JPH0821992A - Black matrix substrate for liquid crystal display and it production - Google Patents
Black matrix substrate for liquid crystal display and it productionInfo
- Publication number
- JPH0821992A JPH0821992A JP6180798A JP18079894A JPH0821992A JP H0821992 A JPH0821992 A JP H0821992A JP 6180798 A JP6180798 A JP 6180798A JP 18079894 A JP18079894 A JP 18079894A JP H0821992 A JPH0821992 A JP H0821992A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- thin film
- matrix substrate
- black matrix
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 title claims abstract description 52
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 11
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 57
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 44
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 14
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 14
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 14
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 14
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 11
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000000499 gel Substances 0.000 claims description 6
- 108010025899 gelatin film Proteins 0.000 abstract description 35
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 17
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 7
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 3
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVNPWFOVUDMGRP-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol sulfate Chemical compound OS(O)(=O)=O.CNC1=CC=C(O)C=C1.CNC1=CC=C(O)C=C1 ZVNPWFOVUDMGRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 102000011632 Caseins Human genes 0.000 description 1
- 108010076119 Caseins Proteins 0.000 description 1
- 102000008186 Collagen Human genes 0.000 description 1
- 108010035532 Collagen Proteins 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001436 collagen Polymers 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- HJHFJPDMKUHXPA-UHFFFAOYSA-L potassium;iron(2+);oxalate Chemical compound [K+].[Fe+2].[O-]C(=O)C([O-])=O HJHFJPDMKUHXPA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000018102 proteins Nutrition 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイに用
いられるカラーフィルタに対して、各画素間の光を吸収
することにより、視認性を高めるためのブラックマトリ
クス基板に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a black matrix substrate for enhancing the visibility of a color filter used in a liquid crystal display by absorbing light between pixels.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図７は、この種のブラックマトリクス基
板の第一従来例を示す断面図である。以下、この図面に
基づき説明する。2. Description of the Related Art FIG. 7 is a sectional view showing a first conventional example of this type of black matrix substrate. Hereinafter, description will be given with reference to this drawing.
【０００３】ブラックマトリクス基板８０は、透光性を
呈する平坦なガラス板８２に、一定膜厚のクロム（Ｃ
ｒ）８４が一定形状に被着されたものである。The black matrix substrate 80 comprises a flat glass plate 82 having a light transmitting property and a chromium (C
r) 84 is applied in a constant shape.
【０００４】図８は、ブラックマトリクス基板８０の製
造方法の各工程を示す断面図である。以下、この図面に
基づき説明する。FIG. 8 is a sectional view showing each step of the manufacturing method of the black matrix substrate 80. Hereinafter, description will be given with reference to this drawing.
【０００５】まず、ガラス板８２を用意する（図８
（１））。続いて、クロム８４を、真空蒸着又はスパッ
タにより、ガラス板８２に被着する（図８（２））。続
いて、クロム８４の表面にポジ型のフォトレジスト８６
を塗布する（図８（３））。そして、ブラックマトリク
スのパターンが描かれたフォトマスク８８を用いて、フ
ォトレジスト８６を露光する（図８（４））。続いて、
フォトレジスト８６を現像液に浸して、フォトレジスト
８６の露光された部分８６ａを除去する（図８
（５））。続いて、クロム８４をエッチング液に浸すこ
とにより、フォトレジスト８６のない部分のクロム８４
がエッチングされて、ブラックマトリクスのパターン通
りにクロム８４が残る（図８（６））。最後に、残って
いるフォトレジスト８６を除去する（図８（７））。First, a glass plate 82 is prepared (see FIG. 8).
(1)). Then, chromium 84 is adhered to the glass plate 82 by vacuum deposition or sputtering (FIG. 8 (2)). Then, a positive photoresist 86 is formed on the surface of the chromium 84.
Is applied (FIG. 8 (3)). Then, the photoresist 86 is exposed using the photomask 88 on which the black matrix pattern is drawn (FIG. 8 (4)). continue,
The photoresist 86 is dipped in a developing solution to remove the exposed portion 86a of the photoresist 86 (see FIG. 8).
(5)). Then, by immersing the chrome 84 in an etching solution, the chrome 84 in a portion without the photoresist 86 is removed.
Are etched, and the chrome 84 remains according to the pattern of the black matrix (FIG. 8 (6)). Finally, the remaining photoresist 86 is removed (FIG. 8 (7)).
【０００６】ところで、近年、製造工程を第一従来例よ
りも簡略化できる、次の第二従来例が開発されている。
図９は、ブラックマトリクス基板の第二従来例を示す断
面図である。以下、この図面に基づき説明する。By the way, in recent years, the following second conventional example has been developed which can simplify the manufacturing process more than the first conventional example.
FIG. 9 is a sectional view showing a second conventional example of a black matrix substrate. Hereinafter, description will be given with reference to this drawing.
【０００７】ブラックマトリクス基板９０は、透光性を
呈する平坦なガラス板８２に、遮光性を呈する一定膜厚
の感光性樹脂９２が一定形状に被着されたものである。The black matrix substrate 90 is a flat glass plate 82 having a light-transmitting property and a photosensitive resin 92 having a constant film thickness having a light-shielding property, which is applied in a constant shape.
【０００８】図１０は、ブラックマトリクス基板９０の
製造方法の各工程を示す断面図である。以下、この図面
に基づき説明する。FIG. 10 is a sectional view showing each step of the method for manufacturing the black matrix substrate 90. Hereinafter, description will be given with reference to this drawing.
【０００９】まず、ガラス板８２を用意する（図１０
（１））。続いて、ガラス板８２の表面に黒色顔料を含
んだポジ型の感光性樹脂９２を塗布する（図１０
（２））。そして、ブラックマトリクスのパターンが描
かれたフォトマスク８８を用いて、感光性樹脂９２を露
光する（図１０（３））。最後に、感光性樹脂９２を現
像液に浸して、感光性樹脂９２の露光された部分９２ａ
を除去する（図１０（４））。First, a glass plate 82 is prepared (see FIG. 10).
(1)). Then, a positive photosensitive resin 92 containing a black pigment is applied to the surface of the glass plate 82 (FIG. 10).
(2)). Then, the photosensitive resin 92 is exposed using the photomask 88 on which the black matrix pattern is drawn (FIG. 10C). Finally, the photosensitive resin 92 is dipped in a developing solution to expose the exposed portion 92a of the photosensitive resin 92.
