JPH08222652A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
半導体装置及びその製造方法Info
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- JPH08222652A JPH08222652A JP7028351A JP2835195A JPH08222652A JP H08222652 A JPH08222652 A JP H08222652A JP 7028351 A JP7028351 A JP 7028351A JP 2835195 A JP2835195 A JP 2835195A JP H08222652 A JPH08222652 A JP H08222652A
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- semiconductor device
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 熱に対する半導体装置の信頼性を高める。ま
た、前記半導体装置の製造コストを低減する。 【構成】 ベース基板2と保護キャップ6とで形成され
るキャビティ7内に半導体ペレット1が収納され、前記
ベース基板2のペレット塔載面の電極2Aにバンプ電極
3を介在して前記半導体ペレット1の主面の外部端子1
Aが接続される半導体装置において、前記半導体ペレッ
ト1の主面と対向するその裏面に、この半導体ペレット
1の裏面に対向する前記保護キャップ6の一表面を柔軟
層5を介在して連結する。また、前記半導体ペレット1
の主面と前記ベース基板2のペレット塔載面との間に樹
脂を充填する。また、前記ベース基板と保護キャップと
を挾持部材8で挟持固定する。
た、前記半導体装置の製造コストを低減する。 【構成】 ベース基板2と保護キャップ6とで形成され
るキャビティ7内に半導体ペレット1が収納され、前記
ベース基板2のペレット塔載面の電極2Aにバンプ電極
3を介在して前記半導体ペレット1の主面の外部端子1
Aが接続される半導体装置において、前記半導体ペレッ
ト1の主面と対向するその裏面に、この半導体ペレット
1の裏面に対向する前記保護キャップ6の一表面を柔軟
層5を介在して連結する。また、前記半導体ペレット1
の主面と前記ベース基板2のペレット塔載面との間に樹
脂を充填する。また、前記ベース基板と保護キャップと
を挾持部材8で挟持固定する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置に関し、特
に、ベース基板と保護キャップとで形成されるキャビテ
ィ内に半導体ペレットが収納され、前記ベース基板のペ
レット塔載面の電極にバンプ電極を介在して前記半導体
ペレットの主面の外部端子が接続される半導体装置に適
用して有効な技術に関するものである。
に、ベース基板と保護キャップとで形成されるキャビテ
ィ内に半導体ペレットが収納され、前記ベース基板のペ
レット塔載面の電極にバンプ電極を介在して前記半導体
ペレットの主面の外部端子が接続される半導体装置に適
用して有効な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】高い実装密度が得られる半導体装置とし
て、フェースダウン方式を採用する半導体装置が知られ
ている。この種の半導体装置は、ベース基板と保護キャ
ップとで形成されるキャビティ内に半導体ペレットを収
納し、前記ベース基板のペレット塔載面の電極にバンプ
電極を介在して前記半導体ペレットの主面の外部端子を
固着している。バンプ電極は例えばPb−Sn系の合金
材で形成される。フェースダウン方式は、半導体ペレッ
トの占有面積内においてベース基板に実装することがで
きるので、ボンディングワイヤ方式に比べて実装面積並
びに信号伝搬経路を縮小することができる。
て、フェースダウン方式を採用する半導体装置が知られ
ている。この種の半導体装置は、ベース基板と保護キャ
ップとで形成されるキャビティ内に半導体ペレットを収
納し、前記ベース基板のペレット塔載面の電極にバンプ
電極を介在して前記半導体ペレットの主面の外部端子を
固着している。バンプ電極は例えばPb−Sn系の合金
材で形成される。フェースダウン方式は、半導体ペレッ
トの占有面積内においてベース基板に実装することがで
きるので、ボンディングワイヤ方式に比べて実装面積並
びに信号伝搬経路を縮小することができる。
【0003】前記半導体装置は、信頼性を高める目的と
して、ベース基板の接合領域と保護キャップの接合領域
とを封止材で固着し、このベース基板と保護キャップと
で形成されるキャビティ内に半導体ペレットを気密封止
している。封止材としては例えばPb−Sn系の合金材
が使用される。また、前記半導体装置は、半導体ペレッ
トに塔載された回路システムの動作で発生する動作熱を
外部に放出する放熱効率を高める目的として、半導体ペ
レットの裏面とこの半導体ペレットの裏面に対向する保
護キャップの一表面とを伝熱材で固着している。伝熱材
としては例えばPb−Sn系の合金材が使用される。
して、ベース基板の接合領域と保護キャップの接合領域
とを封止材で固着し、このベース基板と保護キャップと
で形成されるキャビティ内に半導体ペレットを気密封止
している。封止材としては例えばPb−Sn系の合金材
が使用される。また、前記半導体装置は、半導体ペレッ
トに塔載された回路システムの動作で発生する動作熱を
外部に放出する放熱効率を高める目的として、半導体ペ
レットの裏面とこの半導体ペレットの裏面に対向する保
護キャップの一表面とを伝熱材で固着している。伝熱材
としては例えばPb−Sn系の合金材が使用される。
【0004】なお、前記フェースダウン方式を採用する
半導体装置については、例えば特願平2−206223
号公報に記載されている。
半導体装置については、例えば特願平2−206223
号公報に記載されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記半導体装置におい
て、半導体ペレットの主面の外部端子はベース基板のペ
レット塔載面の電極にバンプ電極で固着され、半導体ペ
レットの裏面は保護キャップの一表面に伝熱材で固着さ
れ、保護キャップはベース基板に封止材で固着されてい
る。このバンプ電極、伝熱材、封止材の夫々は機械的強
度が高いPb−Sn系の合金材で形成される。つまり、
半導体ペレット、ベース基板、保護キャップの夫々は機
械的強度が高い材料によって互いに固着されている。こ
のため、製品完成後の環境試験である温度サイクル時や
実装基板に半導体装置を実装する実装工程での熱処理時
において、半導体ペレット、ベース基板、保護キャップ
の夫々の熱膨張係数の差に起因する熱応力でバンプ電極
が破損する。このバンプ電極の破損は、熱に対する半導
体装置の信頼性を著しく低下させる。
て、半導体ペレットの主面の外部端子はベース基板のペ
レット塔載面の電極にバンプ電極で固着され、半導体ペ
レットの裏面は保護キャップの一表面に伝熱材で固着さ
れ、保護キャップはベース基板に封止材で固着されてい
る。このバンプ電極、伝熱材、封止材の夫々は機械的強
度が高いPb−Sn系の合金材で形成される。つまり、
半導体ペレット、ベース基板、保護キャップの夫々は機
