JPH08211376A - 透明積層フィルム - Google Patents

透明積層フィルム

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JPH08211376A
JPH08211376A JP1582895A JP1582895A JPH08211376A JP H08211376 A JPH08211376 A JP H08211376A JP 1582895 A JP1582895 A JP 1582895A JP 1582895 A JP1582895 A JP 1582895A JP H08211376 A JPH08211376 A JP H08211376A
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transparent
laminated film
layer
silicone
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JP1582895A
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English (en)
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Kazuo Hachiman
一雄 八幡
Satoshi Igarashi
聡 五十嵐
Hiroyuki Fujishima
博行 藤島
Yuuji Tamura
優次 田村
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 充分な耐溶剤性具体的には各種用途で必要と
される耐有機溶剤性、耐アルカリ性、耐エッチング液性
を同時に満足する高度な耐溶剤性をもち、かつ工程上の
負荷が少なく、各種ディスプレイ用電極基板、特に要求
の厳しい液晶表示用素子にも十分適用できる光学特性の
優れた透明積層フィルムを提供することを目的とする。 【構成】 高分子フィルムの少なくとも一方の面に耐溶
剤性を有する保護層を設けた透明積層フィルムにおい
て、該保護層がシリコーン系硬化性樹脂の硬化物からな
ることを特徴とする透明積層フィルムである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐溶剤性、透明性の優
れた透明積層フィルムに関し、更に詳しくは光学用途、
特に液晶表示パネル、タッチパネル、フラット照明パネ
ル等の透明基板、透明電極基板に好適な透明積層フィル
ムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、液晶表示装置関連の部材には、よ
り軽薄化、より大型化という要求に加え、長期信頼性、
形状の自由度、曲面表示等の高度な要求がなされてい
る。特にペイジャー(ポケットベル)、携帯電話、電子
手帳、ペン入力機器など、携帯して移動の出来る機器の
利用が普及するにつれ、これらの透明基板、透明電極基
板には、従来の厚くて重く、割れ易いガラス基板に代わ
って、プラスチックフィルムを基板とする透明基板、透
明電極基板が検討され、一部で実用化が始まっている。
【0003】しかしながら、このプラスチックフィルム
基板は耐溶剤性がガラス基板より一般的に劣っている。
ところで、透明導電層を設けたプラスチックフィルムの
透明電極基板は、上述の液晶表示パネル等に用いる場
合、透明導電層をエッチングする酸性水溶液、パターニ
ング後にレジストを溶解させるためのアルカリ性液、及
び用途によっては配向膜作製時に有機溶媒にさらされる
ことになる。この際、プラスチックフィルムには膨潤や
白化が起こり、さらに溶解することもあり、電極基板と
して使用できないという問題がある。
【0004】この問題を改良する具体的な提案として、
耐溶剤性を有する保護層をプラスチックフィルムに設け
ることが提案されている。例えば、特開昭64−500
22号公報等にはフェノキシエーテル型樹脂にイソシア
ネート基等で架橋させる樹脂層をコーティング法により
設けることが提案されているが、耐溶剤性は充分満足さ
れていない。また、特開平5−313150号公報には
活性エネルギー線硬化型樹脂層を設けることが提案され