Are removed (FIG. 10 (4)).
【００１０】このように、第二従来例は、第一従来例に
比べて、クロム８４をガラス板８２に被着する工程（図
８（２））、クロム８４をエッチングする工程（図８
（６））、残っているフォトレジスト８６を除去する工
程（図８（７））等が不要になるとともに、スパッタ装
置又は蒸着装置等の高価な設備も必要としない。As described above, the second conventional example is different from the first conventional example in the step of depositing the chromium 84 on the glass plate 82 (FIG. 8 (2)) and the step of etching the chromium 84 (FIG. 8).
(6)), the step of removing the remaining photoresist 86 (FIG. 8 (7)) and the like are not necessary, and expensive equipment such as a sputtering apparatus or a vapor deposition apparatus is not necessary.
【００１１】[0011]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の従来例には、次のような問題があった。However, these conventional examples have the following problems.
【００１２】第一に、ガラス８２上のクロム８４又は感
光性樹脂９２の有無に基づく凹凸により、クロム８４又
は感光性樹脂９２上に積層するカラーフィルタの平坦度
が低いという問題があった。この問題は、カラーフィ
ルタに色ムラが発生する、カラーフィルタ上に積層さ
れる配向膜に液晶の配向を制御できない領域が発生す
る、等の原因となる。すなわち、カラーフィルタの平坦
度の低さは、液晶ディスプレイにおいて色の不均一とな
って現れる。First, there is a problem that the flatness of the color filter laminated on the chrome 84 or the photosensitive resin 92 is low due to the unevenness depending on the presence or absence of the chrome 84 or the photosensitive resin 92 on the glass 82. This problem causes color unevenness in the color filter, a region in which the alignment of the liquid crystal cannot be controlled in the alignment film laminated on the color filter, and the like. That is, the low flatness of the color filter appears as color nonuniformity in the liquid crystal display.
【００１３】この問題は、第一従来例よりも第二従来例
で顕著になる。感光性樹脂９２は、クロム８４に比べて
遮光性が劣るため、膜厚を大きくしなければならないか
らである。This problem is more remarkable in the second conventional example than in the first conventional example. This is because the photosensitive resin 92 is inferior in light-shielding property to the chromium 84, so that the film thickness must be increased.
【００１４】第二に、これらの従来例では、次のよう
に、解像度が低いという問題があった。Secondly, these conventional examples have a problem that the resolution is low as follows.
【００１５】第一従来例では、まず、フォトマスク８８
を用いてフォトレジスト８６を露光する（図８（４））
ときに一定の解像度が得られる。そして、クロム８４を
エッチングする（図８（６））ときに、サイドエッチン
グ等によって、解像度が低下する。In the first conventional example, first, the photomask 88 is used.
To expose the photoresist 86 (FIG. 8 (4)).
Sometimes a constant resolution is obtained. Then, when the chrome 84 is etched (FIG. 8 (6)), the resolution is reduced due to side etching or the like.
【００１６】第二従来例では、感光性樹脂９２に黒色顔
料が含まれている。しかも、一定の遮光性を得るために
膜厚を大きくしている。したがって、フォトマスク８８
を用いて感光性樹脂９２を露光する（図１０（３））と
きに、光が黒色顔料に遮られて感光性樹脂９２の深部へ
届きにくい。その結果、感光性樹脂９２に架橋反応の不
十分な部分が生じるので、解像度が極めて低くなる。In the second conventional example, the photosensitive resin 92 contains a black pigment. Moreover, the film thickness is increased in order to obtain a constant light-shielding property. Therefore, the photomask 88
When the photosensitive resin 92 is exposed using (FIG. 10 (3)), it is difficult for the light to reach the deep portion of the photosensitive resin 92 because the black pigment blocks the light. As a result, a portion where the crosslinking reaction is insufficient occurs in the photosensitive resin 92, resulting in extremely low resolution.
【００１７】[0017]
【発明の目的】そこで、本発明の目的は、簡単な製造工
程でありながら、カラーフィルタの平坦度を向上でき、
しかも、解像度も向上できる、液晶ディスプレイのブラ
ックマトリクス基板及びその製造方法を提供することに
ある。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to improve the flatness of a color filter in a simple manufacturing process.
Moreover, it is an object of the present invention to provide a black matrix substrate for a liquid crystal display and a method for manufacturing the same, which can improve the resolution.
【００１８】[0018]
【課題を解決するための手段】本発明に係るブラックマ
トリクス基板は、上記目的を達成するためになされたも
のであり、透光性を呈する板状支持体に均一な膜厚を有
する薄膜が被着され、この薄膜には透光性を呈する透光
部と遮光性を呈する遮光部とが形成されたものである。
また、前記透光部は高分子，ゲル状高分子等からなり、
前記遮光部は前記高分子，ゲル状高分子等に遮光性を呈
する粒子が含まれたものからなるものとしてもよい。又
は、前記透光部はゼラチンからなり、前記遮光部は前記
ゼラチンに銀粒子が含まれたものからなるものとしても
よい。さらに、前記薄膜の表面にはこの薄膜を保護する
とともに透光性を呈する保護膜が被着されたものとして
もよい。The black matrix substrate according to the present invention is made in order to achieve the above-mentioned object, and a thin film having a uniform film thickness is coated on a plate-like support having a light-transmitting property. The thin film is provided with a light-transmitting portion having a light-transmitting property and a light-shielding portion having a light-shielding property.
Further, the light transmitting portion is made of a polymer, a gel polymer, or the like,
The light-shielding portion may be made of a polymer, a gel polymer, or the like containing particles having a light-shielding property. Alternatively, the light transmitting portion may be made of gelatin, and the light shielding portion may be made of the gelatin containing silver particles. Furthermore, the surface of the thin film may be covered with a protective film that protects the thin film and exhibits translucency.
