JPH0822617B2 - 光情報記憶媒体の製造方法 - Google Patents
光情報記憶媒体の製造方法Info
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- JPH0822617B2 JPH0822617B2 JP61297549A JP29754986A JPH0822617B2 JP H0822617 B2 JPH0822617 B2 JP H0822617B2 JP 61297549 A JP61297549 A JP 61297549A JP 29754986 A JP29754986 A JP 29754986A JP H0822617 B2 JPH0822617 B2 JP H0822617B2
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- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、レーザーによる書き込みと再生が可能な光
情報記憶媒体などに適用できる新規な有機薄膜を有する
光情報記憶媒体の製造方法に関する。
情報記憶媒体などに適用できる新規な有機薄膜を有する
光情報記憶媒体の製造方法に関する。
（従来の技術） 従来、レーザー光を用いた光情報記録再生装置として
は、回転しているディスク状の記録媒体にレーザー光を
照射して情報の記録再生を行なう情報記録再生装置が知
られている。この種の情報記録再生装置に用いられる光
情報記憶媒体の記録層としては、カルコゲナイト系を中
心とする低融点金属が主として提案されている。又、最
近になって比較的長波長に吸収を有する有機色素を記録
層として用いた光情報記憶媒体が提案されている。
は、回転しているディスク状の記録媒体にレーザー光を
照射して情報の記録再生を行なう情報記録再生装置が知
られている。この種の情報記録再生装置に用いられる光
情報記憶媒体の記録層としては、カルコゲナイト系を中
心とする低融点金属が主として提案されている。又、最
近になって比較的長波長に吸収を有する有機色素を記録
層として用いた光情報記憶媒体が提案されている。
（発明が解決しようとする問題点） 光情報記憶媒体について、従来提案されている低融点
金属を用いたものは、保存性が悪い、分解能が低い、記
録密度が低い、コスト高になるなどの欠点を有してい
る。さらに、このような無機系材料を主成分として形成
した薄膜は、レーザー光に対する反射率が高すぎるた
め、レーザーの利用率が減少し、高感度特性が得られに
くい欠点を有している。
金属を用いたものは、保存性が悪い、分解能が低い、記
録密度が低い、コスト高になるなどの欠点を有してい
る。さらに、このような無機系材料を主成分として形成
した薄膜は、レーザー光に対する反射率が高すぎるた
め、レーザーの利用率が減少し、高感度特性が得られに
くい欠点を有している。
又、比較的長波長に吸収を有する有機色素を記録層と
して用いたものについては、熱及び光に対し安定性が低
く分解し易いなどの問題点を有する。
して用いたものについては、熱及び光に対し安定性が低
く分解し易いなどの問題点を有する。
又、このような有機系色素を主成分とする有機薄膜
は、先の無機系薄膜とは逆に反射率が低いという問題点
を有している。反射率が低いとレーザー光により記録さ
れた部分と未記録部分との反射率に関するコントラスト
が低くなり記録された情報の再生の際十分高いS/N比が
得られにくい。
は、先の無機系薄膜とは逆に反射率が低いという問題点
を有している。反射率が低いとレーザー光により記録さ
れた部分と未記録部分との反射率に関するコントラスト
が低くなり記録された情報の再生の際十分高いS/N比が
得られにくい。
本発明は、このような状況に鑑みなされたもので、高
機能の新しいタイプの有機薄膜を有する光情報記憶媒体
の製造方法を提供することを目的とするものである。
機能の新しいタイプの有機薄膜を有する光情報記憶媒体
の製造方法を提供することを目的とするものである。
更に、本発明は高度に配向状態が制御された有機薄膜
を有する光情報記憶媒体の製造方法を提供することを目
的とする。
を有する光情報記憶媒体の製造方法を提供することを目
的とする。
本発明は、更に光感度で高い信頼性を有する新規な光
情報記憶媒体の製造方法を提供することを目的とする。
情報記憶媒体の製造方法を提供することを目的とする。
（問題点を解決するための手段及び作用） 本発明は、上記光情報記憶媒体の製造方法に関するも
のであり、水の表面上に上記一般式で示されるスクエア
リリウム染料を含有する単分子膜を形成し、その単分子
膜と適当な基板とを接触させることにより、基板表面上
にスクエアリリウム染料の薄膜を形成させることを特徴
とする。
のであり、水の表面上に上記一般式で示されるスクエア
リリウム染料を含有する単分子膜を形成し、その単分子
膜と適当な基板とを接触させることにより、基板表面上
にスクエアリリウム染料の薄膜を形成させることを特徴
とする。
次に、本発明において使用されるスクエアリリウム染
料の代表例をあげる。
料の代表例をあげる。
上記のスクエアリリウム染料は、H.E.Sprenger and
W.Ziegenbein;Angew.Chem.internal.Edit.,Vol.5,p894
（1966）に記載の方法と類似の方法によって製造するこ
とができる。
