JPH0821992A

JPH0821992A - 液晶ディスプレイのブラックマトリクス基板及びその製造方法

Info

Publication number: JPH0821992A
Application number: JP6180798A
Authority: JP
Inventors: Tadao Asakura; 忠男朝倉; Koji Asakura; 耕治朝倉
Original assignee: KOEI KAGAKU KK
Current assignee: KOEI KAGAKU KK
Priority date: 1994-07-08
Filing date: 1994-07-08
Publication date: 1996-01-23

Abstract

(57)【要約】【目的】簡単な製造工程でありながら、平坦度及び解
像度の向上を図る。【構成】ブラックマトリクス基板１０は、透光性を呈
するガラス板８２に、均一な膜厚を有するゼラチン膜１
２が被着されたものである。ゼラチン膜１２のみからな
る透光部１２ａは透光性を呈し、ゼラチン膜１２に銀粒
子が含まれた遮光部１２ｂは遮光性を呈する。ゼラチン
膜１２は、透光部１２ａ又は遮光部１２ｂに関係なく極
めて平坦であるので、ゼラチン膜１２に積層されるカラ
ーフィルタも極めて平坦になる。したがって、カラーフ
ィルタの色ムラ等を防止できるので、液晶ディスプレイ
の視認性を向上できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイに用
いられるカラーフィルタに対して、各画素間の光を吸収
することにより、視認性を高めるためのブラックマトリ
クス基板に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図７は、この種のブラックマトリクス基
板の第一従来例を示す断面図である。以下、この図面に
基づき説明する。

【０００３】ブラックマトリクス基板８０は、透光性を
呈する平坦なガラス板８２に、一定膜厚のクロム（Ｃ
ｒ）８４が一定形状に被着されたものである。

【０００４】図８は、ブラックマトリクス基板８０の製
造方法の各工程を示す断面図である。以下、この図面に
基づき説明する。

【０００５】まず、ガラス板８２を用意する（図８
（１））。続いて、クロム８４を、真空蒸着又はスパッ
タにより、ガラス板８２に被着する（図８（２））。続
いて、クロム８４の表面にポジ型のフォトレジスト８６
を塗布する（図８（３））。そして、ブラックマトリク
スのパターンが描かれたフォトマスク８８を用いて、フ
ォトレジスト８６を露光する（図８（４））。続いて、
フォトレジスト８６を現像液に浸して、フォトレジスト
８６の露光された部分８６ａを除去する（図８
（５））。続いて、クロム８４をエッチング液に浸すこ
とにより、フォトレジスト８６のない部分のクロム８４
がエッチングされて、ブラックマトリクスのパターン通
りにクロム８４が残る（図８（６））。最後に、残って
いるフォトレジスト８６を除去する（図８（７））。

【０００６】ところで、近年、製造工程を第一従来例よ
りも簡略化できる、次の第二従来例が開発されている。
図９は、ブラックマトリクス基板の第二従来例を示す断
面図である。以下、この図面に基づき説明する。

【０００７】ブラックマトリクス基板９０は、透光性を
呈する平坦なガラス板８２に、遮光性を呈する一定膜厚
の感光性樹脂９２が一定形状に被着されたものである。

【０００８】図１０は、ブラックマトリクス基板９０の
製造方法の各工程を示す断面図である。以下、この図面
に基づき説明する。

【０００９】まず、ガラス板８２を用意する（図１０
（１））。続いて、ガラス板８２の表面に黒色顔料を含
んだポジ型の感光性樹脂９２を塗布する（図１０
（２））。そして、ブラックマトリクスのパターンが描
かれたフォトマスク８８を用いて、感光性樹脂９２を露
光する（図１０（３））。最後に、感光性樹脂９２を現
像液に浸して、感光性樹脂９２の露光された部分９２ａ
を除去する（図１０（４））。

【００１０】このように、第二従来例は、第一従来例に
比べて、クロム８４をガラス板８２に被着する工程（図
８（２））、クロム８４をエッチングする工程（図８
（６））、残っているフォトレジスト８６を除去する工
程（図８（７））等が不要になるとともに、スパッタ装
置又は蒸着装置等の高価な設備も必要としない。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の従来例には、次のような問題があった。