【００１９】本発明に係るブラックマトリクス基板の製
造方法は、上記目的を達成するためになされたものであ
り、ハロゲン化銀を感光主体として含むゼラチンからな
る薄膜を，透光性を呈する板状支持体に被着する第一の
工程と、この第一の工程で被着された前記薄膜にブラッ
クマトリクスのパターンを露光する第二の工程と、この
第二の工程で露光された前記薄膜を現像する第三の工程
と、この第三の工程で現像された前記薄膜を定着する第
四の工程とを備えたものである。また、前記第一の工程
と前記第二の工程との間に、前記薄膜を保護するととも
に透光性を呈する保護膜を被着する工程を備えたものと
してもよい。或いは、前記第四の工程の次に、前記薄膜
を保護するとともに透光性を呈する保護膜を被着する工
程を備えたものとしてもよい。The method for producing a black matrix substrate according to the present invention has been made in order to achieve the above-mentioned object, and a thin film made of gelatin containing silver halide as a photosensitive main component is used as a plate-like support having a light-transmitting property. The first step of applying to the body, the second step of exposing the thin film applied in the first step to the pattern of the black matrix, and the development of the thin film exposed in the second step And a fourth step of fixing the thin film developed in the third step. Further, a step of protecting the thin film and depositing a light-transmitting protective film may be provided between the first step and the second step. Alternatively, after the fourth step, a step of protecting the thin film and depositing a light-transmitting protective film may be provided.
【００２０】[0020]
【作用】均一な膜厚を有する薄膜が、透光性を呈する板
状支持体に被着されている。そして、薄膜には、透光性
を呈する透光部と、遮光性を呈する遮光部とが形成され
ている。したがって、薄膜は透光部又は遮光部に関係な
く極めて平坦であるので、薄膜に積層されるカラーフィ
ルタも極めて平坦になる。また、薄膜に保護膜を被着す
ることにより、薄膜の機械的強度, 化学的強度，熱的強
度等が向上する。A thin film having a uniform film thickness is adhered to a translucent plate-like support. The thin film has a light-transmitting portion having a light-transmitting property and a light-shielding portion having a light-shielding property. Therefore, since the thin film is extremely flat regardless of the light transmitting portion or the light shielding portion, the color filter laminated on the thin film is also extremely flat. Further, by coating the thin film with a protective film, the mechanical strength, chemical strength, thermal strength and the like of the thin film are improved.
【００２１】さらに、ハロゲン化銀を感光主体として含
むゼラチンから薄膜を構成すると、ブラックマトリクス
基板の製造に要する工程は、薄膜の被着，露光，現像及
び定着だけになる。また、薄膜の露光の際に、薄膜の深
部まで光が透過するとともに、そのときに得られる解像
度がそのまま維持される。さらに、薄膜の被着後露光前
に保護膜を被着すると、保護膜は現像及び定着の工程中
も薄膜を保護する。又は、薄膜の定着後に保護膜を被着
すれば、薄膜の現像及び定着を妨げるような素材でも保
護膜として用いられる。Further, when a thin film is formed from gelatin containing silver halide as a main photosensitive material, the steps required for manufacturing the black matrix substrate are only deposition, exposure, development and fixing of the thin film. Further, when the thin film is exposed, light is transmitted to a deep portion of the thin film, and the resolution obtained at that time is maintained as it is. Furthermore, if a protective film is applied after the thin film has been applied and before exposure, the protective film protects the thin film during the development and fixing steps. Alternatively, if a protective film is applied after fixing the thin film, a material that hinders development and fixing of the thin film can be used as the protective film.
【００２２】[0022]
【実施例】図１は、本発明に係るブラックマトリクス基
板の第一実施例を示す断面図である。以下、この図面に
基づき説明する。1 is a sectional view showing a first embodiment of a black matrix substrate according to the present invention. Hereinafter, description will be given with reference to this drawing.
【００２３】ブラックマトリクス基板１０は、透光性を
呈する板状支持体としてのガラス板８２に、均一な膜厚
を有する薄膜としてのゼラチン膜１２が被着されたもの
である。そして、ゼラチン膜１２のみからなる透光部１
２ａは透光性を呈し、ゼラチン膜１２に銀粒子が含まれ
た遮光部１２ｂは遮光性を呈する。The black matrix substrate 10 comprises a glass plate 82 as a light-transmitting plate-like support, and a gelatin film 12 as a thin film having a uniform film thickness. Then, the translucent part 1 consisting of the gelatin film 12 only
2a has a light-transmitting property, and the light-shielding portion 12b in which the gelatin film 12 contains silver particles has a light-shielding property.
【００２４】ガラス板８２は、無アルカリガラス、又
は、アルカリ成分の溶出を防止するために表面に無機酸
化物を被着したガラスである。ガラス板８２の板厚は、
ガラス板８２の面積によって異なるが、例えば0.3 〜1.
5[mm] 程度である。The glass plate 82 is a non-alkali glass or a glass whose surface is coated with an inorganic oxide in order to prevent the elution of alkaline components. The thickness of the glass plate 82 is
Depending on the area of the glass plate 82, for example 0.3-1.
It is about 5 [mm].
【００２５】ゼラチン膜１２は、一般に銀塩写真に用い
られるものであり、例えば膜厚が４〜７〔μｍ〕程度で
あり、このとき、光学濃度4.5 以上、解像度 0.5〔μ
ｍ〕以下の性能を有する。遮光部１２ｂは、マトリック
ス状又はストライプ状に形成されている。図示するよう
に、ゼラチン膜１２は、透光部１２ａ又は遮光部１２ｂ
に関係なく極めて平坦である。The gelatin film 12 is generally used for silver salt photography, and has a film thickness of, for example, about 4 to 7 [μm]. At this time, the optical density is 4.5 or more and the resolution is 0.5 [μ].
m] has the following performance. The light shielding portion 12b is formed in a matrix shape or a stripe shape. As shown in the figure, the gelatin film 12 has a light-transmitting portion 12a or a light-shielding portion 12b.
It is extremely flat regardless of.
【００２６】図２は、本発明に係るブラックマトリクス
基板の第二実施例を示す断面図である。以下、この図面
に基づき説明する。ただし、図１と同一部分は同一符号
を付して重複説明を省略する。FIG. 2 is a sectional view showing a second embodiment of the black matrix substrate according to the present invention. Hereinafter, description will be given with reference to this drawing. However, the same parts as those in FIG.
