成・設計と新用途開発」(中部経営開発センタ
ー出版部、1985年刊)、大森英三「機能性アクリル系樹
脂」(テクノシステム 1985年刊)等の総説に引例され
た熱硬化性樹脂として従来公知のメタクリレート系共重
合体からなる樹脂が用いられる。
光硬化性樹脂として具体的には、乾英夫,永松元太
郎,「感光性高分子」(講談社、1977年刊)、角田隆
弘,「新感光性樹脂」(印刷学会出版部、1981年刊)、
G.E.Green and B.P,Strark,J.Macro.Sci.Reas.Macro Ch
em.,C21(2),187〜273(1981〜82)、C.G.Rattey,「P
hotopolymirization of Surface Cootings」(A.Wiley
InterScience Pub.1982年刊)、等の総説に引例された
光硬化性樹脂として従来公知の感光性樹脂等が用いられ
る。
郎,「感光性高分子」(講談社、1977年刊)、角田隆
弘,「新感光性樹脂」(印刷学会出版部、1981年刊)、
G.E.Green and B.P,Strark,J.Macro.Sci.Reas.Macro Ch
em.,C21(2),187〜273(1981〜82)、C.G.Rattey,「P
hotopolymirization of Surface Cootings」(A.Wiley
InterScience Pub.1982年刊)、等の総説に引例された
光硬化性樹脂として従来公知の感光性樹脂等が用いられ
る。
更に具体的には、例えば加熱又は光照射等によって架
橋反応をする官能基を含有する重合体を挙げることがで
き該架橋性官能基の例としては、下記の如く異なる官能
基間の化学結合によるタイプ(例えば下表の官能基A群
及びB群が各々少なくとも1種を組合せて反応する) 又は、自己架橋性官能基によるタイプ〔具体的には、−
CONHCH2OR20(R20は水素原子又はメチル基,エチル基,
プロピル基、ブチル基,ヘキシル基等の炭素数1〜6の
アルキル基、下記式(A)で示される重合反応性を有す
る二重結合性基等〕が挙げられる。
橋反応をする官能基を含有する重合体を挙げることがで
き該架橋性官能基の例としては、下記の如く異なる官能
基間の化学結合によるタイプ(例えば下表の官能基A群
及びB群が各々少なくとも1種を組合せて反応する) 又は、自己架橋性官能基によるタイプ〔具体的には、−
CONHCH2OR20(R20は水素原子又はメチル基,エチル基,
プロピル基、ブチル基,ヘキシル基等の炭素数1〜6の
アルキル基、下記式(A)で示される重合反応性を有す
る二重結合性基等〕が挙げられる。
一般式(A) 式(A)中X″は、−COO−,−OCO−,−CO−,−SO2
−,−CONH−,−SO2NH−,−O−,−S−,芳香族基
又はヘテロ環基を表わし、x1,x2は同じでも異なっても
よく、それぞれ水素原子又は置換されてもよい炭化水素
基(例えば、メチル基,エチル基,プロピル基、ブチル
基,ヘキシル基,カルボキシメチル基,メトキシカルボ
ニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基,ブトキシ
カルボニルメチル基,2−クロロエチル基,2−メトキシエ
チル基,エトキシメチル基,ベンジル基,フェネチル
基,3−フェニルプロピル基,クロロベンジル基,ブロモ
ベンジル基,メチルベンジル基、メトキシベンジル基,
フェニル基、トリル基,キシリル基,メトキシフェニル
基,クロロフェニル基,ブロモフェニル基等)を表わ
し、rは0又は1の整数を表わす。
−,−CONH−,−SO2NH−,−O−,−S−,芳香族基
又はヘテロ環基を表わし、x1,x2は同じでも異なっても
よく、それぞれ水素原子又は置換されてもよい炭化水素
基(例えば、メチル基,エチル基,プロピル基、ブチル
基,ヘキシル基,カルボキシメチル基,メトキシカルボ
ニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基,ブトキシ
カルボニルメチル基,2−クロロエチル基,2−メトキシエ
チル基,エトキシメチル基,ベンジル基,フェネチル
基,3−フェニルプロピル基,クロロベンジル基,ブロモ
ベンジル基,メチルベンジル基、メトキシベンジル基,
フェニル基、トリル基,キシリル基,メトキシフェニル
基,クロロフェニル基,ブロモフェニル基等)を表わ
し、rは0又は1の整数を表わす。
これらの官能基を含有する共重合体成分に相当する単
量体としては、例えば、該架橋性官能基を含有するビニ
ル系化合物(具体的には樹脂〔A〕で記載のものと同
様)を挙げることができる。また、該架橋性官能基を含
有する共重合成分と共重合し得る他の各成分に相当する
単量体の具体的な例は、樹脂〔A〕と同様のものが挙げ
られる。
量体としては、例えば、該架橋性官能基を含有するビニ
ル系化合物(具体的には樹脂〔A〕で記載のものと同
様)を挙げることができる。また、該架橋性官能基を含
有する共重合成分と共重合し得る他の各成分に相当する
単量体の具体的な例は、樹脂〔A〕と同様のものが挙げ
られる。
樹脂〔B〕における「架橋し得る官能基を含有する共
重合体成分の含有量」は、1〜80重量%が特に好まし
い。
重合体成分の含有量」は、1〜80重量%が特に好まし
い。
樹脂〔B〕の重量平均分子量は好ましくは103〜5×1
05、より好ましくは5×103〜5×105である。
05、より好ましくは5×103〜5×105である。
本発明において樹脂〔B〕である熱及び/又は光硬化
性樹脂を併用することにより樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の
架橋及び/又は樹脂〔B〕同志の架橋が形成されるもの
である。
