JPH08208529A - アルキルアリール系化合物の製造方法 - Google Patents
アルキルアリール系化合物の製造方法Info
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- JPH08208529A JPH08208529A JP7036023A JP3602395A JPH08208529A JP H08208529 A JPH08208529 A JP H08208529A JP 7036023 A JP7036023 A JP 7036023A JP 3602395 A JP3602395 A JP 3602395A JP H08208529 A JPH08208529 A JP H08208529A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 アリールケトン系化合物を、有機溶媒中、還
元能を有する触媒の存在下で、接触水素化を行う。 【効果】 光学純度を保持したまま、光学活性なアルキ
ルアリール系化合物を一段階で製造する方法を提供する
ことができる。
元能を有する触媒の存在下で、接触水素化を行う。 【効果】 光学純度を保持したまま、光学活性なアルキ
ルアリール系化合物を一段階で製造する方法を提供する
ことができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アルキルアリール系化
合物の製造方法に関する。
合物の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】アルキルアリール系化合物は、医薬、農
薬、食品、電子材料などの各種の分野で使用されてお
り、こうした全ての分野において高い光学純度が求めら
れている。
薬、食品、電子材料などの各種の分野で使用されてお
り、こうした全ての分野において高い光学純度が求めら
れている。
【0003】一般に、アルキルアリール系化合物は、ア
リールケトン系化合物のメチレン基を還元することによ
り製造されており、たとえば、Clemmensen還
元やWolff−Kishner還元が、通常、よく用
いられている。しかし、カルボニル基のα−位に不斉炭
素を有するアリールケトン系化合物のメチレン基の還元
を、Clemmensen還元やWolff−Kish
ner還元により行った場合には、ラセミ化により光学
純度の低下が著しいため、光学活性なアルキルアリール
系化合物の製造にはClemmensen還元やWol
ff−Kishner還元は採用されていなかった。
リールケトン系化合物のメチレン基を還元することによ
り製造されており、たとえば、Clemmensen還
元やWolff−Kishner還元が、通常、よく用
いられている。しかし、カルボニル基のα−位に不斉炭
素を有するアリールケトン系化合物のメチレン基の還元
を、Clemmensen還元やWolff−Kish
ner還元により行った場合には、ラセミ化により光学
純度の低下が著しいため、光学活性なアルキルアリール
系化合物の製造にはClemmensen還元やWol
ff−Kishner還元は採用されていなかった。
【0004】そのため、従来は、原料の光学純度を保持
したまま、光学活性なアルキルアリール系化合物を製造
するためには、光学純度を低下させない反応を選択した
迂回方法を経由しなければならず、反応工程が増え経済
的に不利であった。
したまま、光学活性なアルキルアリール系化合物を製造
するためには、光学純度を低下させない反応を選択した
迂回方法を経由しなければならず、反応工程が増え経済
的に不利であった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、原料の光学
純度を保持したまま、光学活性なアリールケトン系化合
物を製造する方法を提供することを目的とする。
純度を保持したまま、光学活性なアリールケトン系化合
物を製造する方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、還元能を有する触
媒の存在下で、接触水素化を行うことにより、前記目的
を達成できることを見出した。本発明はかかる新たな知
見に基づいて完成されたものである。
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、還元能を有する触
媒の存在下で、接触水素化を行うことにより、前記目的
を達成できることを見出した。本発明はかかる新たな知
見に基づいて完成されたものである。
【0007】すなわち、本発明は、一般式(1):R1
