JPH0822768B2 - セメント焼成装置 - Google Patents

セメント焼成装置

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JPH0822768B2
JPH0822768B2 JP62333158A JP33315887A JPH0822768B2 JP H0822768 B2 JPH0822768 B2 JP H0822768B2 JP 62333158 A JP62333158 A JP 62333158A JP 33315887 A JP33315887 A JP 33315887A JP H0822768 B2 JPH0822768 B2 JP H0822768B2
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JP
Japan
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kiln
calcination
cement
raw material
cooling device
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捷造 土屋
瑞彦 田中
龍樹 岡
邦久 藤原
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B7/00Hydraulic cements
    • C04B7/36Manufacture of hydraulic cements in general
    • C04B7/43Heat treatment, e.g. precalcining, burning, melting; Cooling
    • C04B7/432Preheating without addition of fuel

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Curing Cements, Concrete, And Artificial Stone (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は仮焼されたセメント原料の仮焼後の加熱に適
用されるセメントクリンカの焼成装置に関する。
〔従来の技術〕
従来のセメント焼成装置は第3図に示すようにサスペ
ンションプレヒータ3、流動式仮焼炉2、ロータリーキ
ルン4、冷却装置5の主要機器からなっており、サスペ
ンションプレヒータ3に投入されたセメント原料は、予
熱された後、流動式仮焼炉2に投入され、そこで仮焼反
応を約70〜90%起こし、約830〜850℃で焼成用のキルン
4に投入される。キルン4に入る原料の温度は900℃以
下である。原料はキルン4内で更に1450℃まで加熱され
て、セメントクリンカに焼成され、焼成されたセメント
クリンカは、冷却装置5で冷却され系外へ排出される。
なお、サスペンションプレヒータ3は図示のようにサ
イクロンC1〜C5で構成され、それぞれには原料移送及び
通気用の配管が施されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来のセメント焼成装置には次の問題があった。
即ち、仮焼炉において70〜90%程度まで仮焼された900
℃以下の原料は更にキルン内で残りの仮焼反応を起こ
し、1450℃まで加熱され、焼成される。ところが熱交換
効率の悪いキルン内で残りの仮焼を行い、更に加熱焼成
を行うためキルンが大型となって長くなり、燃料を多く
焚かねばならない。従って熱損失は大きく燃費が高くな
り、また設備が大きく建設費も高くなるという問題点が
ある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は上記問題点の解決手段として、サスペンショ
ンプレヒータ、流動式仮焼炉、キルンおよび冷却装置を
備えたセメントの焼成装置において、流動式仮焼炉とキ
ルンとの間に上記冷却装置の排気を取込み可能に介装さ
れ上記流動式仮焼炉で仮焼された仮焼原料を焼成温度近
くまで昇温させる気流式加熱器を具備してなることを特
徴とするセメント焼成装置を提供しようとするものであ
る。
〔作 用〕
本発明は上記のように構成されるので次の作用を有す
る。即ち、流動式仮焼炉で仮焼きした仮焼原料をキルン
に入れる前に気流式加熱器によって冷却装置の排気を利
用し高温加熱するのでキルンでの燃焼負荷が下がりキル
ンの長さが大幅に短縮できるため、熱損失が減り、燃費
が低くなる。また焼成設備全体が小さくなる。
〔実施例〕
本発明の一実施例を第1図、第2図に基づいて説明す
る。なお、第3図と同様構成品は同符号とし、説明を省
略する。第1図においてセメント原料は流動式仮焼炉2
およびキルン4の排ガスによってサスペンションプレヒ
ータ3で予熱された後、流動式仮焼炉2に入って仮焼さ
れる。仮焼された原料はサイクロンC1で捕集されて気流
式加熱器1の下部に投入される。そこで抽気ダクト7を
通って該気流式加熱器1の下部に導かれた高温の冷却装
置排空気によって1000〜1200℃まで加熱される。その後
キルン4に供給されてセメントクリンカに焼成され、冷
却装置5で冷却されて系外へ排出される。また前述した
如く、気流式加熱器1に導入する加熱ガスとしては高温
の冷却装置排空気中で燃料を燃焼し、温度を制御したガ
スを使用することができる。
第2図は本発明の気流式加熱器1の縦断面図で該気流
式加熱器1の最下部から入ってきた高温ガスによって、
下部側面から入ってきた仮焼原料01が加熱されて上部出
口より排出される。
本実施例によれば以上説明したように気流式加熱器1
で仮焼原料01が予め1000〜1200℃に加熱された後キルン
4に入るのでキルン4に投与すべき熱量、時間共に小さ
くてすみ、キルン4は従来のキルンに比して短かくてよ
い。また、燃料費も低減され、建設コストの低減も可能
である。
〔発明の効果〕
本発明は上記のように構成されるので次の効果を有す
る。即ち、高温の冷却装置排気を有効に利用する気流式
加熱器を設置し、キルンに入る仮焼原料を予め高温加熱
するためキルンの負担が減り、 (1) キルンの短縮化、 (2) 燃費の低減、 (3) 建設コストの低減、 が達成される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例であるセメントクリンカの焼
成装置を原料の流れに従って示した模式的構成図、第2
図は第1図における気流式加熱器1の模式的拡大縦断面
図、第3図は第1図に対応して示した従来の焼成装置の
図である。 1……気流式加熱器、2……流動式仮焼炉 3……サスペンションプレヒータ 4……キルン、5……冷却装置 6……抽気ダクト、7……抽気ダクト C1〜C6……サイクロン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤原 邦久 広島県広島市西区観音新町4丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内 (56)参考文献 特開 昭53−25630(JP,A) 特開 昭60−137857(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】サスペンションプレヒータ、流動式仮焼
    炉、キルンおよび冷却装置を備えたセメントの焼成装置
    において、流動式仮焼炉とキルンとの間に上記冷却装置
    の排気を取込み可能に介装され上記流動式仮焼炉で仮焼
    された仮焼原料を焼成温度近くまで昇温させる気流式加
    熱器を具備してなることを特徴とするセメント焼成装
    置。
JP62333158A 1987-12-29 1987-12-29 セメント焼成装置 Expired - Fee Related JPH0822768B2 (ja)

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