ているが、硬化時に離型フィルムが必要であり、工程上
困難を伴う。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題を
解決するものであり、充分な耐溶剤性具体的には各種用
途で必要とされる耐有機溶剤性、耐アルカリ性、耐エッ
チング液性を同時に満足する高度な耐溶剤性をもち、か
つ工程上の負荷が少なく、各種ディスプレイ用電極基
板、特に要求の厳しい液晶表示用素子にも十分適用でき
る光学特性の優れた透明積層フィルムを提供することを
目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、以下の本
発明により達成される。すなわち、本発明は、高分子フ
ィルムの少なくとも一方の面に耐溶剤性を有する保護層
を設けた透明積層フィルムにおいて、該保護層がシリコ
ーン系硬化性樹脂の硬化物からなることを特徴とする透
明積層フィルムである。
【0007】上述の本発明は、シリコーン系硬化性樹脂
の硬化物からなる層は、前述の耐有機溶剤性、耐アルカ
リ性、耐エッチング液性を同時に満足する高度な耐溶剤
性を有し、且つ光学特性も十分であることを見出し、な
されたものである。
【0008】以下に本発明を詳細に説明する。
【0009】本発明において耐溶剤性を有するとは、透
明導電層を設けた高分子フィルム基板を各種ディスプレ
イ用電極基板へ応用する場合等の如く、基板が透明導電
層をエッチングする酸性水溶液、パターニング後にレジ
ストを溶解させるためのアルカリ性液、及び用途によっ
ては配向膜作製時の有機溶媒等の各種溶剤にさらされた
時、膨潤や白化及び溶解せず、且つこれら溶剤を通さな
いことを言う。つまり、耐溶剤性を有する層を設けるこ
とにより上記溶媒にさらされた時、耐溶剤性を有する層
が膨潤や白化や溶解せずまた溶媒を浸透せず、そして基
板となる高分子フィルムを溶剤による膨潤や白化及び溶
解より保護することである。
【0010】本発明は、上記の通り、高分子フィルムに
設けるこの耐溶剤性を有する保護層に、シリコーン系硬
化性樹脂を用いることを特徴とするものである。
【0011】ここで、シリコーン系硬化性樹脂として
は、公知の各種のシリコーン系樹脂が適用できるが、中
でもトリアルコキシシランを40重量%以上含むものが
好ましい。トリアルコキシシランが40重量%未満で、
テトラアルコキシシランの含有量が多いと得られる層が
硬くなり過ぎて層にクラックが入ったり、可撓性が悪く
なる。また、ジアルコキシシラン、モノアルコキシシラ
ンが多くなると目的とする耐溶剤性が十分でなくなる。
【0012】ここでトリアルコキシシランとしては、メ
チルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、
ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、β−(3,4エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン等である。他の成分としては、テトラ
アルコキシシラン、ジアルコキシシラン、モノアルコキ
シシラン、コロイダルシリカ等が挙げられる。テトラア
ルコキシシランとしてはメチルシリケート、エチルシリ
ケート、プロピルシリケート等である。ジアルコキシシ
ランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン等であり、
モノアルコキシシランとしては、トリメチルメトキシシ
ラン等である。
【0013】本発明のシリコーン系硬化性樹脂には、透
明性を損なわない範囲で、接着性改善等の面より、アク
リル系樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、メラミ
ン樹脂、ポリビニールアルコール系樹脂、尿素樹脂等を
添加することが可能である。
【0014】このトリアルコキシシランが40%以上含
むシリコーン系硬化性樹脂には、硬化をより促進するた
めに塩酸、酢酸等の酸性水溶液を添加することが好まし
い。また、上記組成物は揮発性溶媒によって希釈するこ
とも可能で、その溶媒としては、アルコール類、エステ
ル類、エーテル類、ケトン類及びこれらの混合溶媒等が
挙げられる。
【0015】以上のシリコーン系硬化性樹脂層を設ける