械的強度が高い材料によって互いに固着されている。こ
のため、製品完成後の環境試験である温度サイクル時や
実装基板に半導体装置を実装する実装工程での熱処理時
において、半導体ペレット、ベース基板、保護キャップ
の夫々の熱膨張係数の差に起因する熱応力でバンプ電極
が破損する。このバンプ電極の破損は、熱に対する半導
体装置の信頼性を著しく低下させる。
【0006】また、この問題を解決するために、ベース
基板、保護キャップの夫々を半導体ペレットの熱膨張係
数(Siの熱膨張係数)に近い材料で形成し、熱膨張係数
の差に起因する熱応力の発生を下げている。具体的に
は、ベース基板はムライト材又はアルミナイトライド材
で形成され、保護キャップはアルミナイトライド材で形
成される。しかしながら、これらの材料で形成されるベ
ース基板及び保護キャップは部品コストが高いので、半
導体装置の製造コストが増加する。
基板、保護キャップの夫々を半導体ペレットの熱膨張係
数(Siの熱膨張係数)に近い材料で形成し、熱膨張係数
の差に起因する熱応力の発生を下げている。具体的に
は、ベース基板はムライト材又はアルミナイトライド材
で形成され、保護キャップはアルミナイトライド材で形
成される。しかしながら、これらの材料で形成されるベ
ース基板及び保護キャップは部品コストが高いので、半
導体装置の製造コストが増加する。
【0007】本発明の目的は、ベース基板のペレット塔
載面の電極と半導体ペレットの主面の外部端子とを接続
するバンプ電極の破損を防止し、熱に対する半導体装置
の信頼性を高めることが可能な技術を提供することにあ
る。
載面の電極と半導体ペレットの主面の外部端子とを接続
するバンプ電極の破損を防止し、熱に対する半導体装置
の信頼性を高めることが可能な技術を提供することにあ
る。
【0008】本発明の他の目的は、前記目的を達成し、
半導体装置の製造コストを低減することが可能な技術を
提供することにある。
半導体装置の製造コストを低減することが可能な技術を
提供することにある。
【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。
【0010】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
【0011】(1)ベース基板と保護キャップとで形成
されるキャビティ内に半導体ペレットが収納され、前記
ベース基板のペレット塔載面の電極にバンプ電極を介在
して前記半導体ペレットの主面の外部端子が接続される
半導体装置において、前記半導体ペレットの主面と対向
するその裏面に、この半導体ペレットの裏面に対向する
前記保護キャップの一表面を柔軟層を介在して連結す
る。
されるキャビティ内に半導体ペレットが収納され、前記
ベース基板のペレット塔載面の電極にバンプ電極を介在
して前記半導体ペレットの主面の外部端子が接続される
半導体装置において、前記半導体ペレットの主面と対向
するその裏面に、この半導体ペレットの裏面に対向する
前記保護キャップの一表面を柔軟層を介在して連結す
る。
【0012】(2)前記半導体ペレットの主面と前記ベ
ース基板のペレット塔載面との間に樹脂を充填する。
ース基板のペレット塔載面との間に樹脂を充填する。
【0013】(3)前記ベース基板と保護キャップとを
弾性力を有する挾持部材で挟持固定する。
弾性力を有する挾持部材で挟持固定する。
【0014】
【作用】上述した手段(1)によれば、製品完成後の環
境試験である温度サイクル時や実装基板に半導体装置を
実装する実装工程での熱処理時において、半導体ペレッ
ト、ベース基板、保護キャップの夫々の熱膨張係数の差
に起因する熱応力を柔軟層で吸収することができるの
で、熱応力によるバンプ電極の破損を防止することがで
き、熱に対する半導体装置の信頼性を高めることができ
る。
境試験である温度サイクル時や実装基板に半導体装置を
実装する実装工程での熱処理時において、半導体ペレッ
ト、ベース基板、保護キャップの夫々の熱膨張係数の差
に起因する熱応力を柔軟層で吸収することができるの
で、熱応力によるバンプ電極の破損を防止することがで
き、熱に対する半導体装置の信頼性を高めることができ
る。
【0015】また、半導体ペレット、ベース基板、保護
キャップの夫々の熱膨張係数の差に起因する熱応力を柔
軟層で吸収することができるので、ベース基板、保護キ
ャップの夫々を半導体ペレットの熱膨張係数に近い材料
で形成する必要がなく、ベース基板、保護キャップの夫
々の部品コストを低減することができる。この結果、半
導体装置の製造コストを低減することができる。
キャップの夫々の熱膨張係数の差に起因する熱応力を柔
軟層で吸収することができるので、ベース基板、保護キ
ャップの夫々を半導体ペレットの熱膨張係数に近い材料
で形成する必要がなく、ベース基板、保護キャップの夫
々の部品コストを低減することができる。この結果、半
導体装置の製造コストを低減することができる。
【0016】上述した手段(2)によれば、バンプ電極
の機械的強度を樹脂の機械的強度で補うことができ、熱
応力に対するバンプ電極の機械的強度を高めることがで
きるので、熱応力によるバンプ電極の破損を防止するこ
とができ、熱に対する半導体装置の信頼性を高めること
ができる。
の機械的強度を樹脂の機械的強度で補うことができ、熱
応力に対するバンプ電極の機械的強度を高めることがで
きるので、熱応力によるバンプ電極の破損を防止するこ
とができ、熱に対する半導体装置の信頼性を高めること
ができる。
【0017】また、熱応力に対するバンプ電極の機械的
強度を高めることができるので、ベース基板、保護キャ
ップの夫々を半導体ペレットの熱膨張係数に近い材料で
形成する必要がなく、ベース基板、保護キャップの夫々
の部品コストを低減することができる。この結果、半導
体装置の製造コストを低減することができる。
強度を高めることができるので、ベース基板、保護キャ
ップの夫々を半導体ペレットの熱膨張係数に近い材料で
形成する必要がなく、ベース基板、保護キャップの夫々
の部品コストを低減することができる。この結果、半導
体装置の製造コストを低減することができる。
【0018】上述した手段(3)によれば、ベース基板
と保護キャップの夫々は互いに固着されていないので、
このベース基板、保護キャップの夫々の熱膨張係数の差
に起因する熱応力の発生を抑制することができる。この
結果、バンプ電極の破損を防止することができ、熱に対
する半導体装置の信頼性を高めることができる。
と保護キャップの夫々は互いに固着されていないので、
このベース基板、保護キャップの夫々の熱膨張係数の差
に起因する熱応力の発生を抑制することができる。この
結果、バンプ電極の破損を防止することができ、熱に対
する半導体装置の信頼性を高めることができる。
【0019】また、ベース基板、保護キャップの夫々の
熱膨張係数の差に起因する熱応力の発生を抑制すること
ができるので、ベース基板、保護キャップの夫々を半導
体ペレットの熱膨張係数に近い材料で形成する必要がな
く、ベース基板、保護キャップの夫々の部品コストを低
減することができる。この結果、半導体装置の製造コス
トを低減することができる。
熱膨張係数の差に起因する熱応力の発生を抑制すること
ができるので、ベース基板、保護キャップの夫々を半導
体ペレットの熱膨張係数に近い材料で形成する必要がな
