JPH08225992A - 紫外線拡散反射板 - Google Patents
紫外線拡散反射板Info
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- JPH08225992A JPH08225992A JP7027775A JP2777595A JPH08225992A JP H08225992 A JPH08225992 A JP H08225992A JP 7027775 A JP7027775 A JP 7027775A JP 2777595 A JP2777595 A JP 2777595A JP H08225992 A JPH08225992 A JP H08225992A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 紫外線を拡散反射することができかつ優れた
拡散反射率を有する金属製の拡散反射板を提供する。 【構成】 アルミニウム製基板の少なくとも片面を、中
心線平均粗さで０．３〜２．０μｍである粗面とする。
基板の粗面に厚さ１〜３μｍの陽極酸化皮膜を形成す
る。金属製基板の少なくとも片面を、中心線平均粗さで
０．３〜２．０μｍである粗面とする。基板の粗面に厚
さ０．１〜２μｍのケイ酸系塗膜を形成する。
拡散反射率を有する金属製の拡散反射板を提供する。 【構成】 アルミニウム製基板の少なくとも片面を、中
心線平均粗さで０．３〜２．０μｍである粗面とする。
基板の粗面に厚さ１〜３μｍの陽極酸化皮膜を形成す
る。金属製基板の少なくとも片面を、中心線平均粗さで
０．３〜２．０μｍである粗面とする。基板の粗面に厚
さ０．１〜２μｍのケイ酸系塗膜を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、たとえば人工日焼け
装置等の健康医療器具や、カビや酵母の品種改良に用い
られるバイオ器機等に使用される紫外線拡散反射板に関
する。
装置等の健康医療器具や、カビや酵母の品種改良に用い
られるバイオ器機等に使用される紫外線拡散反射板に関
する。
【０００２】この明細書において、「アルミニウム」と
いう語には、純アルミニウムの他にアルミニウム合金を
含むものとする。
いう語には、純アルミニウムの他にアルミニウム合金を
含むものとする。
【０００３】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来、殺
虫灯や殺菌灯等において、紫外線の反射には多層膜コー
ティングガラスや金メッキ板等が用いられている。しか
しながら、これらはいずれも必要な箇所に紫外線を集中
させるための正反射を利用するものである。
虫灯や殺菌灯等において、紫外線の反射には多層膜コー
ティングガラスや金メッキ板等が用いられている。しか
しながら、これらはいずれも必要な箇所に紫外線を集中
させるための正反射を利用するものである。
【０００４】そして、紫外線を均一に分散して反射させ
る拡散反射には用いられていないのが現状である。
る拡散反射には用いられていないのが現状である。
【０００５】この発明は上記実情に鑑み、紫外線を集中
させずに、均一に分散させることができ、これにより人
工日焼け装置等の健康医療器具や、カビや酵母の品種改
良に用いられるバイオ器機等に利用しうる拡散反射板を
提供することを目的とする。
させずに、均一に分散させることができ、これにより人
工日焼け装置等の健康医療器具や、カビや酵母の品種改
良に用いられるバイオ器機等に利用しうる拡散反射板を
提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明による第１の紫
外線拡散反射板は、アルミニウム製基板の少なくとも片
面が、中心線平均粗さで０．３〜２．０μｍである粗面
となされ、基板の粗面に厚さ１〜３μｍの陽極酸化皮膜
が形成されているものである。
外線拡散反射板は、アルミニウム製基板の少なくとも片
面が、中心線平均粗さで０．３〜２．０μｍである粗面
となされ、基板の粗面に厚さ１〜３μｍの陽極酸化皮膜
が形成されているものである。
【０００７】上記第１の紫外線拡散反射板において、ア
ルミニウム製基板の少なくとも片面の粗面の表面粗さ
が、中心線平均粗さ(Ra)で０．３〜２．０μｍとなされ
ているのは、下限値未満であると均一な粗面化が困難で
正反射が現れ、上限値を越えると紫外線拡散反射板の拡
散反射率が低下するためである。
ルミニウム製基板の少なくとも片面の粗面の表面粗さ
が、中心線平均粗さ(Ra)で０．３〜２．０μｍとなされ