【００１２】第一に、ガラス８２上のクロム８４又は感
光性樹脂９２の有無に基づく凹凸により、クロム８４又
は感光性樹脂９２上に積層するカラーフィルタの平坦度
が低いという問題があった。この問題は、カラーフィ
ルタに色ムラが発生する、カラーフィルタ上に積層さ
れる配向膜に液晶の配向を制御できない領域が発生す
る、等の原因となる。すなわち、カラーフィルタの平坦
度の低さは、液晶ディスプレイにおいて色の不均一とな
って現れる。

【００１３】この問題は、第一従来例よりも第二従来例
で顕著になる。感光性樹脂９２は、クロム８４に比べて
遮光性が劣るため、膜厚を大きくしなければならないか
らである。

【００１４】第二に、これらの従来例では、次のよう
に、解像度が低いという問題があった。

【００１５】第一従来例では、まず、フォトマスク８８
を用いてフォトレジスト８６を露光する（図８（４））
ときに一定の解像度が得られる。そして、クロム８４を
エッチングする（図８（６））ときに、サイドエッチン
グ等によって、解像度が低下する。

【００１６】第二従来例では、感光性樹脂９２に黒色顔
料が含まれている。しかも、一定の遮光性を得るために
膜厚を大きくしている。したがって、フォトマスク８８
を用いて感光性樹脂９２を露光する（図１０（３））と
きに、光が黒色顔料に遮られて感光性樹脂９２の深部へ
届きにくい。その結果、感光性樹脂９２に架橋反応の不
十分な部分が生じるので、解像度が極めて低くなる。

【００１７】

【発明の目的】そこで、本発明の目的は、簡単な製造工
程でありながら、カラーフィルタの平坦度を向上でき、
しかも、解像度も向上できる、液晶ディスプレイのブラ
ックマトリクス基板及びその製造方法を提供することに
ある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明に係るブラックマ
トリクス基板は、上記目的を達成するためになされたも
のであり、透光性を呈する板状支持体に均一な膜厚を有
する薄膜が被着され、この薄膜には透光性を呈する透光
部と遮光性を呈する遮光部とが形成されたものである。
また、前記透光部は高分子，ゲル状高分子等からなり、
前記遮光部は前記高分子，ゲル状高分子等に遮光性を呈
する粒子が含まれたものからなるものとしてもよい。又
は、前記透光部はゼラチンからなり、前記遮光部は前記
ゼラチンに銀粒子が含まれたものからなるものとしても
よい。さらに、前記薄膜の表面にはこの薄膜を保護する
とともに透光性を呈する保護膜が被着されたものとして
もよい。

【００１９】本発明に係るブラックマトリクス基板の製
造方法は、上記目的を達成するためになされたものであ
り、ハロゲン化銀を感光主体として含むゼラチンからな
る薄膜を，透光性を呈する板状支持体に被着する第一の
工程と、この第一の工程で被着された前記薄膜にブラッ
クマトリクスのパターンを露光する第二の工程と、この
第二の工程で露光された前記薄膜を現像する第三の工程
と、この第三の工程で現像された前記薄膜を定着する第
四の工程とを備えたものである。また、前記第一の工程
と前記第二の工程との間に、前記薄膜を保護するととも
に透光性を呈する保護膜を被着する工程を備えたものと
してもよい。或いは、前記第四の工程の次に、前記薄膜
を保護するとともに透光性を呈する保護膜を被着する工
程を備えたものとしてもよい。

【００２０】

【作用】均一な膜厚を有する薄膜が、透光性を呈する板
状支持体に被着されている。そして、薄膜には、透光性
を呈する透光部と、遮光性を呈する遮光部とが形成され
ている。したがって、薄膜は透光部又は遮光部に関係な
く極めて平坦であるので、薄膜に積層されるカラーフィ
ルタも極めて平坦になる。また、薄膜に保護膜を被着す
ることにより、薄膜の機械的強度, 化学的強度，熱的強
度等が向上する。

【００２１】さらに、ハロゲン化銀を感光主体として含
むゼラチンから薄膜を構成すると、ブラックマトリクス
基板の製造に要する工程は、薄膜の被着，露光，現像及
び定着だけになる。また、薄膜の露光の際に、薄膜の深
部まで光が透過するとともに、そのときに得られる解像
度がそのまま維持される。さらに、薄膜の被着後露光前
に保護膜を被着すると、保護膜は現像及び定着の工程中
も薄膜を保護する。又は、薄膜の定着後に保護膜を被着
すれば、薄膜の現像及び定着を妨げるような素材でも保
護膜として用いられる。