く、ベース基板、保護キャップの夫々の部品コストを低
減することができる。この結果、半導体装置の製造コス
トを低減することができる。
【0020】
【実施例】以下、本発明の構成について、フェースダウ
ン方式を採用する半導体装置に本発明を適用した実施例
とともに説明する。
ン方式を採用する半導体装置に本発明を適用した実施例
とともに説明する。
【0021】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。
【0022】(実 施 例 1)本発明の実施例1である
フェースダウン方式を採用する半導体装置の概略構成を
図1(平面図)、図2(図1に示すA−A切断線の位置
で切った断面図)及び図3(図1に示すB−B切断線の
位置で切った断面図)に示す。
フェースダウン方式を採用する半導体装置の概略構成を
図1(平面図)、図2(図1に示すA−A切断線の位置
で切った断面図)及び図3(図1に示すB−B切断線の
位置で切った断面図)に示す。
【0023】図2に示すように、フェースダウン方式を
採用する半導体装置は、ベース基板2と保護キャップ6
とで形成されるキャビティ(収納室)7内に半導体ペレッ
ト1を収納する。
採用する半導体装置は、ベース基板2と保護キャップ6
とで形成されるキャビティ(収納室)7内に半導体ペレッ
ト1を収納する。
【0024】前記ベース基板2は、例えば10〜30×
~6[1/℃]程度の熱膨張係数を有するガラスエポキシ
材で形成され、図示しないが多層配線構造で構成され
る。ベース基板2のペレット塔載面には複数の電極2A
が配置される。また、ベース基板2のペレット塔載面に
対向するその裏面には複数の電極2Bが配置される。こ
の電極2A、電極2Bの夫々は前記多層配線構造の配線
を介して電気的に接続される。ガラスエポキシ材で形成
されるベース基板2は、ムライト材又はアルミナイトラ
イド材で形成されるベース基板に比べて部品コストを低
減することができる。
~6[1/℃]程度の熱膨張係数を有するガラスエポキシ
材で形成され、図示しないが多層配線構造で構成され
る。ベース基板2のペレット塔載面には複数の電極2A
が配置される。また、ベース基板2のペレット塔載面に
対向するその裏面には複数の電極2Bが配置される。こ
の電極2A、電極2Bの夫々は前記多層配線構造の配線
を介して電気的に接続される。ガラスエポキシ材で形成
されるベース基板2は、ムライト材又はアルミナイトラ
イド材で形成されるベース基板に比べて部品コストを低
減することができる。
【0025】前記ベース基板2の電極2Bの表面にはバ
ンプ電極9が接続される。このバンプ電極9には、実装
工程において、実装基板の実装面に設けられた電極が接
続される。バンプ電極9は例えばPb−Sn系の合金材
で形成される。
ンプ電極9が接続される。このバンプ電極9には、実装
工程において、実装基板の実装面に設けられた電極が接
続される。バンプ電極9は例えばPb−Sn系の合金材
で形成される。
【0026】前記半導体ペレット1は、例えば3.5×
10~6[1/℃]程度の熱膨張係数を有する単結晶珪素
基板で形成され、その主面(素子形成面)に論理回路シ
ステム、記憶回路システム或はそれらの混合回路システ
ムが塔載される。半導体ペレット1の主面には複数の外
部端子(ボンディングパッド)1Aが配置される。この
外部端子1Aは、前記回路システムを構成する半導体素
子間を接続するための配線層のうち最上層の配線層に形
成され、例えばアルミニウム合金膜で形成される。
10~6[1/℃]程度の熱膨張係数を有する単結晶珪素
基板で形成され、その主面(素子形成面)に論理回路シ
ステム、記憶回路システム或はそれらの混合回路システ
ムが塔載される。半導体ペレット1の主面には複数の外
部端子(ボンディングパッド)1Aが配置される。この
外部端子1Aは、前記回路システムを構成する半導体素
子間を接続するための配線層のうち最上層の配線層に形
成され、例えばアルミニウム合金膜で形成される。
【0027】前記半導体ペレット1の外部端子1A、ベ
ース基板2の電極2Aの夫々はバンプ電極3を介在して
電気的及び機械的に接続される。つまり、半導体ペレッ
ト1はベース基板2のペレット塔載面上にフェースダウ
ン方式で塔載される。バンプ電極3は例えばPb−Sn
系の合金材(ろう材)で形成される。
ース基板2の電極2Aの夫々はバンプ電極3を介在して
電気的及び機械的に接続される。つまり、半導体ペレッ
ト1はベース基板2のペレット塔載面上にフェースダウ
ン方式で塔載される。バンプ電極3は例えばPb−Sn
系の合金材(ろう材)で形成される。
【0028】前記半導体ペレット1を収納するキャビテ
ィ7は、ベース基板1のペレット塔載面と保護キャップ
6の一表面側に設けられた収納溝6Aとで構成される。
つまり、本実施例の半導体ペレット1は、ベース基板1
のペレット塔載面及び保護キャップ6の一表面側に設け
られた収納溝6Aで形成されるキャビティ7内に収納さ
れる。保護キャップ6は、例えば熱伝導率が高いアルミ
ニウム、銅等の金属材で形成される。この金属材で形成
される保護キャップ6は、アルミナイトライド材で形成
される保護キャップに比べて部品コストを低減すること
ができる。アルミニウム材は23.5×10~6[1/
℃]程度の熱膨張係数を有し、銅材は17×10~6[1
/℃]程度の熱膨張係数を有する。
ィ7は、ベース基板1のペレット塔載面と保護キャップ
6の一表面側に設けられた収納溝6Aとで構成される。
つまり、本実施例の半導体ペレット1は、ベース基板1
のペレット塔載面及び保護キャップ6の一表面側に設け
られた収納溝6Aで形成されるキャビティ7内に収納さ
れる。保護キャップ6は、例えば熱伝導率が高いアルミ
ニウム、銅等の金属材で形成される。この金属材で形成
される保護キャップ6は、アルミナイトライド材で形成
される保護キャップに比べて部品コストを低減すること
ができる。アルミニウム材は23.5×10~6[1/
℃]程度の熱膨張係数を有し、銅材は17×10~6[1
/℃]程度の熱膨張係数を有する。
【0029】前記半導体ペレット1の主面に対向するそ
の裏面は、この半導体ペレット1の裏面に対向する保護
キャップ6の一表面に柔軟層5を介在して連結される。
柔軟層5は熱伝導率が高い弾性材又は粘性材で形成され
る。弾性材としては、例えばシリコーンゲル、伝熱シー
ト等を使用する。粘性材としては、例えば熱伝導グリ
ス、熱伝導コンパンド等を使用する。この柔軟層5は、
製品完成後の環境試験である温度サイクル時や実装基板
に半導体装置を実装する実装工程での熱処理時におい
て、半導体ペレット1、ベース基板2、保護キャップ6
の夫々の熱膨張係数の差に起因する熱応力を吸収するこ
とができる。
の裏面は、この半導体ペレット1の裏面に対向する保護
キャップ6の一表面に柔軟層5を介在して連結される。
柔軟層5は熱伝導率が高い弾性材又は粘性材で形成され
る。弾性材としては、例えばシリコーンゲル、伝熱シー
ト等を使用する。粘性材としては、例えば熱伝導グリ
ス、熱伝導コンパンド等を使用する。この柔軟層5は、
製品完成後の環境試験である温度サイクル時や実装基板
に半導体装置を実装する実装工程での熱処理時におい
て、半導体ペレット1、ベース基板2、保護キャップ6
の夫々の熱膨張係数の差に起因する熱応力を吸収するこ
とができる。
【0030】前記半導体ペレット1の主面とベース基板
