JPH08208736A - 塩化ビニル系樹脂の製造方法 - Google Patents

塩化ビニル系樹脂の製造方法

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JPH08208736A
JPH08208736A JP14530495A JP14530495A JPH08208736A JP H08208736 A JPH08208736 A JP H08208736A JP 14530495 A JP14530495 A JP 14530495A JP 14530495 A JP14530495 A JP 14530495A JP H08208736 A JPH08208736 A JP H08208736A
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JP
Japan
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vinyl chloride
containing compound
bis
transition metal
chloride resin
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JP14530495A
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English (en)
Inventor
Tetsuya Matsukawa
哲也 松川
Ryuichi Kiba
竜一 木庭
Tokuaki Ikeda
徳昭 池田
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JNC Corp
Original Assignee
Chisso Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】立体規則性に富む塩化ビニル系樹脂を効率良く
得るための製造方法を提供することである。 【構成】塩化ビニル、または、塩化ビニルと塩化ビニル
に共重合可能な物質の存在下、少なくとも1種類のアル
ミニウム含有化合物、または、少なくとも1種類のアル
ミニウム含有化合物と少なくとも1種類の硼素含有化合
物、および、特定の構造を有する少なくとも1種類の遷
移金属含有化合物を成分とする触媒を使用することを特
徴とする塩化ビニル系樹脂の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、立体規則性の優れた塩
化ビニル系樹脂を効率よく得るための製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】塩化ビニル系樹脂は、加工性、物理的性
質並びに価格においてバランスの良い高分子材料である
ところから、自動車、機械、電気、医療、建築用等の資
材として多岐、広範な分野で使用されている。
【0003】しかし、塩化ビニル系樹脂は、一般に、プ
ロピレン樹脂やエチレン樹脂に比べ、機械的強度が弱
く、剛性、耐衝撃性、寸法安定性等を必要とする分野に
おいては、満足できる材料とは言いにくいものであっ
た。塩化ビニル系樹脂材料に、剛性、耐衝撃性、寸法安
定性等を付与する方法としては、塩化ビニル系樹脂に硝
子繊維やマイカのような補強剤を配合する方法がある。
しかし、このようなものを配合すると加工性が著しく低
下するなどの問題があった。
【0004】塩化ビニル系樹脂が、プロピレン樹脂やエ
チレン樹脂に比べて、前記物性が劣る原因としては、塩
化ビニル樹脂の結晶性が低いという性質が挙げられる。
この結晶性を向上させることができれば、前記物性を改
良することができる。塩化ビニル樹脂の結晶性が低いの
は、分子主鎖に分岐が存在したり、頭−頭結合、及び
尾−尾結合等が存在することにより、立体的に不規則な
構造を有しているからである。一般的な塩化ビニル樹脂
は、高密度ポリエチレンやポリプロピレンのような典型
的な結晶性高分子との中間に位置する部分結晶性高分子
として捉えることができる。分岐や頭−頭結合、尾−尾
結合等の不規則結合が改善され、規則正しい分子構造を
もつ立体規則性の高い塩化ビニル系樹脂を得ることがで
きれば、その結晶性の向上に伴い優れた性質が発現され
ることは、十分に期待されることである。
【0005】一般に、塩化ビニル系樹脂は、工業的に
は、ターシャリブチルパーオキシネオデカノエートによ
く代表されるパーエステル化合物等のラジカル開始剤を
用いて、40゜Cないし70゜Cの重合温度で製造されて
いる。低温で重合された塩化ビニル系樹脂ほど、立体規
則性が向上することは良く知られており、これは、成長
ポリマー末端基に対するモノマーの付加反応の選択性が
影響を受けて、不規則結合の要因である 頭−頭結合、
尾−尾結合、及び分岐等が抑制されるためであるとされ
ている。従って、現在、工業的に広く使用されているパ
ーエステル化合物等の開始剤を用いて、より立体規則性
の高い塩化ビニル系樹脂を製造しようと思えば、この低
温重合に頼るほかに無いのが実状である。ところが、低
温では、開始剤が開裂して活性ラジカルを生成するため
に必要なエネルギーが得られにくいため、重合反応の活
性点として寄与しうる開始剤の効率が低下し、ポリマー
への転化率すなわち塩化ビニル系樹脂の収率が著しく低
下してしまうのを避けられない。また、このような低温
重合で製造された塩化ビニル系樹脂は、立体規則性の向
上の程度も僅かであり、一般的な塩化ビニル系樹脂に対
して、殆ど、立体規則性における実質的な差を有しない
のが実状である。
【0006】この他にも、これまで、立体規則性の高い
塩化ビニル樹脂を得るために、メタノール中で硝酸ウラ
ニルを用いる低温光重合法(特公昭34ー2989号公
報)、過酸化水素等によるレドックス低温重合法(特公
昭35−7588号公報),あるいは、アルミニウム,
鉛等のアルキル金属化合物を触媒とし、−20〜20゜
Cの温度で重合を行う方法などについて報告がある。ま
た、その他にも、アニオン機構によるグリニヤル化合物
の利用、アルデヒド中のラジカル重合、尿素アダクト中
での放射線重合などの例が報告されているが、いずれも
実用化にはいたっていない。
【0007】このように、高い立体規則性を有する塩化
ビニル樹脂を製造するために、種々の低温重合法が行わ
れてきており、その研究は古いが、低温運転に伴う運転
コストの上昇と、開始剤、或いは触媒の活性低下に伴う
重合収率の低下が解決できぬ問題として残り、以来、長
く 立体規則性の高い塩化ビニル系樹脂の実用化への道
は閉ざされたままであった。
【0008】特開平3−185005号公報では、架橋
構造がなく立体的に異種の環状構造を有する遷移金属化
合物を使用し、エチレン的に不飽和な単量体からシンジ
オタクチック重合体を製造できる旨が述べられている
が、これを塩化ビニル系重合体の製造に使用することに
ついては、何等具体的に記載がなされていない。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
した従来技術の欠点を解消し、立体規則性の高い塩化ビ
ニル系樹脂を通常工業的に実施されているような重合温
度で効率よく製造する為の製造方法を提供することであ
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、少なくとも1種
類のアルミニウム含有化合物、または、少なくとも1種
類のアルミニウム含有化合物と少なくとも1種類の硼素
含有化合物、及び、少なくとも1種類の特定の遷移金属
含有化合物を成分として含む触媒を使用し製造すること
により、立体規則性の高い塩化ビニル系樹脂を効率よく
製造することができることを見いだし、本発明を完成す
るに至った。
【0011】本発明は、下記の構成を有する。 [1] 塩化ビニル、または、塩化ビニルと塩化ビニル
に共重合可能な物質の存在下、少なくとも1種類のアル
ミニウム含有化合物、または、少なくとも1種類のアル
ミニウム含有化合物と少なくとも1種類の硼素含有化合
物、及び、下記一般式(1)で示される少なくとも1種
類の遷移金属含有化合物を成分として含む触媒を使用し
て製造することを特徴とする塩化ビニル系樹脂の製造方
法。
【化13】 (1) (式中、Mは、周期律表の第4、5または6属の遷移金
属である。SおよびUは、単環式または多環式炭化水素
基を示す。この単環式または多環式炭化水素基は、置換
されていても、置換されていなくても良い。SおよびU
は、Mに結合しており、両者は、同じ構造を有する基で
あっても異なる構造を有する基であってもどちらでも良
い。Xは、水素、ハロゲン基、もしくは炭化水素基を示
し、kは0ないし2である。kが2のとき、Xは、互い
に同じ構造を有する基であってもどちらでも良い。)
【0012】[2] 塩化ビニル、または、塩化ビニル
と塩化ビニルに共重合可能な物質の存在下、少なくとも
1種類のアルミニウム含有化合物、または、少なくとも
1種類のアルミニウム含有化合物と少なくとも1種類の
硼素含有化合物、及び、下記一般式(2)で示される少
なくとも1種類の遷移金属含有化合物を成分として含む
触媒を使用して製造することを特徴とする塩化ビニル系
樹脂の製造方法。
【化14】 (2) (式中、M、S、U、X、および、kは、前記に定義さ
れた通りである。Yは、珪素、ゲルマニウム、錫、もし
くは炭素数1ないし20を有する炭化水素基であり、Y
は、SとUとに結合している。Qは、水素または炭化水
素基を示し、Yに結合している。iは、0ないし2であ
る。iが2のとき、Qは、互いに同じ構造を有する基で
あっても、異なる基であってもどちらでも良い。)
【0013】[3] S、または、Uの少なくとも一方
が、シクロペンタジエニル残基、フルオレニル残基、イ
ンデニル残基であることを特徴とする、前記[1]、ま
たは、前記[2]に記載の塩化ビニル系樹脂の製造方
法。
【0014】[4] 少なくとも1種類の遷移金属含有
化合物が、下記一般式(3)で示される構造を有するこ
とを特徴とする前記[1]に記載の塩化ビニル系樹脂の
製造方法。
【化15】 (3) (式中、M、X、および、kは、前記に定義された通り
である。C5RmH5-m および C5RnH5-nは、各々、M
と結合する置換もしくは非置換シクロペンタジエニル基
を示す。Rは、シクロペンタジエニル環に結合するシリ
ル基もしくは炭化水素基を示す。nとmは、0〜5の整
数であり、互いに同じ整数であっても異なる整数であっ
ても良い。Rが複数の場合、Rは、互いに同じ構造を有
する基であっても異なる構造を有する基であってもどち
らでも良い。)
【0015】[5] 下記一般式(4)、または、
(5)で示される構造を有する遷移金属含有化合物を少
なくとも1種類使用することを特徴とする、前記
[1]、または、前記[4]に記載の塩化ビニル系樹脂
の製造方法。
【化16】 (4)
【化17】 (5) (式中、X、および、Mは、前記に定義された通りであ
る。R1は、シクロペンタジエニル環に結合する炭素原
子数1〜5のアルキル基。R2 1−C5H3は、2置換シク
ロペンタジエニル基を示す。)
【0016】[6] 下記一般式(6)、または、
(7)で示される構造を有する遷移金属含有化合物を少
なくとも1種類使用することを特徴とする、前記
[1]、または、前記[4]に記載の塩化ビニル系樹脂
の製造方法。
【化18】 (6)
【化19】 (7) (式中、X、M、および、R1は前記に定義された通り
である。R3 1−C5H2は、3置換シクロペンタジエニル
基を示す。)
【0017】[7] 下記一般式(8)で示される構造
を有する遷移金属含有化合物を少なくとも1種類使用す
ることを特徴とする、前記[1]、または、前記[4]
に記載の塩化ビニル系樹脂の製造方法。
【化20】 (8) (式中、X、M、および、R1は前記に定義された通り
である。R4 1−C5Hは、4置換シクロペンタジエニル
基を示す。)
【0018】[8] 少なくとも1種類の遷移金属含有
化合物が、下記一般式(9)で示される構造を有するこ
とを特徴とする、前記[2]に記載の塩化ビニル系樹脂
の製造方法。
【化21】 (9) (式中、M、X、Q、Y、i、R、および、kは、前記
に定義された通りである。C5RmH4-m および C5Rn
H4-nは、各々、Mと結合する置換もしくは非置換シク
ロペンタジエニル基を示す。nとmは、0〜4の整数で