性樹脂を併用することにより樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の
架橋及び/又は樹脂〔B〕同志の架橋が形成されるもの
である。
本発明に用いる樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用量の割
合は、一般に5〜80対95〜20(重量比)であり、好まし
くは15〜60対85〜40(重量比)である。
合は、一般に5〜80対95〜20(重量比)であり、好まし
くは15〜60対85〜40(重量比)である。
本発明では、必要に応じて反応促進剤を添加してもよ
い。例えば、樹脂〔B〕が熱硬化性の官能基を含有する
樹脂の場合には、酸(例えば酢酸,プロピオン酸,酪酸
等の有機酸等)あるいは架橋剤を添加してもよい。
い。例えば、樹脂〔B〕が熱硬化性の官能基を含有する
樹脂の場合には、酸(例えば酢酸,プロピオン酸,酪酸
等の有機酸等)あるいは架橋剤を添加してもよい。
用いられる架橋剤としては、通常架橋剤として用いら
れる化合物を使用することができる。具体的には、山下
晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(19
81年)高分子学会編「高分子データハンド・ブック基礎
編」培風館(1986年)等に記載されている化合物を用い
ることができる。例えば、有機シラン系化合物(例え
ば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリブトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング
剤等)、ポリイソシアナート系化合物(例えば、トルイ
レンジイソシアナート,O−トルイレンジイソシアナー
ト,ジフェニルメタンジイソシアナート,トリフェニル
メタントリイソシアナート,ボリメチレンフェニルイソ
シアナート,ヘキサメチレンジイソシアナート,イソホ
ロンジイソシアナート,高分子ポリイソシアナート
等)、ポリオール系化合物(例えば、1,4−ブタンジオ
ール,ポリオキシプロピレングリコール,ポリオキシア
ルキレングリコール,1,1,1−トリメチロールプロパン
等)、ポリアミン系化合物(例えば、エチレンジアミ
ン,γ−ヒドロキシプロピル化エチレンジアミン,フェ
ニレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン,N−アミノエ
チルピペラジン,変性脂肪族ポリアミン類等)ポリエポ
キシ基含有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘編
著「新エポキシ樹脂」、昭晃堂(1985年刊)、橋本邦之
編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に
記載された化合物類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一
郎,松永英夫編著「ユリア・メラミン樹脂」日刊工業新
聞社(1969年刊)等に記載された化合物類)、重合性二
重結合基を2個以上含有する多官能性単量体化合物(例
えば、大河原信,三枝武夫,東村敏延編「オリゴマー」
講談社(1976年刊),大森英三「機能性アクリル系樹
脂」テクノシステム(1985年刊)等に記載された化合物
類が挙げられ具体的にはジビニルベンゼン,ジビニルグ
ルタコン酸ジエステル,メタクリル酸ビニル,メタクリ
ル酸アクル,エチレングリコールジメタクリラート,ポ
リエチレングリコールジアクリラート,ネオペンチルグ
リコールジアクリラート,1,6−ヘキサンジオールジアク
リラート,トリメチロールプロパントリアクリラート,
ペンタエリスリトールポリアクリラート,ビスフェノー
ルA−ジグリシジルエーテルジアクリラート,オリゴエ
ステルアクリラート:これらのメタクリラート体等)が
ある。
れる化合物を使用することができる。具体的には、山下
晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(19
81年)高分子学会編「高分子データハンド・ブック基礎
編」培風館(1986年)等に記載されている化合物を用い
ることができる。例えば、有機シラン系化合物(例え
ば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリブトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング
剤等)、ポリイソシアナート系化合物(例えば、トルイ
レンジイソシアナート,O−トルイレンジイソシアナー
ト,ジフェニルメタンジイソシアナート,トリフェニル
メタントリイソシアナート,ボリメチレンフェニルイソ
シアナート,ヘキサメチレンジイソシアナート,イソホ
ロンジイソシアナート,高分子ポリイソシアナート
等)、ポリオール系化合物(例えば、1,4−ブタンジオ
ール,ポリオキシプロピレングリコール,ポリオキシア
ルキレングリコール,1,1,1−トリメチロールプロパン
等)、ポリアミン系化合物(例えば、エチレンジアミ
ン,γ−ヒドロキシプロピル化エチレンジアミン,フェ
ニレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン,N−アミノエ
チルピペラジン,変性脂肪族ポリアミン類等)ポリエポ
キシ基含有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘編
著「新エポキシ樹脂」、昭晃堂(1985年刊)、橋本邦之
編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に