2のペレット塔載面との間には絶縁性の樹脂4が充填さ
れる。樹脂4は例えば熱硬化性のエポキシ系樹脂で形成
される。このように、半導体ペレット1の主面とベース
基板2のペレット塔載面との間に絶縁性の樹脂4を充填
することにより、バンプ電極3の機械的強度を絶縁性の
樹脂4の機械的強度で補うことができる。
2のペレット塔載面との間には絶縁性の樹脂4が充填さ
れる。樹脂4は例えば熱硬化性のエポキシ系樹脂で形成
される。このように、半導体ペレット1の主面とベース
基板2のペレット塔載面との間に絶縁性の樹脂4を充填
することにより、バンプ電極3の機械的強度を絶縁性の
樹脂4の機械的強度で補うことができる。
【0031】前記ベース基板2、保護キャップ6の夫々
は挾持部材8で互いに挟持固定される。本実施例の挟持
部材8はクリップ構造で構成される。このクリップ構造
の挟持手段8は例えば弾力性を有するバネ材で形成され
る。このように、ベース基板2と保護キャップ6とを弾
性力を有する挟持部材8で互いに挟持固定することによ
り、ベース基板2、保護キャップ6の夫々は互いに固着
されていないので、ベース基板2、保護キャップ6の夫
々の熱膨張係数の差に起因する熱応力の発生を抑制する
ことができる。
は挾持部材8で互いに挟持固定される。本実施例の挟持
部材8はクリップ構造で構成される。このクリップ構造
の挟持手段8は例えば弾力性を有するバネ材で形成され
る。このように、ベース基板2と保護キャップ6とを弾
性力を有する挟持部材8で互いに挟持固定することによ
り、ベース基板2、保護キャップ6の夫々は互いに固着
されていないので、ベース基板2、保護キャップ6の夫
々の熱膨張係数の差に起因する熱応力の発生を抑制する
ことができる。
【0032】前記保護キャップ6は、図1及び図2に示
すように、半導体ペレット1に塔載された回路システム
の動作で発生する動作熱を外部に放出する放熱効率を高
める目的として複数の放熱フィン6Bを備えてる。この
複数の放熱フィン6の夫々は保護キャップ6の本体に一
体化される。また、保護キャップ6は、図3に示すよう
に、その一表面側に設けられた収納溝6Aで規定される
脚部6Cに段差部6Dを備えている。この段差部6Dは
脚部6Cの延在方向に沿って複数配置される。
すように、半導体ペレット1に塔載された回路システム
の動作で発生する動作熱を外部に放出する放熱効率を高
める目的として複数の放熱フィン6Bを備えてる。この
複数の放熱フィン6の夫々は保護キャップ6の本体に一
体化される。また、保護キャップ6は、図3に示すよう
に、その一表面側に設けられた収納溝6Aで規定される
脚部6Cに段差部6Dを備えている。この段差部6Dは
脚部6Cの延在方向に沿って複数配置される。
【0033】前記保護キャップ6の一表面の半導体ペレ
ット1の裏面に対する高さ位置は、保護キャップ6の一
表面側に設けられた収納溝6Aの深さ、即ち収納溝6A
で規定される脚部6Cの突出量で規定される。
ット1の裏面に対する高さ位置は、保護キャップ6の一
表面側に設けられた収納溝6Aの深さ、即ち収納溝6A
で規定される脚部6Cの突出量で規定される。
【0034】このように構成される半導体装置は、半導
体ペレット1に塔載された回路システムの動作で発生す
る熱を柔軟層5、保護キャップ6、放熱フィン6Bの夫
々を介して外部に放出することができる。
体ペレット1に塔載された回路システムの動作で発生す
る熱を柔軟層5、保護キャップ6、放熱フィン6Bの夫
々を介して外部に放出することができる。
【0035】次に、前記半導体装置の製造方法について
図を参照しながら説明する。
図を参照しながら説明する。
【0036】まず、ベース基板2のペレット塔載面の電
極2Aにバンプ電極3を介在して半導体ペレット1の主
面の外部端子1Aを電気的かつ機械的に接続し、図4
(断面図)に示すように、ベース基板2のペレット塔載
面上に半導体ペレット1を塔載する。
極2Aにバンプ電極3を介在して半導体ペレット1の主
面の外部端子1Aを電気的かつ機械的に接続し、図4
(断面図)に示すように、ベース基板2のペレット塔載
面上に半導体ペレット1を塔載する。
【0037】次に、前記ベース基板2のペレット塔載面
と半導体ペレット1の主面との間に、水平面に対して鋭
角をなす角度θにベース基板2を傾斜させた状態で絶縁
性の樹脂4を供給し、図5(断面図)に示すように、ベー
ス基板2のペレット塔載面と半導体ペレット1の主面と
の間に絶縁性の樹脂4を充填する。この工程において、
絶縁性の樹脂4は、表面張力によって均一に充填され、
ベース基板2のペレット塔載面と半導体ペレット1の主
面との間のバンプ電極3を被覆する。絶縁性の樹脂4は
例えばシリンダ10から供給される。
と半導体ペレット1の主面との間に、水平面に対して鋭
角をなす角度θにベース基板2を傾斜させた状態で絶縁
性の樹脂4を供給し、図5(断面図)に示すように、ベー
ス基板2のペレット塔載面と半導体ペレット1の主面と
の間に絶縁性の樹脂4を充填する。この工程において、
絶縁性の樹脂4は、表面張力によって均一に充填され、
ベース基板2のペレット塔載面と半導体ペレット1の主
面との間のバンプ電極3を被覆する。絶縁性の樹脂4は
例えばシリンダ10から供給される。
【0038】次に、図6(断面図)に示すように、前記半
導体ペレット1の裏面上に弾性材又は粘性材を供給し、
半導体ペレット1の裏面上に柔軟層5を形成する。弾性
材、粘性材の夫々は例えばシリンダ11から供給され
る。
導体ペレット1の裏面上に弾性材又は粘性材を供給し、
半導体ペレット1の裏面上に柔軟層5を形成する。弾性
材、粘性材の夫々は例えばシリンダ11から供給され
る。
【0039】次に、前記半導体ペレット1を保護キャッ
プ6で覆い、ベース基板2、保護キャップ6の夫々を挟
持部材8で互いに挟持固定する。この工程において、半
導体ペレット1は、ベース基板2のペレット塔載面及び
保護キャップ6の一表面側に設けられた収納溝6Aで形
成されるキャビティ7内に収納される。また、半導体ペ
レット1の裏面はこの半導体ペレット1の裏面に対向す
る保護キャップ6の一表面に柔軟層5を介在して連結さ
れる。
プ6で覆い、ベース基板2、保護キャップ6の夫々を挟
持部材8で互いに挟持固定する。この工程において、半
導体ペレット1は、ベース基板2のペレット塔載面及び
保護キャップ6の一表面側に設けられた収納溝6Aで形
成されるキャビティ7内に収納される。また、半導体ペ
レット1の裏面はこの半導体ペレット1の裏面に対向す
る保護キャップ6の一表面に柔軟層5を介在して連結さ
れる。
【0040】次に、ベース基板2の裏面に配置された複
数の電極2Bの夫々の表面上にバンプ電極9を形成する
ことにより、図1、図2及び図3に示す半導体装置がほ
ぼ完成する。
数の電極2Bの夫々の表面上にバンプ電極9を形成する
ことにより、図1、図2及び図3に示す半導体装置がほ
ぼ完成する。
【0041】このように、本実施例によれば以下の作用
効果が得られる。
効果が得られる。
【0042】(1)ベース基板2と保護キャップ6とで
形成されるキャビティ7内に半導体ペレット1が収納さ
れ、前記ベース基板2のペレット塔載面の電極2Aにバ
ンプ電極3を介在して前記半導体ペレット1の主面の外
部端子1Aが接続される半導体装置において、前記半導
体ペレット1の主面と対向するその裏面に、この半導体