ているのは、下限値未満であると均一な粗面化が困難で
正反射が現れ、上限値を越えると紫外線拡散反射板の拡
散反射率が低下するためである。
【０００８】また、陽極酸化皮膜の厚さが１〜３μｍと
されているのは、下限値未満であるとコイル連続処理、
すなわちコイルから巻戻しつつ連続的に陽極酸化処理を
施すことが困難で膜厚が不均一になり、上限値を越える
と拡散反射率が低下するとともにコストが高くなるから
である。なお、陽極酸化皮膜としては、硫酸陽極酸化皮
膜が好ましい。
されているのは、下限値未満であるとコイル連続処理、
すなわちコイルから巻戻しつつ連続的に陽極酸化処理を
施すことが困難で膜厚が不均一になり、上限値を越える
と拡散反射率が低下するとともにコストが高くなるから
である。なお、陽極酸化皮膜としては、硫酸陽極酸化皮
膜が好ましい。
【０００９】さらに、アルミニウム製基板の少なくとも
片面の粗面の表面粗さが、中心線平均粗さ(Ra)で０．３
〜２．０μｍとなされており、陽極酸化皮膜の厚さが１
〜３μｍとされているのは、これらの範囲内であれば、
紫外線拡散反射板に成形加工を施しても陽極酸化皮膜が
基板から剥離したり、陽極酸化皮膜にクラックが発生し
たりするのを防止することができるからである。
片面の粗面の表面粗さが、中心線平均粗さ(Ra)で０．３
〜２．０μｍとなされており、陽極酸化皮膜の厚さが１
〜３μｍとされているのは、これらの範囲内であれば、
紫外線拡散反射板に成形加工を施しても陽極酸化皮膜が
基板から剥離したり、陽極酸化皮膜にクラックが発生し
たりするのを防止することができるからである。
【００１０】この発明による第２の紫外線拡散反射板
は、金属製基板の少なくとも片面が、中心線平均粗さで
０．３〜２．０μｍである粗面となされ、基板の粗面に
厚さ０．１〜２μｍのケイ酸系塗膜が形成されているも
のである。
は、金属製基板の少なくとも片面が、中心線平均粗さで
０．３〜２．０μｍである粗面となされ、基板の粗面に
厚さ０．１〜２μｍのケイ酸系塗膜が形成されているも
のである。
【００１１】上記第２の紫外線拡散反射板において、金
属製基板としては、たとえばアルミニウム、鉄およびそ
の合金、銅およびその合金からなるものが用いられる。
属製基板としては、たとえばアルミニウム、鉄およびそ
の合金、銅およびその合金からなるものが用いられる。
【００１２】また、ケイ酸系塗膜は、ケイ酸ナトリウム
やケイ酸カリウム等のアルカリケイ酸塩、無機系シリケ
ート、コロイダルシリカ等のケイ酸系無機材料を用い
て、通常は硬化剤を使用せずに形成される。また、ケイ
酸系塗膜は、アクリルシリコン、アクリルウレタンシリ
コン等の有機変性シリコン系材料によっても形成され
る。
やケイ酸カリウム等のアルカリケイ酸塩、無機系シリケ
ート、コロイダルシリカ等のケイ酸系無機材料を用い
て、通常は硬化剤を使用せずに形成される。また、ケイ
酸系塗膜は、アクリルシリコン、アクリルウレタンシリ
コン等の有機変性シリコン系材料によっても形成され
る。
【００１３】上記第２の紫外線拡散反射板において、金
属製基板の少なくとも片面の粗面の表面粗さが、中心線
平均粗さ(Ra)で０．３〜２．０μｍとなされているの
は、下限値未満であると均一な粗面化が困難で正反射が
現れ、上限値を越えると紫外線拡散反射板の拡散反射率
が低下するためである。
属製基板の少なくとも片面の粗面の表面粗さが、中心線
平均粗さ(Ra)で０．３〜２．０μｍとなされているの
は、下限値未満であると均一な粗面化が困難で正反射が
現れ、上限値を越えると紫外線拡散反射板の拡散反射率
が低下するためである。
【００１４】また、ケイ酸系塗膜の厚さが０．１〜２μ
ｍとされているのは、下限値未満であると薄すぎて均一
な塗膜を形成することができず、上限値を越えると拡散
反射率が低下するからである。また、ケイ酸系塗膜が、
たとえばケイ酸ナトリウムからなる場合、ナトリウムが
空気中のＣＯ2 や水分と結合し、炭酸ナトリウムや炭酸
水素ナトリウムができて白粉が現れたり、くもりが発生
して反射特性が低下する。したがって、これを防止する
ために希硝酸等で酸洗浄しナトリウムを除去する中和処
理を施す必要がある。ところが、ケイ酸系塗膜の厚さが
上限値を越えると塗膜の基板側に存在するナトリウムが
除去しにくくなり、塗膜全体の中和処理をできないとい
う問題もある。これは、塗膜が他のアルカリケイ酸塩か
らなる場合も同様である。
ｍとされているのは、下限値未満であると薄すぎて均一
な塗膜を形成することができず、上限値を越えると拡散
反射率が低下するからである。また、ケイ酸系塗膜が、