(R2 ) *CHCO−Φ−X−Y(式中、R1 およびR
2 は同一でない炭素数1〜6のアルキル基を表し、 *C
は不斉炭素を表し、Φはフェニレン基を表し、Xは単結
合、フェニレン基、シクロヘキシレン基、ピリミジレン
基またはジオキシレン基を表し、Yは水素原子、ハロゲ
ン原子、カルボキシル基またはシアノ基を表す)で表さ
れるアリールケトン系化合物を、有機溶媒中、還元能を
有する触媒の存在下で、接触水素化を行うことを特徴と
する一般式(2):R1 (R2 ) *CHCH2 −Φ−X
−Y(式中、R1 、R2 、 *C、Φ、XおよびYは前記
と同じ)で表されるアルキルアリール系化合物の製造方
法に関する。
(R2 ) *CHCO−Φ−X−Y(式中、R1 およびR
2 は同一でない炭素数1〜6のアルキル基を表し、 *C
は不斉炭素を表し、Φはフェニレン基を表し、Xは単結
合、フェニレン基、シクロヘキシレン基、ピリミジレン
基またはジオキシレン基を表し、Yは水素原子、ハロゲ
ン原子、カルボキシル基またはシアノ基を表す)で表さ
れるアリールケトン系化合物を、有機溶媒中、還元能を
有する触媒の存在下で、接触水素化を行うことを特徴と
する一般式(2):R1 (R2 ) *CHCH2 −Φ−X
−Y(式中、R1 、R2 、 *C、Φ、XおよびYは前記
と同じ)で表されるアルキルアリール系化合物の製造方
法に関する。
【0008】前記一般式(1)で表されるアリールケト
ン系化合物とは、2種のアルキル基とキラルプロトンを
有する不斉炭素が、カルボニル基のα−位に結合してい
る光学活性なアリールケトン系化合物をいい、絶対配置
がS体またはR体のいずれも使用できる。また、一般式
(1)で表されるXが単結合以外の場合に、その結合位
置は特に制限されないが、フェニレン基、シクロヘキシ
レン基としては、通常、1,4−の位置で結合している
ものがあげられる。また、ピリミジレン基は2,5−の
位置で結合しているものがあげられる。また、ジオキシ
レン基は、1,3−ジオキシレン基が、2,5−の位置
で結合しているものがあげられる。また、Yのハロゲン
原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素、ヨウ素原
子等があげられる。Yとしては水素原子が好ましい。一
般式(1)で表されるアリールケトン系化合物として
は、ベンゼン誘導体、ビフェニル誘導体が好ましい。
ン系化合物とは、2種のアルキル基とキラルプロトンを
有する不斉炭素が、カルボニル基のα−位に結合してい
る光学活性なアリールケトン系化合物をいい、絶対配置
がS体またはR体のいずれも使用できる。また、一般式
(1)で表されるXが単結合以外の場合に、その結合位
置は特に制限されないが、フェニレン基、シクロヘキシ
レン基としては、通常、1,4−の位置で結合している
ものがあげられる。また、ピリミジレン基は2,5−の
位置で結合しているものがあげられる。また、ジオキシ
レン基は、1,3−ジオキシレン基が、2,5−の位置
で結合しているものがあげられる。また、Yのハロゲン
原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素、ヨウ素原
子等があげられる。Yとしては水素原子が好ましい。一
般式(1)で表されるアリールケトン系化合物として
は、ベンゼン誘導体、ビフェニル誘導体が好ましい。
【0009】本発明では、前記一般式(1)で表される
アリールケトン系化合物を、有機溶媒中、還元能を有す
る触媒の存在下で、接触水素化を行い、前記一般式
(2)で表されるアルキルアリール系化合物を製造す
る。
アリールケトン系化合物を、有機溶媒中、還元能を有す
る触媒の存在下で、接触水素化を行い、前記一般式
(2)で表されるアルキルアリール系化合物を製造す
る。
【0010】前記有機溶媒としては、エタノール、メタ
ノール、酢酸エチル、ジオキサン等を使用できる。な
お、有機溶媒は、反応速度を向上させるために、塩酸、
硫酸、パラトルエンスルホン酸等を加えて酸性にしたも
のが好ましい。
ノール、酢酸エチル、ジオキサン等を使用できる。な
お、有機溶媒は、反応速度を向上させるために、塩酸、
硫酸、パラトルエンスルホン酸等を加えて酸性にしたも
のが好ましい。
【0011】還元能を有する触媒とは、一般に、共役ケ
トンのカルボニル基のみを選択的に接触水素化してメチ
レン基とすることができる触媒をいう。すなわち、本発
明の還元能を有する触媒とは、一般式(1)で表される
アリールケトン系化合物の芳香環を水素化することな
く、カルボニル基のみを選択的に接触水素化することが
できる触媒をいう。かかる還元能を有する触媒として