ペレット1の裏面に対向する前記保護キャップ6の一表
面を柔軟層5を介在して連結する。この構成により、製
品完成後の環境試験である温度サイクル時や実装基板に
半導体装置を実装する実装工程での熱処理時において、
半導体ペレット1、ベース基板2、保護キャップ6の夫
々の熱膨張係数の差に起因する熱応力を柔軟層5で吸収
することができるので、熱応力によるバンプ電極3の破
損を防止することができ、熱に対する半導体装置の信頼
性を高めることができる。
形成されるキャビティ7内に半導体ペレット1が収納さ
れ、前記ベース基板2のペレット塔載面の電極2Aにバ
ンプ電極3を介在して前記半導体ペレット1の主面の外
部端子1Aが接続される半導体装置において、前記半導
体ペレット1の主面と対向するその裏面に、この半導体
ペレット1の裏面に対向する前記保護キャップ6の一表
面を柔軟層5を介在して連結する。この構成により、製
品完成後の環境試験である温度サイクル時や実装基板に
半導体装置を実装する実装工程での熱処理時において、
半導体ペレット1、ベース基板2、保護キャップ6の夫
々の熱膨張係数の差に起因する熱応力を柔軟層5で吸収
することができるので、熱応力によるバンプ電極3の破
損を防止することができ、熱に対する半導体装置の信頼
性を高めることができる。
【0043】また、半導体ペレット1、ベース基板2、
保護キャップ6の夫々の熱膨張係数の差に起因する熱応
力を柔軟層5で吸収することができるので、ベース基板
2、保護キャップ6の夫々を半導体ペレット1の熱膨張
係数に近い材料で形成する必要がなく、ベース基板2、
保護キャップ6の夫々の部品コストを低減することがで
きる。この結果、半導体装置の製造コストを低減するこ
とができる。
保護キャップ6の夫々の熱膨張係数の差に起因する熱応
力を柔軟層5で吸収することができるので、ベース基板
2、保護キャップ6の夫々を半導体ペレット1の熱膨張
係数に近い材料で形成する必要がなく、ベース基板2、
保護キャップ6の夫々の部品コストを低減することがで
きる。この結果、半導体装置の製造コストを低減するこ
とができる。
【0044】(2)前記半導体ペレット1の主面と前記
ベース基板2のペレット塔載面との間に樹脂を充填す
る。この構成により、バンプ電極3の機械的強度を樹脂
4の機械的強度で補うことができ、熱応力に対するバン
プ電極3の機械的強度を高めることができるので、熱応
力によるバンプ電極3の破損を防止することができ、熱
に対する半導体装置の信頼性を高めることができる。
ベース基板2のペレット塔載面との間に樹脂を充填す
る。この構成により、バンプ電極3の機械的強度を樹脂
4の機械的強度で補うことができ、熱応力に対するバン
プ電極3の機械的強度を高めることができるので、熱応
力によるバンプ電極3の破損を防止することができ、熱
に対する半導体装置の信頼性を高めることができる。
【0045】また、熱応力に対するバンプ電極3の機械
的強度を高めることができるので、ベース基板2、保護
キャップ6の夫々を半導体ペレット1の熱膨張係数に近
い材料で形成する必要がなく、ベース基板2、保護キャ
ップ6の夫々の部品コストを低減することができる。こ
の結果、半導体装置の製造コストを低減することができ
る。
的強度を高めることができるので、ベース基板2、保護
キャップ6の夫々を半導体ペレット1の熱膨張係数に近
い材料で形成する必要がなく、ベース基板2、保護キャ
ップ6の夫々の部品コストを低減することができる。こ
の結果、半導体装置の製造コストを低減することができ
る。
【0046】(3)前記ベース基板2と前記保護キャッ
プ6とを弾性力を有する挾持部材8で挟持固定する。こ
の構成により、ベース基板2と保護キャップ6の夫々は
互いに固着されていないので、このベース基板2、保護
キャップ6の夫々の熱膨張係数の差に起因する熱応力の
発生を抑制することができる。この結果、バンプ電極3
の破損を防止することができ、熱に対する半導体装置の
信頼性を高めることができる。
プ6とを弾性力を有する挾持部材8で挟持固定する。こ
の構成により、ベース基板2と保護キャップ6の夫々は
互いに固着されていないので、このベース基板2、保護
キャップ6の夫々の熱膨張係数の差に起因する熱応力の
発生を抑制することができる。この結果、バンプ電極3
の破損を防止することができ、熱に対する半導体装置の
信頼性を高めることができる。
【0047】また、ベース基板2、保護キャップ6の夫
々の熱膨張係数の差に起因する熱応力の発生を抑制する
ことができるので、ベース基板2、保護キャップ6の夫
々を半導体ペレット1の熱膨張係数に近い材料で形成す
る必要がなく、ベース基板2、保護キャップ6の夫々の
部品コストを低減することができる。この結果、半導体
装置の製造コストを低減することができる。
々の熱膨張係数の差に起因する熱応力の発生を抑制する
ことができるので、ベース基板2、保護キャップ6の夫
々を半導体ペレット1の熱膨張係数に近い材料で形成す
る必要がなく、ベース基板2、保護キャップ6の夫々の
部品コストを低減することができる。この結果、半導体
装置の製造コストを低減することができる。
【0048】(4)前記保護キャップ6に放熱フィン6
Bを備える。この構成により、保護キャップ6の表面積
を増加することができるので、半導体ペレット1に塔載
された回路システムの動作で発生する動作熱を外部に放
出する放熱効率を高めることができる。
Bを備える。この構成により、保護キャップ6の表面積
を増加することができるので、半導体ペレット1に塔載
された回路システムの動作で発生する動作熱を外部に放
出する放熱効率を高めることができる。
【0049】(5)ベース基板2と保護キャップ6とで
形成されるキャビティ7内に半導体ペレット1が収納さ
れ、前記ベース基板2のペレット塔載面の電極2Aにバ
ンプ電極3を介在して前記半導体ペレット1の主面の外
部端子1Aが接続される半導体装置の製造方法におい
て、前記ベース基板2のペレット塔載面の電極2Aにバ
ンプ電極3を介在して前記半導体ペレット1の主面の外
部端子1Aを接続する工程と、前記半導体ペレット1の
裏面上に柔軟層5を形成する工程とを備える。この構成
により、半導体ペレット1の裏面上に柔軟層5を形成す
ることができるので、熱に対する信頼性の高い半導体装
置を製造することができる。
形成されるキャビティ7内に半導体ペレット1が収納さ
れ、前記ベース基板2のペレット塔載面の電極2Aにバ
ンプ電極3を介在して前記半導体ペレット1の主面の外
部端子1Aが接続される半導体装置の製造方法におい
て、前記ベース基板2のペレット塔載面の電極2Aにバ
ンプ電極3を介在して前記半導体ペレット1の主面の外
部端子1Aを接続する工程と、前記半導体ペレット1の
裏面上に柔軟層5を形成する工程とを備える。この構成
により、半導体ペレット1の裏面上に柔軟層5を形成す
ることができるので、熱に対する信頼性の高い半導体装
置を製造することができる。
【0050】(6)前記柔軟層5を形成する工程の前
に、前記ベース基板2のペレット塔載面と前記半導体ペ
レット1の主面との間に、水平面に対して鋭角をなす角
度に前記ベース基板のペレット塔載面を傾斜させた状態
で絶縁性の樹脂を流し込む工程を備える。この構成によ
り、ベース基板2のペレット塔載面と前記半導体ペレッ
ト1の主面との間に絶縁性の樹脂4を均一に流し込むこ
とができ、複数のバンプ電極3の夫々の機械的強度を絶
