JPH0822410B2 - 塗布方法及び塗布装置 - Google Patents
塗布方法及び塗布装置Info
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- JPH0822410B2 JPH0822410B2 JP62031041A JP3104187A JPH0822410B2 JP H0822410 B2 JPH0822410 B2 JP H0822410B2 JP 62031041 A JP62031041 A JP 62031041A JP 3104187 A JP3104187 A JP 3104187A JP H0822410 B2 JPH0822410 B2 JP H0822410B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- bead
- decompression chamber
- web
- decompression
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はスライドビード塗布に関し、更に詳しくはビ
ード安定のための減圧手段を用いる塗布に関する。
ード安定のための減圧手段を用いる塗布に関する。
（従来の技術） 写真材料は一般にハロゲン化銀粒子及び写真特性、生
産性を整える添加剤を含有した親水性コロイド（例えば
ゼラチン）液を、ポリエチレンテレフタレート或はバラ
イタ紙の如き可撓性長尺支持体（以下ウエブという）に
連続的に塗設、乾燥して製造される。
産性を整える添加剤を含有した親水性コロイド（例えば
ゼラチン）液を、ポリエチレンテレフタレート或はバラ
イタ紙の如き可撓性長尺支持体（以下ウエブという）に
連続的に塗設、乾燥して製造される。
写真材料を構成する写真層をウエブに塗設する方法と
して初期にはディップ法、ダブルロール法、エアドクタ
法等が用いられたが、多層同時高速塗布の要請の下にカ
ーテン塗布法及びスライドビード塗布法等が開発され、
現在スライドビード塗布法が主流を占めるに到っている 前記スライドビード塗布法については、米国特許2,68
1,294号、同2,761,419号、同2,761,179号及び英国特許8
37,095号に開示されている。
して初期にはディップ法、ダブルロール法、エアドクタ
法等が用いられたが、多層同時高速塗布の要請の下にカ
ーテン塗布法及びスライドビード塗布法等が開発され、
現在スライドビード塗布法が主流を占めるに到っている 前記スライドビード塗布法については、米国特許2,68
1,294号、同2,761,419号、同2,761,179号及び英国特許8
37,095号に開示されている。
スライドビード塗布法は前記特許に記載の如く、１液
以上の塗布液を塗布液流延供給器（スライドホッパ）に
設けられたスリットから連続した幅広リボンとして押出
し、塗布液流延面（スライド面）の終端（リップ部）に
接近して走行するウエブ面に前記塗布液の単層もしくは
積層リボンを張渡してビードを形成し、塗布液の流延速
度と該リボンをビードより持去るウエブの走行速度とを
整合させてウエブ上に単層もしくは積層の塗膜を塗設す
るものである。尚一般に走行するウエブはリップ部に接
近して設けられた塗布バックアップローラに張架され
る。
以上の塗布液を塗布液流延供給器（スライドホッパ）に
設けられたスリットから連続した幅広リボンとして押出
し、塗布液流延面（スライド面）の終端（リップ部）に
接近して走行するウエブ面に前記塗布液の単層もしくは
積層リボンを張渡してビードを形成し、塗布液の流延速
度と該リボンをビードより持去るウエブの走行速度とを
整合させてウエブ上に単層もしくは積層の塗膜を塗設す
るものである。尚一般に走行するウエブはリップ部に接
近して設けられた塗布バックアップローラに張架され
る。
従ってこの様に構成されたスライドビード塗布法では
塗布液供給量とウエブの走行速度（塗布速度）とは完全