たとえばケイ酸ナトリウムからなる場合、ナトリウムが
空気中のＣＯ2 や水分と結合し、炭酸ナトリウムや炭酸
水素ナトリウムができて白粉が現れたり、くもりが発生
して反射特性が低下する。したがって、これを防止する
ために希硝酸等で酸洗浄しナトリウムを除去する中和処
理を施す必要がある。ところが、ケイ酸系塗膜の厚さが
上限値を越えると塗膜の基板側に存在するナトリウムが
除去しにくくなり、塗膜全体の中和処理をできないとい
う問題もある。これは、塗膜が他のアルカリケイ酸塩か
らなる場合も同様である。
【００１５】さらに、金属製基板の少なくとも片面の粗
面の表面粗さが、中心線平均粗さ(Ra)で０．３〜２．０
μｍとなされており、ケイ酸系塗膜の厚さが０．１〜２
μｍとされているのは、これらの範囲内であれば、紫外
線拡散反射板に成形加工を施してもケイ酸系塗膜が基板
から剥離したり、ケイ酸系塗膜にクラックが発生したり
するのを防止することができるからである。
面の表面粗さが、中心線平均粗さ(Ra)で０．３〜２．０
μｍとなされており、ケイ酸系塗膜の厚さが０．１〜２
μｍとされているのは、これらの範囲内であれば、紫外
線拡散反射板に成形加工を施してもケイ酸系塗膜が基板
から剥離したり、ケイ酸系塗膜にクラックが発生したり
するのを防止することができるからである。
【００１６】上記第１および第２の紫外線拡散反射板に
おいて、アルミニウム製基板や金属製基板の粗面化は、
ステンレス鋼製ワイヤブラシの回転や摺動、砂目立、シ
ョットブラストにより行なわれたり、あるいは酸梨地剤
（たとえば親和化成社製フルサテン（商品名））を用い
て行なわれる。
おいて、アルミニウム製基板や金属製基板の粗面化は、
ステンレス鋼製ワイヤブラシの回転や摺動、砂目立、シ
ョットブラストにより行なわれたり、あるいは酸梨地剤
（たとえば親和化成社製フルサテン（商品名））を用い
て行なわれる。
【００１７】
【作用】アルミニウム製基板の少なくとも片面が、中心
線平均粗さで０．３〜２．０μｍである粗面となされ、
基板の粗面に厚さ１〜３μｍの陽極酸化皮膜が形成され
ているか、あるいは金属製基板の少なくとも片面が、中
心線平均粗さで０．３〜２．０μｍである粗面となさ
れ、基板の粗面に厚さ０．１〜２μｍのケイ酸系塗膜が
形成されていると、紫外線の拡散反射率が優れたものと
なる。しかも、紫外線拡散反射板に成形加工を施したと
しても、陽極酸化皮膜および塗膜の剥離やクラックの発
生を防止することができる。
線平均粗さで０．３〜２．０μｍである粗面となされ、
基板の粗面に厚さ１〜３μｍの陽極酸化皮膜が形成され
ているか、あるいは金属製基板の少なくとも片面が、中
心線平均粗さで０．３〜２．０μｍである粗面となさ
れ、基板の粗面に厚さ０．１〜２μｍのケイ酸系塗膜が
形成されていると、紫外線の拡散反射率が優れたものと
なる。しかも、紫外線拡散反射板に成形加工を施したと
しても、陽極酸化皮膜および塗膜の剥離やクラックの発
生を防止することができる。
【００１８】
実施例１〜５および比較例１ JIS Ａ１０５０合金からなる６つの基板の片面を、それ
ぞれ０．３μｍ、０．５μｍ、１．０μｍ、１．５μ
ｍ、２．０μｍおよび２．５μｍの中心線平均粗さ(Ra)
を有する粗面とし、この粗面に、脱脂、水洗、苛性エッ
チング、水洗、中和、水洗、硫酸による陽極酸化、水
洗、湯洗、封孔および乾燥の各処理を上記順序で施し、
基板の粗面に膜厚２μｍの陽極酸化皮膜を形成した。こ
うして６つの紫外線拡散反射板を製造した。
ぞれ０．３μｍ、０．５μｍ、１．０μｍ、１．５μ
ｍ、２．０μｍおよび２．５μｍの中心線平均粗さ(Ra)
を有する粗面とし、この粗面に、脱脂、水洗、苛性エッ
チング、水洗、中和、水洗、硫酸による陽極酸化、水
洗、湯洗、封孔および乾燥の各処理を上記順序で施し、
基板の粗面に膜厚２μｍの陽極酸化皮膜を形成した。こ
うして６つの紫外線拡散反射板を製造した。
【００１９】比較例２ JIS Ａ１０５０合金からなる１つの基板の粗面の中心線
平均粗さ(Ra)を０．５μｍとし、陽極酸化皮膜の膜厚を
４μｍとしたことの他は、上記実施例１〜６および比較
例１と同様にして１つの紫外線拡散反射板を製造した。
平均粗さ(Ra)を０．５μｍとし、陽極酸化皮膜の膜厚を
４μｍとしたことの他は、上記実施例１〜６および比較
例１と同様にして１つの紫外線拡散反射板を製造した。
【００２０】実施例６〜１０および比較例３ JIS Ａ１０５０合金からなる６つの基板の片面を、それ
ぞれ０．３μｍ、０．５μｍ、１．０μｍ、１．５μ
ｍ、２．０μｍおよび２．５μｍの中心線平均粗さを有
する粗面とし、この粗面に、アルカリ脱脂、水洗、湯