あり、互いに同じ整数であっても異なる整数であっても
良い。)
【0019】[9] 遷移金属原子Mと結合し、Mに関
して向き合う位置にある2個の置換もしくは非置換シク
ロペンタジエニル環が、互いに非対称構造となるように
置換基Rを結合した遷移金属含有化合物を少なくとも1
種類使用することを特徴とする、前記[2]、または、
前記[8]に記載の塩化ビニル系樹脂の製造方法。
【0020】[10] Yと結合している置換シクロペ
ンタジエニル環の炭素に隣接する炭素の少なくとも1つ
にRが置換されている遷移金属含有化合物を少なくとも
1種類使用することを特徴とする、前記[2]、また
は、前記[8]、または、前記[9]に記載の塩化ビニ
ル系樹脂の製造方法。
【0021】[11] Mが、ジルコニウム、または、
ハフニウム、または、チタンである遷移金属含有化合物
を少なくとも1種類使用することを特徴とする前記
[1]ないし前記[10]に記載の塩化ビニル系樹脂の
製造方法。
【0022】[12] Xが、ハロゲンである遷移金属
含有化合物を少なくとも1種類使用することを特徴とす
る前記[1]ないし前記[11]に記載の塩化ビニル系
樹脂の製造方法。
【0023】[13] 塩化ビニルと共重合可能な物質
の少なくとも1種類が、オレフィンであることを特徴と
する前記[1]ないし前記[12]に記載の塩化ビニル
系樹脂の製造方法。
【0024】[14] 塩化ビニルと共重合可能な物質
が、エチレンまたはプロピレンであることを特徴とする
前記[1]ないし前記[13]に記載の塩化ビニル系樹
脂の製造方法。
【0025】[15] アルミニウム含有化合物とし
て、一般式(10)で示される線状アルミノキサン、お
よび、一般式(11)で示される環状アルミノキサンの
なかから、少なくとも1種類を使用することを特徴とす
る前記[1]ないし前記[14]に記載の塩化ビニル系
樹脂の製造方法。
【化22】 (10)
【化23】 (11) (式中pは4〜30の数で、Rは炭化水素基を示す)
【0026】[16] 少なくとも1種類の硼素含有化
合物、及び、一般式(12)で示される少なくとも1種
類のアルミニウム含有化合物を使用することを特徴とす
る前記[1]ないし前記[14]に記載の塩化ビニル系
樹脂の製造方法。、
【化24】 (12) (式中、Rは水素、ハロゲン、アミド、アルコキシ、炭
化水素基であり、各Rは同一でも異なっていても良く、
そのうち少なくとも1つのRは炭化水素基である)
【0027】本発明において使用される遷移金属含有化
合物は、遷移金属(M)を中心原子とし、単環式または
多環式炭化水素残基(SおよびU)で形成されるサンド
イッチ構造を有する。単環式または多環式炭化水素残基
は、置換されていても置換されていなくてもどちらでも
良く、また、遷移金属(M)に対して、対称な構造であ
っても非対称な構造であってもどちらでも良い。遷移金
属(M)は、周期律表の第4、5または6属のもので、
チタン、ジルコニウム、ハフニウムがより好ましい。単
環式または多環式炭化水素残基(SおよびU)として
は、インデニル残基、フルオレニル残基、シクロペンタ
ジエニル残基がより好ましい。また、該環上には、1以
上の置換基(R、または、R1)が存在しても良く、各
置換基は同一のものであっても異なったものであっても
どちらでもよい。R1としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチ
ル基、tert−ブチル基、ペンチル基などの炭素原子
数1〜5を有するアルキル基を挙げることができる。R
としては、シリル基、アルケニル基、アリール基、アル
キルアリール基、アリールアルキル基のほか、炭素原子
数20までの炭化水素基を挙げることができる。これら
の炭化水素基としては、R1として例示したもののほか
に、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などを挙げ
ることができる。シリル基の例としては、トリメチルシ
リル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基等
を挙げることができる。
【0028】単環式または多環式炭化水素残基同士(S
とU)は、Yによって架橋されているほうが、より好ま
しい。Yとしては、珪素、ゲルマニウム、錫、炭化水素
基(炭素数1〜20を有するアルキル、アルケニル、ア
リール、アルキルアリール、アリールアルキル等であ
る)等を挙げることができる。
【0029】Qは、水素または炭化水素基(炭素数1〜
20を有するアルキル、アルケニル、アリール、アルキ
ルアリール、アリールアルキル等)であり、Qが複数の
場合、これらは互いに同じであっても異なっていてもど
ちらでも良い。
【0030】また、Xは、水素、フッ素、塩素、臭素、
沃素などのハロゲン、あるいは炭化水素基(炭素数1〜
20を有するアルキル、アルケニル、アリール、アルキ
ルアリール、アリールアルキル等)である。Xが複数の
場合、これらは互いに同じであっても異っていてもどち
らでも良い。
【0031】(S)と(U)が共にシクロペンタジエニ
ル残基である場合は、シクロペンタジエニル環上には、
置換基が存在するほうがより好ましい。
【0032】更に、2つのシクロペンタジエニル環は、
珪素、ゲルマニウム、錫、もしくは、炭素数1ないし2
0を有する炭化水素基で架橋された構造を有するほうが
より好ましく、この場合に、一つのシクロペンタジエニ
ル環上に存在する置換基(R)の数は、無置換から4置
換までのいずれでも良いが、少なくとも片方のシクロペ
ンタジエニル環には前記の1以上の置換基(R)を有し
ているほうがより好ましい。各置換基は、同一であって
も互いに異なっていてもどちらでも良い。置換基(R)
のシクロペンタジエニル環上の位置及び種類は、遷移金
属(M)に対して非対称となるように置換されてい、更
に、少なくとも片方のシクロペンタジエニル環には、Y
と結合している炭素の隣の少なくとも片方の炭素上にR
が存在するほうがより好ましい。
【0033】2つのシクロペンタジエニル環が架橋構造
で結ばれていない場合は、R1がそれぞれのシクロペン
タジエニル環の、1位と2位、または、1位と3位の位
置に存在する2置換体であるか、或いは、1位と2位と
3位、または、1位と2位と4位の位置に存在する3置
換体であるか、或いは、1位と2位と3位と4位の位置
に存在する4置換体の構造であるほうがより好ましい。
【0034】上記遷移金属含有化合物の非限定的な例と
して、ビス(シクロペンタジエニル)チタニウムジクロ
リド、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド、ビス(シクロペンタジエニル)ハフニウムジク
ロリド、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
メチル、ビス(シクロペンタジエニル)チタニウムジメ
チル、ビス(シクロペンタジエニル)ハフニウムジメチ
ル、
【0035】ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロリド、ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、(ペンタメチルシ
クロペンタジエニル)(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド、(1、3ジプロピルシクロペンタジ
エニル)(1、2、4トリエチルシクロペンタジエニ
ル)チタニウムジクロリド、(ペンタベンジルシクロペ
ンタジエニル)(ペンタジエニルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、
【0036】ジメチルシリルビス(メチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジフェニルシリル
ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド、ジメチルシリルビス(メチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジブロミド、ジメチルシリルビス
(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチ
ル、ジメチルシリルビス(メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジフェニル、ジメチルシリルビス(イ
ソプロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロ
リド、ジメチルシリルビス(t−ブチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリルビス
(フェニルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロ
リド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(メチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジ
フェニルシリル(シクロペンタジエニル)(メチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチル
シリル(シクロペンタジエニル)(メチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジメチル、ジメチルシリル(シ
クロペンタジエニル)(イソプロピルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリル(シク
ロペンタジエニル)(t−ブチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシクロ(シクロ
ペンタジエニル)(フェニルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリル(メチルシクロ
ペンタジエニル)(フェニルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリル(メチルシクロ
ペンタジエニル)(t−ブチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド、ジメチルゲルミルビス(メチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジ
フェニルゲルミルビス(メチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド、ジメチルゲルミルビス(t−
ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルゲルミルビス(フェニルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルゲルミル(シ
クロペンタジエニル)(メチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド、ジメチルゲルミル(シクロペ
ンタジエニル)(フェニルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロリド、ジメチルスタニルビス(メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルスタニルビス(t−ブチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルスタニルビス(フェニ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジ
メチルスタニル(シクロペンタジエニル)(メチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチル
スタニル(メチルシクロペンタジエニル)(フェニルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルシリルビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド、ジメチルシリル(シクロペンタジエ