手段として、マイヤーバーコート法、グラビアロールコ
ート法、スピンコート法等の湿式コーティング法、デッ
ピング法、ラミネートコート法等が挙げられるが、均一
な膜厚の形成面から湿式コーティング法が好ましく用い
られる。
【0016】このコーティングされたシリコーン系硬化
性樹脂層は、基板の高分子フィルムのガラス転移温度以
下の熱処理により硬化され、耐溶剤性を持つ硬化樹脂層
を形成する。
【0017】シリコーン系硬化性樹脂層の厚さは、硬化
後の厚さで0.1μm以上20μm以下が好ましく、
0.2μm以上15μm以下が更に好ましい。0.1μ
m未満では耐溶剤性の保護層としての効果が不十分とな
り、20μmを越えると加工、組み立て等に必要な屈曲
性が不十分となり、実用面で適切でない。
【0018】この保護層を設けた透明積層フィルムは、
液晶表示パネル等の表示パネルで使用する場合の如く高
度の光学特性が必要な光学用途を考慮すると、リターデ
ーション値が20nm以下であり、550nmでの光線
透過率が80%以上であることが好ましい。
【0019】ここで、リターデーション値は公知の複屈
折の屈折率の差Δnと膜厚dの積Δn・dであり、測定
波長により異なるが、測定波長が590nmでの測定値
を代表値とする。リターデーション値が20nmを越え
ると、特に液晶表示素子として用いたとき着色の原因と
なる。一方、光線透過率が80%未満であると、各種デ
ィスプレイ用電極基板としての透明性が不十分となる。
【0020】なお、高分子フィルムとシリコーン系硬化
性樹脂層との間に強固な接着力を必要とされる場合に
は、高分子フィルムにアンカーコート層を設けた後、シ
リコーン系硬化性樹脂層をコーティングすることが好ま
しい。このアンカーコート層には、アクリル系樹脂等が
適用でき、湿式コーティングすることで設けることが可
能である。
【0021】また、透明積層フィルムが溶剤に浸漬され
る可能性がある場合は、高分子フィルムの両面に以上の
保護層を設けることが望ましい。
【0022】本発明における高分子フィルムとしては、
ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポ
リスルホン、ポリエーテルスルホン等の公知の透明な高
分子フィルムが適用されるが、上記の光学用途等を含め
ると、中でもリターデーション値が20nm以下であ
り、550nmでの光線透過率が85%以上の光学等方
性高分子フィルムが好ましい。
【0023】一般に高分子フィルムは、その原料の高分
子材料を熱的に溶融させて、ダイより押し出して製膜す
る溶融押出法、または該高分子材料を溶媒に溶解させて
支持体上に流延させ加熱して溶媒を蒸発させ製膜する溶
液流延法にて得られるが、前記のリターデーションを達
成するには溶液流延法が好ましく用いられる。溶融押出
法では、低リターデーションのフィルムが得るのが難し
いだけではなく、フィルム中にダイライン、ゲル化物、
フィッシュアイ等が発生し易く、広い面積に渡って均一
な光学特性のフィルムを得ることが難しい。
【0024】また前記の光学等方性高分子フィルム用の
高分子材料としては、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン等の非晶性高
分子材料が挙げられるが、光学特性、熱特性の点からポ
リカーボネートまたはポリアリレートが特に好ましく用
いられる。
【0025】ポリカーボネートは、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパンを主成分とし、光学特
性、耐熱性改善のため、共重合成分を含んでも良い。共
重合成分としては、例えば、ビス(4−オキシフェニ
ル)メタン、1,1−ビス(4−オキシフェニル)エタ
ン、1,1−ビス(4−オキシフェニル)ブタン、2,
2−ビス(4−オキシフェニル)ブタン、1,1−シク
ロヘキシレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)フルオレン、1,1−ビス(4−ヒドロキシヘニ
ル)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等が挙げら
れる。
【0026】ポリアリレートは、ジオール成分としては