W.Ziegenbein;Angew.Chem.internal.Edit.,Vol.5,p894
（1966）に記載の方法と類似の方法によって製造するこ
とができる。
本発明において、光情報記憶媒体は、下記のように水
面上で単分子膜を形成し、適当な基板上に移しとる方法
によって形成される。すなわち、水の表面上に前記一般
式で示されるスクエアリリウム染料１種以上を含有する
高度に配向制御された単分子膜を形成し、その単分子膜
と適当な基板とを繰り返し接触させることにより、基板
表面上にスクエアリリウム染料を含む薄膜を形成するこ
とができる。
面上で単分子膜を形成し、適当な基板上に移しとる方法
によって形成される。すなわち、水の表面上に前記一般
式で示されるスクエアリリウム染料１種以上を含有する
高度に配向制御された単分子膜を形成し、その単分子膜
と適当な基板とを繰り返し接触させることにより、基板
表面上にスクエアリリウム染料を含む薄膜を形成するこ
とができる。
本発明におけるスクエアリリウム染料を含有する高度
に配向制御された単分子膜の累積方法としては、膜物質
を溶解した液体を水面上に展開し、その展開膜は一定の
表面圧で圧縮し、単分子膜を形成しながら基板と接触さ
せ、移しとるラングミュア ブロジェット（Langmuir−
Blodgett）法、水平付着法、回転円筒法等が用いられ
る。例えば、ラングミュア ブロジェット法では、ま
ず、スクエアリリウム染料及び必要に応じて他の物質を
有機溶剤に溶解し、これを水面上に展開してスクエアリ
リウム染料を膜状に析出させる。次に、この析出物が水
面上を自由に拡散して拡がりすぎないように仕切板を設
け、展開面積を制御して膜物質の集合状態を制御し、表
面圧を徐々に上昇させ、累積膜の製造に適する表面圧
（π）を設定することができる。本発明に用いられるス
クエアリリウム染料の場合、染料の種類、マトリックス
分子の割合、設定温度、金属イオンの種類の濃度、pHな
どにより異なるが、累積膜の製造に適する表面圧は、π
＝５〜50dyn/cmであり、望ましくはπ＝10〜30dyn/cmで
ある。この表面圧を維持しながら、静かに清浄な基板を
垂直に水中で上下させると、単分子膜は基板上に移り、
これを繰り返すことにより累積膜は基板上に均一に形成
される。
に配向制御された単分子膜の累積方法としては、膜物質
を溶解した液体を水面上に展開し、その展開膜は一定の
表面圧で圧縮し、単分子膜を形成しながら基板と接触さ
せ、移しとるラングミュア ブロジェット（Langmuir−
Blodgett）法、水平付着法、回転円筒法等が用いられ
る。例えば、ラングミュア ブロジェット法では、ま
ず、スクエアリリウム染料及び必要に応じて他の物質を
有機溶剤に溶解し、これを水面上に展開してスクエアリ
リウム染料を膜状に析出させる。次に、この析出物が水
面上を自由に拡散して拡がりすぎないように仕切板を設
け、展開面積を制御して膜物質の集合状態を制御し、表
面圧を徐々に上昇させ、累積膜の製造に適する表面圧
（π）を設定することができる。本発明に用いられるス
クエアリリウム染料の場合、染料の種類、マトリックス
分子の割合、設定温度、金属イオンの種類の濃度、pHな
どにより異なるが、累積膜の製造に適する表面圧は、π
＝５〜50dyn/cmであり、望ましくはπ＝10〜30dyn/cmで
ある。この表面圧を維持しながら、静かに清浄な基板を
垂直に水中で上下させると、単分子膜は基板上に移り、
これを繰り返すことにより累積膜は基板上に均一に形成
される。
本発明に使用される膜形成物質の溶剤としては、膜形
成物質を溶解し、水と相溶せず、かつ、揮発性の有機溶
剤であればどのような物でも使用可能であるが、例え
ば、ジクロルメタン、クロロホルム、トリクロルエタン
のようなハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族系炭化水素、イソプロパノール、ブ
タノール等のアルコール類、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエ
ーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル類等を用いることができる。
成物質を溶解し、水と相溶せず、かつ、揮発性の有機溶
剤であればどのような物でも使用可能であるが、例え
ば、ジクロルメタン、クロロホルム、トリクロルエタン
のようなハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族系炭化水素、イソプロパノール、ブ
タノール等のアルコール類、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエ
ーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル類等を用いることができる。
本発明による光情報記憶媒体を製造するために使用す
る累積装置は、表面圧を常にモニターでき、しかも常に
一定の表面圧を自動的に維持できる制御装置を備えてい
ることが望ましい。具体的には協和界面科学製累積装
置、ラウダ（Lauda）製累積装置、ジョイス−レーベル
（Joyce−Loebel）製累積装置が使用可能である。
る累積装置は、表面圧を常にモニターでき、しかも常に
一定の表面圧を自動的に維持できる制御装置を備えてい