洗、塗装、焼付、硝酸洗浄、水洗および乾燥の各処理を
上記順序で施し、基板の粗面に膜厚０．１５μｍのケイ
酸ソーダからなる塗膜を形成した。こうして６つの紫外
線拡散反射板を製造した。
ぞれ０．３μｍ、０．５μｍ、１．０μｍ、１．５μ
ｍ、２．０μｍおよび２．５μｍの中心線平均粗さを有
する粗面とし、この粗面に、アルカリ脱脂、水洗、湯
洗、塗装、焼付、硝酸洗浄、水洗および乾燥の各処理を
上記順序で施し、基板の粗面に膜厚０．１５μｍのケイ
酸ソーダからなる塗膜を形成した。こうして６つの紫外
線拡散反射板を製造した。
【００２１】実施例１１ JIS Ａ１０５０合金からなる１つの基板の粗面の中心線
平均粗さ(Ra)を０．５μｍとし、塗膜の膜厚を２μｍと
したことの他は、上記実施例６〜１０および比較例３と
同様にして１つの紫外線拡散反射板を製造した。
平均粗さ(Ra)を０．５μｍとし、塗膜の膜厚を２μｍと
したことの他は、上記実施例６〜１０および比較例３と
同様にして１つの紫外線拡散反射板を製造した。
【００２２】比較例４ JIS Ａ１０５０合金からなる１つの基板の粗面の中心線
平均粗さ(Ra)を０．５μｍとし、塗膜の膜厚を３μｍと
したことの他は、上記実施例６〜１０および比較例３と
同様にして１つの紫外線拡散反射板を製造した。
平均粗さ(Ra)を０．５μｍとし、塗膜の膜厚を３μｍと
したことの他は、上記実施例６〜１０および比較例３と
同様にして１つの紫外線拡散反射板を製造した。
【００２３】評価試験 実施例１〜１１および比較例１〜４の紫外線拡散反射板
の拡散反射率を日立製作所社製３３０型自記分光光度計
を用いて測定した。すなわち、紫外線拡散反射板からの
反射光を直径６０ｍｍの積分球を経てモノクロメータに
導いて拡散反射率を測定した。なお、紫外線拡散反射板
への紫外線の入射方向は板圧延方向に直角となるように
しておいた。評価試験の結果を表１にまとめて示す。拡
散反射率（％）は、波長２５０ｎｍの測定値を示す。
の拡散反射率を日立製作所社製３３０型自記分光光度計
を用いて測定した。すなわち、紫外線拡散反射板からの
反射光を直径６０ｍｍの積分球を経てモノクロメータに
導いて拡散反射率を測定した。なお、紫外線拡散反射板
への紫外線の入射方向は板圧延方向に直角となるように
しておいた。評価試験の結果を表１にまとめて示す。拡
散反射率（％）は、波長２５０ｎｍの測定値を示す。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【発明の効果】この発明の紫外線拡散反射板は、上述の
ように優れた拡散反射率を有しているので、健康医療器
具、バイオ器機等の反射部材に適用した場合、反射光を
全体的に照射することができる。また、紫外線拡散反射
板に成形加工を施したとしても、陽極酸化皮膜および塗
膜の剥離やクラックの発生を防止することができるの
で、この紫外線拡散反射板を用いて、所定の形状を有す
る健康医療器具、バイオ器機等の反射部材を簡単にかつ
安いコストで製造することができる。なお、成形加工を
施した後に陽極酸化皮膜またはケイ酸系塗膜を形成する
方法もあるが、製造が面倒であるとともにコストが高く
なる。
ように優れた拡散反射率を有しているので、健康医療器
具、バイオ器機等の反射部材に適用した場合、反射光を
全体的に照射することができる。また、紫外線拡散反射
板に成形加工を施したとしても、陽極酸化皮膜および塗
膜の剥離やクラックの発生を防止することができるの
で、この紫外線拡散反射板を用いて、所定の形状を有す
る健康医療器具、バイオ器機等の反射部材を簡単にかつ
安いコストで製造することができる。なお、成形加工を
施した後に陽極酸化皮膜またはケイ酸系塗膜を形成する
方法もあるが、製造が面倒であるとともにコストが高く
なる。
Claims (2)
- 【請求項１】 アルミニウム製基板の少なくとも片面
が、中心線平均粗さで０．３〜２．０μｍである粗面と
なされ、基板の粗面に厚さ１〜３μｍの陽極酸化皮膜が
形成されている紫外線拡散反射板。 - 【請求項２】 金属製基板の少なくとも片面が、中心線
平均粗さで０．３〜２．０μｍである粗面となされ、基
板の粗面に厚さ０．１〜２μｍのケイ酸系塗膜が形成さ