【００２２】

【実施例】図１は、本発明に係るブラックマトリクス基
板の第一実施例を示す断面図である。以下、この図面に
基づき説明する。

【００２３】ブラックマトリクス基板１０は、透光性を
呈する板状支持体としてのガラス板８２に、均一な膜厚
を有する薄膜としてのゼラチン膜１２が被着されたもの
である。そして、ゼラチン膜１２のみからなる透光部１
２ａは透光性を呈し、ゼラチン膜１２に銀粒子が含まれ
た遮光部１２ｂは遮光性を呈する。

【００２４】ガラス板８２は、無アルカリガラス、又
は、アルカリ成分の溶出を防止するために表面に無機酸
化物を被着したガラスである。ガラス板８２の板厚は、
ガラス板８２の面積によって異なるが、例えば0.3 〜1.
5[mm] 程度である。

【００２５】ゼラチン膜１２は、一般に銀塩写真に用い
られるものであり、例えば膜厚が４〜７〔μｍ〕程度で
あり、このとき、光学濃度4.5 以上、解像度 0.5〔μ
ｍ〕以下の性能を有する。遮光部１２ｂは、マトリック
ス状又はストライプ状に形成されている。図示するよう
に、ゼラチン膜１２は、透光部１２ａ又は遮光部１２ｂ
に関係なく極めて平坦である。

【００２６】図２は、本発明に係るブラックマトリクス
基板の第二実施例を示す断面図である。以下、この図面
に基づき説明する。ただし、図１と同一部分は同一符号
を付して重複説明を省略する。

【００２７】ブラックマトリクス基板２０では、ゼラチ
ン膜１２の表面にゼラチン膜１２を保護するとともに透
光性を呈する保護膜２２が被着されている。保護膜２２
としては、ゼラチン等のゲル状高分子、アクリル，ポリ
カーボネイト（ＰＣ），ポリメタクリル酸メチル（ＰＭ
ＭＡ），アクリロニトリル・スチレンコポリマー（Ａ
Ｓ），ポリスチレン（ＰＳｔ），ポリアリレート（ＰＡ
ｒ），アクリルジグリコールカーボネート（ＡＤＣ），
エポキシ等の合成樹脂、又は、シリカ等の無機酸化物が
好ましい。保護膜２２の膜厚は、例えば0.1 〜３〔μ
ｍ〕程度である。

【００２８】図３は、本発明に係るブラックマトリクス
基板の製造方法の第一実施例における各工程を示す断面
図である。以下、この図面に基づき説明する。

【００２９】まず、ガラス板８２を用意する（図３
（１））。続いて、ガラス板８２の表面にゼラチン膜１
２を塗布する（図３（２））。ゼラチン膜１２の塗布方
法としては、カーテン法，ロールコート法，スピンコー
ト法等がある。カーテン法では、ゼラチンをカーテン状
に流下させながらガラス板８２に密着させることにより
ゼラチン膜１２を形成する。。ロールコート法では、有
機溶剤を含んだ液状のゼラチンをガラス板８２上に滴下
し、ローラでガラス板８２上に引き延ばした後、有機溶
剤を蒸発させることによりゼラチン膜１２を形成する。
スピンコート法では、有機溶剤を含んだ液状のゼラチン
をガラス板８２上に滴下し、スピンコータでガラス板８
２を回転させた後、有機溶剤を蒸発させることによりゼ
ラチン膜１２を形成する。続いて、ブラックマトリクス
のパターンが描かれたフォトマスク３０を用いて、ゼラ
チン膜１２を露光する（図３（３））。ゼラチン膜１２
の感光部分１２ｂ’では、ハロゲン化銀が化学変化を生
じて、潜像が形成される。続いて、ゼラチン膜１２を現
像液に浸すと、感光部分１２ｂ’は黒色の銀粒子を生じ
て遮光部１２ｂとなる。現像液は、例えばヒドロキノ
ン，メトール，ピロガロール，アミノフェノール等のベ
ンゼン誘導体を主成分とする溶液である。最後に、ゼラ
チン膜１２を定着液に浸すと、非感光部分１２ａ’のハ
ロゲン化銀が定着液中に溶出する。これにより、非感光
部分１２ａ’が透光部１２ａとなって、ブラックマトリ
クス基板１０が完成する（図３（４））。定着液は、例
えば、チオ硫酸ナトリウムを主成分とする溶液である。