ニル)(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリルビス(メチルシクロペンタ
ジエニル)チタニウムジクロリド、ジメチルシリルビス
(t−ブチルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロ
リド、ジメチルシリルビス(フェニルシクロペンタジエ
ニル)チタニウムジクロリド、ジメチルシリル(シクロ
ペンタジエニル)(メチルシクロペンタジエニル)チタ
ニウムジクロリド、ジメチルシリル(シクロペンタジエ
ニル)(t−ブチルシクロペンタジエニル)チタニウム
ジクロリド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)
(フェニルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロリ
ド、ジメチルゲルミルビス(メチルシクロペンタジエニ
ル)チタニウムジクロリド、ジメチルゲルミル(シクロ
ペンタジエニル)(メチルシクロペンタジエニル)チタ
ニウムジクロリド、ジメチルスタニルビス(メチルシク
ロペンタジエニル)チタニウムジクロリド、ジメチルス
タニル(シクロペンタジエニル)(メチルシクロペンタ
ジエニル)チタニウムジクロリド、ジメチルシリルビス
(ジメチルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロリ
ド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(ジメチ
ルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロリド、ジメ
チルシリルビス(メチルシクロペンタジエニル)ハフニ
ウムジクロリド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニ
ル)(メチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロ
リド。
【0037】ジメチルシリル(メチルシクロペンタジエ
ニル)(2、4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロリド、ジメチルシリル(メチルシクロペ
ンタジエニル)(2、3、5−トリメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリルビ
ス(2、4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ジフェニルシリルビス(2、4−ジメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリルビス(2、4−ジメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジブロミド、ジメチルシリルビス
(2、4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、ジメチルシリル(2、4−ジメチルシクロ
ペンタジエニル)(2、3、5−トリメチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリル
ビス(2、3、5−トリメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド、ジメチルゲルミル(メチルシ
クロペンタジエニル)(2、4−ジメチルジクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルゲルミル
(メチルシクロペンタジエニル)(2、3、5−トリメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルゲルミルビス(2、4−ジメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルゲルミル
(2、4−ジメチルシクロペンタジエニル)(2、3、
5−トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリド、ジメチルゲルミルビス(2、3、5−トリメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド。
【0038】エチレンビス(インデニル)ジメチルジル
コニウム、エチレンビス(インデニル)ジエチルジルコ
ニウム、エチレンビス(インデニル)メチルジルコニウ
ムモノクロリド、エチレンビス(インデニル)エチルジ
ルコニウムモノクロリド、エチレンビス(インデニル)
ハフニウムジクロリド、エチレンビス(インデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、エチレンビス(4、5、6、7
−テトラヒドロ−1−インデニル)ジメチルジルコニウ
ム、エチレンビス(4、5、6、7−テトラヒドロ−1
−インデニル)メチルジルコニウムモノクロリド、エチ
レンビス(4、5、6、7−テトラヒドロ−1−インデ
ニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(4、
5、6、7−テトラヒドロ−1−インデニル)ジルコニ
ウムジブロミド、エチレンビス(4−メチル−1−イン
デニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(5−
メチル−1−インデニル)ジルコニウムジクロリド、エ
チレンビス(6−メチル−1−インデニル)ジルコニウ
ムジクロリド、エチレンビス(2、3−ジメチル−1−
インデニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス
(5−メチル−1−インデニル)ハフニウムジクロリ
ド。
【0039】イソプロピリデン(シクロペンタジエニ
ル)(2、7−ジt−ブチル−9ーフルオレニル)ジル
コニウムジクロリド、イソプロピリデン(シクロペンタ
ジエニル)(2、7−ジt−ブチル−9−フルオレニ
ル)ジルコニウムジメチル、イソプロピリデン(メチル
シクロペンタジエニル)(2、7−ジt−ブチル−9−
フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリ
デン(メチルシクロペンタジエニル)(2、7−ジt−
ブチル−9−フルオレニル)ジルコニウムジメチル、シ
クロペンチリデン(シクロペンタジエニル)(2、7−
ジt−ブチル−9−フルオレニル)ジルコニウムジクロ
リド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)
(2、7−ジt−ブチル−9−フルオレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエ
ニル)(2、7−ジt−ブチル−9−フルオレニル)ジ
ルコニウムジメチル、ジメチルシリレン(メチルシクロ
ペンタジエニル)(2、7−ジt−ブチル−9−フルオ
レニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン
(メチルシクロペンタジエニル)(2、7−ジt−ブチ
ル−9−フルオレニル)ジルコニウムジメチル、イソプ
ロピリデン(シクロペンタジエニル)(2、7−ジt−
ブチル−9ーフルオレニル)ハフニウムジクロリド、イ
ソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2、7−ジ
t−ブチル−9−フルオレニル)ハフニウムジメチル、
イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)
(2、7−ジt−ブチル−9−フルオレニル)ハフニウ
ムジクロリド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタ
ジエニル)(2、7−ジt−ブチル−9−フルオレニ
ル)ハフニウムジメチル、シクロペンチリデン(シクロ
ペンタジエニル)(2、7−ジt−ブチル−9−フルオ
レニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレン(シ
クロペンタジエニル)(2、7−ジt−ブチル−9−フ
ルオレニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレン
(シクロペンタジエニル)(2、7−ジt−ブチル−9
−フルオレニル)ハフニウムジメチル、ジメチルシリレ
ン(メチルシクロペンタジエニル)(2、7−ジt−ブ
チル−9−フルオレニル)ハフニウムジクロリド、ジメ
チルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(2、7
−ジt−ブチル−9−フルオレニル)ハフニウムジメチ
ル、
【0040】ビス(1、2−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(1、2−ジエチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビ
ス(1、2−ジブチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ビス(1、2−ジプロピルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド、
【0041】ビス(1、2−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ハフニウムジクロリド、ビス(1、2−ジエチル
シクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス
(1、2−ジブチルシクロペンタジエニル)ハフニウム
ジクロリド、ビス(1、2−ジプロピルシクロペンタジ
エニル)ハフニウムジクロリド、
【0042】ビス(1、2−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)チタニウムジクロリド、ビス(1、2−ジエチル
シクロペンタジエニル)チタニウムジクロリド、ビス
(1、2−ジブチルシクロペンタジエニル)チタニウム
ジクロリド、ビス(1、2−ジプロピルシクロペンタジ
エニル)チタニウムジクロリド、
【0043】ビス(1、2−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジブロミド、ビス(1、2−ジエチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジブロミド、ビ
ス(1、2−ジブチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジブロミド、ビス(1、2−ジプロピルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジブロミド、
【0044】ビス(1、2−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ハフニウムジブロミド、ビス(1、2−ジエチル
シクロペンタジエニル)ハフニウムジブロミド、ビス
(1、2−ジブチルシクロペンタジエニル)ハフニウム
ジブロミド、ビス(1、2−ジプロピルシクロペンタジ
エニル)ハフニウムジブロミド、
【0045】ビス(1、2−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)チタニウムジブロミド、ビス(1、2−ジエチル
シクロペンタジエニル)チタニウムジブロミド、ビス
(1、2−ジブチルシクロペンタジエニル)チタニウム
ジブロミド、ビス(1、2−ジプロピルシクロペンタジ
エニル)チタニウムジブロミド、
【0046】ビス(1、2−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジメチル、ビス(1、2−ジエチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス
(1、2−ジブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、ビス(1、2−ジプロピルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジメチル、