に整合していることが必須条件であるが、更にウエブと
リップ部間に張渡された塗布液リボンの作るビードの形
状安定性は塗膜の均一性乾燥仕上りに大きな影響を及ぼ
す。
塗布液供給量とウエブの走行速度（塗布速度）とは完全
に整合していることが必須条件であるが、更にウエブと
リップ部間に張渡された塗布液リボンの作るビードの形
状安定性は塗膜の均一性乾燥仕上りに大きな影響を及ぼ
す。
例えばウエブの走行方向に関してビードの追従、遅退
即ちウエブの縦方向にビードの振動が起れば単純には横
縞（肋状むら）、塗布切れの発生、更に該振動でビード
位置の気−液−固相部分に乱れが生ずれば縦筋むらを生
じる。
即ちウエブの縦方向にビードの振動が起れば単純には横
縞（肋状むら）、塗布切れの発生、更に該振動でビード
位置の気−液−固相部分に乱れが生ずれば縦筋むらを生
じる。
これらの不都合はビード自身にビード形状安定化に対
する積極的な自己復元力がない限り避けることはできな
い。
する積極的な自己復元力がない限り避けることはできな
い。
米国特許2,681,294号では減圧室を付設してビードを
ウエブの走行方向とは逆方向に減圧によって吸引しビー
ドの安定化を図った。以下図を用いて具体的に説明す
る。
ウエブの走行方向とは逆方向に減圧によって吸引しビー
ドの安定化を図った。以下図を用いて具体的に説明す
る。
第４図は従来行われている減圧室を有するスライドビ
ード塗布機の側断面図であって、スライドビード塗布機
20のスライド面を流れる塗布液層３は、リップ部23と塗
布バックアップローラ１を抱いて走行するウエブ２との
間で、リボン状液溜り即ちビード４を形成する。このビ
ードを減圧ポンプ33により吸引減圧されている減圧室30
により下方に吸引することにより、ビードの安定化をは
かっているのである。
ード塗布機の側断面図であって、スライドビード塗布機
20のスライド面を流れる塗布液層３は、リップ部23と塗
布バックアップローラ１を抱いて走行するウエブ２との
間で、リボン状液溜り即ちビード４を形成する。このビ
ードを減圧ポンプ33により吸引減圧されている減圧室30
により下方に吸引することにより、ビードの安定化をは
かっているのである。
しかし乍らこの場合塗布以前のウエブと減圧室壁との
間の間隙より空気が減圧室30内に流入し、この空気によ
り、減圧室内に渦が発生し、ビードを不安定にする。
間の間隙より空気が減圧室30内に流入し、この空気によ
り、減圧室内に渦が発生し、ビードを不安定にする。
これに対して、米国特許4,335,672号には減圧室を２
室とする方法が開示されている。第５図（ａ）は、該米
国特許に示す塗布機の概略側断面図を示したものであ
る。同図において、減圧室は塗布機側の内減圧室32と外
側の外減圧室31に分れており外減圧室31は減圧ポンプ33
により減圧吸引される。内減圧室32は、塗布バックアッ
プローラ１を抱いて走行するウエブ２と両減圧室の隔壁
との間隙を介して、外減圧室側に吸引減圧される。これ
によりビード部を含む内減圧室３の減圧度を安定させる
方法である。
室とする方法が開示されている。第５図（ａ）は、該米
国特許に示す塗布機の概略側断面図を示したものであ
る。同図において、減圧室は塗布機側の内減圧室32と外
側の外減圧室31に分れており外減圧室31は減圧ポンプ33
により減圧吸引される。内減圧室32は、塗布バックアッ
プローラ１を抱いて走行するウエブ２と両減圧室の隔壁
との間隙を介して、外減圧室側に吸引減圧される。これ
によりビード部を含む内減圧室３の減圧度を安定させる
方法である。
しかし乍ら、該方法によっても、塗布ムラに対して充
分な対策にはなりえていない。その原因として考えられ
ることは、例えば該塗布機において、ビードが形成され
ると、内減圧室32には空気の流入が極少になるため、内
減圧室32より外減圧室31に向かう空気の流れがなくな
り、第５図（ｂ）に示すＡ、Ｂは同じ減圧度となる。第
５図（ｂ）は該米国特許の方法の減圧室拡大断面図であ