【００３０】図３（４）に示すように、ゼラチン膜１２
は、透光部１２ａ又は遮光部１２ｂに関係なく極めて平
坦になる。また、ゼラチン膜１２を露光する際の解像度
がそのまま維持される。なお、現像と定着を同時に行う
一浴現像定着法を用いてもよい。

【００３１】図４は、本発明に係るブラックマトリクス
基板の製造方法の第二実施例における各工程を示す断面
図である。ただし、図３と同一工程は省略している。以
下、図４に基づき説明する。

【００３２】図４（１）は、図３（２）と同じ工程であ
る。すなわち、本実施例では、ガラス板８２の表面にゼ
ラチン膜１２を塗布した（図４（１））後、ゼラチン膜
１２を保護する保護膜２２ａを被着する工程（図４
（２））を備えている。保護膜２２ａの素材は、次工程
の現像及び定着を妨げないものであればどのようなもの
でもよく、例えばゼラチン等のゲル状高分子が好まし
い。保護膜２２ａの被着方法は、前述したカーテン法，
ロールコート法，スピンコート法等による。また、保護
膜２２ａは、現像及び定着の工程並びにカラーフィルタ
を積層する工程において、ゼラチン膜１２の損傷又は化
学変化等を防ぐ働きをする。

【００３３】図５は、本発明に係るブラックマトリクス
基板の製造方法の第三実施例における各工程を示す断面
図である。ただし、図３と同一工程は省略している。以
下、図５に基づき説明する。

【００３４】図５（１）は、図３（４）と同じ工程であ
る。すなわち、本実施例では、ゼラチン膜１２を定着し
た後（図５（１））、ゼラチン膜１２を保護する保護膜
２２ｂを被着する工程（図５（２））を備えている。保
護膜２２ｂは、保護膜２２ａのような制限はないので、
素材の選択の幅がより広い。例えば、ＳｉＯ₂，Ｓｉ₃
Ｎ₄，ＺｒＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，ＧｅＯ₂−ＳｉＯ₂等が
好ましい。これらは、ゾル−ゲル法によって形成するこ
とが好ましい。ゾル−ゲル法によれば、他の方法に比べ
てかなり低温で形成できるからである。また、アクリル
等の合成樹脂でもよく、これらは前述したカーテン法，
ロールコート法，スピンコート法等により被着する。保
護膜２２ｂは、カラーフィルタを積層する工程におい
て、ゼラチン膜１２の損傷又は化学変化等を防ぐ働きを
する。

【００３５】なお、上記実施例において、板状支持体
は、ガラス板８２に限定されるものではなく、例えばプ
ラスチック板又はプラスチックフィルム等でもよい。

【００３６】薄膜は、ゼラチン膜１２に限定されるもの
ではなく、例えば、カゼイン，グリュー，可溶性コラー
ゲン等の蛋白質、又は、ポリビニルアルコール，ビニル
アルコール−ビニルピロリドン共重合体，ポリスチレ
ン，ポリケトン等の合成樹脂でもよい。

【００３７】ゼラチン膜１２等の薄膜に含まれる感光主
体は、ハロゲン化銀に限定されるものではなく、いわゆ
る非銀塩写真感光材料でもよい。非銀塩写真感光材料と
しては、例えば、ＣＢｒ₄，ＣＨＩ₃等の感光性有機ポ
リハロゲン化合物とアニリン，ジフェニルアミン等のア
ミン類との混合物、シュウ酸鉄カリウム、コバルト錯
塩、ヨウ化鉛、ヨウ化第一水銀等がある。

【００３８】また、薄膜の素材は、前述した高分子及び
ゲル状高分子にのみ限定されるものではない。例えば、
何も分散させていない単なる樹脂，又は金属等でもよ
い。すなわち、本発明に係るブラックマトリクス基板に
は、例えば次のようなものも含まれる。金属膜からな
る遮光部をガラス基板の一部に被着し、この金属膜と同
じ厚みの樹脂膜からなる透光部をガラス基板の残部に被
着したもの。熱分解により遮光性から透光性に変わる
ワックスの微粒子を含ませた高分子膜をガラス基板全体
に被着し、この高分子膜を所定のパターンに加熱するこ
とにより透光部を形成したもの。