【0047】ビス(1、2−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ハフニウムジメチル、ビス(1、2−ジエチルシ
クロペンタジエニル)ハフニウムジメチル、ビス(1、
2−ジブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジメチ
ル、ビス(1、2−ジプロピルシクロペンタジエニル)
ハフニウムジメチル、
【0048】ビス(1、2−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)チタニウムジメチル、ビス(1、2−ジエチルシ
クロペンタジエニル)チタニウムジメチル、ビス(1、
2−ジブチルシクロペンタジエニル)チタニウムジメチ
ル、ビス(1、2−ジプロピルシクロペンタジエニル)
チタニウムジメチル、
【0049】ビス(1、3−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(1、3−ジエチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビ
ス(1、3−ジブチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ビス(1、3−ジプロピルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド、
【0050】ビス(1、3−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ハフニウムジクロリド、ビス(1、3−ジエチル
シクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス
(1、3−ジブチルシクロペンタジエニル)ハフニウム
ジクロリド、ビス(1、3−ジプロピルシクロペンタジ
エニル)ハフニウムジクロリド、
【0051】ビス(1、3−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)チタニウムジクロリド、ビス(1、3−ジエチル
シクロペンタジエニル)チタニウムジクロリド、ビス
(1、3−ジブチルシクロペンタジエニル)チタニウム
ジクロリド、ビス(1、3−ジプロピルシクロペンタジ
エニル)チタニウムジクロリド、
【0052】ビス(1、3−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジブロミド、ビス(1、3−ジエチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジブロミド、ビ
ス(1、3−ジブチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジブロミド、ビス(1、3−ジプロピルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジブロミド、
【0053】ビス(1、3−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ハフニウムジブロミド、ビス(1、3−ジエチル
シクロペンタジエニル)ハフニウムジブロミド、ビス
(1、3−ジブチルシクロペンタジエニル)ハフニウム
ジブロミド、ビス(1、3−ジプロピルシクロペンタジ
エニル)ハフニウムジブロミド、
【0054】ビス(1、3−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)チタニウムジブロミド、ビス(1、3−ジエチル
シクロペンタジエニル)チタニウムジブロミド、ビス
(1、3−ジブチルシクロペンタジエニル)チタニウム
ジブロミド、ビス(1、3−ジプロピルシクロペンタジ
エニル)チタニウムジブロミド、
【0055】ビス(1、3−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジメチル、ビス(1、3−ジエチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス
(1、3−ジブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、ビス(1、3−ジプロピルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジメチル、
【0056】ビス(1、3−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ハフニウムジメチル、ビス(1、3−ジエチルシ
クロペンタジエニル)ハフニウムジメチル、ビス(1、
3−ジブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジメチ
ル、ビス(1、3−ジプロピルシクロペンタジエニル)
ハフニウムジメチル、
【0057】ビス(1、3−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)チタニウムジメチル、ビス(1、3−ジエチルシ
クロペンタジエニル)チタニウムジメチル、ビス(1、
3−ジブチルシクロペンタジエニル)チタニウムジメチ
ル、ビス(1、3−ジプロピルシクロペンタジエニル)
チタニウムジメチル、
【0058】ビス(1、2、3−トリメチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(1、2、
3−トリエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリド、ビス(1、2、3−トリブチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(1、2、3
−トリプロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリド、
【0059】ビス(1、2、3−トリメチルシクロペン
タジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(1、2、3
−トリエチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロ
リド、ビス(1、2、3−トリブチルシクロペンタジエ
ニル)ハフニウムジクロリド、ビス(1、2、3−トリ
プロピルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリ
ド、
【0060】ビス(1、2、3−トリメチルシクロペン
タジエニル)チタニウムジクロリド、ビス(1、2、3
−トリエチルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロ
リド、ビス(1、2、3−トリブチルシクロペンタジエ
ニル)チタニウムジクロリド、ビス(1、2、3−トリ
プロピルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロリ
ド、
【0061】ビス(1、2、3−トリメチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジブロミド、ビス(1、2、
3−トリエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
ブロミド、ビス(1、2、3−トリブチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジブロミド、ビス(1、2、3
−トリプロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
ブロミド、
【0062】ビス(1、2、3−トリメチルシクロペン
タジエニル)ハフニウムジブロミド、ビス(1、2、3
−トリエチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジブロ
ミド、ビス(1、2、3−トリブチルシクロペンタジエ
ニル)ハフニウムジブロミド、ビス(1、2、3−トリ
プロピルシクロペンタジエニル)ハフニウムジブロミ
ド、
【0063】ビス(1、2、3−トリメチルシクロペン
タジエニル)チタニウムジブロミド、ビス(1、2、3
−トリエチルシクロペンタジエニル)チタニウムジブロ
ミド、ビス(1、2、3−トリブチルシクロペンタジエ
ニル)チタニウムジブロミド、ビス(1、2、3−トリ
プロピルシクロペンタジエニル)チタニウムジブロミ
ド、
【0064】ビス(1、2、3−トリメチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス(1、2、3
−トリエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメ
チル、ビス(1、2、3−トリブチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジメチル、ビス(1、2、3−トリ
プロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチ
ル、
【0065】ビス(1、2、3−トリメチルシクロペン
タジエニル)ハフニウムジメチル、ビス(1、2、3−
トリエチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジメチ
ル、ビス(1、2、3−トリブチルシクロペンタジエニ
ル)ハフニウムジメチル、ビス(1、2、3−トリプロ
ピルシクロペンタジエニル)ハフニウムジメチル、
【0066】ビス(1、2、3−トリメチルシクロペン
タジエニル)チタニウムジメチル、ビス(1、2、3−
トリエチルシクロペンタジエニル)チタニウムジメチ
ル、ビス(1、2、3−トリブチルシクロペンタジエニ
ル)チタニウムジメチル、ビス(1、2、3−トリプロ
ピルシクロペンタジエニル)チタニウムジメチル、
【0067】ビス(1、2、4−トリメチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(1、2、
4−トリエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリド、ビス(1、2、4−トリブチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(1、2、4
−トリプロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリド、
【0068】ビス(1、2、4−トリメチルシクロペン
タジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(1、2、4
−トリエチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロ
リド、ビス(1、2、4−トリブチルシクロペンタジエ
ニル)ハフニウムジクロリド、ビス(1、2、4−トリ
プロピルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリ
ド、
【0069】ビス(1、2、4−トリメチルシクロペン
タジエニル)チタニウムジクロリド、ビス(1、2、4
−トリエチルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロ
リド、ビス(1、2、4−トリブチルシクロペンタジエ
ニル)チタニウムジクロリド、ビス(1、2、4−トリ
プロピルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロリ
ド、
【0070】ビス(1、2、4−トリメチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジブロミド、ビス(1、2、
4−トリエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
ブロミド、ビス(1、2、4−トリブチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジブロミド、ビス(1、2、4
−トリプロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
ブロミド、
【0071】ビス(1、2、4−トリメチルシクロペン