記載された化合物類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一
郎,松永英夫編著「ユリア・メラミン樹脂」日刊工業新
聞社(1969年刊)等に記載された化合物類)、重合性二
重結合基を2個以上含有する多官能性単量体化合物(例
えば、大河原信,三枝武夫,東村敏延編「オリゴマー」
講談社(1976年刊),大森英三「機能性アクリル系樹
脂」テクノシステム(1985年刊)等に記載された化合物
類が挙げられ具体的にはジビニルベンゼン,ジビニルグ
ルタコン酸ジエステル,メタクリル酸ビニル,メタクリ
ル酸アクル,エチレングリコールジメタクリラート,ポ
リエチレングリコールジアクリラート,ネオペンチルグ
リコールジアクリラート,1,6−ヘキサンジオールジアク
リラート,トリメチロールプロパントリアクリラート,
ペンタエリスリトールポリアクリラート,ビスフェノー
ルA−ジグリシジルエーテルジアクリラート,オリゴエ
ステルアクリラート:これらのメタクリラート体等)が
ある。
又,樹脂〔B〕が光架橋反応性の官能基を含有する樹
脂の場合には増感剤、光重合性単量体等を添加してもよ
い。具体的には前記した感光性樹脂に関する総説に引例
された化合物等を用いることができる。
脂の場合には増感剤、光重合性単量体等を添加してもよ
い。具体的には前記した感光性樹脂に関する総説に引例
された化合物等を用いることができる。
本発明の結着樹脂は、感光層形成物をトルエンを用い
て塗布した後架橋される。架橋を行なうためには、例え
ば、乾燥条件を高温度及び/又は長時間とするか又は塗
布溶剤の乾燥後、更に加熱処理することが好ましい。例
えば、60℃〜120℃で5〜120分間処理する。
て塗布した後架橋される。架橋を行なうためには、例え
ば、乾燥条件を高温度及び/又は長時間とするか又は塗
布溶剤の乾燥後、更に加熱処理することが好ましい。例
えば、60℃〜120℃で5〜120分間処理する。
又光架橋性樹脂を併用した感光層形成物の場合は、塗
布した後に、電子線、X線、紫外線あるいはプラズマ光
照射をすることにより架橋され乾燥中のみならず、その
前あるいは後でもいずれでもよく、上記乾燥条件の加熱
により反応はより促進する。上述の反応促進剤を併用す
ると、より穏やかな条件で処理することができる。
布した後に、電子線、X線、紫外線あるいはプラズマ光
照射をすることにより架橋され乾燥中のみならず、その
前あるいは後でもいずれでもよく、上記乾燥条件の加熱
により反応はより促進する。上述の反応促進剤を併用す
ると、より穏やかな条件で処理することができる。
本発明に供される樹脂とともに従来公知の樹脂も併用
することができる。例えば、前記した如きシリコーン樹
脂,アルキッド樹脂、酢酸ビニル樹脂,ポリエステル樹
脂、スチレン−ブタジエン樹脂,アクリル樹脂等があげ
られ、具体的には、栗田隆治・石渡次郎,高分子,第17
巻,第278頁(1968年),宮本晴視,武井秀彦,イメー
ジング,1973(No.8)第9頁等の総説引例の公知材料等
が挙げられる。
することができる。例えば、前記した如きシリコーン樹
脂,アルキッド樹脂、酢酸ビニル樹脂,ポリエステル樹
脂、スチレン−ブタジエン樹脂,アクリル樹脂等があげ
られ、具体的には、栗田隆治・石渡次郎,高分子,第17
巻,第278頁(1968年),宮本晴視,武井秀彦,イメー
ジング,1973(No.8)第9頁等の総説引例の公知材料等
が挙げられる。
本発明に供される樹脂と公知の樹脂とは任意の割合で
混合することができるが、全樹脂量中のカルボキシル基
生成官能基含有樹脂の含有量が0.5〜70重量%程度含有
されていることが適当である。
混合することができるが、全樹脂量中のカルボキシル基
生成官能基含有樹脂の含有量が0.5〜70重量%程度含有
されていることが適当である。
全樹脂量中の上記含有量が0.5重量%より少ないと、
得られた平版印刷用原版は、不感脂化液・湿し水による
不感脂化処理により生ずる親水性が充分でなく、印刷時
の汚れが発生する。
得られた平版印刷用原版は、不感脂化液・湿し水による
不感脂化処理により生ずる親水性が充分でなく、印刷時
の汚れが発生する。
一方、70重量%より多いと、複写時の画像形成性が良
くなく且つ、印刷時の光導電層の被膜強度が弱くなり耐
久性が劣化する。
くなく且つ、印刷時の光導電層の被膜強度が弱くなり耐
久性が劣化する。
本発明のカルボキシル基生成官能基を少なくとも1種
含有する樹脂〔A〕は、不感脂化液あるいは印刷時用い
る湿し水により加水分解あるいは加水素分解されてカル
ボキシル基を生成する。従って、前述の如く該樹脂を平
版印刷用原版の結着樹脂として用いると、不感脂化液に
より親水性される非画像部の親水性が、樹脂中に生成さ
れる上記カルボキシル基によってより一層高められる
為、画像部の親油性と非画像部の親水性が明確となり、
印刷時に非画像部に印刷インキが付着するのを防止す
る。
含有する樹脂〔A〕は、不感脂化液あるいは印刷時用い
る湿し水により加水分解あるいは加水素分解されてカル
ボキシル基を生成する。従って、前述の如く該樹脂を平
版印刷用原版の結着樹脂として用いると、不感脂化液に
より親水性される非画像部の親水性が、樹脂中に生成さ
れる上記カルボキシル基によってより一層高められる
為、画像部の親油性と非画像部の親水性が明確となり、
印刷時に非画像部に印刷インキが付着するのを防止す
る。
かかる樹脂〔A〕に更に、本発明の樹脂〔B〕を併用
することで、本発明の樹脂〔A〕と架橋反応が起きる。
することで、本発明の樹脂〔A〕と架橋反応が起きる。
一方、エッチング処理及び印刷機上で印刷中の湿し水
により、分解して生成したカルボキシル基含有の樹脂
〔A〕は、親水性となり、その含有量が多い場合には通
常水溶性となる。