【００２７】ブラックマトリクス基板２０では、ゼラチ
ン膜１２の表面にゼラチン膜１２を保護するとともに透
光性を呈する保護膜２２が被着されている。保護膜２２
としては、ゼラチン等のゲル状高分子、アクリル，ポリ
カーボネイト（ＰＣ），ポリメタクリル酸メチル（ＰＭ
ＭＡ），アクリロニトリル・スチレンコポリマー（Ａ
Ｓ），ポリスチレン（ＰＳｔ），ポリアリレート（ＰＡ
ｒ），アクリルジグリコールカーボネート（ＡＤＣ），
エポキシ等の合成樹脂、又は、シリカ等の無機酸化物が
好ましい。保護膜２２の膜厚は、例えば0.1 〜３〔μ
ｍ〕程度である。In the black matrix substrate 20, a protective film 22 that protects the gelatin film 12 and has a light-transmitting property is deposited on the surface of the gelatin film 12. Protective film 22
Examples include gel-like polymers such as gelatin, acrylic, polycarbonate (PC), polymethylmethacrylate (PM)
MA), acrylonitrile-styrene copolymer (A
S), polystyrene (PSt), polyarylate (PA
r), acrylic diglycol carbonate (ADC),
A synthetic resin such as epoxy or an inorganic oxide such as silica is preferable. The thickness of the protective film 22 is, for example, 0.1 to 3 [μ
m].
【００２８】図３は、本発明に係るブラックマトリクス
基板の製造方法の第一実施例における各工程を示す断面
図である。以下、この図面に基づき説明する。FIG. 3 is a sectional view showing each step in the first embodiment of the method for manufacturing a black matrix substrate according to the present invention. Hereinafter, description will be given with reference to this drawing.
【００２９】まず、ガラス板８２を用意する（図３
（１））。続いて、ガラス板８２の表面にゼラチン膜１
２を塗布する（図３（２））。ゼラチン膜１２の塗布方
法としては、カーテン法，ロールコート法，スピンコー
ト法等がある。カーテン法では、ゼラチンをカーテン状
に流下させながらガラス板８２に密着させることにより
ゼラチン膜１２を形成する。。ロールコート法では、有
機溶剤を含んだ液状のゼラチンをガラス板８２上に滴下
し、ローラでガラス板８２上に引き延ばした後、有機溶
剤を蒸発させることによりゼラチン膜１２を形成する。
スピンコート法では、有機溶剤を含んだ液状のゼラチン
をガラス板８２上に滴下し、スピンコータでガラス板８
２を回転させた後、有機溶剤を蒸発させることによりゼ
ラチン膜１２を形成する。続いて、ブラックマトリクス
のパターンが描かれたフォトマスク３０を用いて、ゼラ
チン膜１２を露光する（図３（３））。ゼラチン膜１２
の感光部分１２ｂ’では、ハロゲン化銀が化学変化を生
じて、潜像が形成される。続いて、ゼラチン膜１２を現
像液に浸すと、感光部分１２ｂ’は黒色の銀粒子を生じ
て遮光部１２ｂとなる。現像液は、例えばヒドロキノ
ン，メトール，ピロガロール，アミノフェノール等のベ
ンゼン誘導体を主成分とする溶液である。最後に、ゼラ
チン膜１２を定着液に浸すと、非感光部分１２ａ’のハ
ロゲン化銀が定着液中に溶出する。これにより、非感光
部分１２ａ’が透光部１２ａとなって、ブラックマトリ
クス基板１０が完成する（図３（４））。定着液は、例
えば、チオ硫酸ナトリウムを主成分とする溶液である。First, a glass plate 82 is prepared (FIG. 3).
(1)). Then, the gelatin film 1 is formed on the surface of the glass plate 82.
2 is applied (FIG. 3 (2)). As a method for applying the gelatin film 12, there are a curtain method, a roll coating method, a spin coating method and the like. In the curtain method, the gelatin film 12 is formed by bringing gelatin into close contact with the glass plate 82 while flowing down in a curtain shape. . In the roll coating method, liquid gelatin containing an organic solvent is dropped on the glass plate 82, and the glass plate 82 is spread by a roller, and then the organic solvent is evaporated to form the gelatin film 12.
In the spin coating method, liquid gelatin containing an organic solvent is dropped on the glass plate 82 and the glass plate 8 is spin coated.
After rotating 2, the gelatin film 12 is formed by evaporating the organic solvent. Then, the gelatin film 12 is exposed using the photomask 30 on which the black matrix pattern is drawn (FIG. 3C). Gelatin film 12
In the light-sensitive portion 12b ', the silver halide undergoes a chemical change to form a latent image. Subsequently, when the gelatin film 12 is dipped in a developing solution, the photosensitive portion 12b 'produces black silver particles and becomes the light shielding portion 12b. The developer is, for example, a solution containing a benzene derivative such as hydroquinone, metol, pyrogallol, or aminophenol as a main component. Finally, when the gelatin film 12 is dipped in the fixer, the silver halide in the non-photosensitive area 12a 'is eluted into the fixer. As a result, the non-photosensitive portion 12a 'becomes the light transmitting portion 12a, and the black matrix substrate 10 is completed (FIG. 3 (4)). The fixer is, for example, a solution containing sodium thiosulfate as a main component.
【００３０】図３（４）に示すように、ゼラチン膜１２
は、透光部１２ａ又は遮光部１２ｂに関係なく極めて平
坦になる。また、ゼラチン膜１２を露光する際の解像度
がそのまま維持される。なお、現像と定着を同時に行う
一浴現像定着法を用いてもよい。As shown in FIG. 3 (4), the gelatin film 12
Becomes extremely flat regardless of the light transmitting portion 12a or the light shielding portion 12b. Further, the resolution when exposing the gelatin film 12 is maintained as it is. A one-bath development fixing method in which development and fixing are simultaneously performed may be used.
【００３１】図４は、本発明に係るブラックマトリクス
基板の製造方法の第二実施例における各工程を示す断面
図である。ただし、図３と同一工程は省略している。以
下、図４に基づき説明する。FIG. 4 is a sectional view showing each step in the second embodiment of the method for manufacturing a black matrix substrate according to the present invention. However, the same steps as those in FIG. 3 are omitted. Hereinafter, description will be given with reference to FIG.
【００３２】図４（１）は、図３（２）と同じ工程であ
る。すなわち、本実施例では、ガラス板８２の表面にゼ
ラチン膜１２を塗布した（図４（１））後、ゼラチン膜
１２を保護する保護膜２２ａを被着する工程（図４
（２））を備えている。保護膜２２ａの素材は、次工程
の現像及び定着を妨げないものであればどのようなもの
でもよく、例えばゼラチン等のゲル状高分子が好まし
い。保護膜２２ａの被着方法は、前述したカーテン法，
ロールコート法，スピンコート法等による。また、保護
膜２２ａは、現像及び定着の工程並びにカラーフィルタ
を積層する工程において、ゼラチン膜１２の損傷又は化
学変化等を防ぐ働きをする。FIG. 4A shows the same steps as FIG. 3B. That is, in this embodiment, the step of applying the gelatin film 12 on the surface of the glass plate 82 (FIG. 4 (1)) and then depositing the protective film 22a for protecting the gelatin film 12 (FIG. 4 (1)).