タジエニル)ハフニウムジブロミド、ビス(1、2、4
−トリエチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジブロ
ミド、ビス(1、2、4−トリブチルシクロペンタジエ
ニル)ハフニウムジブロミド、ビス(1、2、4−トリ
プロピルシクロペンタジエニル)ハフニウムジブロミ
ド、
【0072】ビス(1、2、4−トリメチルシクロペン
タジエニル)チタニウムジブロミド、ビス(1、2、4
−トリエチルシクロペンタジエニル)チタニウムジブロ
ミド、ビス(1、2、4−トリブチルシクロペンタジエ
ニル)チタニウムジブロミド、ビス(1、2、4−トリ
プロピルシクロペンタジエニル)チタニウムジブロミ
ド、
【0073】ビス(1、2、4−トリメチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス(1、2、4
−トリエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメ
チル、ビス(1、2、4−トリブチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジメチル、ビス(1、2、4−トリ
プロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチ
ル、
【0074】ビス(1、2、4−トリメチルシクロペン
タジエニル)ハフニウムジメチル、ビス(1、2、4−
トリエチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジメチ
ル、ビス(1、2、4−トリブチルシクロペンタジエニ
ル)ハフニウムジメチル、ビス(1、2、4−トリプロ
ピルシクロペンタジエニル)ハフニウムジメチル、
【0075】ビス(1、2、4−トリメチルシクロペン
タジエニル)チタニウムジメチル、ビス(1、2、4−
トリエチルシクロペンタジエニル)チタニウムジメチ
ル、ビス(1、2、4−トリブチルシクロペンタジエニ
ル)チタニウムジメチル、ビス(1、2、4−トリプロ
ピルシクロペンタジエニル)チタニウムジメチル、
【0076】ビス(1、2、3、4−テトラメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス
(1、2、3、4−テトラエチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ビス(1、2、3、4−
テトラブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド、ビス(1、2、3、4−テトラプロピルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
【0077】ビス(1、2、3、4−テトラメチルシク
ロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(1、
2、3、4−テトラエチルシクロペンタジエニル)ハフ
ニウムジクロリド、ビス(1、2、3、4−テトラブチ
ルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス
(1、2、3、4−テトラプロピルシクロペンタジエニ
ル)ハフニウムジクロリド、
【0078】ビス(1、2、3、4−テトラメチルシク
ロペンタジエニル)チタニウムジクロリド、ビス(1、
2、3、4−テトラエチルシクロペンタジエニル)チタ
ニウムジクロリド、ビス(1、2、3、4−テトラブチ
ルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロリド、ビス
(1、2、3、4−テトラプロピルシクロペンタジエニ
ル)チタニウムジクロリド、
【0079】ビス(1、2、3、4−テトラメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジブロミド、ビス
(1、2、3、4−テトラエチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジブロミド、ビス(1、2、3、4−
テトラブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジブ
ロミド、ビス(1、2、3、4−テトラプロピルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジブロミド、
【0080】ビス(1、2、3、4−テトラメチルシク
ロペンタジエニル)ハフニウムジブロミド、ビス(1、
2、3、4−テトラエチルシクロペンタジエニル)ハフ
ニウムジブロミド、ビス(1、2、3、4−テトラブチ
ルシクロペンタジエニル)ハフニウムジブロミド、ビス
(1、2、3、4−テトラプロピルシクロペンタジエニ
ル)ハフニウムジブロミド、
【0081】ビス(1、2、3、4−テトラメチルシク
ロペンタジエニル)チタニウムジブロミド、ビス(1、
2、3、4−テトラエチルシクロペンタジエニル)チタ
ニウムジブロミド、ビス(1、2、3、4−テトラブチ
ルシクロペンタジエニル)チタニウムジブロミド、ビス
(1、2、3、4−テトラプロピルシクロペンタジエニ
ル)チタニウムジブロミド、
【0082】ビス(1、2、3、4−テトラメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス(1、
2、3、4−テトラエチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジメチル、ビス(1、2、3、4−テトラブチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス
(1、2、3、4−テトラプロピルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、
【0083】ビス(1、2、3、4−テトラメチルシク
ロペンタジエニル)ハフニウムジメチル、ビス(1、
2、3、4−テトラエチルシクロペンタジエニル)ハフ
ニウムジメチル、ビス(1、2、3、4−テトラブチル
シクロペンタジエニル)ハフニウムジメチル、ビス
(1、2、3、4−テトラプロピルシクロペンタジエニ
ル)ハフニウムジメチル、
【0084】ビス(1、2、3、4−テトラメチルシク
ロペンタジエニル)チタニウムジメチル、ビス(1、
2、3、4−テトラエチルシクロペンタジエニル)チタ
ニウムジメチル、ビス(1、2、3、4−テトラブチル
シクロペンタジエニル)チタニウムジメチル、ビス
(1、2、3、4−テトラプロピルシクロペンタジエニ
ル)チタニウムジメチル、等が挙げられる。
【0085】本発明では、異なった構造を有する特定の
遷移金属含有化合物を2種以上組み合わせて用いてもよ
い。組み合わせる遷移金属含有化合物の種類、数によっ
て、立体規則性を随意に制御することが可能である。
【0086】本発明における触媒は、少なくとも1種類
の上記の特定の遷移金属含有化合物と、少なくとも1種
類のアルミニウム含有化合物、または、少なくとも1種
類のアルミニウム含有化合物と少なくとも1種類の硼素
化合物を成分として含む。
【0087】アルミニウム含有化合物の具体例として
は、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウ
ム、トリイソブチルアルミニウム、トリイソプロピルア
ルミニウム、トリアミルアルミニウム
【0088】ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチ
ルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウム
クロライド、ジイソプロピルアルミニウムクロライド、
ジアミルアルミニウムクロライド
【0089】ジメチルアルミニウムエトキサイド、ジエ
チルアルミニウムエトキサイド、ジイソブチルアルミニ
ウムエトキサイド、ジイソプロピルアルミニウムエトキ
サイド、ジアミルアルミニウムエトキシド
【0090】ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエ
チルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニ
ウムハイドライド、ジイソプロピルアルミニウムハイド
ライド、ジアミルアルミニウムハイドライド、
【0091】一般式 Al2OR4(Al(R)−O)p
で示される線状アルミノキサン、一般式 (Al(R)
−O)p+2 で示される環状アルミノキサン、などが挙
げられる。Rはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基などの炭化水素基であり、好ましくはメチル基、エ
チル基である。pは4〜30の整数であり、好ましくは
6以上で、とりわけ10以上であるのが好ましい。この
種の化合物の製法は公知であり、例えば、吸着水を含有
する化合物、結晶水を含有する塩類(硫酸銅水和物、硫
酸アルミニウム水和物など)の炭化水素媒体懸濁液にト
リアルキルアルミニウムを添加して反応させる方法を例
示することができる。本発明では、2種類以上のアルミ
ニウム含有化合物を使用しても良い。
【0092】硼素含有化合物の具体例としては、トリメ
チルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリエチル
アンモニウムテトラフェニルボレート、トリプロピルア
ンモニウムテトラフェニルボレート、トリ(n−ブチ
ル)アンモニウムテトラフェニルボレート、トリ(n−
ブチル)アンモニウムテトラ(p−トリル)フェニルボ
レート、トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラ(p−
エチルフェニル)ボレート、トリ(n−ブチル)アンモ
ニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート
【0093】トリメチルアンモニウムテトラ(p−トリ
ル)ボレート、トリメチルアンモニウムテトラ(o−ト
リル)ボレート
【0094】トリメチルアンモニウムテトラキス−3,
5−ジメチルフェニルボレート、トリエチルアンモニウ
ムテトラキス−3,5−ジメチルフェニルボレート、ト
リブチルアンモニウムテトラキス−2,4−ジメチルフ
ェニルボレート
【0095】アニリウムテトラキスペンタフルオロフェ
ニルボレート、N,Nジメチルアニリニウムテトラフェ
ニルボレート、N,Nジエチルアニリニウムテトラフェ
ニルボレート、N,Nジメチルアニリニウムテトラキス
(p−トリル)ボレート、N,Nジメチルアニリニウム
テトラキス(m−トリル)ボレート、N,Nジメチルア
ニリニウムテトラキス(2、4−ジメチルフェニル)ボ
レート、N,Nジエチルアニリニウムテトラキス(3、
5−ジメチルフェニル)ボレート、N,Nジメチルアニ
リニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレー
ト、N,Nジエチルアニリニウムテトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボレート、N,N−2,4,5−ペン
タメチルアニリニウムテトラフェニルボレート、N,N
−2,4,5−ペンタエチルアニリニウムテトラフェニ
ルボレート、
【0096】ジ−(イソプロピル)アンモニウムテトラ
キスペンタフルオロフェニルボレート、ジシクロヘキシ
ルアンモニウムテトラフェニルボレート、
【0097】トリフェニルホスホニウムテトラフェニル
ボレート、トリ(メチルフェニル)ホスホニウムテトラ
キスペンタフルオロフェニルボレート、トリ(ジメチル
フェニル)ホスホニウムテトラフェニルボレート、
【0098】トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルカルベ
ニウムテトラキス(p−トリル)ボレート、トリフェニ
ルカルベニウムテトラキス(2、4−ジメチルフェニ
ル)ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス
(3、5−ジメチルフェニル)ボレート、トリフェニル
カルベニウムテトラキス(m−トリル)ボレート、
【0099】トロピリウムテトラキスペンタフルオロフ
ェニルボレート、トロピリウムテトラキス(p−トリ