る。このため外減圧室31内に発生する渦の影響が尚疎密
波として内減圧室32に伝わり、これがビートの安定に影
響するものと考えられる。
分な対策にはなりえていない。その原因として考えられ
ることは、例えば該塗布機において、ビードが形成され
ると、内減圧室32には空気の流入が極少になるため、内
減圧室32より外減圧室31に向かう空気の流れがなくな
り、第５図（ｂ）に示すＡ、Ｂは同じ減圧度となる。第
５図（ｂ）は該米国特許の方法の減圧室拡大断面図であ
る。このため外減圧室31内に発生する渦の影響が尚疎密
波として内減圧室32に伝わり、これがビートの安定に影
響するものと考えられる。
（発明が解決しようとする問題点） 上記のごとき、問題に対して本発明の目的はスライド
ビード塗布機において、減圧方法の改良により、塗布ビ
ードの安定をはかり、塗布むら等の無い、優れた塗布性
を有する塗布方法及び塗布装置を抵抗することである。
ビード塗布機において、減圧方法の改良により、塗布ビ
ードの安定をはかり、塗布むら等の無い、優れた塗布性
を有する塗布方法及び塗布装置を抵抗することである。
（問題点を解決するための手段） 前記した本発明の目的は、連続的に走行する支持体
に、スライドビード塗布装置を用いて、少くとも１層以
上に塗布液を塗布する方法に於て、ビードを維持するた
めビードに直接減圧をかけるビード減圧室に大気に直結
する疎通手段を設け、更に前記ビード減圧室の外側に吸
引減圧する吸引減圧室を接続させたことを特徴とするス
ライドビード塗布方法及び該方法に則った塗布装置によ
って達成される。
に、スライドビード塗布装置を用いて、少くとも１層以
上に塗布液を塗布する方法に於て、ビードを維持するた
めビードに直接減圧をかけるビード減圧室に大気に直結
する疎通手段を設け、更に前記ビード減圧室の外側に吸
引減圧する吸引減圧室を接続させたことを特徴とするス
ライドビード塗布方法及び該方法に則った塗布装置によ
って達成される。
更に、本発明の態様としては前記大気に直結する疎通
手段に空気の流入量を調節する調節手段を有することが
好しい。
手段に空気の流入量を調節する調節手段を有することが
好しい。
以下本発明の方法について図面を用いて詳細に説明す
る。第１図（ａ）は本発明による１実施態様を示す概略
側断面図である。同図におけるスライドビード塗布機20
において、塗布液用ポンプ21より送られる１又は複数の
塗布液５は各塗布スリット22を通ってスライド面を単層
又は複数の層が重層となって流れ、塗布バックアップロ
ーラ１を抱いて走行するウエブとの間に塗布機リップ部
23においてビードと称するリボン状液溜まりを形成す
る。このビードを下方に減圧により引っ張ることにより
安定させるのであるが、本発明の減圧室は第１図（ａ）
に示すごとく、塗布機側よりビード減圧室32と吸引減圧
室31の２室よりなっており、吸引減圧室31は減圧ポンプ
33により吸引減圧される。第１図（ｂ）は減圧室の構造
を示す斜視断面図である。同図においてビード減圧室32
は吸引減圧室31の内に入れこんだ構造になっており、両
室は塗布バックアップローラ１を抱いたウエブと減圧室
との間隙を介して流通している。すなはちビード減圧室
32も吸引減圧室の減圧を介して減圧される。
る。第１図（ａ）は本発明による１実施態様を示す概略
側断面図である。同図におけるスライドビード塗布機20
において、塗布液用ポンプ21より送られる１又は複数の
塗布液５は各塗布スリット22を通ってスライド面を単層
又は複数の層が重層となって流れ、塗布バックアップロ
ーラ１を抱いて走行するウエブとの間に塗布機リップ部
23においてビードと称するリボン状液溜まりを形成す
る。このビードを下方に減圧により引っ張ることにより
安定させるのであるが、本発明の減圧室は第１図（ａ）
に示すごとく、塗布機側よりビード減圧室32と吸引減圧
室31の２室よりなっており、吸引減圧室31は減圧ポンプ
33により吸引減圧される。第１図（ｂ）は減圧室の構造
を示す斜視断面図である。同図においてビード減圧室32