により、分解して生成したカルボキシル基含有の樹脂
〔A〕は、親水性となり、その含有量が多い場合には通
常水溶性となる。
この際、樹脂〔A〕は本発明に従い併用された非水性
である樹脂〔B〕と架橋構造を形成していることによ
り、親水性を保持したまま水への溶解性が著しく低下し
難溶性もしくは不溶性となる。
である樹脂〔B〕と架橋構造を形成していることによ
り、親水性を保持したまま水への溶解性が著しく低下し
難溶性もしくは不溶性となる。
従って、非画像部の親水性が樹脂中に生成されるカル
ボキシル基によって、より一層高められる効果が向上し
且つ持続性が向上することとなると推察される。
ボキシル基によって、より一層高められる効果が向上し
且つ持続性が向上することとなると推察される。
より具体的な効果で言うならば、全結着樹脂中に含有
させる樹脂〔A〕を減量しても、親水性向上の効果が変
わらず維持できること、あるいは印刷機の大型化あるい
は印圧の変動等印刷条件が厳しくなった場合でも地汚れ
のない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可能
となる。
させる樹脂〔A〕を減量しても、親水性向上の効果が変
わらず維持できること、あるいは印刷機の大型化あるい
は印圧の変動等印刷条件が厳しくなった場合でも地汚れ
のない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可能
となる。
本発明の平版印刷用原版は、光導電性亜鉛100重量部
に対して上記した結着用樹脂を10〜60重量部なる割合、
好ましくは15〜40重量部なる割合で使用する。
に対して上記した結着用樹脂を10〜60重量部なる割合、
好ましくは15〜40重量部なる割合で使用する。
本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる。例えば、宮本晴視,武井秀
彦、イメージング1973(No.8)第12頁,C.J.Young等,RCA
Review15,469(1954)、清田航平等,電気通信学会論
文誌J 63-C(No2),97(1980)、原崎勇次等,工業化学
雑誌66 78 及び188(1963)、谷忠昭,日本写真学会誌3
5,208(1972)等の総説引例のカーボニウム系色素、ジ
フェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、キサン
テン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素(例え
ば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色
素、ロダシアニン色素、スチリル色素等)、フタロシア
ニン色素(金属含有してもよい)等が挙げられる。
て併用することができる。例えば、宮本晴視,武井秀
彦、イメージング1973(No.8)第12頁,C.J.Young等,RCA
Review15,469(1954)、清田航平等,電気通信学会論
文誌J 63-C(No2),97(1980)、原崎勇次等,工業化学
雑誌66 78 及び188(1963)、谷忠昭,日本写真学会誌3
5,208(1972)等の総説引例のカーボニウム系色素、ジ
フェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、キサン
テン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素(例え
ば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色
素、ロダシアニン色素、スチリル色素等)、フタロシア
ニン色素(金属含有してもよい)等が挙げられる。
更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニル
メタン色素、キサンテン系色素、フタレイン系色素を中
心に用いたものとしては、特公昭51-452号、特開昭50-9
0334号、特開昭50-114227号、特開昭53-39130号、特開
昭53-82353号、米国特許第3,052,540号、米国特許第4,0
54,450号、特開昭57-16456号等の記載のものが挙げられ
る。
メタン色素、キサンテン系色素、フタレイン系色素を中
心に用いたものとしては、特公昭51-452号、特開昭50-9
0334号、特開昭50-114227号、特開昭53-39130号、特開
昭53-82353号、米国特許第3,052,540号、米国特許第4,0
54,450号、特開昭57-16456号等の記載のものが挙げられ
る。
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色
素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F.
M.Harmmer「The Cyanine Dyes and Related Compound
s」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許第3,047,384号、米国特許第3,110,591号、
米国特許第3,121,008号、米国特許第3,125,447号、米国
特許第3,128,179号、米国特許第3,132,942号、米国特許
第3,622,317号、英国特許第1,226,892号、英国特許第1,
309,274号、英国特許第1,405,898号、特公昭48-7814
号、特公昭55-18892号等に記載の色素が挙げられる。
素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F.