ル)ボレート、トロピリウムテトラキス(m−トリル)
ボレート、トロピリウムテトラキス(2、4−ジメチル
フェニル)ボレート、トロピリウムテトラキス(3、5
−ジメチルフェニル)ボレート、等をあげることができ
る。
【0100】特に、前記一般式 Al2OR4(Al(R)
−O)p で示される線状アルミノキサン、または、前
記一般式 (Al(R)−O)p+2 で示される環状アル
ミノキサンを使用した場合、または、硼素含有化合物と
トリメチルアルミニウム、または、硼素含有化合物とト
リエチルアルミニウム、または硼素含有化合物とトリイ
ソブチルアルミニウムを使用した場合により効果的であ
り、なかでも、硼素含有化合物とトリメチルアルミニウ
ム、または、硼素含有化合物とトリエチルアルミニウ
ム、または硼素含有化合物とトリイソブチルアルミニウ
ムを使用した場合に更に効果的である。
【0101】特開平2−167302号公報、特開平2
−167303号公報、特開平2−167304号公報
では、60゜Cのベンゼンに溶解するアルミニウム成分
が、アルミニウム原子換算で10%以下である有機アル
ミニウム化合物を一成分とする触媒系によるオレフィン
の重合方法が記載されているが、本発明においても、こ
のようなアルミニウム化合物を使用しても構わない。
【0102】触媒成分は、遷移金属含有化合物と、アル
ミニウム含有化合物、または、アルミニウム含有化合物
と硼素含有化合物の1種類以上を予め混合したものを反
応系に供給してもよく、また、反応系にこれらの成分を
別々に供給しても良い。供給時期は特に限定されない。
【0103】触媒成分の重合系内における濃度、モル比
については特に制限はないが、好ましくは、遷移金属濃
度で10-2〜10-10mol/lの範囲である。アルミニウム
含有化合物は、アルミニウム/遷移金属原子のモル比が
10以上の範囲であり、硼素含有化合物/遷移金属含有
化合物のモル比は、0.005〜1000の範囲である
のがより好ましい。
【0104】本発明では、塩化ビニルと共重合可能な物
質とを共重合させてもよい。共重合可能な物質として
は、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセ
ン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン、1−デ
セン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデ
ン、1−オクタデセンなどのオレフィン、スチレン等が
挙げられるがこれに限定されるものではない。エチレ
ン、または、プロピレンがより好ましい。また、共重合
可能な物質について、その2種類以上を混合して塩化ビ
ニルとの重合に供することもできる。
【0105】触媒は予備重合してもよく、または、非担
持型、担時型 等その触媒の形態に限定されない。予備
重合には、塩化ビニルまたは共重合で用いる物質の1種
類を用いるのが有利である。
【0106】反応系の圧力には特に制限はない。重合温
度にも制限はないが、−20〜100゜C、好ましく
は、20〜100゜C、特に、30〜80゜Cの範囲で
行うのが効果的である。重合温度は一段階または多段階
に変化させて行うこともできる。
【0107】本発明において用いられる製造法は、塊状
重合、溶液重合、懸濁重合、気相重合等の製造方法に限
定されない。
【0108】また、熱安定性改良剤、加工性改良剤、そ
の他の改質剤などの添加剤を重合系に添加しても良い。
【0109】本発明によって得られた塩化ビニル系樹脂
は、立体規則性が高い。また、本発明によると、高分子
量の塩化ビニル系樹脂を容易に得ることもできる。本発
明で得られた塩化ビニル系樹脂は、一般に剛性、対衝撃
性、耐熱性、対薬品性、電気特性、寸法安定性に優れ、
地中埋設ケーブル用保護管、温水の給排水管、工業用パ
イプ、耐熱シート、パッキン等の用途に好適に使用され
る。さらに、エチレン、または、プロピレンなどを塩化
ビニルと共重合させることによって、熱可塑性、柔軟性
等の性質を付与することも可能である。
【0110】
【作用】特定の遷移金属含有化合物と、アルミニウム含
有化合物、またはアルミニウム含有化合物と硼素含有化
合物を成分とする触媒を使用することによって、立体規
則性が高い塩化ビニル系樹脂を、工業的に通常行われて
いるような重合温度において、効率よく製造することが
できる。
【0111】
【実施例】次に本発明を実施例によって詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 試験項目 (強度比測定)塩化ビニル系樹脂の立体規則性を、赤外
線吸収スペクトルにおける637cm-1/693cm-1
の強度比の数値で求めた。強度比の数値が大きい程、塩
化ビニル系樹脂は立体規則性が高い。
【0112】実施例1 内容積5LのSUS製オートクレーブを十分に窒素置換
する。次に5.0ミリモルのメチルアルミノキサン(分
子量1100)に、ジメチルシリル(シクロペンタジエ
ニル)(t−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリドを0.02ミリモル添加する。10分後に
この溶液をオートクレーブに導入し、続いて塩化ビニル
を1.1L仕込む。重合温度を50℃に高め、1時間の
重合時間経過後に重合を終了する。未反応モノマーを回
収した後、生成物にエタノールを加え触媒を失活させ
る。生成物を取り出し、イソプロピルアルコールで脱灰
したのち乾燥し、塩化ビニル重合体を得た。該重合体の
収量は93g、強度比は、1.85であった。
【0113】実施例2 重合開始から3時間経過後に重合を終了した以外は、実
施例1記載の方法に準拠して重合を実施した。該重合体
の収量は115g、強度比は1.84であった。
【0114】実施例3 遷移金属含有化合物として、ビス(メチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリドを使用した以外は、
実施例1記載の方法に準拠して重合を実施した。該重合
体の収量は92g、強度比は1.63であった。
【0115】実施例4 遷移金属含有化合物として、ビス(メチルシクロペンタ
ジエニル)チタニウムジクロリドを使用した以外は、実
施例1記載の方法に準拠して重合を実施した。該重合体
の収量は92g、強度比は1.61であった。
【0116】実施例5 遷移金属含有化合物として、ビス(メチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジメチルを使用した以外は、実
施例1記載の方法に準拠して重合を実施した。該重合体
の収量は93g、強度比は1.62であった。
【0117】実施例6 遷移金属含有化合物として、ジメチルシリルビス(2、
3、5−トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリドを使用した以外は、実施例1記載の方法に
準拠して塩化ビニル重合体を得た。該重合体の収量は9
6g、強度比は、1.89であった。
【0118】実施例7 内容積5LのSUS製オートクレーブを十分に窒素置換
した後、トルエン300mlを仕込む。次に100ml
のトルエンに5.0ミリモルのトリイソブチルアルミニ
ウムを加え10分間攪拌したのち、0.02ミリモルの
ジメチルシリルビス(2、3、5−トリメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、次いで0.0
2ミリモルのトリフェニルカルベニウムテトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)ボレートを添加し、10分間攪
拌する。10分後、この溶液をオートクレーブに導入
し、続いて塩化ビニルを1.1L仕込む。重合温度を5
0゜Cに高め、1時間の重合時間経過後に重合を終了す
る。未反応モノマーを回収した後、生成物にエタノール
を加え触媒を失活させる。生成物を取り出し、イソプロ
ピルアルコールで脱灰したのち乾燥し、ポリマーを得
た。該重合体の収量は127g、強度比は 1.90で
あった。
【0119】実施例8 遷移金属含有化合物として、ジメチルシリルビス(2、
3、5−トリメチルシクロペンタジエニル)ハフニウム
ジクロリドを使用した以外は、実施例1記載の方法に準
拠して塩化ビニル重合体を得た。該重合体の収量は95
g、強度比は、1.90であった。
【0120】実施例9 遷移金属含有化合物として、ジメチルシリルビス(2、
3、5−トリメチルシクロペンタジエニル)チタニウム
ジクロリドを使用した以外は、実施例2記載の方法に準
拠して塩化ビニル重合体を得た。該重合体の収量は11
0g、強度比は、1.89であった。
【0121】実施例10 遷移金属含有化合物として、ジメチルシリルビス(2、
4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリドを使用した以外は、実施例1記載の方法に準拠し
て塩化ビニル重合体を得た。該重合体の収量は95g、
強度比は、1.88であった。
【0122】実施例11 遷移金属含有化合物として、ジメチルシリルビス(2、
4−ジメチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロ
リドを使用した以外は、実施例2記載の方法に準拠して
塩化ビニル重合体を得た。該重合体の収量は113g、
強度比は、1.86であった。
【0123】実施例12 遷移金属含有化合物として、ジメチルシリルビス(2、
4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリドを使用した以外は、実施例7記載の方法に準拠し
て塩化ビニル重合体を得た。該重合体の収量は131
g、強度比は、1.87であった。
【0124】実施例13 塩化ビニルを仕込んだ直後、更に、エチレンを4g仕込
み、遷移金属含有化合物として、ジメチルシリルビス
(2、4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリドを使用した以外は、実施例1記載の方法に
準拠して塩化ビニル系重合体を得た。該重合体の収量は
112g、強度比は、1.68であった。また、塩素含
有量より算定した該重合体のエチレン成分は、1.8重
量%であった。
【0125】実施例14 塩化ビニルを仕込んだ直後、更に、エチレンを5g仕込
み、遷移金属含有化合物として、ジメチルシリルビス
(2、4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリドを使用した以外は、実施例2記載の方法に
準拠して塩化ビニル系重合体を得た。該重合体の収量は
128g、強度比は、1.69であった。また、塩素含
有量より算定した該重合体のエチレン成分は、2.0重
量%であった。
【0126】実施例15 塩化ビニルを仕込んだ直後、更に、プロピレンを6g仕
込み、遷移金属含有化合物として、ジメチルシリルビス
(2、4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリドを使用した以外は、実施例1記載の方法に
準拠して塩化ビニル系重合体を得た。該重合体の収量は
102g、強度比は、1.70であった。また、塩素含
有量より算定した該重合体のプロピレン成分は、1.6
重量%であった。
【0127】実施例16 塩化ビニルを仕込んだ直後、更に、エチレンを5g仕込
み、遷移金属含有化合物として、ジメチルシリルビス
(2、4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリドを使用した以外は、実施例7記載の方法に
準拠して塩化ビニル系重合体を得た。該重合体の収量は
145g、強度比は、1.69であった。また、塩素含
有量より算定した該重合体のエチレン成分は、2.0重
量%であった。
【0128】実施例17 塩化ビニルを仕込んだ直後、更に、エチレンを5g仕込
み、遷移金属含有化合物として、ジメチルシリルビス
(2、3、5−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリドを使用した以外は、実施例7記載の方
法に準拠して塩化ビニル系重合体を得た。該重合体の収
量は142g、強度比は、1.71であった。また、塩
素含有量より算定した該重合体のエチレン成分は、1.