縁性の樹脂4の機械的強度で補うことができるので、熱
に対する信頼性の高い半導体装置を製造することができ
る。
に、前記ベース基板2のペレット塔載面と前記半導体ペ
レット1の主面との間に、水平面に対して鋭角をなす角
度に前記ベース基板のペレット塔載面を傾斜させた状態
で絶縁性の樹脂を流し込む工程を備える。この構成によ
り、ベース基板2のペレット塔載面と前記半導体ペレッ
ト1の主面との間に絶縁性の樹脂4を均一に流し込むこ
とができ、複数のバンプ電極3の夫々の機械的強度を絶
縁性の樹脂4の機械的強度で補うことができるので、熱
に対する信頼性の高い半導体装置を製造することができ
る。
【0051】(7)前記樹脂を流し込む工程の後に、前
記ベース基板2と保護キャップ6とを挟持部材8で挟持
固定する工程を備える。この構成により、ベース基板2
と保護キャップ6の夫々は互いに固着されていないの
で、このベース基板2、保護キャップ6の夫々の熱膨張
係数の差に起因する熱応力の発生を抑制することがで
き、熱に対する信頼性の高い半導体装置を製造すること
ができる。
記ベース基板2と保護キャップ6とを挟持部材8で挟持
固定する工程を備える。この構成により、ベース基板2
と保護キャップ6の夫々は互いに固着されていないの
で、このベース基板2、保護キャップ6の夫々の熱膨張
係数の差に起因する熱応力の発生を抑制することがで
き、熱に対する信頼性の高い半導体装置を製造すること
ができる。
【0052】なお、前記ベース基板2は例えばガラスエ
ポキシ材に比べて熱膨張係数が小さいムライト材又はア
ルミナイトライド材で形成してもよい。
ポキシ材に比べて熱膨張係数が小さいムライト材又はア
ルミナイトライド材で形成してもよい。
【0053】また、前記保護キャップ6は例えばアルミ
ニウム材、銅材等の金属材に比べて熱膨張係数が小さい
アルミナイトライド材で形成してもよい。
ニウム材、銅材等の金属材に比べて熱膨張係数が小さい
アルミナイトライド材で形成してもよい。
【0054】また、前記半導体ペレット1の裏面と保護
キャップ6の一表面との間の柔軟層5の代わりにマイク
ロギャップ層(空間層)を設けてもよい。
キャップ6の一表面との間の柔軟層5の代わりにマイク
ロギャップ層(空間層)を設けてもよい。
【0055】(実 施 例 2)本発明の実施例2である
フェースダウン方式を採用する半導体装置の概略構成を
図7(断面図)に示す。
フェースダウン方式を採用する半導体装置の概略構成を
図7(断面図)に示す。
【0056】図7に示すように、フェースダウン方式を
採用する半導体装置は、ベース基板2と保護キャップ6
とで形成されるキャビティ(収納室)7内に半導体ペレッ
ト1を収納する。
採用する半導体装置は、ベース基板2と保護キャップ6
とで形成されるキャビティ(収納室)7内に半導体ペレッ
ト1を収納する。
【0057】前記半導体ペレット1の外部端子1A、ベ
ース基板2の電極2Aの夫々はバンプ電極3を介在して
電気的及び機械的に接続される。つまり、半導体ペレッ
ト1はベース基板2のペレット塔載面上にフェースダウ
ン方式で塔載される。
ース基板2の電極2Aの夫々はバンプ電極3を介在して
電気的及び機械的に接続される。つまり、半導体ペレッ
ト1はベース基板2のペレット塔載面上にフェースダウ
ン方式で塔載される。
【0058】前記半導体ペレット1を収納するキャビテ
ィ7は、ベース基板1のペレット塔載面側に設けられた
収納溝2Dと保護キャップ6の一表面とで構成される。
つまり、本実施例の半導体ペレット1は、ベース基板1
のペレット塔載面側面設けられた収納溝2D及び保護キ
ャップ6の一表面で形成されるキャビティ7内に収納さ
れる。
ィ7は、ベース基板1のペレット塔載面側に設けられた
収納溝2Dと保護キャップ6の一表面とで構成される。
つまり、本実施例の半導体ペレット1は、ベース基板1
のペレット塔載面側面設けられた収納溝2D及び保護キ
ャップ6の一表面で形成されるキャビティ7内に収納さ
れる。
【0059】前記半導体ペレット1の主面に対向するそ
の裏面は、この半導体ペレット1の裏面に対向する保護
キャップ6の一表面に柔軟層5を介在して連結される。
前記半導体ペレット1の主面とベース基板2のペレット
塔載面との間には絶縁性の樹脂4が充填される。
の裏面は、この半導体ペレット1の裏面に対向する保護
キャップ6の一表面に柔軟層5を介在して連結される。
前記半導体ペレット1の主面とベース基板2のペレット
塔載面との間には絶縁性の樹脂4が充填される。
【0060】前記保護キャップ6の一表面の半導体ペレ
ット1の裏面に対する高さ方向の位置は、ベース基板2
のペレット塔載面側に設けられた収納溝2Dの深さ、即
ち収納溝2Dで規定される脚部2Eの突出量で規定され
る。
ット1の裏面に対する高さ方向の位置は、ベース基板2
のペレット塔載面側に設けられた収納溝2Dの深さ、即
ち収納溝2Dで規定される脚部2Eの突出量で規定され
る。
【0061】前記ベース基板2には、図8(保護キャッ
プ及び柔軟層を除去した状態の平面図)に示すように、
樹脂供給溝2Fが設けられる。樹脂供給溝2Fはベース
部材2のペレット塔載面側に設けられた収納溝2Dに連
結される。この樹脂供給溝2Fには、製造プロセス中の
樹脂充填工程において、ベース部材2のペレット塔載面
と半導体ペレット2との間に充填される絶縁性の樹脂4
が一旦溜め込まれる。
プ及び柔軟層を除去した状態の平面図)に示すように、
樹脂供給溝2Fが設けられる。樹脂供給溝2Fはベース
部材2のペレット塔載面側に設けられた収納溝2Dに連
結される。この樹脂供給溝2Fには、製造プロセス中の
樹脂充填工程において、ベース部材2のペレット塔載面
と半導体ペレット2との間に充填される絶縁性の樹脂4
が一旦溜め込まれる。
【0062】次に、前記半導体装置の製造方法について
図を参照しながら説明する。
図を参照しながら説明する。
【0063】まず、ベース基板2のペレット塔載面の電
極2Aにバンプ電極3を介在して半導体ペレット1の主
面の外部端子1Aを電気的かつ機械的に接続し、ベース
基板2のペレット塔載面上に半導体ペレット1を塔載す
る。
極2Aにバンプ電極3を介在して半導体ペレット1の主
面の外部端子1Aを電気的かつ機械的に接続し、ベース
基板2のペレット塔載面上に半導体ペレット1を塔載す
る。
【0064】次に、図9(断面図)に示すように、ベース
基板2の樹脂供給溝2F内に絶縁性の樹脂4を供給す
る。絶縁性の樹脂4は例えばシリンダ10から供給され
る。
基板2の樹脂供給溝2F内に絶縁性の樹脂4を供給す
る。絶縁性の樹脂4は例えばシリンダ10から供給され
る。
【0065】次に、前記樹脂供給溝2Fからベース基板
2のペレット塔載面と半導体ペレット1の主面との間
に、水平面に対して鋭角をなす角度θにベース基板2を
傾斜させた状態で絶縁性の樹脂4を供給し、図10(断
面図)に示すように、ベース基板2のペレット塔載面と
半導体ペレット1の主面との間に絶縁性の樹脂4を充填
する。この工程において、絶縁性の樹脂4は、表面張力
によって均一に充填され、ベース基板2のペレット塔載
面と半導体ペレット1の主面との間に配置された複数の
バンプ電極3の夫々を被覆する。
2のペレット塔載面と半導体ペレット1の主面との間
に、水平面に対して鋭角をなす角度θにベース基板2を
傾斜させた状態で絶縁性の樹脂4を供給し、図10(断
面図)に示すように、ベース基板2のペレット塔載面と
半導体ペレット1の主面との間に絶縁性の樹脂4を充填
する。この工程において、絶縁性の樹脂4は、表面張力
によって均一に充填され、ベース基板2のペレット塔載
面と半導体ペレット1の主面との間に配置された複数の
バンプ電極3の夫々を被覆する。
【0066】次に、前記半導体ペレット1の裏面上に弾
性材又は粘性材を供給し、半導体ペレット1の裏面上に
柔軟層5を形成する。
性材又は粘性材を供給し、半導体ペレット1の裏面上に
柔軟層5を形成する。
【0067】次に、前記半導体ペレット1を保護キャッ
プ6で覆い、ベース基板2、保護キャップ6の夫々を挟
持部材8で互いに挟持固定する。この工程において、半
導体ペレット1は、ベース基板2のペレット塔載面及び
保護キャップ6の一表面側に設けられた収納溝6Aで形
成されるキャビティ7内に収納される。また、半導体ペ
レット1の裏面はこの半導体ペレット1の裏面に対向す
る保護キャップ6の一表面に柔軟層5を介在して連結さ
れる。
プ6で覆い、ベース基板2、保護キャップ6の夫々を挟
持部材8で互いに挟持固定する。この工程において、半
導体ペレット1は、ベース基板2のペレット塔載面及び
保護キャップ6の一表面側に設けられた収納溝6Aで形
成されるキャビティ7内に収納される。また、半導体ペ
レット1の裏面はこの半導体ペレット1の裏面に対向す
る保護キャップ6の一表面に柔軟層5を介在して連結さ
れる。
【0068】次に、ベース基板2の裏面に配置された複
数の電極2Bの夫々の表面上にバンプ電極9を形成する
ことにより、図7に示す半導体装置がほぼ完成する。
数の電極2Bの夫々の表面上にバンプ電極9を形成する
ことにより、図7に示す半導体装置がほぼ完成する。
【0069】なお、前記ベース基板2のペレット塔載面
と半導体ペレット1の主面との間に絶縁性の樹脂4を充
填する工程は、ベース基板2の樹脂供給溝2E内に絶縁
性の樹脂4を供給する工程と、半導体ペレット1の裏面
上に柔軟層5を形成する工程との間の搬送工程において
行なわれる。
と半導体ペレット1の主面との間に絶縁性の樹脂4を充
填する工程は、ベース基板2の樹脂供給溝2E内に絶縁
性の樹脂4を供給する工程と、半導体ペレット1の裏面
上に柔軟層5を形成する工程との間の搬送工程において
行なわれる。
【0070】このように、本実施例によれば、前述の実
施例1と同様の作用効果が得られると共に、ベース基板
2に樹脂供給溝2Fを設けることにより、ベース基板2
の樹脂供給溝2E内に絶縁性の樹脂4を供給する工程か
ら、半導体ペレット1の裏面上に柔軟層5を形成する工
程にベース基板2を搬送しながら、ベース基板2のペレ
ット塔載面と半導体ペレット1の主面との間に絶縁性の
樹脂4を充填することができるので、半導体装置の製造
プロセスにおける製造時間を短縮することができる。
施例1と同様の作用効果が得られると共に、ベース基板
2に樹脂供給溝2Fを設けることにより、ベース基板2
の樹脂供給溝2E内に絶縁性の樹脂4を供給する工程か
ら、半導体ペレット1の裏面上に柔軟層5を形成する工
程にベース基板2を搬送しながら、ベース基板2のペレ
ット塔載面と半導体ペレット1の主面との間に絶縁性の
樹脂4を充填することができるので、半導体装置の製造
プロセスにおける製造時間を短縮することができる。
【0071】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前
記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能であることは勿論であ
る。
前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前
記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能であることは勿論であ
る。
【0072】例えば、本発明は、図11(要部断面図)に
示すように、ベース基板2の裏面の電極2Bの表面に一
端側が接続されたリードピン12を有する半導体装置に
適用することができる。
示すように、ベース基板2の裏面の電極2Bの表面に一
端側が接続されたリードピン12を有する半導体装置に
適用することができる。
【0073】また、本発明は、図12(要部断面図)に示
すように、ベース基板2のペレット塔載面側の電極2C
の表面に一端側が接続されたアウターリード13を有す
る半導体装置に適用することができる。この場合、挟持
部材8は、ベース基板2に設けられたスリット2Gを介
してベース基板2、保護キャップ6の夫々を挟持固定す
る。
すように、ベース基板2のペレット塔載面側の電極2C
の表面に一端側が接続されたアウターリード13を有す
る半導体装置に適用することができる。この場合、挟持
部材8は、ベース基板2に設けられたスリット2Gを介
してベース基板2、保護キャップ6の夫々を挟持固定す
る。
【0074】また、本発明は、図示していないが、ベー
ス基板のペレット塔載面上に複数個の半導体ペレットを
フェースダウン方式で実装し、これらの半導体ペレット
を前記ベース基板及び保護キャップで形成されるキャビ
ティ内に収納する半導体装置に適用することができる。
ス基板のペレット塔載面上に複数個の半導体ペレットを
フェースダウン方式で実装し、これらの半導体ペレット
を前記ベース基板及び保護キャップで形成されるキャビ
ティ内に収納する半導体装置に適用することができる。
【0075】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【0076】ベース基板のペレット塔載面の電極と半導
体ペレットの主面の外部端子とを接続するバンプ電極の
破損を防止し、熱に対する半導体装置の信頼性を高める
ことができる。
体ペレットの主面の外部端子とを接続するバンプ電極の
破損を防止し、熱に対する半導体装置の信頼性を高める
ことができる。
【0077】また、前記半導体装置の製造コストを低減
することができる。
することができる。
【図1】本発明の実施例1である半導体装置の概略構成
を示す平面図。
を示す平面図。
【図2】図1に示すA−A切断線の位置で切った断面
図。
図。
【図3】図1に示すB−B切断線の位置で切った断面側
面図。
面図。
【図4】前記半導体装置の製造方法を説明するための断
面図。
面図。
【図5】前記半導体装置の製造方法を説明するための断
面図。
面図。
【図6】前記半導体装置の製造方法を説明するための断
面図。
面図。
【図7】本発明の実施例2である半導体装置の概略構成
を示す断面図。
を示す断面図。
【図8】前記半導体装置の保護キャップ及び柔軟層を除
去した状態を示す平面図。
去した状態を示す平面図。
【図9】前記半導体装置の製造方法を説明するための断
面図。
面図。
【図10】前記半導体装置の製造方法を説明するための
断面図。
断面図。
【図11】本発明の他の実施例である半導体装置の概略
構成を示す要部断面図。
構成を示す要部断面図。
【図12】本発明の他の実施例である半導体装置の概略
構成を示す要部断面図。
構成を示す要部断面図。
1…半導体ペレット、2…ベース基板、2A,2B,2
C…電極、2D…収納溝、2E…脚部、2F…樹脂供給
溝、2G…スリット、3…バンプ電極、4…樹脂、5…
柔軟層、6…保護キャップ、6A…収納溝、6B…放熱