は、パラジウム、白金等があげられる。これらの中でも
カルボニル基のみを選択性よく接触水素化できることか
らパラジウムが好ましい。なお、かかる水素化触媒は多
孔質で表面積の大きなアルミナ、シリカ(ケイソウ
土)、カーボン、チタニア等の担体に担持して使用して
もよい。本発明では、パラジウム担持カーボンを使用す
るのが好ましい。かかる還元能を有する触媒の使用量
は、特に制限されないが、通常、一般式(1)で表され
るアリールケトン系化合物の0.5〜2.5重量%程
度、好ましくは1〜2.5重量%である。触媒の使用量
が2.5重量%を越える場合にはコスト的に不利であ
り、また0.5重量%に満たない場合には反応時間が長
くなり、いずれの場合も好ましくない。
トンのカルボニル基のみを選択的に接触水素化してメチ
レン基とすることができる触媒をいう。すなわち、本発
明の還元能を有する触媒とは、一般式(1)で表される
アリールケトン系化合物の芳香環を水素化することな
く、カルボニル基のみを選択的に接触水素化することが
できる触媒をいう。かかる還元能を有する触媒として
は、パラジウム、白金等があげられる。これらの中でも
カルボニル基のみを選択性よく接触水素化できることか
らパラジウムが好ましい。なお、かかる水素化触媒は多
孔質で表面積の大きなアルミナ、シリカ(ケイソウ
土)、カーボン、チタニア等の担体に担持して使用して
もよい。本発明では、パラジウム担持カーボンを使用す
るのが好ましい。かかる還元能を有する触媒の使用量
は、特に制限されないが、通常、一般式(1)で表され
るアリールケトン系化合物の0.5〜2.5重量%程
度、好ましくは1〜2.5重量%である。触媒の使用量
が2.5重量%を越える場合にはコスト的に不利であ
り、また0.5重量%に満たない場合には反応時間が長
くなり、いずれの場合も好ましくない。
【0012】接触水素化反応は、まず、所定量の還元能
を有する触媒を溶媒に懸濁させたものに、所定量の一般
式(1)で表されるアリールケトン系化合物を溶解し反
応容器内を水素置換して反応させる。系内の温度は、通
常、室温(20〜30℃)で行う。また、反応時間は通
常5〜30時間、好ましくは8〜10時間である。な
お、系内の圧力は、常圧下で行うことができる。反応終
了後は、触媒を除去した後、溶媒で抽出し、目的物であ
る光学活性な一般式(2)で表されるアルキルアリール
系化合物が得られる。
を有する触媒を溶媒に懸濁させたものに、所定量の一般
式(1)で表されるアリールケトン系化合物を溶解し反
応容器内を水素置換して反応させる。系内の温度は、通
常、室温(20〜30℃)で行う。また、反応時間は通
常5〜30時間、好ましくは8〜10時間である。な
お、系内の圧力は、常圧下で行うことができる。反応終
了後は、触媒を除去した後、溶媒で抽出し、目的物であ
る光学活性な一般式(2)で表されるアルキルアリール
系化合物が得られる。
【0013】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、原料である
アリールケトン系化合物の光学純度を保持したまま、光
学活性なアルキルアリール系化合物を一段階で製造する
方法を提供することができる。
アリールケトン系化合物の光学純度を保持したまま、光
学活性なアルキルアリール系化合物を一段階で製造する
方法を提供することができる。
【0014】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【0015】実施例1 濃塩酸6mlを加えたエタノール2600mlに、5重
量%パラジウム担持カーボン130gを懸濁させたもの
に、(S)−4−(2−メチルブタノイル)ビフェニル
272.6g(1.1モル、比施光度:[α]20 D =+
29.7度(c=5,CHCl3 ),光学純度96%e
e)を溶解したのち、反応容器内を水素置換し、室温で
10時間反応させた。触媒を濾別後、溶媒を濃縮した
後、酢酸エチル1000mlを加えた。有機層を、飽和
炭酸水素カリウムと飽和食塩水でそれそれ洗った後、硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を濃縮後、減圧蒸留に
より精製を行い、(S)−4−(2−メチルブチル)ビ
フェニル225.5g(収率90モル%,比施光度:
[α]20 D =+11.7度(c=5,CHCl3 ),光
学純度96%ee)を得た。なお、光学純度の測定は、
キラルセルODH(ダイセル化学工業(株)製)を用い
た。
量%パラジウム担持カーボン130gを懸濁させたもの
に、(S)−4−(2−メチルブタノイル)ビフェニル
272.6g(1.1モル、比施光度:[α]20 D =+