(2)) is provided. The protective film 22a may be made of any material as long as it does not interfere with the development and fixing in the next step. For example, gel polymer such as gelatin is preferable. The protective film 22a is deposited by the curtain method described above,
By roll coating method, spin coating method, etc. In addition, the protective film 22a functions to prevent the gelatin film 12 from being damaged or chemically changed in the developing and fixing steps and the step of laminating the color filters.
【００３３】図５は、本発明に係るブラックマトリクス
基板の製造方法の第三実施例における各工程を示す断面
図である。ただし、図３と同一工程は省略している。以
下、図５に基づき説明する。FIG. 5 is a sectional view showing each step in the third embodiment of the method for manufacturing a black matrix substrate according to the present invention. However, the same steps as those in FIG. 3 are omitted. Hereinafter, description will be given with reference to FIG.
【００３４】図５（１）は、図３（４）と同じ工程であ
る。すなわち、本実施例では、ゼラチン膜１２を定着し
た後（図５（１））、ゼラチン膜１２を保護する保護膜
２２ｂを被着する工程（図５（２））を備えている。保
護膜２２ｂは、保護膜２２ａのような制限はないので、
素材の選択の幅がより広い。例えば、ＳｉＯ2 ，Ｓｉ3
Ｎ4 ，ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＧｅＯ2 −ＳｉＯ2 等が
好ましい。これらは、ゾル−ゲル法によって形成するこ
とが好ましい。ゾル−ゲル法によれば、他の方法に比べ
てかなり低温で形成できるからである。また、アクリル
等の合成樹脂でもよく、これらは前述したカーテン法，
ロールコート法，スピンコート法等により被着する。保
護膜２２ｂは、カラーフィルタを積層する工程におい
て、ゼラチン膜１２の損傷又は化学変化等を防ぐ働きを
する。FIG. 5A shows the same process as FIG. 3D. That is, in this embodiment, after the gelatin film 12 is fixed (FIG. 5 (1)), a step of depositing the protective film 22b for protecting the gelatin film 12 (FIG. 5 (2)) is provided. Since the protective film 22b is not limited to the protective film 22a,
Wider choice of materials. For example, SiO 2 , Si 3
N 4, ZrO 2, Al 2 O 3, GeO 2 -SiO 2 and the like are preferable. These are preferably formed by a sol-gel method. This is because the sol-gel method can be formed at a considerably lower temperature than other methods. Also, synthetic resin such as acrylic resin may be used, and these may be the curtain method,
It is applied by a roll coating method, a spin coating method, or the like. The protective film 22b has a function of preventing the gelatin film 12 from being damaged or chemically changed in the step of stacking the color filters.
【００３５】なお、上記実施例において、板状支持体
は、ガラス板８２に限定されるものではなく、例えばプ
ラスチック板又はプラスチックフィルム等でもよい。In the above embodiment, the plate-shaped support is not limited to the glass plate 82, and may be, for example, a plastic plate or a plastic film.
【００３６】薄膜は、ゼラチン膜１２に限定されるもの
ではなく、例えば、カゼイン，グリュー，可溶性コラー
ゲン等の蛋白質、又は、ポリビニルアルコール，ビニル
アルコール−ビニルピロリドン共重合体，ポリスチレ
ン，ポリケトン等の合成樹脂でもよい。The thin film is not limited to the gelatin film 12, and examples thereof include proteins such as casein, glue and soluble collagen, or synthetic resins such as polyvinyl alcohol, vinyl alcohol-vinylpyrrolidone copolymer, polystyrene and polyketone. But it's okay.
【００３７】ゼラチン膜１２等の薄膜に含まれる感光主
体は、ハロゲン化銀に限定されるものではなく、いわゆ
る非銀塩写真感光材料でもよい。非銀塩写真感光材料と
しては、例えば、ＣＢｒ4 ，ＣＨＩ3 等の感光性有機ポ
リハロゲン化合物とアニリン，ジフェニルアミン等のア
ミン類との混合物、シュウ酸鉄カリウム、コバルト錯
塩、ヨウ化鉛、ヨウ化第一水銀等がある。The light-sensitive main body contained in the thin film such as the gelatin film 12 is not limited to silver halide and may be a so-called non-silver salt photographic light-sensitive material. Examples of the non-silver salt photographic light-sensitive material include a mixture of a photosensitive organic polyhalogen compound such as CBr 4 and CHI 3 and amines such as aniline and diphenylamine, potassium iron oxalate, a cobalt complex salt, lead iodide and iodide. There are primary mercury, etc.
【００３８】また、薄膜の素材は、前述した高分子及び
ゲル状高分子にのみ限定されるものではない。例えば、
何も分散させていない単なる樹脂，又は金属等でもよ
い。すなわち、本発明に係るブラックマトリクス基板に
は、例えば次のようなものも含まれる。金属膜からな
る遮光部をガラス基板の一部に被着し、この金属膜と同
じ厚みの樹脂膜からなる透光部をガラス基板の残部に被
着したもの。熱分解により遮光性から透光性に変わる
ワックスの微粒子を含ませた高分子膜をガラス基板全体
に被着し、この高分子膜を所定のパターンに加熱するこ
とにより透光部を形成したもの。The material of the thin film is not limited to the above-mentioned polymers and gel polymers. For example,
It may be a simple resin in which nothing is dispersed, or a metal. That is, the black matrix substrate according to the present invention includes, for example, the followings. A light shielding part made of a metal film is attached to a part of a glass substrate, and a light transmitting part made of a resin film having the same thickness as the metal film is attached to the rest of the glass substrate. A polymer film containing wax fine particles that change from light-shielding property to light-transmitting property by thermal decomposition is applied on the entire glass substrate, and the light-transmitting part is formed by heating the polymer film in a predetermined pattern. .
【００３９】図６は、図３の製造方法により製造した図
１のブラックマトリクス基板（以下、「本発明」とい
う。）について、第二従来例及び第一従来例と比較した
結果を示す図表である。以下、図１，図３及び図７乃至
図１０に基づき説明する。FIG. 6 is a chart showing the results of comparison of the black matrix substrate of FIG. 1 (hereinafter referred to as “the present invention”) manufactured by the manufacturing method of FIG. 3 with the second conventional example and the first conventional example. is there. Hereinafter, description will be given with reference to FIGS. 1, 3 and 7 to 10.