は吸引減圧室31の内に入れこんだ構造になっており、両
室は塗布バックアップローラ１を抱いたウエブと減圧室
との間隙を介して流通している。すなはちビード減圧室
32も吸引減圧室の減圧を介して減圧される。
更に該ビード減圧室32には、大気制御弁を35有する１
つまたは複数の大気疎通パイプ34により大気に直結、疎
通することが出来る構造となっている。第２図は本発明
における減圧室の拡大側断面図で種々の実施態様を示す
図であって、吸引減圧室31を介して減圧されているビー
ド減圧室32は適当な減圧状態を維持しつつ、しかも若干
の大気流入により均一な空気の流れをつくることによ
り、ビードに不安定な影響を与えることを防いでいるの
である。第２図は上記大気の流れによる渦をつくること
無く安定した流れとするための方法であって、同図
（ａ）は大気疎通パイプ34より大気をビード減圧室32に
導入する場合、大気整流板36を使用した例である。以下
同図（ｂ）はフィルタ37を使用し幅手にわたってフィル
タを設ける事により幅手均一に、かつ、大気の流速をよ
り遅く、渦の発生を抑える効果がある。同図（ｃ）は渦
流防止板38、例えば断面が曲率の大きい半円状のものを
設置した例であり、同図（ｄ）では両減圧室の隔壁39の
形状を抵抗の小さい形とした例である。以上の例を単独
で用いても併用しても良く、またこの実施態様に限定さ
れるものでもない。
つまたは複数の大気疎通パイプ34により大気に直結、疎
通することが出来る構造となっている。第２図は本発明
における減圧室の拡大側断面図で種々の実施態様を示す
図であって、吸引減圧室31を介して減圧されているビー
ド減圧室32は適当な減圧状態を維持しつつ、しかも若干
の大気流入により均一な空気の流れをつくることによ
り、ビードに不安定な影響を与えることを防いでいるの
である。第２図は上記大気の流れによる渦をつくること
無く安定した流れとするための方法であって、同図
（ａ）は大気疎通パイプ34より大気をビード減圧室32に
導入する場合、大気整流板36を使用した例である。以下
同図（ｂ）はフィルタ37を使用し幅手にわたってフィル
タを設ける事により幅手均一に、かつ、大気の流速をよ
り遅く、渦の発生を抑える効果がある。同図（ｃ）は渦
流防止板38、例えば断面が曲率の大きい半円状のものを
設置した例であり、同図（ｄ）では両減圧室の隔壁39の
形状を抵抗の小さい形とした例である。以上の例を単独
で用いても併用しても良く、またこの実施態様に限定さ
れるものでもない。
また本発明は前記したビード塗布方法、即ちウエブの
裏面に回転するバックアップローラを直接抱かせて密着
張架し搬送の向きを反転走行させバックアップローラで
作られる滑かな塗布面に乳剤をビード塗布する形態のみ
ならず、ウエブに接触することなくウエブ走行の向きを
反転させる張架機構部材を設け、ウエブに反転走行する
滑かな塗布面を作りウエブを受かせた状態で乳剤をビー
ド塗布する浮遊塗布方法にも適用される。
裏面に回転するバックアップローラを直接抱かせて密着
張架し搬送の向きを反転走行させバックアップローラで
作られる滑かな塗布面に乳剤をビード塗布する形態のみ
ならず、ウエブに接触することなくウエブ走行の向きを
反転させる張架機構部材を設け、ウエブに反転走行する
滑かな塗布面を作りウエブを受かせた状態で乳剤をビー
ド塗布する浮遊塗布方法にも適用される。
浮遊塗布方法に於る前記無接触張架機構部材は、第３
図に示すようにウエブを反転走行させる部分にウエブの
裏面に向って気体（一般に空気）を噴出させる多数の微
細な気体噴出口11′を有する静圧支持面10′を設け、ウ
エブの張力に拮抗するだけの気体を噴出させ、ウエブ裏
面と前記静圧支持面10′の間に、好しくは20〜500μｍ
の静圧気体層12′を設けるものである。
図に示すようにウエブを反転走行させる部分にウエブの
裏面に向って気体（一般に空気）を噴出させる多数の微
細な気体噴出口11′を有する静圧支持面10′を設け、ウ