M.Harmmer「The Cyanine Dyes and Related Compound
s」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許第3,047,384号、米国特許第3,110,591号、
米国特許第3,121,008号、米国特許第3,125,447号、米国
特許第3,128,179号、米国特許第3,132,942号、米国特許
第3,622,317号、英国特許第1,226,892号、英国特許第1,
309,274号、英国特許第1,405,898号、特公昭48-7814
号、特公昭55-18892号等に記載の色素が挙げられる。
更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分光
増感するポリメチン色素として、特開昭47-840号、特開
昭47-44180号、特公昭51-41061号、特開昭49-5034号、
特開昭49-45122号、特開昭57-46245号、特開昭56-35141
号、特開昭57-157254号、特開昭61-26044号、特開昭61-
27551号、米国特許第3,619,154号、米国特許第4,175,95
6号、「Research Disclosure」1982年、216、第117〜11
8頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体は種
々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素によ
り変動しにくい点において優れている。更には、必要に
応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真感光
層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、前記
した総説:イメージング1973(No.8)第12頁等の総説引
例の電子受容性化合物(例えばハロゲン、ベンゾキノ
ン、クロラニル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門
宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発・実用化」第
4章〜第6章:日本科学情報(株)出版部(1986年)の
総説引例のポリアリールアルカン化合物、ヒンダートフ
ェノール化合物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙
げられる。
増感するポリメチン色素として、特開昭47-840号、特開
昭47-44180号、特公昭51-41061号、特開昭49-5034号、
特開昭49-45122号、特開昭57-46245号、特開昭56-35141
号、特開昭57-157254号、特開昭61-26044号、特開昭61-
27551号、米国特許第3,619,154号、米国特許第4,175,95
6号、「Research Disclosure」1982年、216、第117〜11
8頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体は種
々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素によ
り変動しにくい点において優れている。更には、必要に
応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真感光
層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、前記
した総説:イメージング1973(No.8)第12頁等の総説引
例の電子受容性化合物(例えばハロゲン、ベンゾキノ
ン、クロラニル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門
宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発・実用化」第
4章〜第6章:日本科学情報(株)出版部(1986年)の
総説引例のポリアリールアルカン化合物、ヒンダートフ
ェノール化合物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙
げられる。
これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではない
が、通常光導電体100重量部に対して、0.0001〜2.0重量
部である。
が、通常光導電体100重量部に対して、0.0001〜2.0重量
部である。
光導電層の厚さは1〜100μ,特には10〜50μが好適
である。
である。
また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷
発生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚
さは0.01〜1μ,特には0.05〜0.5μが好適である。
発生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚
さは0.01〜1μ,特には0.05〜0.5μが好適である。
本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設け
ることができる。一般に云って電子写真感光層の支持体
は、導電性であることが好ましく、導電性支持体として
は、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチック
シート等の基体に低抵抗性分質を含浸させるなどして導
電処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対
面)に導電性を付与し、更にカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、Al等を蒸着した基体導電化プラスチック
を紙にラミネートしたもの等、が使用できる。
ることができる。一般に云って電子写真感光層の支持体
は、導電性であることが好ましく、導電性支持体として
は、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチック
シート等の基体に低抵抗性分質を含浸させるなどして導
電処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対
面)に導電性を付与し、更にカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、Al等を蒸着した基体導電化プラスチック
を紙にラミネートしたもの等、が使用できる。
具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例とし
て、坂本幸男,電子写真,14,(No1),p2〜11(1975),
森賀弘之,「入門特殊紙の化学」高分子刊行会(197
5),M.F.Hoover,J.Macromol.Sci.Chem.A−4(6),第
1327〜1417頁(1970)等に記載されているもの等を用い
る。
て、坂本幸男,電子写真,14,(No1),p2〜11(1975),
森賀弘之,「入門特殊紙の化学」高分子刊行会(197
5),M.F.Hoover,J.Macromol.Sci.Chem.A−4(6),第
1327〜1417頁(1970)等に記載されているもの等を用い
る。