【００４０】膜質は、本発明が「ゼラチン」＋「銀粒
子」、第二従来例が「感光性樹脂」＋「黒色顔料」、第
一従来例が「クロム」である。The film quality is "gelatin" + "silver particles" in the present invention, "photosensitive resin" + "black pigment" in the second conventional example, and "chrome" in the first conventional example.
【００４１】膜厚〔μｍ〕は、本発明が「4.8 」、第二
従来例が「1.2 」、第一従来例が「0.12」である。The film thickness [μm] is "4.8" in the present invention, "1.2" in the second conventional example, and "0.12" in the first conventional example.
【００４２】平坦度とは、膜の有無に基づく凹凸の段差
〔μｍ〕と定義する。したがって、平坦度は、本発明が
本質的に「０」、第二，第一従来例が膜厚と同じ「1.2
」，「0.12」である。The flatness is defined as the level difference [μm] of the unevenness due to the presence or absence of the film. Therefore, the flatness is essentially “0” in the present invention, and is “1.2” which is the same as the film thickness in the second and first conventional examples.
, And "0.12".
【００４３】光学濃度は、本発明が「4.5 」以上、第二
従来例が「2.3 」、第一従来例が「４」以上である。第
二従来例では、光学濃度を向上させるために、膜厚を大
きくすれば平坦度が低下し、黒色顔料を増加すれば解像
度が低下する。これに対して、本発明では、膜厚を大き
くしても原則として平坦度及び解像度が変化しないの
で、光学濃度をより向上できる。The optical density of the present invention is "4.5" or more, the second conventional example is "2.3", and the first conventional example is "4" or more. In the second conventional example, if the film thickness is increased in order to improve the optical density, the flatness is lowered, and if the black pigment is increased, the resolution is lowered. On the other hand, in the present invention, since the flatness and the resolution do not change in principle even if the film thickness is increased, the optical density can be further improved.
【００４４】解像度〔μｍ〕は、本発明が「0.5 」以
下、第二従来例が「20」、第一従来例が「2ー3 」であ
る。第二従来例では、フォトマスク８８を用いて感光性
樹脂９２を露光する（図１０（３））ときに、光が黒色
顔料に遮られて感光性樹脂９２の深部へ届きにくいの
で、解像度が極めて低い。これに対して、本発明では、
フォトマスク３０を用いてゼラチン膜１２を露光する
（図３（３））ときには、まだ黒色の銀粒子を生じてい
ない。したがって、光がゼラチン膜１２の深部にまで十
分に届くことにより、解像度が極めて高い。また、第一
従来例では、フォトマスク８８を用いてフォトレジスト
８６を露光する（図８（４））ときに得られた解像度
が、クロム８４をエッチングする（図８（６））ときに
低下する。これに対して、本発明では、フォトマスク３
０を用いてゼラチン膜１２を露光する（図３（３））と
きに得られる解像度が、そのまま維持される。すなわ
ち、本発明では、第一従来例におけるエッチング工程
（図８（６））がない分だけ、確実に解像度が向上する
ことになる。The resolution [μm] is "0.5" or less in the present invention, "20" in the second conventional example, and "2-3" in the first conventional example. In the second conventional example, when the photosensitive resin 92 is exposed using the photomask 88 (FIG. 10 (3)), the light is blocked by the black pigment and does not easily reach the deep portion of the photosensitive resin 92. Extremely low. On the other hand, in the present invention,
When the gelatin film 12 is exposed using the photomask 30 (FIG. 3C), black silver particles are not yet generated. Therefore, the light reaches the deep part of the gelatin film 12 sufficiently and the resolution is extremely high. Further, in the first conventional example, the resolution obtained when the photoresist 86 is exposed using the photomask 88 (FIG. 8 (4)) is lowered when the chromium 84 is etched (FIG. 8 (6)). To do. On the other hand, in the present invention, the photomask 3
The resolution obtained when the gelatin film 12 is exposed by using 0 (FIG. 3 (3)) is maintained as it is. That is, according to the present invention, the resolution is surely improved because the etching process (FIG. 8 (6)) in the first conventional example is omitted.
【００４５】製造工程は、本発明及び第二従来例が「簡
単」、第一従来例が「複雑」である。なぜなら、本発明
及び第二従来例は、第一従来例に比べて、クロム８４を
ガラス板８２に被着する工程（図８（２））、クロム８
４をエッチングする工程（図８（６））、残っているフ
ォトレジスト８６を除去する工程（図８（７））等が不
要になるとともに、スパッタ装置等の高価な設備も必要
としないからである。The manufacturing process is "simple" in the present invention and the second conventional example, and "complex" in the first conventional example. This is because the present invention and the second conventional example are different from the first conventional example in the step of depositing the chrome 84 on the glass plate 82 (FIG. 8 (2)), the chrome 8
Since the step of etching 4 (FIG. 8 (6)), the step of removing the remaining photoresist 86 (FIG. 8 (7)) and the like are unnecessary, and expensive equipment such as a sputtering apparatus is not required. is there.
【００４６】なお、図６には示していないが、ガラス面
における反射率〔％〕は、第二従来例が「0.5 」、第一
従来例が「50」である。第一従来例は、金属光沢を有す
るため高反射率となっており、液晶ディスプレイの視認
性を低下させている。本発明は、黒色の銀粒子によっ
て、第二従来例と同等の低反射率になると考えられる。Although not shown in FIG. 6, the reflectance [%] on the glass surface is "0.5" in the second conventional example and "50" in the first conventional example. Since the first conventional example has a metallic luster, it has a high reflectance, which reduces the visibility of the liquid crystal display. In the present invention, black silver particles are considered to have a low reflectance equivalent to that of the second conventional example.
【００４７】このように、本発明は従来にない優れた性
能を有する。なお、本発明に関する数値例は、半導体製
造等で用いられる銀塩写真の一般的な値とおおよそ同じ
である。また、第二従来例及び第一従来例の数値例は、
例えば日経マイクロデバイス1994年４月号P.59表２に記
載されているものである。As described above, the present invention has excellent performance that has never been obtained. Numerical examples relating to the present invention are approximately the same as general values of silver halide photographs used in semiconductor manufacturing and the like. The numerical examples of the second conventional example and the first conventional example are
For example, it is described in Nikkei Microdevice April 1994 issue P.59 Table 2.