エブの張力に拮抗するだけの気体を噴出させ、ウエブ裏
面と前記静圧支持面10′の間に、好しくは20〜500μｍ
の静圧気体層12′を設けるものである。
ビード塗布は前記静圧支持された滑かなウエブ表面に
先に述べた密着張架の場合と同様な塗布機20′及びビー
ド４′を作って行われる。
先に述べた密着張架の場合と同様な塗布機20′及びビー
ド４′を作って行われる。
尚第３図に於て前出の記号と同記号は同義を表し、６
は冷却・乾燥室、１′は無接触張架機構部材、３′は新
たに塗られた乳剤層である。また本発明に係る二重の減
圧室の図示は省略してある。
は冷却・乾燥室、１′は無接触張架機構部材、３′は新
たに塗られた乳剤層である。また本発明に係る二重の減
圧室の図示は省略してある。
この浮遊塗布方法は前記密着張架でビード塗布したウ
エブ面の反対側面に乳剤を同時塗布することができ生産
技術上甚だ有用な方法である。
エブ面の反対側面に乳剤を同時塗布することができ生産
技術上甚だ有用な方法である。
この浮遊塗布の態様に於てもビードを作る塗布機リッ
プ部とウエブの間隙の変動、即ち浮遊塗布に於る前記静
圧気体層の厚み変動は致命的に塗布品位の低下を来す。
特に浮遊塗布方法に於る静圧気体層の厚みは与えられた
静圧度に完全に依存しており、且つ減圧室の減圧度とウ
エブを介して拮抗しており、ビードに作用する減圧室の
圧力脈動或は不安定は最も禁忌される所であって、浮遊
塗布方法は本発明に最適の適用対象である。
プ部とウエブの間隙の変動、即ち浮遊塗布に於る前記静
圧気体層の厚み変動は致命的に塗布品位の低下を来す。
特に浮遊塗布方法に於る静圧気体層の厚みは与えられた
静圧度に完全に依存しており、且つ減圧室の減圧度とウ
エブを介して拮抗しており、ビードに作用する減圧室の
圧力脈動或は不安定は最も禁忌される所であって、浮遊
塗布方法は本発明に最適の適用対象である。
（実施例） 以下具体的に実施例により、本発明について説明する
が本発明はこれらの例に限定されるものではない。
が本発明はこれらの例に限定されるものではない。
実施例1.下記条件で塗布を行った。
下層塗布液：所定の添加剤、ゼラチンを含むハロゲン化
銀乳剤で35℃において10cpの粘度を有し、wet厚みは約
0.05mmである。
銀乳剤で35℃において10cpの粘度を有し、wet厚みは約
0.05mmである。
上層塗布液：所定の添加剤、ゼラチン、界面活性剤を含
む溶液で、35℃において11cpの粘度を有し、wet厚みは
約0.02mmである。
む溶液で、35℃において11cpの粘度を有し、wet厚みは
約0.02mmである。
ウエブ：下引き済みポリエチレンテレフタレートフィル
ム。
ム。
減圧度：吸引減圧室 −34mmAq ビード減圧室 −17mmAq 上記２層を同時に第１図に示す装置を用いて塗布を行
った。尚大気疎通パイプは左右２ヶ所に設けた。
った。尚大気疎通パイプは左右２ヶ所に設けた。
この結果塗布ムラの無い良好な塗布性であった。
実施例2.減圧度以外は実施例１と同じ。
減圧度：吸引圧室 −33mmAq ビード減圧室 −24mmAq で塗布を行った。
この結果は良好な塗布性を示し、実施例１より優れて
いた。
いた。
実施例3.減圧度以外は実施例１と同じ 減圧度：吸引減圧室 −40mmAq ビード減圧室 −30mmAq この結果も実施例２と同様良好であった。
比較例 比較例として第４図にしめす従来の装置を用い、 減圧度：−21mmAq及び−34mmAqの２例につき他の条件は
実施例１と同じとして塗布した。結果はいずれも実施例
１、２、３より劣る塗布性であった。
実施例１と同じとして塗布した。結果はいずれも実施例
１、２、３より劣る塗布性であった。
また本発明を浮遊塗布方法に適用した結果も前記従来
のビード塗布方法に適用した結果と同様に良好な塗布品
位がえられた。
のビード塗布方法に適用した結果と同様に良好な塗布品
位がえられた。
（発明の効果） 本発明によって、スライドビード塗布における、減圧