(実施例) 以下に本発明の実施例を例証するが、本発明の内容が
これらに限定されるものではない。
これらに限定されるものではない。
実施例1 n−プロピルメタクリレート64g,下記化合物(A)45
g,アクリル酸1.0g及びトルエン400gの混合溶液を、窒素
気流下70℃の温度に加温した後、2,2′−アゾビス(2,4
−ジメチルバレロニトリル)(V-65)1.5gを加え8時間
反応した。得られた共重合体〔A〕−1の重量平均分子
量(w)は43,000であった。
g,アクリル酸1.0g及びトルエン400gの混合溶液を、窒素
気流下70℃の温度に加温した後、2,2′−アゾビス(2,4
−ジメチルバレロニトリル)(V-65)1.5gを加え8時間
反応した。得られた共重合体〔A〕−1の重量平均分子
量(w)は43,000であった。
続いて、固形分量としてこの共重合物15g及び〔ブチ
ルメタクリレート/アリルメタクリレート(80/20)重
量比〕共重合体〔B〕−1(w 36,000)25g、酸化亜
鉛200g、ローズベンガル0.03g、テトラブロムフェノー
ルブルー0.01g及び無水マレイン酸0.01g及びトルエン30
0gの混合物を、ボールミル中で2時間分散し、更に、こ
の分散物にアリルメタクリレート10g及びA.I.B.N.0.5g
を添加し、ボールミルで10分間分散して感光層形成物を
調整し、これを導電処理した紙に乾燥付着量が20g/m2と
なるようにワイヤーバーで塗布し、100℃で1時間乾燥
した。ついで暗所で20℃、65%RHの条件下で24時間放置
することにより、電子写真感光材料を作製した。
ルメタクリレート/アリルメタクリレート(80/20)重
量比〕共重合体〔B〕−1(w 36,000)25g、酸化亜
鉛200g、ローズベンガル0.03g、テトラブロムフェノー
ルブルー0.01g及び無水マレイン酸0.01g及びトルエン30
0gの混合物を、ボールミル中で2時間分散し、更に、こ
の分散物にアリルメタクリレート10g及びA.I.B.N.0.5g
を添加し、ボールミルで10分間分散して感光層形成物を
調整し、これを導電処理した紙に乾燥付着量が20g/m2と
なるようにワイヤーバーで塗布し、100℃で1時間乾燥
した。ついで暗所で20℃、65%RHの条件下で24時間放置
することにより、電子写真感光材料を作製した。
上記製造例において、感光層形成物を以下の共重合体
に代えて、比較用の感光材料A,B,Cの3種を作製した。
に代えて、比較用の感光材料A,B,Cの3種を作製した。
比較用感光材料A: n−プロピルメタクリレート54g,前記化合物(A)45
g,アクリル酸1.0g及びトルエン400gの混合溶液を窒素気
流下70℃の温度に加温した後、V-65 1.5gを加え8時間
反応した。得られた共重合体〔A〕−2のwは40,000
であった。続いて固形分量としてこの共重合物40g,酸化
亜鉛200g、ローズベンガル0.03g、テトラブロムフェノ
ールブルー0.01g及び無水マレイン酸0.01g及びトルエン
300gの混合物をボールミル中で2時間分散して感光層形
成物を調整し、これを導電処理した紙に乾燥付着量が20
g/m2となる様にワイヤーバーで塗布し、100℃で1分間
乾燥した。ついで暗所で20℃、65%RHの条件下で24時間
放置することにより、電子写真感光材料を作製した。
g,アクリル酸1.0g及びトルエン400gの混合溶液を窒素気
流下70℃の温度に加温した後、V-65 1.5gを加え8時間
反応した。得られた共重合体〔A〕−2のwは40,000
であった。続いて固形分量としてこの共重合物40g,酸化
亜鉛200g、ローズベンガル0.03g、テトラブロムフェノ
ールブルー0.01g及び無水マレイン酸0.01g及びトルエン
300gの混合物をボールミル中で2時間分散して感光層形
成物を調整し、これを導電処理した紙に乾燥付着量が20
g/m2となる様にワイヤーバーで塗布し、100℃で1分間
乾燥した。ついで暗所で20℃、65%RHの条件下で24時間
放置することにより、電子写真感光材料を作製した。
比較用感光材料B: 比較例Aにおいて、樹脂〔A〕−2の代わりに、
〔A〕−1,15g及び〔ブチルメタクリレート/n−プロピ
ルメタクリレート(80/20)重量比〕共重合体〔B−
2〕w40,000)25gを用いた他は、比較例Aと同様にし
て感光材料を作製した。
〔A〕−1,15g及び〔ブチルメタクリレート/n−プロピ
ルメタクリレート(80/20)重量比〕共重合体〔B−
2〕w40,000)25gを用いた他は、比較例Aと同様にし
て感光材料を作製した。
比較用感光材料C: 比較例Aにおいて、樹脂〔A〕−2の代わりに、〔ブ
チルメタクリレート/n−プロピルメタクリレート/アク
リル酸(80/19/1)重量比〕共重合体〔B〕−3(w3
8,000)40gを用いた他は、比較例Aと同様にして感光材
料を作製した。
チルメタクリレート/n−プロピルメタクリレート/アク
リル酸(80/19/1)重量比〕共重合体〔B〕−3(w3
8,000)40gを用いた他は、比較例Aと同様にして感光材
料を作製した。
これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特
性、光導電層の不感脂化性(不感脂化処理後の光導電層
の水との接触角で表わす)及び印刷性を調べた。印刷性
は、全自動製版機ELP404V(富士写真フイルム(株)
製)に現像剤ELP-Tを用いて露光・現像処理して画像を
形成し、不感脂化液ELP-Eを用いてエッチングプロセッ
サーでエッチングして得られた平版印刷版を用いて調べ
た(なお、印刷機にはハマダスター(株)製ハマダスタ
ー800SX型を用いた)。
性、光導電層の不感脂化性(不感脂化処理後の光導電層
の水との接触角で表わす)及び印刷性を調べた。印刷性
は、全自動製版機ELP404V(富士写真フイルム(株)
製)に現像剤ELP-Tを用いて露光・現像処理して画像を
形成し、不感脂化液ELP-Eを用いてエッチングプロセッ
サーでエッチングして得られた平版印刷版を用いて調べ
た(なお、印刷機にはハマダスター(株)製ハマダスタ
ー800SX型を用いた)。
以上の結果をまとめて表−1に示す。
表−1に記した評価項目の実施の態様は以下の通りで
ある。
ある。
注1)光導電層の平滑性: 得られた感光材料を、ベック平滑度試験機(熊谷理工
(株)製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑
度(sec/cc)を測定した。
(株)製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑
度(sec/cc)を測定した。
注2)静電特性: 温度20℃、65%RHの暗室中で、各感光材料にペーパー
アナライザー(川口電機(株)製ペーパーアナライザー
SP-428型)を用いて−6KVで20秒間コロナ放電をさせた
後10秒間放置し、この時の表面電位Voを測定し、ついで
光導電層表面を照度2.0ルックスの可視光で照射し、表
面電位Voが1/10に減衰するまでの時間を求め、これから
露光量E1/10(ルックス・秒)を算出する。
アナライザー(川口電機(株)製ペーパーアナライザー
SP-428型)を用いて−6KVで20秒間コロナ放電をさせた
後10秒間放置し、この時の表面電位Voを測定し、ついで
光導電層表面を照度2.0ルックスの可視光で照射し、表
面電位Voが1/10に減衰するまでの時間を求め、これから
露光量E1/10(ルックス・秒)を算出する。
注3)水との接触角: 各感光材料を、不感脂化処理液ELP-E(富士写真フイ