れている紫外線拡散反射板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7027775A JP2946396B2 (ja) | 1995-02-16 | 1995-02-16 | 紫外線拡散反射板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7027775A JP2946396B2 (ja) | 1995-02-16 | 1995-02-16 | 紫外線拡散反射板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08225992A true JPH08225992A (ja) | 1996-09-03 |
| JP2946396B2 JP2946396B2 (ja) | 1999-09-06 |
Family
ID=12230358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7027775A Expired - Fee Related JP2946396B2 (ja) | 1995-02-16 | 1995-02-16 | 紫外線拡散反射板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2946396B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001066422A (ja) * | 1999-07-13 | 2001-03-16 | Johnson & Johnson Vision Care Inc | Ｕｖ放射線供給源用の反射装置 |
| WO2015019828A1 (ja) * | 2013-08-05 | 2015-02-12 | 日本軽金属株式会社 | 表面処理アルミニウム材及びこれを用いた紫外線反射部材 |
| CN109553157A (zh) * | 2018-05-11 | 2019-04-02 | 深圳市微纳科学技术有限公司 | Uvc流体净化杀菌组件 |
| CN109557608A (zh) * | 2018-05-11 | 2019-04-02 | 深圳市微纳科学技术有限公司 | 提高uvc接触面积的导光玻璃及其制作方法 |
| CN109553156A (zh) * | 2018-05-11 | 2019-04-02 | 深圳市微纳科学技术有限公司 | 紫外净水装置 |
| JP2023118353A (ja) * | 2022-02-15 | 2023-08-25 | 日本軽金属株式会社 | 紫外線被照射部材、紫外線照射装置用エンクロージャ及び紫外線照射装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3111340U (ja) | 2005-04-14 | 2005-07-14 | 有限会社刃物屋トギノン | 鋏及び鋏用指掛け |
-
1995
- 1995-02-16 JP JP7027775A patent/JP2946396B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001066422A (ja) * | 1999-07-13 | 2001-03-16 | Johnson & Johnson Vision Care Inc | Ｕｖ放射線供給源用の反射装置 |
| WO2015019828A1 (ja) * | 2013-08-05 | 2015-02-12 | 日本軽金属株式会社 | 表面処理アルミニウム材及びこれを用いた紫外線反射部材 |
| JP2015030888A (ja) * | 2013-08-05 | 2015-02-16 | 日本軽金属株式会社 | 表面処理アルミニウム材及びこれを用いた紫外線反射部材 |
| CN109553157A (zh) * | 2018-05-11 | 2019-04-02 | 深圳市微纳科学技术有限公司 | Uvc流体净化杀菌组件 |
| CN109557608A (zh) * | 2018-05-11 | 2019-04-02 | 深圳市微纳科学技术有限公司 | 提高uvc接触面积的导光玻璃及其制作方法 |
| CN109553156A (zh) * | 2018-05-11 | 2019-04-02 | 深圳市微纳科学技术有限公司 | 紫外净水装置 |
| JP2023118353A (ja) * | 2022-02-15 | 2023-08-25 | 日本軽金属株式会社 | 紫外線被照射部材、紫外線照射装置用エンクロージャ及び紫外線照射装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2946396B2 (ja) | 1999-09-06 |
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