29.7度(c=5,CHCl3 ),光学純度96%e
e)を溶解したのち、反応容器内を水素置換し、室温で
10時間反応させた。触媒を濾別後、溶媒を濃縮した
後、酢酸エチル1000mlを加えた。有機層を、飽和
炭酸水素カリウムと飽和食塩水でそれそれ洗った後、硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を濃縮後、減圧蒸留に
より精製を行い、(S)−4−(2−メチルブチル)ビ
フェニル225.5g(収率90モル%,比施光度:
[α]20 D =+11.7度(c=5,CHCl3 ),光
学純度96%ee)を得た。なお、光学純度の測定は、
キラルセルODH(ダイセル化学工業(株)製)を用い
た。
【0016】1H−NMR:δ=7.58(d,2
H)、7.50(m,2H)、7.40(t,2H)、
7.30(t,1H)、7.20(d,2H)、2.4
0,2.66(m,2H)、1.68(m,1H)、
1.21,1.42(m,2H)、0.95(d,3
H)、0.95(t,3H)。
H)、7.50(m,2H)、7.40(t,2H)、
7.30(t,1H)、7.20(d,2H)、2.4
0,2.66(m,2H)、1.68(m,1H)、
1.21,1.42(m,2H)、0.95(d,3
H)、0.95(t,3H)。
【0017】実施例2 実施例1において、(S)−4−(2−メチルブタノイ
ル)ビフェニルの代わりに、(S)−4−(2−メチル
ブタノイル)フェニル178.5g(1.1モル、比施
光度:[α]20 D =+34.6度(c=5,CHCl
3 ),光学純度96%ee)を使用した以外は、実施例
1と同様に反応を行った。そして、実施例1と同様に濃
縮、乾燥して、精製を行い、(S)−4−(2−メチル
ブチル)フェニル145.2g(収率89モル%,比施
光度:[α]20 D =+15.2度(c=5,CHCl
3 ),光学純度96%ee)を得た。なお、光学純度の
測定は、キラルセルODH(ダイセル化学工業(株)
製)を用いた。
ル)ビフェニルの代わりに、(S)−4−(2−メチル
ブタノイル)フェニル178.5g(1.1モル、比施
光度:[α]20 D =+34.6度(c=5,CHCl
3 ),光学純度96%ee)を使用した以外は、実施例
1と同様に反応を行った。そして、実施例1と同様に濃
縮、乾燥して、精製を行い、(S)−4−(2−メチル
ブチル)フェニル145.2g(収率89モル%,比施
光度:[α]20 D =+15.2度(c=5,CHCl
3 ),光学純度96%ee)を得た。なお、光学純度の
測定は、キラルセルODH(ダイセル化学工業(株)
製)を用いた。
【0018】1H−NMR:δ=7.12(m,5
H)、2.62(q,1H)、2.35(q,1H)、
1.65(m,1H)、1.38(m,1H)、1.1
5(m,1H)、0.88(d,3H)、0.84
(t,3H)。
H)、2.62(q,1H)、2.35(q,1H)、
1.65(m,1H)、1.38(m,1H)、1.1
5(m,1H)、0.88(d,3H)、0.84
(t,3H)。
【0019】比較例1 (S)−4−(2−メチルブタノイル)ビフェニル1
0.8g(4.5ミリモル、比施光度:[α]20 D =+
29.7度(c=5,CHCl3 ),光学純度96%e
e)を、1水和ヒドラジン9.1g(180ミリモ
ル),水酸化ナトリウム9.7g(240ミリモル)お
よびジエチレングリコール115mlからなる溶液に溶
解し、120℃で2.5時間加熱した後、さらに200
℃で2時間加熱した。その後、水300mlを加え、ト
ルエンで抽出して有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、
蒸留により精製を行い、(S)−4−(2−メチルブチ
ル)ビフェニル8.1g(収率89モル%,比施光度:
[α]20 D =0.0度(c=5,CHCl3 ))を得
た。なお、光学純度の測定は、キラルセルODH(ダイ
セル化学工業(株)製)を用いた。
0.8g(4.5ミリモル、比施光度:[α]20 D =+
29.7度(c=5,CHCl3 ),光学純度96%e
e)を、1水和ヒドラジン9.1g(180ミリモ
ル),水酸化ナトリウム9.7g(240ミリモル)お
よびジエチレングリコール115mlからなる溶液に溶
解し、120℃で2.5時間加熱した後、さらに200
℃で2時間加熱した。その後、水300mlを加え、ト
ルエンで抽出して有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、