【００３９】図６は、図３の製造方法により製造した図
１のブラックマトリクス基板（以下、「本発明」とい
う。）について、第二従来例及び第一従来例と比較した
結果を示す図表である。以下、図１，図３及び図７乃至
図１０に基づき説明する。

【００４０】膜質は、本発明が「ゼラチン」＋「銀粒
子」、第二従来例が「感光性樹脂」＋「黒色顔料」、第
一従来例が「クロム」である。

【００４１】膜厚〔μｍ〕は、本発明が「4.8 」、第二
従来例が「1.2 」、第一従来例が「0.12」である。

【００４２】平坦度とは、膜の有無に基づく凹凸の段差
〔μｍ〕と定義する。したがって、平坦度は、本発明が
本質的に「０」、第二，第一従来例が膜厚と同じ「1.2
」，「0.12」である。

【００４３】光学濃度は、本発明が「4.5 」以上、第二
従来例が「2.3 」、第一従来例が「４」以上である。第
二従来例では、光学濃度を向上させるために、膜厚を大
きくすれば平坦度が低下し、黒色顔料を増加すれば解像
度が低下する。これに対して、本発明では、膜厚を大き
くしても原則として平坦度及び解像度が変化しないの
で、光学濃度をより向上できる。

【００４４】解像度〔μｍ〕は、本発明が「0.5 」以
下、第二従来例が「20」、第一従来例が「2ー3 」であ
る。第二従来例では、フォトマスク８８を用いて感光性
樹脂９２を露光する（図１０（３））ときに、光が黒色
顔料に遮られて感光性樹脂９２の深部へ届きにくいの
で、解像度が極めて低い。これに対して、本発明では、
フォトマスク３０を用いてゼラチン膜１２を露光する
（図３（３））ときには、まだ黒色の銀粒子を生じてい
ない。したがって、光がゼラチン膜１２の深部にまで十
分に届くことにより、解像度が極めて高い。また、第一
従来例では、フォトマスク８８を用いてフォトレジスト
８６を露光する（図８（４））ときに得られた解像度
が、クロム８４をエッチングする（図８（６））ときに
低下する。これに対して、本発明では、フォトマスク３
０を用いてゼラチン膜１２を露光する（図３（３））と
きに得られる解像度が、そのまま維持される。すなわ
ち、本発明では、第一従来例におけるエッチング工程
（図８（６））がない分だけ、確実に解像度が向上する
ことになる。

【００４５】製造工程は、本発明及び第二従来例が「簡
単」、第一従来例が「複雑」である。なぜなら、本発明
及び第二従来例は、第一従来例に比べて、クロム８４を
ガラス板８２に被着する工程（図８（２））、クロム８
４をエッチングする工程（図８（６））、残っているフ
ォトレジスト８６を除去する工程（図８（７））等が不
要になるとともに、スパッタ装置等の高価な設備も必要
としないからである。

【００４６】なお、図６には示していないが、ガラス面
における反射率〔％〕は、第二従来例が「0.5 」、第一
従来例が「50」である。第一従来例は、金属光沢を有す
るため高反射率となっており、液晶ディスプレイの視認
性を低下させている。本発明は、黒色の銀粒子によっ
て、第二従来例と同等の低反射率になると考えられる。

【００４７】このように、本発明は従来にない優れた性
能を有する。なお、本発明に関する数値例は、半導体製
造等で用いられる銀塩写真の一般的な値とおおよそ同じ
である。また、第二従来例及び第一従来例の数値例は、
例えば日経マイクロデバイス1994年４月号P.59表２に記
載されているものである。

【００４８】

【発明の効果】本発明に係るブラックマトリクス基板に
よれば、透光部と遮光部とを有する薄膜が透光性を呈す
る板状支持体に被着されているので、薄膜は透光部又は
遮光部に関係なく極めて平坦である。したがって、薄膜
に積層されるカラーフィルタも極めて平坦にでき、液晶
ディスプレイにおける色の均一性を向上できる。また、
薄膜に保護膜を被着することにより、薄膜の機械的強
度, 化学的強度，熱的強度等を向上でき、歩留り及び信
頼性を向上できる。