ルム(株)製)を用いてエッチングプロセッサーに1回
通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留水
2μlの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニオ
メーターで測定する。
ルム(株)製)を用いてエッチングプロセッサーに1回
通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留水
2μlの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニオ
メーターで測定する。
注4)複写画像の画質: 各感光材料及び全自動製版機ELP404V(富士写真フイ
ルム(株)製)を1昼夜常温・常湿(20℃,65%)に放
置した後、製版して複写画像を形成し、得られた複写原
版の画像(カブリ、画像の画質)を目視で観察する(こ
れをIとする)。複写画像の画質IIは、製版を高温・高
湿(30℃,80%)で行なう他は、前記Iと同様の方法で
試験する。
ルム(株)製)を1昼夜常温・常湿(20℃,65%)に放
置した後、製版して複写画像を形成し、得られた複写原
版の画像(カブリ、画像の画質)を目視で観察する(こ
れをIとする)。複写画像の画質IIは、製版を高温・高
湿(30℃,80%)で行なう他は、前記Iと同様の方法で
試験する。
注5)印刷物の地汚れ: 各感光材料を、全自動製版機ELP404V(富士写真フイ
ルム(株)製)で製版してトナー画像を形成し、上記注
3)と同条件で不感脂化処理し、これをオフセットマス
ターとしてオフセット印刷機(ハマダスター(株)製ハ
マダスター800SX型)にかけ上質紙上に500枚印刷し、全
印刷物の地汚れを目視により判定する。これを印刷物の
地汚れIとする。
ルム(株)製)で製版してトナー画像を形成し、上記注
3)と同条件で不感脂化処理し、これをオフセットマス
ターとしてオフセット印刷機(ハマダスター(株)製ハ
マダスター800SX型)にかけ上質紙上に500枚印刷し、全
印刷物の地汚れを目視により判定する。これを印刷物の
地汚れIとする。
印刷物の地汚れIIは、不感脂化処理液を5倍に希釈
し、且つ、印刷時の浸し水を2倍に希釈した他は、前記
の地汚れIと同様の方法で印刷機の印圧を強めにして試
験し、印刷物の地汚れの発生するまでの枚数で評価す
る。
し、且つ、印刷時の浸し水を2倍に希釈した他は、前記
の地汚れIと同様の方法で印刷機の印圧を強めにして試
験し、印刷物の地汚れの発生するまでの枚数で評価す
る。
IIの場合は、Iよりも厳しい条件で印刷したことに相
当する。
当する。
本発明及び比較例A,Bの感光材料を用いて得られた複
写画像はいずれも鮮明な画質であって、比較例Cのそれ
は光導電層表面の平滑性が悪化した。又、各感光材料を
(30℃,80%)の環境下で製版した所比較例Cは、その
複写画像が著しく低下してしまった(地カブリが発生
し、画像濃度が0.6以下となった)。
写画像はいずれも鮮明な画質であって、比較例Cのそれ
は光導電層表面の平滑性が悪化した。又、各感光材料を
(30℃,80%)の環境下で製版した所比較例Cは、その
複写画像が著しく低下してしまった(地カブリが発生
し、画像濃度が0.6以下となった)。
更に、不感脂化液で不感脂化処理した各感光材料の水
との接触角は、比較例C以外は15°以下と小さく充分に
親水化されていることを示した。
との接触角は、比較例C以外は15°以下と小さく充分に
親水化されていることを示した。
又、これらをオフセット印刷用マスタープレートとし
て印刷してみると、非画像部の地汚れの発生しない良好
なものは、本発明、比較例A及び比較例Bのプレートで
あった。更にこれらのプレートを印刷機の印圧条件を強
制にして印刷した所、本発明のプレートは1万枚印刷し
ても印刷物の画質は良好で地汚れも発生しなかったが、
比較例Aのプレートは5000枚、比較例Bのプレートは75
00枚で印刷物に地汚れを発生した。
て印刷してみると、非画像部の地汚れの発生しない良好
なものは、本発明、比較例A及び比較例Bのプレートで
あった。更にこれらのプレートを印刷機の印圧条件を強
制にして印刷した所、本発明のプレートは1万枚印刷し
ても印刷物の画質は良好で地汚れも発生しなかったが、
比較例Aのプレートは5000枚、比較例Bのプレートは75
00枚で印刷物に地汚れを発生した。
又本発明の感光材料を(45℃ 75%RH)の環境条件下
に2週間放置後、前記と同様にして電子写真特性及び印
刷実技特性を測定したが、殆んど変化していなかった。
に2週間放置後、前記と同様にして電子写真特性及び印
刷実技特性を測定したが、殆んど変化していなかった。
実施例2〜13 実施例1において、用いた樹脂の代わりに本発明の樹
脂〔A〕として表−2の共重合体それぞれ12g及び樹脂
〔B〕として[ベンジルメタクリレート/ビニルメタク
リレート(75/25)重量比]共重合体〔B−1〕′28gを
用いた他は、実施例1と同様に操作して、本発明の各感
光材料を作製した。
脂〔A〕として表−2の共重合体それぞれ12g及び樹脂
〔B〕として[ベンジルメタクリレート/ビニルメタク
リレート(75/25)重量比]共重合体〔B−1〕′28gを
用いた他は、実施例1と同様に操作して、本発明の各感
光材料を作製した。
これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られた
オフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更に、エッチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画質であった。
オフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更に、エッチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画質であった。
更に、この感光材料を(45℃、75%RH)の環境条件下
に2週間放置した後全く同様の処理を行なったが、経時
前と全く変わらなかった。
に2週間放置した後全く同様の処理を行なったが、経時
前と全く変わらなかった。
実施例(14〜16) 樹脂〔A〕として下記の共重合組成比(重量比)から
成る共重合体20g及び 樹脂〔B〕として表−3に示す共重合体を各22gとした
他は、実施例1と同様の組成物でボールミルで2時間分
散して感光層形成物を調製しこれを導電処理した紙に乾
燥付着量が25g/m2となるようにワイヤーバーで塗布し、
105℃で1時間乾燥し、ついで暗所で20℃、65%RHの条
件下で24時間放置することにより、電子写真感光材料を
作製した。
成る共重合体20g及び 樹脂〔B〕として表−3に示す共重合体を各22gとした
他は、実施例1と同様の組成物でボールミルで2時間分
散して感光層形成物を調製しこれを導電処理した紙に乾
燥付着量が25g/m2となるようにワイヤーバーで塗布し、
105℃で1時間乾燥し、ついで暗所で20℃、65%RHの条
件下で24時間放置することにより、電子写真感光材料を
作製した。
これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られた
オフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更にエッチング処理して印刷機で
印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない鮮