9重量%であった。
【0129】実施例18 遷移金属含有化合物として、ジメチルシリルビス(2、
4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリドを使用し、重合温度を70℃に設定した以外は、
実施例1記載の方法に準拠して塩化ビニル重合体を得
た。該重合体の収量は97g、強度比は、1.85であ
った。
【0130】実施例19 遷移金属含有化合物として、エチレンビス(インデニ
ル)ハフニウムジクロリドを使用した以外は、実施例1
記載の方法に準拠して塩化ビニル重合体を得た。該重合
体の収量は92g、強度比は、1.72であった。
【0131】実施例20 遷移金属含有化合物として、イソプロピリデン(メチル
シクロペンタジエニル)(2、7−ジt−ブチル−9−
フルオレニル)ハフニウムジクロリドを使用した以外
は、実施例1記載の方法に準拠して塩化ビニル重合体を
得た。該重合体の収量は93g、強度比は、1.90で
あった。
【0132】実施例21 遷移金属含有化合物として、ビス(1、2−ジメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドを使用し
た以外は、実施例1記載の方法に準拠して塩化ビニル重
合体を得た。該重合体の収量は92g、強度比は 1.
78であった。
【0133】実施例22 遷移金属含有化合物として、ビス(1、3−ジメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドを使用
し、メチルアルミノキサン(分子量909)を使用した
以外は、実施例1記載の方法に準拠して塩化ビニル重合
体を得た。該重合体の収量は92g、強度比は 1.8
0であった。
【0134】実施例23 硼素化合物として、0.017ミリモルのN,Nジメチ
ルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)
ボレートを使用し、遷移金属含有化合物として、0.0
2ミリモルのビス(1、3−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリドを使用した以外は、実施
例7記載の方法に準拠して塩化ビニル重合体を得た。該
重合体の収量は139g、強度比は 1.79であっ
た。
【0135】実施例24 塩化ビニルを仕込んだ直後、エチレンを5g仕込み、遷
移金属含有化合物として、ビス(1、2−ジメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドを使用し、
メチルアルミノキサン(分子量909)を使用した以外
は、実施例1記載の方法に準拠して塩化ビニル系重合体
を得た。該重合体の収量は116g、強度比は 1.6
5であった。塩素含有量より算定した該重合体のエチレ
ン成分は2.0重量%であった。
【0136】実施例25 塩化ビニルを仕込んだ直後、エチレンを6g仕込み、遷
移金属含有化合物として、ビス(1、2−ジメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドを使用した
以外は、実施例7記載の方法に準拠して塩化ビニル系重
合体を得た。該重合体の収量は155g、強度比は
1.66であった。塩素含有量より算定した該重合体の
エチレン成分は1.9重量%であった。
【0137】実施例26 遷移金属含有化合物として、ビス(1、2、3−トリメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドを
使用する以外は、実施例1記載の方法に準拠して塩化ビ
ニル重合体を得た。該重合体の収量は92g、強度比は
1.81であった。
【0138】実施例27 遷移金属含有化合物として、ビス(1、2、4−トリメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドを
使用する以外は、実施例2記載の方法に準拠して塩化ビ
ニル重合体を得た。該重合体の収量は115g、強度比
は 1.82であった。
【0139】実施例28 遷移金属含有化合物として、ビス(1、2、3−トリメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドを
使用する以外は、実施例7記載の方法に準拠して塩化ビ
ニル重合体を得た。該重合体の収量は136g、強度比
は 1.82であった。
【0140】実施例29 塩化ビニルを仕込んだ直後、更に、エチレンを4g仕込
み、遷移金属含有化合物として、ビス(1、2、3−ト
リメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ドを使用する以外は、実施例1記載の方法に準拠して塩
化ビニル系重合体を得た。該重合体の収量は109g、
強度比は 1.68であった。塩素含有量より算定した
該重合体のエチレン成分は1.7重量%であった。
【0141】実施例30 硼素化合物として、N,Nジメチルアニリニウムテトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ボレートを使用し、塩
化ビニルを仕込んだ直後、更に、プロピレンを8g仕込
み、遷移金属含有化合物として、ビス(1、2、4−ジ
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド
を使用する以外は、実施例7記載の方法に準拠して塩化
ビニル系重合体を得た。該重合体の収量は152g、強
度比は 1.69であった。塩素含有量より算定した該
重合体のプロピレン成分は1.6重量%であった。
【0142】実施例31 遷移金属含有化合物として、ビス(1、2、3、4−テ
トラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロ
リドを使用する以外は、実施例1記載の方法に準拠して
塩化ビニル重合体を得た。該重合体の収量は90g、強
度比は 1.83であった。
【0143】実施例32 遷移金属含有化合物として、ビス(1、2、3、4−テ
トラエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロ
リドを使用する以外は、実施例2記載の方法に準拠して
塩化ビニル重合体を得た。該重合体の収量は108g、
強度比は 1.84であった。
【0144】実施例33 遷移金属含有化合物として、ビス(1、2、3、4−テ
トラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロ
リドを使用する以外は、実施例7記載の方法に準拠して
塩化ビニル重合体を得た。該重合体の収量は133g、
強度比は 1.84であった。
【0145】実施例34 塩化ビニルを仕込んだ直後、更に、エチレン5gを仕込
み、遷移金属含有化合物として、ビス(1、2、3、4
−テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリドを仕込んだ以外は、実施例1に準拠して塩化ビ
ニル系重合体を得た。該重合体の収量は105g、強度
比は 1.72であった。塩素含有量より算定した該重
合体のエチレン成分は1.7重量%であった。
【0146】実施例35 塩化ビニルを仕込んだ直後、更に、エチレン5gを仕込
み、遷移金属含有化合物として、ビス(1、2、3、4
−テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリドを仕込んだ以外は、実施例2に準拠して塩化ビ
ニル系重合体を得た。該重合体の収量は131g、強度
比は 1.69であった。塩素含有量より算定した該重
合体のエチレン成分は1.9重量%であった。
【0147】実施例36 硼素化合物として、N,Nジメチルアニリニウムテトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ボレートを使用し、塩
化ビニルを仕込んだ直後、更に、エチレン9gを仕込
み、遷移金属含有化合物として、ビス(1、2、3、4
−テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリドを使用する以外は、実施例7に準拠して塩化ビ
ニル系重合体を得た。該重合体の収量は147g、強度
比は 1.72であった。塩素含有量より算定した該重
合体のエチレン成分は1.8重量%であった。
【0148】比較例1 5Lオートクレーブを脱気した後、純水3L、部分ケン
化ポリ酢酸ビニル(重合度800、ケン化度72%)を
1g仕込む。30分間攪拌した後、ターシャリブチルパ
ーオキシネオデカノエート(70%溶液)を600mg
仕込み、引き続いて塩化ビニルモノマーを1.1L仕込
む。反応器内温度を50゜Cまで高め、1時間経過後に
未反応モノマーを回収した後、生成物を取り出し、脱
水、乾燥し、塩化ビニル重合体を得た。該重合体の収量
は102g、強度比は1.53であった。
【0149】比較例2 重合を70゜Cにて行った以外は、比較例1記載の方法
に準拠して塩化ビニル重合体を得た。該重合体の収量は
110g、強度比は1.52であった。
【0150】比較例3 重合を20゜Cにて行った以外は、比較例1記載の方法
に準拠して塩化ビニル重合体を得た。該重合体の収量は
7g、強度比は1.56であった。
【0151】比較例4 重合を20゜Cにて行い、重合開始から3時間経過後に
重合を終了した以外は、比較例1記載の方法に準拠して