【００４９】さらに、ハロゲン化銀を感光主体として含
むゼラチンから薄膜を構成すると、薄膜の被着，露光，
現像及び定着だけの工程で、簡単にブラックマトリクス
基板を製造できる。また、薄膜の露光の際に、薄膜の深
部まで光が透過するとともに、そのときに得られる解像
度がそのまま維持されるので、高解像度が達成できる。
さらに、薄膜の被着後露光前に、薄膜に保護膜を被着す
ると、薄膜の現像及び定着の工程においても、薄膜の損
傷又は化学変化等を防ぐことができる。又は、薄膜の定
着後に、薄膜に保護膜を被着すると、薄膜の現像及び定
着を妨げるような素材でも保護膜に用いることができる
ので、薄膜の保護をより強化できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るブラックマトリクス基板の第一実
施例を示す断面図である。

【図２】本発明に係るブラックマトリクス基板の第二実
施例を示す断面図である。

【図３】本発明に係るブラックマトリクス基板の製造方
法の第一実施例を示す断面図であり、図３（１）から図
３（４）の順に各工程が進行する。

【図４】本発明に係るブラックマトリクス基板の製造方
法の第二実施例を示す断面図であり、図４（１）から図
４（２）の順に各工程が進行する。

【図５】本発明に係るブラックマトリクス基板の製造方
法の第三実施例を示す断面図であり、図５（１）から図
５（２）の順に各工程が進行する。

【図６】図３の製造方法により製造した図１のブラック
マトリクス基板について、第二従来例及び第一従来例と
比較した結果を示す図表である。

【図７】ブラックマトリクス基板の第一従来例を示す断
面図である。

【図８】第一従来例のブラックマトリクス基板の製造方
法であり、図８（１）から図８（７）の順に各工程が進
行する。

【図９】ブラックマトリクス基板の第二従来例を示す断
面図である。

【図１０】第二従来例のブラックマトリクス基板の製造
方法であり、図１０（１）から図１０（４）の順に各工
程が進行する。

【符号の説明】

１０，２０ブラックマトリクス基板１２ゼラチン膜（薄膜）１２ａ透光部１２ｂ遮光部２２，２２ａ，２２ｂ保護膜８２ガラス板（板状支持体）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透光性を呈する板状支持体に均一な膜厚
を有する薄膜が被着され、この薄膜には透光性を呈する
透光部と遮光性を呈する遮光部とが形成されたことを特
徴とする、液晶ディスプレイのブラックマトリクス基
板。
【請求項２】前記透光部は高分子からなり、前記遮光
部は前記高分子に遮光性を呈する粒子が含まれたものか
らなることを特徴とする、請求項１記載の液晶ディスプ
レイのブラックマトリクス基板。
【請求項３】前記透光部はゲル状高分子からなり、前
記遮光部は前記ゲル状高分子に遮光性を呈する粒子が含
まれたものからなることを特徴とする、請求項１記載の
液晶ディスプレイのブラックマトリクス基板。
【請求項４】前記透光部はゼラチンからなり、前記遮
光部は前記ゼラチンに銀粒子が含まれたものからなるこ
とを特徴とする、請求項１記載の液晶ディスプレイのブ
ラックマトリクス基板。
【請求項５】前記薄膜の表面にはこの薄膜を保護する
とともに透光性を呈する保護膜が被着されたことを特徴
とする、請求項１，２，３又は４記載の液晶ディスプレ
イのブラックマトリクス基板。
【請求項６】ハロゲン化銀を感光主体として含むゼラ
チンからなる薄膜を，透光性を呈する板状支持体に被着
する第一の工程と、この第一の工程で被着された前記薄
膜にブラックマトリクスのパターンを露光する第二の工
程と、この第二の工程で露光された前記薄膜を現像する
第三の工程と、この第三の工程で現像された前記薄膜を
定着する第四の工程とを備えたことを特徴とする、液晶
ディスプレイのブラックマトリクス基板の製造方法。
【請求項７】前記第一の工程と前記第二の工程との間
に、前記薄膜を保護するとともに透光性を呈する保護膜
を被着する工程を備えたことを特徴とする、請求項６記
載の液晶ディスプレイのブラックマトリクス基板の製造
方法。
【請求項８】前記第四の工程の次に、前記薄膜を保護
するとともに透光性を呈する保護膜を被着する工程を備
えたことを特徴とする、請求項６記載の液晶ディスプレ
イのブラックマトリクス基板の製造方法。