【００４８】[0048]
【発明の効果】本発明に係るブラックマトリクス基板に
よれば、透光部と遮光部とを有する薄膜が透光性を呈す
る板状支持体に被着されているので、薄膜は透光部又は
遮光部に関係なく極めて平坦である。したがって、薄膜
に積層されるカラーフィルタも極めて平坦にでき、液晶
ディスプレイにおける色の均一性を向上できる。また、
薄膜に保護膜を被着することにより、薄膜の機械的強
度, 化学的強度，熱的強度等を向上でき、歩留り及び信
頼性を向上できる。According to the black matrix substrate of the present invention, since the thin film having the light-transmitting portion and the light-shielding portion is adhered to the plate-like support having a light-transmitting property, the thin film is a light-transmitting portion or a light-transmitting portion. It is extremely flat regardless of the light shield. Therefore, the color filter laminated on the thin film can be made extremely flat, and the color uniformity in the liquid crystal display can be improved. Also,
By depositing a protective film on the thin film, the mechanical strength, chemical strength, thermal strength, etc. of the thin film can be improved, and the yield and reliability can be improved.
【００４９】さらに、ハロゲン化銀を感光主体として含
むゼラチンから薄膜を構成すると、薄膜の被着，露光，
現像及び定着だけの工程で、簡単にブラックマトリクス
基板を製造できる。また、薄膜の露光の際に、薄膜の深
部まで光が透過するとともに、そのときに得られる解像
度がそのまま維持されるので、高解像度が達成できる。
さらに、薄膜の被着後露光前に、薄膜に保護膜を被着す
ると、薄膜の現像及び定着の工程においても、薄膜の損
傷又は化学変化等を防ぐことができる。又は、薄膜の定
着後に、薄膜に保護膜を被着すると、薄膜の現像及び定
着を妨げるような素材でも保護膜に用いることができる
ので、薄膜の保護をより強化できる。Further, when a thin film is composed of gelatin containing silver halide as a photosensitive main component, the thin film is deposited, exposed, and exposed.
The black matrix substrate can be easily manufactured by only the steps of developing and fixing. Further, at the time of exposing the thin film, light penetrates to a deep portion of the thin film and the resolution obtained at that time is maintained as it is, so that high resolution can be achieved.
Furthermore, if a protective film is applied to the thin film after the thin film is applied and before the exposure, damage or chemical change of the thin film can be prevented even in the steps of developing and fixing the thin film. Alternatively, if a protective film is applied to the thin film after fixing the thin film, a material that hinders the development and fixing of the thin film can be used as the protective film, so that the protection of the thin film can be further strengthened.
【図１】本発明に係るブラックマトリクス基板の第一実
施例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a black matrix substrate according to the present invention.
【図２】本発明に係るブラックマトリクス基板の第二実
施例を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a second embodiment of a black matrix substrate according to the present invention.
【図３】本発明に係るブラックマトリクス基板の製造方
法の第一実施例を示す断面図であり、図３（１）から図
３（４）の順に各工程が進行する。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a method for manufacturing a black matrix substrate according to the present invention, in which each step proceeds in the order of FIGS. 3 (1) to 3 (4).
【図４】本発明に係るブラックマトリクス基板の製造方
法の第二実施例を示す断面図であり、図４（１）から図
４（２）の順に各工程が進行する。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a second embodiment of a method for manufacturing a black matrix substrate according to the present invention, in which each step proceeds in the order of FIG. 4 (1) to FIG. 4 (2).
【図５】本発明に係るブラックマトリクス基板の製造方
法の第三実施例を示す断面図であり、図５（１）から図
５（２）の順に各工程が進行する。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a third embodiment of a method for manufacturing a black matrix substrate according to the present invention, in which each step proceeds in the order of FIG. 5 (1) to FIG. 5 (2).
【図６】図３の製造方法により製造した図１のブラック
マトリクス基板について、第二従来例及び第一従来例と
比較した結果を示す図表である。6 is a chart showing the results of comparison between the black matrix substrate of FIG. 1 manufactured by the manufacturing method of FIG. 3 and the second conventional example and the first conventional example.
【図７】ブラックマトリクス基板の第一従来例を示す断
面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a first conventional example of a black matrix substrate.
【図８】第一従来例のブラックマトリクス基板の製造方
法であり、図８（１）から図８（７）の順に各工程が進
行する。FIG. 8 is a method for manufacturing a black matrix substrate of a first conventional example, in which each step proceeds in the order of FIGS. 8 (1) to 8 (7).
【図９】ブラックマトリクス基板の第二従来例を示す断
面図である。FIG. 9 is a sectional view showing a second conventional example of a black matrix substrate.
【図１０】第二従来例のブラックマトリクス基板の製造
方法であり、図１０（１）から図１０（４）の順に各工
程が進行する。FIG. 10 is a method for manufacturing a black matrix substrate of a second conventional example, in which each step proceeds in the order of FIGS. 10 (1) to 10 (4).
１０，２０ ブラックマトリクス基板 １２ ゼラチン膜（薄膜） １２ａ 透光部 １２ｂ 遮光部 ２２，２２ａ，２２ｂ 保護膜 ８２ ガラス板（板状支持体） 10, 20 Black matrix substrate 12 Gelatin film (thin film) 12a Light-transmitting portion 12b Light-shielding portion 22, 22a, 22b Protective film 82 Glass plate (plate-shaped support)
Claims (8)
を有する薄膜が被着され、この薄膜には透光性を呈する
透光部と遮光性を呈する遮光部とが形成されたことを特
徴とする、液晶ディスプレイのブラックマトリクス基
板。1. A light-transmitting plate-like support is coated with a thin film having a uniform thickness, and a thin film having a light-transmitting property and a light-shielding part having a light-shielding property is formed on the thin film. A black matrix substrate for a liquid crystal display, characterized by
部は前記高分子に遮光性を呈する粒子が含まれたものか
らなることを特徴とする、請求項１記載の液晶ディスプ
レイのブラックマトリクス基板。2. The black of the liquid crystal display according to claim 1, wherein the light-transmitting portion is made of a polymer, and the light-shielding portion is made of the polymer containing particles having a light-shielding property. Matrix substrate.