塩化ビニル重合体を得た。該重合体の収量は13g、強
度比は1.56であった。
【0152】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、立体規則性
に富む塩化ビニル系樹脂を効率的に製造することが可能
となる。そして、このような塩化ビニル系樹脂は、耐熱
性、耐衝撃性等が要求される用途等への期待が大きい。

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 塩化ビニル、または、塩化ビニルと塩化
    ビニルに共重合可能な物質の存在下、少なくとも1種類
    のアルミニウム含有化合物、または、少なくとも1種類
    のアルミニウム含有化合物と少なくとも1種類の硼素含
    有化合物、及び、下記一般式(1)で示される少なくと
    も1種類の遷移金属含有化合物を成分として含む触媒を
    使用して製造することを特徴とする塩化ビニル系樹脂の
    製造方法。 【化1】 (1) (式中、Mは、周期律表の第4、5または6属の遷移金
    属である。SおよびUは、単環式または多環式炭化水素
    基を示す。この単環式または多環式炭化水素基は、置換
    されていても、置換されていなくても良い。SおよびU
    は、Mに結合しており、両者は、同じ構造を有する基で
    あっても異なる構造を有する基であってもどちらでも良
    い。Xは、水素、ハロゲン基、もしくは炭化水素基を示
    し、kは0ないし2である。kが2のとき、Xは、互い
    に同じ構造を有する基であってもどちらでも良い。)
  2. 【請求項2】 塩化ビニル、または、塩化ビニルと塩化
    ビニルに共重合可能な物質の存在下、少なくとも1種類
    のアルミニウム含有化合物、または、少なくとも1種類
    のアルミニウム含有化合物と少なくとも1種類の硼素含
    有化合物、及び、下記一般式(2)で示される少なくと
    も1種類の遷移金属含有化合物を成分として含む触媒を
    使用して製造することを特徴とする塩化ビニル系樹脂の
    製造方法。 【化2】 (2) (式中、M、S、U、X、および、kは、前記に定義さ
    れた通りである。Yは、珪素、ゲルマニウム、錫、もし
    くは炭素数1ないし20を有する炭化水素基であり、Y
    は、SとUとに結合している。Qは、水素または炭化水
    素基を示し、Yに結合している。iは、0ないし2であ
    る。iが2のとき、Qは、互いに同じ構造を有する基で
    あっても、異なる基であってもどちらでも良い。)
  3. 【請求項3】 S、または、Uの、少なくとも一方が、
    シクロペンタジエニル残基、フルオレニル残基、インデ
    ニル残基であることを特徴とする、請求項1、または、
    請求項2に記載の塩化ビニル系樹脂の製造方法。
  4. 【請求項4】 少なくとも1種類の遷移金属含有化合物
    が、下記一般式(3)で示される構造を有することを特
    徴とする請求項1に記載の塩化ビニル系樹脂の製造方
    法。 【化3】 (3) (式中、M、X、および、kは、前記に定義された通り
    である。C5RmH5-m および C5RnH5-nは、各々、M
    と結合する置換もしくは非置換シクロペンタジエニル基
    を示す。Rは、シクロペンタジエニル環に結合するシリ
    ル基もしくは炭化水素基を示す。nとmは、0〜5の整
    数であり、互いに同じ整数であっても異なる整数であっ
    ても良い。Rが複数の場合、Rは、互いに同じ構造を有
    する基であっても異なる構造を有する基であってもどち
    らでも良い。)
  5. 【請求項5】 下記一般式(4)、または、(5)で示
    される構造を有する遷移金属含有化合物を少なくとも1
    種類使用することを特徴とする、請求項1、または、請
    求項4に記載の塩化ビニル系樹脂の製造方法。 【化4】 (4) 【化5】 (5) (式中、X、および、Mは、前記に定義された通りであ
    る。R1は、シクロペンタジエニル環に結合する炭素原
    子数1〜5のアルキル基。R2 1−C5H3は、2置換シク
    ロペンタジエニル基を示す。)
  6. 【請求項6】 下記一般式(6)、または、(7)で示
    される構造を有する遷移金属含有化合物を少なくとも1
    種類使用することを特徴とする、請求項1、または、請
    求項4に記載の塩化ビニル系樹脂の製造方法。 【化6】 (6) 【化7】 (7) (式中、X、M、および、R1は前記に定義された通り
    である。R3 1−C5H2は、3置換シクロペンタジエニル
    基を示す。)
  7. 【請求項7】 下記一般式(8)で示される構造を有す
    る遷移金属含有化合物を少なくとも1種類使用すること
    を特徴とする、請求項1、または、請求項4に記載の塩
    化ビニル系樹脂の製造方法。 【化8】 (8) (式中、X、M、および、R1は前記に定義された通り
    である。R4 1−C5Hは、4置換シクロペンタジエニル
    基を示す。)
  8. 【請求項8】 少なくとも1種類の遷移金属含有化合物
    が、下記一般式(9)で示される構造を有することを特
    徴とする、請求項2に記載の塩化ビニル系樹脂の製造方
    法。 【化9】 (9) (式中、M、X、Q、Y、i、R、および、kは、前記
    に定義された通りである。C5RmH4-m および C5Rn
    H4-nは、各々、Mと結合する置換もしくは非置換シク
    ロペンタジエニル基を示す。nとmは、0〜4の整数で
    あり、互いに同じ整数であっても異なる整数であっても
    良い。)
  9. 【請求項9】 遷移金属原子Mと結合し、Mに関して向
    き合う位置にある2個の置換もしくは非置換シクロペン
    タジエニル環が、互いに非対称構造となるように置換基
    Rを結合した遷移金属含有化合物を少なくとも1種類使
    用することを特徴とする、請求項2、または、請求項8
    に記載の塩化ビニル系樹脂の製造方法。
  10. 【請求項10】 Yと結合している置換シクロペンタジ
    エニル環の炭素に隣接する炭素の少なくとも1つにRが
    置換されている遷移金属含有化合物を少なくとも1種類
    使用することを特徴とする、請求項2、または、請求項
    8、または、請求項9に記載の塩化ビニル系樹脂の製造
    方法。
  11. 【請求項11】 Mが、ジルコニウム、または、ハフニ
    ウム、または、チタンである遷移金属含有化合物を少な
    くとも1種類使用することを特徴とする請求項1ないし
    請求項10に記載の塩化ビニル系樹脂の製造方法。
  12. 【請求項12】 Xが、ハロゲンである遷移金属含有化
    合物を少なくとも1種類使用することを特徴とする請求
    項1ないし請求項11に記載の塩化ビニル系樹脂の製造
    方法。
  13. 【請求項13】 塩化ビニルと共重合可能な物質の少な
    くとも1種類が、オレフィンであることを特徴とする請
    求項1ないし請求項12に記載の塩化ビニル系樹脂の製
    造方法。
  14. 【請求項14】 塩化ビニルと共重合可能な物質が、エ
    チレンまたはプロピレンであることを特徴とする請求項
    1ないし請求項13に記載の塩化ビニル系樹脂の製造方
    法。
  15. 【請求項15】 アルミニウム含有化合物として、一般
    式(10)で示される線状アルミノキサン、および、一
    般式(11)で示される環状アルミノキサンのなかか
    ら、少なくとも1種類を使用することを特徴とする請求
    項1ないし請求項14に記載の塩化ビニル系樹脂の製造
    方法。 【化10】 (10) 【化11】 (11) (式中pは4〜30の数で、Rは炭化水素基を示す)
  16. 【請求項16】 少なくとも1種類の硼素含有化合物、
    及び、一般式(12)で示される少なくとも1種類のア
    ルミニウム含有化合物を使用することを特徴とする請求
    項1ないし請求項14に記載の塩化ビニル系樹脂の製造
    方法。、 【化12】 (12) (式中、Rは水素、ハロゲン、アミド、アルコキシ、炭
    化水素基であり、各Rは同一でも異なっていても良く、
    そのうち少なくとも1つのRは炭化水素基である)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999023124A1 (en) * 1997-10-30 1999-05-14 Occidental Chemical Corporation Photo-polymerization of vinyl chloride using metallocene catalysts
WO2001029096A1 (en) * 1999-10-21 2001-04-26 Exxon Chemical Patents Inc. High activity carbenium-activated polymerization catalysts
JP2002080518A (ja) * 2000-09-06 2002-03-19 Tosoh Corp 塩化ビニル系重合体の製造方法

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