フィン、6C…脚部、6D…段差部、7…キャビティ
(収納室)、8…挟持部材、9…バンプ電極、10,11
…シリンダ、12…リードピン、13…アウターリー
ド。
C…電極、2D…収納溝、2E…脚部、2F…樹脂供給
溝、2G…スリット、3…バンプ電極、4…樹脂、5…
柔軟層、6…保護キャップ、6A…収納溝、6B…放熱
フィン、6C…脚部、6D…段差部、7…キャビティ
(収納室)、8…挟持部材、9…バンプ電極、10,11
…シリンダ、12…リードピン、13…アウターリー
ド。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 俊彦 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 後藤 正克 北海道亀田郡七飯町字中島145番地 日立 北海セミコンダクタ株式会社内
Claims (10)
- 【請求項1】 ベース基板と保護キャップとで形成され
るキャビティ内に半導体ペレットが収納され、前記ベー
ス基板のペレット塔載面の電極にバンプ電極を介在して
前記半導体ペレットの主面の外部端子が接続される半導
体装置において、前記半導体ペレットの主面と対向する
その裏面に、この半導体ペレットの裏面に対向する前記
保護キャップの一表面が柔軟層を介在して連結されるこ
とを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載の半導体装置において、
前記半導体ペレットの主面と前記ベース基板のペレット
塔載面との間に絶縁性の樹脂が充填されることを特徴と
する半導体装置。 - 【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載の半導体装
置において、前記ベース基板と保護キャップとが弾性力
を有する挾持部材で挟持固定されることを特徴とする半
導体装置。 - 【請求項4】 請求項1乃至請求項3のうちいずれか1
項に記載の半導体装置において、前記キャビティが、前
記ベース基板のペレット塔載面と前記保護キャップの一
表面側に設けられた収納溝とで構成されることを特徴と
する半導体装置。 - 【請求項5】 請求項1乃至請求項3のうちいずれか1
項に記載の半導体装置において、前記キャビティが、前
記ベース基板のペレット塔載面側に設けられた収納溝と
前記保護キャップの一表面とで構成されることを特徴と
する半導体装置。 - 【請求項6】 請求項1乃至請求項5のうちいずれか1
項に記載の半導体装置において、前記保護キャップが、
前記半導体ペレットの動作熱を外部に放出する放熱フィ
ンを備えていることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項7】 請求項5に記載の半導体装置において、
前記ベース基板が、そのペレット塔載面側に設けられた
収納溝に連結される樹脂供給溝を備えていることを特徴
とする半導体装置。 - 【請求項8】 ベース基板と保護キャップとで形成され
るキャビティ内に半導体ペレットが収納され、前記ベー
ス基板のペレット塔載面の電極にバンプ電極を介在して
前記半導体ペレットの主面の外部端子が接続される半導
体装置の製造方法において、前記ベース基板のペレット
塔載面の電極にバンプ電極を介在して前記半導体ペレッ
トの主面の外部端子を接続する工程と、前記半導体ペレ
ットの裏面上に柔軟層を形成する工程とを備えたことを
特徴とする半導体装置の製造方法。 - 【請求項9】 請求項9に記載の半導体装置の製造方法
において、前記柔軟層を形成する工程の前に、前記ベー
ス基板のペレット塔載面と前記半導体ペレットの主面と
の間に、水平面に対して鋭角をなす角度に前記ベース基
板のペレット塔載面を傾斜させた状態で絶縁性の樹脂を
流し込む工程を備えたことを特徴とする半導体装置の製
造方法。 - 【請求項10】 請求項10に記載の半導体装置の製造
方法において、前記樹脂を流し込む工程の後に、前記ベ
ース基板と保護キャップとを挟持部材で挟持固定する工
程を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7028351A JPH08222652A (ja) | 1995-02-16 | 1995-02-16 | 半導体装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7028351A JPH08222652A (ja) | 1995-02-16 | 1995-02-16 | 半導体装置及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08222652A true JPH08222652A (ja) | 1996-08-30 |
Family
ID=12246192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7028351A Pending JPH08222652A (ja) | 1995-02-16 | 1995-02-16 | 半導体装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08222652A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100404159B1 (ko) * | 1997-09-02 | 2004-02-05 | 오끼 덴끼 고오교 가부시끼가이샤 | 반도체장치 |
| WO2006114957A1 (ja) * | 2005-04-18 | 2006-11-02 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 電子部品モジュール |
| JP2007281234A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Hitachi Ltd | 電子回路基板 |
| JP2009253073A (ja) * | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
-
1995
- 1995-02-16 JP JP7028351A patent/JPH08222652A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100404159B1 (ko) * | 1997-09-02 | 2004-02-05 | 오끼 덴끼 고오교 가부시끼가이샤 | 반도체장치 |
| WO2006114957A1 (ja) * | 2005-04-18 | 2006-11-02 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 電子部品モジュール |
| JP2007281234A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Hitachi Ltd | 電子回路基板 |
| JP2009253073A (ja) * | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
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