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン成分
を主成分とし、ジカルボン酸成分としては、テレフタル
酸及びイソフタル酸を主成分とする。
【0027】これらのフィルムの製造には、前述の通
り、ポリカーボネートまたはポリアリレートを溶媒に溶
解させ支持体上に流延させる前述の溶液流延法が好まし
く適用される。この製膜用の溶媒としては、基本的にポ
リカーボネートまたはポリアリレートを溶解する溶媒で
あれば適用できるが、塩化メチレン等が好ましく用いら
れる。製膜用の溶液中の原料ポリマーの濃度は6重量%
以上30重量%以下が好ましい。30重量%を越えると
均一溶解や溶液の保存安定性が悪く、また6重量%未満
では実効粘度が低く実用上好ましくない。
【0028】ところで、液晶表示パネル等の透明電極基
板に高分子フィルムを利用する場合、ガスバリアー性が
必要となってくる。すなわち、ガラス基板と比較し、高
分子フィルムは一般的にガス透過性があり、透過したガ
スは液晶部で気泡となり、表示欠点となってしまう。そ
こで、ガスの透過を防止する層、すなわちガスバリアー
層が必要となってくる。従って、以上の本発明の透明積
層フィルムも、これらの用途に適用する場合には、ガス
バリアー層を設けることが好ましい。
【0029】このガスバリアー層には、ガスバリアー性
を持った高分子として知られている、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルアルコール−エチレン共重合体、ポリ
塩化ビリニデン及びその共重合体、ポリアクリロニトリ
ル及びその共重合体等が適用できる。中でも、焼却時の
発生ガスの点からポリビニルアルコール、ポリビニルア
ルコール−エチレン共重合体が好ましい。
【0030】このガスバリアー層は、保護層で述べた湿
式コーテイング法等により形成される。例えば、ポリビ
ニルアルコールまたはポリビニルアルコール−エチレン
共重合体のガスバリアー層は、公知の溶媒、すなわちポ
リビニルアルコールは水、ポリビニルアルコール−エチ
レン共重合体は水とプロピルアルコールの混合溶媒にて
溶解し、上記湿式コーティング法にて高分子フィルムに
塗工し、高分子フィルムのガラス転移温度以下の乾燥処
理で脱溶媒して形成される。
【0031】ガスバリアー層の厚さは、要求されるガス
バリアー性能により異なるが、通常0.1μm以上50
μm以下であり、液晶表示素子に用いる場合には、25
℃にて少なくとも酸素透過量で1cc/m2 ・日・at
m以下のガスバリアー性が必要である。
【0032】このガスバリアー層は、本発明の透明積層
フィルムに用いる場合は、その耐溶剤性の点で、高分子
フィルムと保護層のシリコーン系硬化性樹脂層との間に
設けることが好ましい。
【0033】この構成において、高分子フィルムとガス
バリアー層間の接着性を要求される場合には、必要に応
じてこれらの間にアンカーコート層を設ける。このアン
カーコート層としては市販のウレタン系接着剤等を用い
ることが出来る。
【0034】さらに、以上の構成の本発明の積層フィル
ムの表面には以下のような透明導電層を設けることがで
き、これにより液晶表示パネル等の透明電極に好適な透
明導電性の積層フィルムを得ることができる。
【0035】透明導電層は、公知の錫、インジウム、チ
タン等の金属又はこれらの酸化物が適用できるが、主と
して非結晶性のインジウム酸化物からなり、その組成分
として錫を5〜15重量%含有し、かつ、透明導電層の
膜厚が20〜200nmの範囲にあるものが透明性、導
電性、屈曲性等から好ましい。
【0036】結晶性の高いインジウム酸化物は、非結晶
体と比較すると、透明性、導電性が高く、透明電極材料
として好ましいが、屈曲性の高いフィルム上に結晶性の
膜を製膜し、このフィルムを屈曲したときには割れやす
く、取扱性が悪くなってしまう。
【0037】ここでは製膜したインジウム酸化物の結晶
性、非結晶性を次のように定義する。何らかの方法でイ
ンジウム酸化物を製膜し、その表面を透過型電子顕微鏡
で観察したときに、非晶質膜の表面に直径が高々100
nm程度の微結晶体が観察される。この観察方法で、単
位体積(100μm2)あたりの結晶粒面積割合が20
%以下の場合を非結晶とする。