明な画質であった。
オフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更にエッチング処理して印刷機で
印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない鮮
明な画質であった。
実施例17 樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕として、各々表−4の樹脂
を各々22g及び18gとした他は、実施例14と同様に操作し
て感光材料を作製した。
を各々22g及び18gとした他は、実施例14と同様に操作し
て感光材料を作製した。
これを、実施例1と同様の装置で製版した所、得られ
たオフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上
で画質は鮮明であった。更にエッチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画質であった。
たオフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上
で画質は鮮明であった。更にエッチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画質であった。
更に、この感光材料を(45℃,75%RH)の環境条件下
に2週間放置した後全く同様の処理を行なったが、経時
前と全く変わらなかった。
に2週間放置した後全く同様の処理を行なったが、経時
前と全く変わらなかった。
実施例18 樹脂〔A〕として、樹脂〔A〕−5 15g及び樹脂
〔B〕として、下記構造の樹脂〔B〕(〔B〕−8)25
gを各々用いた他は、実施例14と同様に操作して、感光
材料を作製した。
〔B〕として、下記構造の樹脂〔B〕(〔B〕−8)25
gを各々用いた他は、実施例14と同様に操作して、感光
材料を作製した。
これを、実施例1と同様の装置で製版した所、得られ
たオフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上
で画質は鮮明であった。更にエッチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画像であった。
たオフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上
で画質は鮮明であった。更にエッチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画像であった。
更に、この感光材料を(45℃,75%RH)の環境条件下
に2週間放置した後全く同様の処理を行なったが、経時
前と全く変わらなかった。
に2週間放置した後全く同様の処理を行なったが、経時
前と全く変わらなかった。
(発明の効果) 本発明によれば、地汚れ、耐刷力の非常に優れた電子
写真式平版印刷用原版が得られる。
写真式平版印刷用原版が得られる。
Claims (1)
- 【請求項1】導電性支持体上に、少なくとも光導電性酸
化亜鉛、下記樹脂(A)、下記樹脂(B)及びトルエン
を含む液を塗布して光導電層を設けてなる電子写真感光
体を利用した平版印刷用原版。 (i)樹脂(A):分解により少なくとも1つのカルボ
キシル基を生成する官能基を少なくとも1種含有する共
重合成分及び樹脂〔B〕と架橋反応する官能基を少なく
とも1種含有する共重合成分をそれぞれ少なくとも1種
含有するメタクリレート系共重合体、 (ii)樹脂(B):熱及び/又は光で硬化反応する官能
基を少なくとも1種含有する成分を少なくとも1種含有
するメタクリレート系共重合体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63021354A JPH0820779B2 (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | 電子写真式平版印刷用原版 |
| EP89101477A EP0326169B1 (en) | 1988-01-28 | 1989-01-27 | Electrophotographic lithographic printing plate precursor |
| DE68914692T DE68914692D1 (de) | 1988-01-28 | 1989-01-27 | Elektrophotographische Platte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte. |
| US07/303,220 US4960661A (en) | 1988-01-28 | 1989-01-30 | Electrophotographic lithographic printing plate precursor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63021354A JPH0820779B2 (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | 電子写真式平版印刷用原版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01197765A JPH01197765A (ja) | 1989-08-09 |
| JPH0820779B2 true JPH0820779B2 (ja) | 1996-03-04 |
Family
ID=12052763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63021354A Expired - Fee Related JPH0820779B2 (ja) | 1988-01-28 | 1988-02-02 | 電子写真式平版印刷用原版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0820779B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61193892A (ja) * | 1985-02-22 | 1986-08-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 印刷機における湿し装置用ゴムロ−ラの皮膜形成方法 |
| JPH0750338B2 (ja) * | 1986-05-02 | 1995-05-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 電子写真式平版印刷用原版 |
| JPS62286064A (ja) * | 1986-06-04 | 1987-12-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電子写真式平版印刷用原版 |
-
1988
- 1988-02-02 JP JP63021354A patent/JPH0820779B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01197765A (ja) | 1989-08-09 |
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Legal Events
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