蒸留により精製を行い、(S)−4−(2−メチルブチ
ル)ビフェニル8.1g(収率89モル%,比施光度:
[α]20 D =0.0度(c=5,CHCl3 ))を得
た。なお、光学純度の測定は、キラルセルODH(ダイ
セル化学工業(株)製)を用いた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 15/14 17/35 23/18 25/18 61/39 9450−4H 63/04 9450−4H 63/33 9450−4H 255/46 255/50 // C07B 61/00 300 C07M 7:00 (72)発明者 曽根 孝明 大阪市鶴見区鶴見1丁目1番9号荒川化学 工業株式会社研究所内
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(1):R1 (R2 ) *CHCO
−Φ−X−Y(式中、R1 およびR2 は同一でない炭素
数1〜6のアルキル基を表し、 *Cは不斉炭素を表し、
Φはフェニレン基を表し、Xは単結合、フェニレン基、
シクロヘキシレン基、ピリミジレン基またはジオキシレ
ン基を表し、Yは水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ
ル基またはシアノ基を表す)で表されるアリールケトン
系化合物を、有機溶媒中、還元能を有する触媒の存在下
で、接触水素化を行うことを特徴とする一般式(2):
R1 (R2 ) *CHCH2 −Φ−X−Y(式中、R1 、
R2 、 *C、Φ、XおよびYは前記と同じ)で表される
アルキルアリール系化合物の製造方法。 - 【請求項2】 還元能を有する触媒が、パラジウムであ
る請求項1記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7036023A JPH08208529A (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | アルキルアリール系化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7036023A JPH08208529A (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | アルキルアリール系化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08208529A true JPH08208529A (ja) | 1996-08-13 |
Family
ID=12458134
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7036023A Pending JPH08208529A (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | アルキルアリール系化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08208529A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106349087A (zh) * | 2015-09-02 | 2017-01-25 | 四川瑞希康生物医药有限公司 | (r)‑2‑氨基‑3‑(联苯基‑4‑基)‑1‑丙醇的合成 |
| CN116023200A (zh) * | 2022-01-27 | 2023-04-28 | 浙江扬帆新材料股份有限公司 | 一种芳香醛(酮)化合物还原制备亚甲基化合物的方法 |
-
1995
- 1995-01-31 JP JP7036023A patent/JPH08208529A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106349087A (zh) * | 2015-09-02 | 2017-01-25 | 四川瑞希康生物医药有限公司 | (r)‑2‑氨基‑3‑(联苯基‑4‑基)‑1‑丙醇的合成 |
| CN116023200A (zh) * | 2022-01-27 | 2023-04-28 | 浙江扬帆新材料股份有限公司 | 一种芳香醛(酮)化合物还原制备亚甲基化合物的方法 |
| CN116023200B (zh) * | 2022-01-27 | 2023-07-25 | 江西扬帆新材料有限公司 | 一种芳香醛(酮)化合物还原制备亚甲基化合物的方法 |
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