【0038】インジウム酸化物は本来透明な電気絶縁体
であるが、微量の不純物を含有する場合や、わずかに酸
素不足の場合には半導体になる。好ましい半導体金属酸
化物としては、不純物として、錫、またはフッ素を含む
インジウム酸化物を挙げることができ、特に好ましく
は、錫を5〜15重量%含有するインジウム酸化物が、
高い透明性を保ちつつ、良好な導電性を示す。
【0039】そして、その厚さとしては、20〜200
nmの範囲が好ましい。20nmよりも薄いと、電気的
に面積抵抗が高くなり、良好な透明導電フィルムとして
活用しにくくなる。また、200nmよりも厚くなる
と、フィルムの550nm透過率として、80%以上の
値を得難くなる上、屈曲したときに容易に割れてしま
い、取扱が困難となる。
【0040】以下、本発明の実施例を比較例と共に説明
する。
【0041】
【実施例】実施例、比較例の諸物性は以下のように測定
した。 (1)耐溶剤性 (a)耐有機溶剤性 80℃のN−メチルピロリドンに3分間浸漬し、外観の
変化を目視にて観察した。
【0042】(b)耐アルカリ性 25℃の3.5wt%NaOH水溶液に10分間浸漬
し、流水にて充分洗浄を行った後、乾燥させ重量を測定
し、浸漬前後の重量差から判断した。
【0043】(c)耐エッチング液性 35%塩化第二鉄水溶液、35%塩酸、水をそれぞれ重
量比1対1対10の割合で混合した液に、25℃10分
間浸漬し、流水にて充分洗浄を行った後、乾燥させ重量
を測定し、浸漬前後の重量差から判断した。 (2)光線透過率 (株)日立製作所製U−3500を用いて、波長550
nmの積分球式光線透過 率測定を行った。 (3)リターデーション測定 日本分光株式会社製の多波長複屈折率測定装置M−15
0を用いて590nmの波長にて測定した。 (4)酸素透過率測定 MOCON社製オキシトラン2/20MHを用いて25
℃にて測定した。
【0044】[実施例1]基板の高分子フィルムとし
て、以下のように溶液流延法によりポリカーボネートフ
ィルムを作製した。
【0045】ポリカーボネート樹脂(具体的には、帝人
化成株式会社製C−1400)20重量部を塩化メチレ
ン80重量部に溶解させた後、ガラス板上にアプリケー
ターにて流延し、次いで、乾燥機中に置き室温から徐々
に昇温した。残留溶媒が13重量%になった時、ガラス
板より剥離させ、縦横の張力をバランスさせながら12
0℃にて残留溶媒量が0.1重量%以下になるまで乾燥
し、ポリカーボネートフィルムを得た。このフィルムの
厚さは98μmであった。
【0046】このポリカーボネートフィルムの片側の面
に、アンカーコート層を形成した。アンカーコート層は
ポリウレタン樹脂とし、具体的には主剤のポリオール成
分として武田薬品工業株式会社製A310を100重量
部、硬化剤のイソシアナート成分として同社製A3を2
5重量部混合後、マイヤーバーにて塗工し、130℃で
30分熱処理することにより形成した。アンカーコート
層の厚さは、1μmであった。
【0047】次いで、このアンカーコート層の上に、ガ
スバリアー層を積層した。ガスバリアー層はポリビニル
アルコール(具体的には、(株)クラレ製PVA−11
7)12重量部を溶媒の水88重量部に均一に溶解させ
たものを、マイヤーバーにて塗工し、110℃で30分
熱処理することで形成した。ガスバリアー層の厚さは8
μmであった。この構成のフィルムをガスバリアー層付
き高分子フィルムと呼ぶこととする。
【0048】このガスバリアー層付き高分子フィルム
に、保護層を以下のように積層し、透明積層フィルムを
得た。保護層は、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン18g、メチルトリメトキシシラン14.8g、ジメ
チルジメトキシシラン2.6g及び0.01N塩酸1
1.5g加え20℃に保ちながら3時間撹拌して得たシ
リコーン系硬化性樹脂の塗液を作製した。この塗液を、
マイヤーバーにて、ガスバリアー層付き高分子フィルム
の一方の面に塗工し、135℃で10分熱処理した後、
更にもう一方の面にも同様に塗工て熱処理し、両面に保
護層を積層した。保護層の厚さは各々3.5μmであっ
た。
【0049】得られた透明積層フィルムは、リターデー
ション10nm、光線透過率90%、酸素透過率は0.