ることが望ましい。具体的には協和界面科学製累積装
置、ラウダ（Lauda）製累積装置、ジョイス−レーベル
（Joyce−Loebel）製累積装置が使用可能である。
本発明による光情報記憶媒体において、光エネルギー
を吸収し、光情報の記録を行なう記録層は、光を吸収す
る分子１種類以上の成膜分子からなる。
を吸収し、光情報の記録を行なう記録層は、光を吸収す
る分子１種類以上の成膜分子からなる。
本発明による光情報記憶媒体において、上記スクエア
リリウム染料のうち、ただ１種類の染料分子からなる単
分子膜は勿論、特徴の異なる２種類以上の染料分子を同
一単分子膜中に混在させた混合単分子膜も使用すること
ができ、又、単分子膜を２層以上累積された多層膜にお
いて、同一種類の単分子膜、混合単分子膜の累積膜、
又、異なる種類の単分子膜、混合単分子膜の累積膜も使
用可能である。
リリウム染料のうち、ただ１種類の染料分子からなる単
分子膜は勿論、特徴の異なる２種類以上の染料分子を同
一単分子膜中に混在させた混合単分子膜も使用すること
ができ、又、単分子膜を２層以上累積された多層膜にお
いて、同一種類の単分子膜、混合単分子膜の累積膜、
又、異なる種類の単分子膜、混合単分子膜の累積膜も使
用可能である。
単分子膜の安定性を改善するための膜形成材料として
は、アラキジン酸、ステアリン酸などの脂肪酸、ヘキサ
デカン、オクタデカンなどのパラフィン系炭化水素、1
0,12−ペンタコサジイン酸、10,12−トリコサジイン酸
などのジアセチレン系化合物などを利用することができ
る。
は、アラキジン酸、ステアリン酸などの脂肪酸、ヘキサ
デカン、オクタデカンなどのパラフィン系炭化水素、1
0,12−ペンタコサジイン酸、10,12−トリコサジイン酸
などのジアセチレン系化合物などを利用することができ
る。
本発明の製造方法によって製造される光情報記憶媒体
は、基本的には第１図に示すように、基板１と有機薄膜
からなる記録層２とから構成されるが、必要に応じてさ
らに下引層、保護層などを設けることもできる。
は、基本的には第１図に示すように、基板１と有機薄膜
からなる記録層２とから構成されるが、必要に応じてさ
らに下引層、保護層などを設けることもできる。
基板１としては、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリ
カーボネート、ポリスルホン、ポリオレフィン、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミドなど
のプラスチック、アルミニウムなどの金属やガラスなど
を用いることができる。
カーボネート、ポリスルホン、ポリオレフィン、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミドなど
のプラスチック、アルミニウムなどの金属やガラスなど
を用いることができる。
本発明による光情報記憶用媒体において、第２図に示
すように、基板１と記録層２との間に反射層３を設ける
ことができる。反射層としては、アルミニウム、銀、ク
ロムなどの金属の蒸着膜を利用することができる。
すように、基板１と記録層２との間に反射層３を設ける
ことができる。反射層としては、アルミニウム、銀、ク
ロムなどの金属の蒸着膜を利用することができる。
上記の本発明で使用される基板は、表面をアラキジン
酸カドミウム又はステアリン酸鉄などで疎水化処理をし
て使用することもできる。
酸カドミウム又はステアリン酸鉄などで疎水化処理をし
て使用することもできる。
（実施例） 以下、実施例によって本発明を説明する。
実施例１ 前記一般式（Ｉ）で表わされるスクエアリリウム染料
のうち、Ｒがｎ−プロピル基である染料とアラキジン酸
とをモル比1:1でクロロホルムに溶解する。この溶液を2
0℃のCdCl2 2.5×10-4mol/、KHCO3 ３×10-5mol/
の濃度に調整した次の表面上に展開し、クロロホルム蒸
発後、累積表面圧が30dyn/cmにバリヤーを移動し膜面積
を圧縮して単分子膜を作成した。
のうち、Ｒがｎ−プロピル基である染料とアラキジン酸
とをモル比1:1でクロロホルムに溶解する。この溶液を2
0℃のCdCl2 2.5×10-4mol/、KHCO3 ３×10-5mol/
の濃度に調整した次の表面上に展開し、クロロホルム蒸
発後、累積表面圧が30dyn/cmにバリヤーを移動し膜面積
を圧縮して単分子膜を作成した。
この単分子膜をアルミニウム反射膜のついたガラス基
板に50層累積させて、厚さ約1400オングストロームの記
録層を形成し、光情報記憶媒体を得た。
板に50層累積させて、厚さ約1400オングストロームの記
録層を形成し、光情報記憶媒体を得た。
このようにして得られた光情報記憶媒体を、発振波長
780nmのガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザー
を用い、照射面パワー3.2mW、ビーム径1.5μｍで書き込
みを行なったところ、均一かつ明瞭な形状のスポットが
得られた。
780nmのガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザー
を用い、照射面パワー3.2mW、ビーム径1.5μｍで書き込
みを行なったところ、均一かつ明瞭な形状のスポットが
得られた。
又、この記録部に低出力の半導体レーザーを照射し、
反射光の検知を行なったところ、45dBと良好であった。