記遮光部は前記ゲル状高分子に遮光性を呈する粒子が含
まれたものからなることを特徴とする、請求項１記載の
液晶ディスプレイのブラックマトリクス基板。3. The light-transmitting part is made of a gel polymer, and the light-shielding part is made of the gel polymer containing particles having a light-shielding property. Black matrix substrate for liquid crystal displays.
光部は前記ゼラチンに銀粒子が含まれたものからなるこ
とを特徴とする、請求項１記載の液晶ディスプレイのブ
ラックマトリクス基板。4. The black matrix substrate of a liquid crystal display according to claim 1, wherein the light transmitting portion is made of gelatin, and the light shielding portion is made of the gelatin containing silver particles.
とともに透光性を呈する保護膜が被着されたことを特徴
とする、請求項１，２，３又は４記載の液晶ディスプレ
イのブラックマトリクス基板。5. The black of a liquid crystal display according to claim 1, wherein the surface of the thin film is coated with a protective film which protects the thin film and has a light-transmitting property. Matrix substrate.
チンからなる薄膜を，透光性を呈する板状支持体に被着
する第一の工程と、この第一の工程で被着された前記薄
膜にブラックマトリクスのパターンを露光する第二の工
程と、この第二の工程で露光された前記薄膜を現像する
第三の工程と、この第三の工程で現像された前記薄膜を
定着する第四の工程とを備えたことを特徴とする、液晶
ディスプレイのブラックマトリクス基板の製造方法。6. A first step of depositing a thin film made of gelatin containing silver halide as a photosensitive main component on a plate-like support having a light-transmitting property, and the thin film deposited in the first step. A second step of exposing the pattern of the black matrix to the second step, a third step of developing the thin film exposed in the second step, and a fourth step of fixing the thin film developed in the third step. The method for manufacturing a black matrix substrate for a liquid crystal display, comprising:
に、前記薄膜を保護するとともに透光性を呈する保護膜
を被着する工程を備えたことを特徴とする、請求項６記
載の液晶ディスプレイのブラックマトリクス基板の製造
方法。7. The method according to claim 7, further comprising a step of protecting the thin film and depositing a light-transmitting protective film between the first step and the second step. 7. A method for manufacturing a black matrix substrate of a liquid crystal display according to 6.
するとともに透光性を呈する保護膜を被着する工程を備
えたことを特徴とする、請求項６記載の液晶ディスプレ
イのブラックマトリクス基板の製造方法。8. The black of a liquid crystal display according to claim 6, further comprising a step of protecting the thin film and depositing a light-transmitting protective film after the fourth step. Matrix substrate manufacturing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6180798A JPH0821992A (en) | 1994-07-08 | 1994-07-08 | Black matrix substrate for liquid crystal display and it production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6180798A JPH0821992A (en) | 1994-07-08 | 1994-07-08 | Black matrix substrate for liquid crystal display and it production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0821992A true JPH0821992A (en) | 1996-01-23 |
Family
ID=16089531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6180798A Withdrawn JPH0821992A (en) | 1994-07-08 | 1994-07-08 | Black matrix substrate for liquid crystal display and it production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0821992A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004334180A (en) * | 2003-04-18 | 2004-11-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light shielding film for display device, its manufacturing method, and composite for forming the film |
| JP2005250461A (en) * | 2004-02-06 | 2005-09-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light shielding film for display device and its manufacturing method, metal particulate containing composition, photosensitive transfer material, and substrate and color filter for display device |
| US7306883B2 (en) * | 2003-02-04 | 2007-12-11 | Fujifilm Corporation | Colored composition and photosensitive transfer material for producing black matrix, black matrix and method for producing the same, color filter, liquid crystal display, and black matrix substrate |
| CN100392437C (en) * | 2003-04-18 | 2008-06-04 | 富士胶片株式会社 | Light-shielding film for display device |
-
1994
- 1994-07-08 JP JP6180798A patent/JPH0821992A/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7306883B2 (en) * | 2003-02-04 | 2007-12-11 | Fujifilm Corporation | Colored composition and photosensitive transfer material for producing black matrix, black matrix and method for producing the same, color filter, liquid crystal display, and black matrix substrate |
| JP2004334180A (en) * | 2003-04-18 | 2004-11-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light shielding film for display device, its manufacturing method, and composite for forming the film |
| CN100392437C (en) * | 2003-04-18 | 2008-06-04 | 富士胶片株式会社 | Light-shielding film for display device |
| JP2005250461A (en) * | 2004-02-06 | 2005-09-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light shielding film for display device and its manufacturing method, metal particulate containing composition, photosensitive transfer material, and substrate and color filter for display device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100392041B1 (en) | Optical film and liquid crystal display using the same | |
| EP0827600A1 (en) | Process for producing a liquid crystal display | |
| US4370025A (en) | Multicolor optical filter with a united interference filter and dye filter and process for making the same | |
| US3720143A (en) | Mask for selectively exposing photo-resist to light | |
| US4980262A (en) | Producing a replicate video disc by a method of photographic contact printing | |
| JPH0821992A (en) | Black matrix substrate for liquid crystal display and it production | |
| US3619041A (en) | Spectral zonal encoder employing a silver halide emulsion layer | |
| US3507592A (en) | Method of fabricating photomasks | |
| US3922206A (en) | Method of photo-etching and photogravure using fission fragment and/or alpha ray etch tracks from toned photographs | |
| KR100334012B1 (en) | Manufacturing method of color filter for liquid crystal display | |
| JP2005292329A (en) | Light shielding film for display device, method for forming same, substrate for image formation, color filter, and transfer material | |
| JPH031642B2 (en) | ||
| JPS60243837A (en) | Obtulator disc used for optical transducer | |
| CA1171959A (en) | Producing a replicate video disc by a method of photographic contact printing | |
| JPH11160525A (en) | Color filter and method of manufacturing the same | |
| JP2971589B2 (en) | Manufacturing method of color filter | |
| JPS60114807A (en) | Production of fine color filter | |
| JPH11101906A (en) | Manufacturing method of color filter | |
| JPH08111366A (en) | Title display formation method | |
| JPH04204946A (en) | Exposing device | |
| Stelter | Capabilities of existing optical laser pattern generator for large area micro images | |
| JPH11126738A (en) | Fine pattern forming method | |
| JPH1123825A (en) | Manufacturing method of color filter | |
| JPS628150A (en) | photo mask | |
| JPS5879206A (en) | Imaging lens for copying machines |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20011002 |