2cc/平方メートル・日・atmであり、耐溶剤性も
問題なく、光学特性、ガスバリアー性及び耐溶剤性の優
れた透明積層フィルムであった。
【0050】[実施例2]基板の高分子フィルムとし
て、以下のように溶液流延法によりポリアリレートフィ
ルムを作製した。
【0051】ポリアリレート(ユニチカ株式会社製U−
100)23重量部を塩化メチレン77重量部に溶解さ
せた後、ガラス板上にアプリケーターにて流延し、次い
で、乾燥機中に置き室温から徐々に昇温した。残留溶媒
が15重量%になった時、ガラス板より剥離させ、縦横
の張力をバランスさせながら120℃にて残留溶媒量が
0.08重量%になるまで乾燥し、ポリアリレートフィ
ルムを得た。このフィルムの厚さは101μmであっ
た。
【0052】このポリアリレートフィルムに実施例1と
同様にしてこれと同じのアンカーコート層及びガスバリ
アー層及び保護層を積層した。
【0053】得られた透明積層フィルムは、リターデー
ション11nm、光線透過率88%であり、耐溶剤性も
問題なく、光学特性及び耐溶剤性の優れた透明積層フィ
ルムであった。
【0054】[実施例3]実施例1で得られたポリカー
ボネートフィルムの両面に直接以下のように実施例1と
同様にしてそれと同じの保護層を積層し、透明積層フィ
ルムを得た。
【0055】得られた透明積層フィルムは、リターデー
ション10nm、光線透過率90%であり、耐溶剤性も
問題なく、光学特性及び耐溶剤性の優れた光学用積層フ
ィルムであった。
【0056】更に透明導電層としてインジウム−錫酸化
物層をスパッタリング法により片面に形成した。スパッ
タリングターゲットには組成が重量比でインジウム/錫
=90/10で、充填密度が90%のターゲットを用い
た。得られた透明導電層付の透明積層フィルムは、透明
タッチパネル等の透明電極基板に好適なものであった。
【0057】[比較例1]実施例1で得られたガスバリ
アー層付き高分子フィルムに、以下のように保護層を積
層し、透明積層フィルムを得た。
【0058】保護層は、フェノキシ樹脂(東都化成株式
会社製YP−50)40重量部を、メチルエチルケトン
60重量部に溶解させ、更にイソシアネートとして武田
薬品工業株式会社A3を40重量部を加え均一に混合し
たものをマイヤーバーにてガスバリアー層付き高分子フ
ィルムの一方の面に塗工し、80℃で4分熱処理した
後、更にそのもう一方の面にも同様にマイヤーバーにて
塗工して80℃で4分熱処理した後、135℃で20分
更に熱処理することによって両面に形成した。保護層の
厚さは、各々8μmであった。
【0059】得られた透明積層フィルムは、リターデー
ション11nm、光線透過率90%、酸素透過率0.1
5cc/平方メートル・日・atmであったが、耐有機
溶剤性テスト中、光学用積層フィルムの膨潤がひどく形
態が保持されず、耐有機溶剤性が悪かった。
【0060】以上の結果をまとめて、表1に示す。
【0061】
【表1】
【0062】
【発明の効果】本発明は、耐溶剤性の保護層をシリコー
ン系樹脂で形成したもので、耐有機溶剤性、耐アルカリ
性及び耐エッチング液性を同時満たす優れた耐溶剤性を
備え、且つ光学特性も良い透明積層フィルムを実現する
もので、液晶表示パネル等の表示機器やタッチパネル等
の透明基板、透明電極基板等に広く適用できるものであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 優次 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高分子フィルムの少なくとも一方の面に
    耐溶剤性を有する保護層を設けた透明積層フィルムにお
    いて、該保護層がシリコーン系硬化性樹脂の硬化物から
    なることを特徴とする透明積層フィルム。
  2. 【請求項2】 前記シリコーン系硬化性樹脂が、トリア
    ルコキシシランを40重量%以上含むシリコーン系硬化
    性樹脂である請求項1記載の透明積層フィルム。
  3. 【請求項3】 積層フィルムのリターデーション値が2
    0nm以下であり、550nmでの光線透過率が80%
    以上である請求項1又は請求項2記載の透明積層フィル
    ム。
  4. 【請求項4】 前記高分子フィルムが、ポリカーボネー
    トフィルムまたはポリアリレ−トフィルムである請求項
    3記載の透明積層フィルム。
  5. 【請求項5】 透明導電層を一方の最外側に設けた請求
    項1〜4記載のいずれかの透明積層フィルム。
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