方法の改良により、塗布ビードの安定をはかり、塗布む
ら等の無い優れた塗布性を有する塗布方法及び装置を提
供することが出来た。
方法の改良により、塗布ビードの安定をはかり、塗布む
ら等の無い優れた塗布性を有する塗布方法及び装置を提
供することが出来た。
第１図（ａ）は本発明によるスライドビード塗布機の実
施態様をしめす概略側断面図であり、同図（ｂ）は本発
明による減圧室の概略斜視図である。第２図は本発明に
よる減圧室の種々な実施態様を示す側断面図である。第
３図は浮遊塗布法に用いる装置の側面概要図である。第
４図は従来の減圧方法を有するスライドビード塗布装置
の概略側断面図である。第５図（ａ）は内外減圧室を有
するビード塗布機の側断面図、第５図（ｂ）は同時
（ａ）の減圧室の拡大断面図である。 1:塗布バックアップローラ、2:ウエブ 3:塗布液層、4:ビード 20:スライドビード塗布機 21:塗布液用ポンプ 22:塗布スリット、23:リップ部 30:減圧室、31:吸引減圧室 32:ビード減圧室、33:減圧ポンプ 34:大気疎通パイプ、35:大気制御弁
施態様をしめす概略側断面図であり、同図（ｂ）は本発
明による減圧室の概略斜視図である。第２図は本発明に
よる減圧室の種々な実施態様を示す側断面図である。第
３図は浮遊塗布法に用いる装置の側面概要図である。第
４図は従来の減圧方法を有するスライドビード塗布装置
の概略側断面図である。第５図（ａ）は内外減圧室を有
するビード塗布機の側断面図、第５図（ｂ）は同時
（ａ）の減圧室の拡大断面図である。 1:塗布バックアップローラ、2:ウエブ 3:塗布液層、4:ビード 20:スライドビード塗布機 21:塗布液用ポンプ 22:塗布スリット、23:リップ部 30:減圧室、31:吸引減圧室 32:ビード減圧室、33:減圧ポンプ 34:大気疎通パイプ、35:大気制御弁
フロントページの続き (56)参考文献 特公 昭46−16271（ＪＰ，Ｂ１)
Claims (3)
- 【請求項１】連続的に走行する支持体に、スライドビー
ド塗布装置を用いて、少くとも１層以上に塗布液を塗布
する方法に於て、ビードを維持するためビードに直接減
圧をかけるビード減圧室に大気に直結する疎通手段を設
け、更に前記ビード減圧室の外側に吸引減圧する吸引減
圧室を接続させたことを特徴とするスライドビード塗布
方法。 - 【請求項２】連続的に走行する支持体に、スライドビー
ド塗布装置を用いて、少くとも１層以上に塗布液を塗布
する方法に於て、ビードを維持するためビードに直接減
圧をかけるビード減圧室に大気に直結する疎通手段を設
け、更に前記ビード減圧室の外側に吸引減圧する吸引減
圧室を接続させたことを特徴とするスライドビード塗布
装置。 - 【請求項３】前記大気に直結する疎通手段に空気の流入
量を調節する調節手段を有することを特徴とする特許請
求の範囲第２項記載のスライドビード塗布装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61-277622 | 1986-11-19 | ||
| JP27762286 | 1986-11-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63240964A JPS63240964A (ja) | 1988-10-06 |
| JPH0822410B2 true JPH0822410B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=17585984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Families Citing this family (2)
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-
1987
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