反射光の検知を行なったところ、45dBと良好であった。
（発明の効果） 本発明の製造方法によって製造される光情報記憶媒体
は、前記一般式（Ｉ）で示されるスクエアリリウム染料
を含有する有機薄膜を有するから、吸収スペクトルがシ
ャープであって、高感度で高い信頼性を有する。
は、前記一般式（Ｉ）で示されるスクエアリリウム染料
を含有する有機薄膜を有するから、吸収スペクトルがシ
ャープであって、高感度で高い信頼性を有する。
更に、本発明の光情報記憶媒体の製造方法によれば、
基板上に、非常に薄い膜を、膜形成分子が高度に配向制
御した状態で形成することができ、しかも均質な集合状
態の薄膜を、極めて簡単かつ安価に製造することができ
る。
基板上に、非常に薄い膜を、膜形成分子が高度に配向制
御した状態で形成することができ、しかも均質な集合状
態の薄膜を、極めて簡単かつ安価に製造することができ
る。
第１図及び第２図は、それぞれ本発明の製造方法によっ
て製造される光情報記憶媒体の一例の模式図である。 １……基板、２……記録層、３……反射層。
て製造される光情報記憶媒体の一例の模式図である。 １……基板、２……記録層、３……反射層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 陽子 神奈川県海老名市本郷2274番地 富士ゼロ ックス株式会社海老名事業所内 (56)参考文献 特開 昭60−131537（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−141246（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−46221（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】水の表面上に、下記一般式（Ｉ）で示され
るスクエアリリウム染料を含有する単分子膜を形成し、
その単分子膜と適当な基板とを接触させることにより、
基板表面上にスクエアリリウム染料の薄膜を形成するこ
とを特徴とする光情報記憶媒体の製造方法。 （式中、Ｒはアルキル基を示す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61297549A JPH0822617B2 (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | 光情報記憶媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61297549A JPH0822617B2 (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | 光情報記憶媒体の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6191345A Division JP2560269B2 (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 電子写真感光層の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63151956A JPS63151956A (ja) | 1988-06-24 |
| JPH0822617B2 true JPH0822617B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=17847978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61297549A Expired - Fee Related JPH0822617B2 (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | 光情報記憶媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0822617B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5646221A (en) * | 1979-09-20 | 1981-04-27 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Optically recording medium |
| DE3274723D1 (en) * | 1981-09-25 | 1987-01-29 | Ici Plc | Method of applying thin films to substrates |
| JPS60131537A (ja) * | 1983-12-21 | 1985-07-13 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真用感光体 |
-
1986
- 1986-12-16 JP JP61297549A patent/JPH0822617B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63151956A (ja) | 1988-06-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |