JPH08233520A - 三次元形状測定装置 - Google Patents
三次元形状測定装置Info
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- JPH08233520A JPH08233520A JP7061747A JP6174795A JPH08233520A JP H08233520 A JPH08233520 A JP H08233520A JP 7061747 A JP7061747 A JP 7061747A JP 6174795 A JP6174795 A JP 6174795A JP H08233520 A JPH08233520 A JP H08233520A
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- light
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 被測定物の面の傾きに左右されずに安定し
て、高い精度で被測定物の三次元形状を測定する。 【構成】 演算・制御部18は、スリット状の照射光1
4aの拡がり方向(Y方向)に対応する方向と直交する
方向に並んだ受光部15の2次元受光センサの受光素子
の列であって、受光部15の出力信号における当該列に
属する複数の受光素子にそれぞれ対応する複数のレベル
のうちの最大レベルが所定の範囲内に入る列、の数が多
くなるように、前記2次元受光センサの出力信号に基づ
いて、照射部駆動回路17に制御信号を与えて、スリッ
ト状の照射光14aの輝度を調整する。
て、高い精度で被測定物の三次元形状を測定する。 【構成】 演算・制御部18は、スリット状の照射光1
4aの拡がり方向(Y方向)に対応する方向と直交する
方向に並んだ受光部15の2次元受光センサの受光素子
の列であって、受光部15の出力信号における当該列に
属する複数の受光素子にそれぞれ対応する複数のレベル
のうちの最大レベルが所定の範囲内に入る列、の数が多
くなるように、前記2次元受光センサの出力信号に基づ
いて、照射部駆動回路17に制御信号を与えて、スリッ
ト状の照射光14aの輝度を調整する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、スリット状の照射光を
利用した光距離センサを用いて、被測定物の三次元形状
を測定する三次元形状測定装置に関するものである。
利用した光距離センサを用いて、被測定物の三次元形状
を測定する三次元形状測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】被測定物に対して照射光を照射する照射
部と被測定物からの反射光を受光する受光部とを備えた
光距離センサを用いて、非接触で被測定物の三次元形状
を測定することが、従来から広く行われている。この方
法は、接触式プローブによる測定に必ず付随するプロー
ブの接触圧による被測定物の変形、プローブ先端の接触
球の半径の補正等がなく、簡易で、精度も比較的良い方
法として広く知られている。
部と被測定物からの反射光を受光する受光部とを備えた
光距離センサを用いて、非接触で被測定物の三次元形状
を測定することが、従来から広く行われている。この方
法は、接触式プローブによる測定に必ず付随するプロー
ブの接触圧による被測定物の変形、プローブ先端の接触
球の半径の補正等がなく、簡易で、精度も比較的良い方
法として広く知られている。
【0003】このような光距離センサの一つとして、三
角測量の原理を利用するとともにスリット状の照射光を
用いた三角測距式の光距離センサがある。
角測量の原理を利用するとともにスリット状の照射光を
用いた三角測距式の光距離センサがある。
【0004】図4は、このような三角測距式の光距離セ
ンサ1の測定原理を示す説明図である。
ンサ1の測定原理を示す説明図である。
【0005】図4に示すように、この光距離センサ1
は、被測定物6に対してスリット状の照射光(図4に示
す例では、図4中の紙面に垂直な方向に拡がってい
る。)を照射する照射部2と、被測定物6からの反射光
を受光するCCDカメラなどの受光部3とを備えてい
る。受光部3は、2次元配列された複数の受光素子を持
った2次元CCDなどの2次元受光センサ4と、前記照
射光による被測定物6からの反射光、すなわち、前記照
射光による被測定物6上の像(光切断線)を、2次元受
光センサ4の受光面上に投影させる受光レンズ5とから
構成されている。
は、被測定物6に対してスリット状の照射光(図4に示
す例では、図4中の紙面に垂直な方向に拡がってい
る。)を照射する照射部2と、被測定物6からの反射光
を受光するCCDカメラなどの受光部3とを備えてい
る。受光部3は、2次元配列された複数の受光素子を持
った2次元CCDなどの2次元受光センサ4と、前記照
射光による被測定物6からの反射光、すなわち、前記照
射光による被測定物6上の像(光切断線)を、2次元受
光センサ4の受光面上に投影させる受光レンズ5とから
構成されている。
【0006】この光距離センサ1によれば、照射部2か
ら発したスリット状の照射光は、被測定物6に照射さ
れ、その反射光が受光レンズ5を介し受光センサ4によ
り受光される。このとき、図4に示すように、被測定物
6の面の位置に応じて、受光センサ4に入る反射光の位
置が変化する。したがって、受光センサ4から、被測定
物6上の光切断線上の各点までの距離を示す出力が一括
して得られる。
ら発したスリット状の照射光は、被測定物6に照射さ
れ、その反射光が受光レンズ5を介し受光センサ4によ
り受光される。このとき、図4に示すように、被測定物
6の面の位置に応じて、受光センサ4に入る反射光の位
置が変化する。したがって、受光センサ4から、被測定
物6上の光切断線上の各点までの距離を示す出力が一括
して得られる。
【0007】そして、前述したようなレーザー変位計等
の光距離センサを用いた従来の三次元形状測定装置で
は、前記スリット状の照射光を常に一定の輝度で照射
し、前記光距離センサと前記被測定物との間の相対位置
を変更しながら、光距離センサと被測定物との間の所定
の複数の相対位置に応じた光距離センサの出力に基づい
て、被測定物の三次元形状データを作製していた。
の光距離センサを用いた従来の三次元形状測定装置で
は、前記スリット状の照射光を常に一定の輝度で照射
し、前記光距離センサと前記被測定物との間の相対位置
を変更しながら、光距離センサと被測定物との間の所定
の複数の相対位置に応じた光距離センサの出力に基づい
て、被測定物の三次元形状データを作製していた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の三次元形状測定装置では、被測定物の三次元形状を
測定する際、被測定物の面の傾斜によっては、測定不能
の箇所(形状データを得ることができない箇所)や測定
の精度の低下した箇所が出てくる場合が多かった。
来の三次元形状測定装置では、被測定物の三次元形状を
測定する際、被測定物の面の傾斜によっては、測定不能
の箇所(形状データを得ることができない箇所)や測定
の精度の低下した箇所が出てくる場合が多かった。
【0009】これは、前述したような光距離センサにお
いては、光の照射方向及び被測定物からの反射光の受光
方向と、被測定物の測定点の面の傾きとの関係によっ
て、受光部の2次元受光センサに入射する反射光の光量
が著しく変化してしまうからである。
いては、光の照射方向及び被測定物からの反射光の受光
方向と、被測定物の測定点の面の傾きとの関係によっ
て、受光部の2次元受光センサに入射する反射光の光量
が著しく変化してしまうからである。
【0010】例えば、図4に示す光距離センサ1を用い
た場合、図4に示すように、光距離センサ1の照射光軸
及び受光光軸に対して被測定物6の面の法線の傾斜が小
さいときには、光距離センサ1の受光部3は、被測定物
6から多量の反射光を受ける。
た場合、図4に示すように、光距離センサ1の照射光軸
及び受光光軸に対して被測定物6の面の法線の傾斜が小
さいときには、光距離センサ1の受光部3は、被測定物
6から多量の反射光を受ける。
【0011】一方、図5に示すように、光距離センサ1
の照射光軸及び受光光軸に対して被測定物6の面の法線
の傾斜が大きいときには、光距離センサ1の受光部3
は、被測定物6から少量の反射光しか受けることができ
ない。具体的には、図5に示すように、受光部3が照射
部2に対して右側に位置し、被測定物6の面が左側に大
きく傾いている場合、被測定物6からの反射光は照射部
2に対してほとんど左側に片寄ってしまい、受光部3は
少量の反射光しか受けることができない。
の照射光軸及び受光光軸に対して被測定物6の面の法線
の傾斜が大きいときには、光距離センサ1の受光部3
は、被測定物6から少量の反射光しか受けることができ
ない。具体的には、図5に示すように、受光部3が照射
部2に対して右側に位置し、被測定物6の面が左側に大
きく傾いている場合、被測定物6からの反射光は照射部
2に対してほとんど左側に片寄ってしまい、受光部3は
少量の反射光しか受けることができない。
【0012】受光部3の受光量が減少すれば、外光の影
響を受け易くなり、いわゆるSN比が低下し、測定精度
が低下する。受光量が更に減少して所定の値以下となれ
ば、事実上測定は不可能となる。一方、受光部3の受光
量が大きすぎると、受光部3の2次元受光センサ4の受
光素子の出力が飽和してしまい、受光部3の2次元受光
センサ4上に投影された光切断線の像の中心位置を求め
るいわゆるサブピクセル処理を行う場合に、その中心位
置を精度良く求めることができなくなり、したがって、
測定精度はやはり低下する。
響を受け易くなり、いわゆるSN比が低下し、測定精度
が低下する。受光量が更に減少して所定の値以下となれ
ば、事実上測定は不可能となる。一方、受光部3の受光
量が大きすぎると、受光部3の2次元受光センサ4の受
光素子の出力が飽和してしまい、受光部3の2次元受光
センサ4上に投影された光切断線の像の中心位置を求め
るいわゆるサブピクセル処理を行う場合に、その中心位
置を精度良く求めることができなくなり、したがって、
測定精度はやはり低下する。
【0013】本発明は、このような従来の問題点に鑑み
てなされたもので、被測定物の面の傾きに左右されずに
安定して、高い精度で被測定物の三次元形状を測定でき
る三次元形状測定装置を提供することを目的とする。
てなされたもので、被測定物の面の傾きに左右されずに
安定して、高い精度で被測定物の三次元形状を測定でき
る三次元形状測定装置を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明の第1の態様による三次元形状測定装置は、
被測定物に対してスリット状の照射光を照射する照射部
と、2次元配列された複数の受光素子を持った2次元受
光センサを有する受光部であって、前記照射光による前
記被測定物上の像を前記2次元受光センサ上で受光する
受光部と、を備えた光距離センサと、前記光距離センサ
と前記被測定物との間の相対位置を変更させる位置変更
手段と、前記光距離センサと前記被測定物との間の所定
の複数の相対位置に応じた前記2次元受光センサの出力
信号に基づいて、前記被測定物の三次元形状データを作
製する三次元形状データ作製手段と、を備えた三次元形
状測定装置において、前記スリット状の照射光の拡がり
方向に対応する方向と直交する方向に並んだ前記2次元
受光センサの受光素子の列であって、前記出力信号にお
ける当該列に属する複数の受光素子にそれぞれ対応する
複数のレベルのうちの最大レベルが所定の範囲内に入る
列、の数が多くなるように、前記2次元受光センサの前
記出力信号に基づいて、前記照射光の輝度を調整する調
整手段を、更に備えたものである。
め、本発明の第1の態様による三次元形状測定装置は、
被測定物に対してスリット状の照射光を照射する照射部
と、2次元配列された複数の受光素子を持った2次元受
光センサを有する受光部であって、前記照射光による前
記被測定物上の像を前記2次元受光センサ上で受光する
受光部と、を備えた光距離センサと、前記光距離センサ
と前記被測定物との間の相対位置を変更させる位置変更
手段と、前記光距離センサと前記被測定物との間の所定
の複数の相対位置に応じた前記2次元受光センサの出力
信号に基づいて、前記被測定物の三次元形状データを作
製する三次元形状データ作製手段と、を備えた三次元形
状測定装置において、前記スリット状の照射光の拡がり
方向に対応する方向と直交する方向に並んだ前記2次元
受光センサの受光素子の列であって、前記出力信号にお
ける当該列に属する複数の受光素子にそれぞれ対応する
複数のレベルのうちの最大レベルが所定の範囲内に入る
列、の数が多くなるように、前記2次元受光センサの前
記出力信号に基づいて、前記照射光の輝度を調整する調
整手段を、更に備えたものである。
【0015】本発明の第2の態様による三次元形状測定
装置は、被測定物に対してスリット状の照射光を照射す
る照射部と、各々が、2次元配列された複数の受光素子
を持った2次元受光センサを有する複数の受光部であっ
て、各々が、前記照射光による前記被測定物上の像を前
記2次元受光センサ上で互いに異なる方向で受光する複
数の受光部と、を備えた光距離センサと、前記光距離セ
ンサと前記被測定物との間の相対位置を変更させる位置
変更手段と、前記光距離センサと前記被測定物との間の
所定の複数の相対位置に応じた前記複数の受光部の2次
元受光センサうちの少なくとも一つの出力信号に基づい
て、前記被測定物の三次元形状データを作製する三次元
形状データ作製手段と、を備えた三次元形状測定装置に
おいて、前記複数の受光部のうちの少なくとも1つに関
して、前記スリット状の照射光の拡がり方向に対応する
方向と直交する方向に並んだ前記2次元受光センサの受
光素子の列であって、前記出力信号における当該列に属
する複数の受光素子にそれぞれ対応する複数のレベルの
うちの最大レベルが所定の範囲内に入る列、の数が多く
なるように、前記2次元受光センサの前記出力信号に基
づいて、前記照射光の輝度を調整する調整手段を、更に
備えたものである。
装置は、被測定物に対してスリット状の照射光を照射す
る照射部と、各々が、2次元配列された複数の受光素子
を持った2次元受光センサを有する複数の受光部であっ
て、各々が、前記照射光による前記被測定物上の像を前
記2次元受光センサ上で互いに異なる方向で受光する複
数の受光部と、を備えた光距離センサと、前記光距離セ
ンサと前記被測定物との間の相対位置を変更させる位置
変更手段と、前記光距離センサと前記被測定物との間の
所定の複数の相対位置に応じた前記複数の受光部の2次
元受光センサうちの少なくとも一つの出力信号に基づい
て、前記被測定物の三次元形状データを作製する三次元
形状データ作製手段と、を備えた三次元形状測定装置に
おいて、前記複数の受光部のうちの少なくとも1つに関
して、前記スリット状の照射光の拡がり方向に対応する
方向と直交する方向に並んだ前記2次元受光センサの受
光素子の列であって、前記出力信号における当該列に属
する複数の受光素子にそれぞれ対応する複数のレベルの
うちの最大レベルが所定の範囲内に入る列、の数が多く
なるように、前記2次元受光センサの前記出力信号に基
づいて、前記照射光の輝度を調整する調整手段を、更に
備えたものである。
【0016】
【作用】本発明によれば、調整手段により、照射光の輝
度の最適化が図られ、被測定物の面の傾きにかかわら
ず、2次元受光センサの多くの受光素子の受光量が一定
の範囲に保たれる。したがって、本発明によれば、測定
不能の箇所が少なくなるのみならず、外乱光による測定
精度の低下が少なくなるとともに、2次元受光センサの
多くの受光素子の出力が飽和しないことから2次元受光
センサ4上に投影された光切断線の像の中心位置を精度
良く求めることができる。よって、本発明によれば、被
測定物の面の傾きに左右されずに安定して、高い精度で
被測定物の三次元形状を測定できる。
度の最適化が図られ、被測定物の面の傾きにかかわら
ず、2次元受光センサの多くの受光素子の受光量が一定
の範囲に保たれる。したがって、本発明によれば、測定
不能の箇所が少なくなるのみならず、外乱光による測定
精度の低下が少なくなるとともに、2次元受光センサの
多くの受光素子の出力が飽和しないことから2次元受光
センサ4上に投影された光切断線の像の中心位置を精度
良く求めることができる。よって、本発明によれば、被
測定物の面の傾きに左右されずに安定して、高い精度で
被測定物の三次元形状を測定できる。
【0017】本発明の前記第1の態様では、受光部が単
一でもあってもよいのに対し、本発明の前記第2の態様
では、互いに異なる方向から光切断線を受光する複数の
受光部を備えている点で、両者は異なるが、両者は実質
的には同一である。
一でもあってもよいのに対し、本発明の前記第2の態様
では、互いに異なる方向から光切断線を受光する複数の
受光部を備えている点で、両者は異なるが、両者は実質
的には同一である。
【0018】ただし、既に説明したように、受光する反
射光の光量が変化する原因が、光の照射方向及び被測定
物からの反射光の受光方向と被測定物の測定点の面の傾
きとの関係であるので、被測定物の測定箇所によってい
ずれか一方の受光部の受光状態の方が他方の受光部の受
光状態より良くなる。よって、前記第2の態様のよう
に、複数の受光部を用いると、各受光部の受光状態に応
じて良い方の受光部の出力を計測データとして採用する
ことができ、単一の受光部のみを用いる場合に比べて、
一層測定精度の向上を図ることができる。
射光の光量が変化する原因が、光の照射方向及び被測定
物からの反射光の受光方向と被測定物の測定点の面の傾
きとの関係であるので、被測定物の測定箇所によってい
ずれか一方の受光部の受光状態の方が他方の受光部の受
光状態より良くなる。よって、前記第2の態様のよう
に、複数の受光部を用いると、各受光部の受光状態に応
じて良い方の受光部の出力を計測データとして採用する
ことができ、単一の受光部のみを用いる場合に比べて、
一層測定精度の向上を図ることができる。
【0019】
【実施例】以下、本発明の種々の実施例による三次元形
状測定装置について、図面を参照して説明する。なお、
以下の本実施例では、被測定物は、歯科用作業模型とす
る。もっとも、被測定物はこれに限定されるものではな
く、本発明による三次元形状測定装置は他の任意のもの
も測定することができる。
状測定装置について、図面を参照して説明する。なお、
以下の本実施例では、被測定物は、歯科用作業模型とす
る。もっとも、被測定物はこれに限定されるものではな
く、本発明による三次元形状測定装置は他の任意のもの
も測定することができる。
【0020】まず、本発明の第1の実施例による三次元
形状測定装置について、図1及び図2を参照して説明す
る。
形状測定装置について、図1及び図2を参照して説明す
る。
【0021】図1は、本発明の第1の実施例による三次
元形状測定装置の全体構成を模式的に示す図である。
元形状測定装置の全体構成を模式的に示す図である。
【0022】本実施例による三次元形状測定装置は、図
1に示すように、本体基盤(図示せず)の上に取り付け
られX方向に移動可能なXステージ11と、Xステージ
11の上方において前記本体基盤に取り付けられた光距
離センサ12とを備えている。被測定物13はXステー
ジ11の上に載せられる。本実施例では、Xステージ1
1が、光距離センサ12と被測定物13との間の相対位
置を変更させる位置変更手段を構成している。
1に示すように、本体基盤(図示せず)の上に取り付け
られX方向に移動可能なXステージ11と、Xステージ
11の上方において前記本体基盤に取り付けられた光距
離センサ12とを備えている。被測定物13はXステー
ジ11の上に載せられる。本実施例では、Xステージ1
1が、光距離センサ12と被測定物13との間の相対位
置を変更させる位置変更手段を構成している。
【0023】なお、図1において、Xステージ11の動
きの理解を容易にするため、Xステージ11の固定部を
11aで示し、Xステージ11の可動部を11bで示し
ている。
きの理解を容易にするため、Xステージ11の固定部を
11aで示し、Xステージ11の可動部を11bで示し
ている。
【0024】光距離センサ12は、図4に示した変位計
1と同様の構成を有している。すなわち、光距離センサ
12は、被測定物13に対してX方向に垂直なY方向に
拡がったスリット状の照射光14aを照射する照射部1
4と、被測定物13からの反射光を受光する受光部15
と、を有している。受光部15は、図面には示していな
いが、2次元配列された複数の受光素子を持った2次元
CCDなどの2次元受光センサを有しており、受光部1
5として例えばCCDカメラを用いることができる。な
お、照射部14及び受光部15は、両方とも前記本体基
盤に固定されている。
1と同様の構成を有している。すなわち、光距離センサ
12は、被測定物13に対してX方向に垂直なY方向に
拡がったスリット状の照射光14aを照射する照射部1
4と、被測定物13からの反射光を受光する受光部15
と、を有している。受光部15は、図面には示していな
いが、2次元配列された複数の受光素子を持った2次元
CCDなどの2次元受光センサを有しており、受光部1
5として例えばCCDカメラを用いることができる。な
お、照射部14及び受光部15は、両方とも前記本体基
盤に固定されている。
【0025】また、本実施例による三次元形状測定装置
は、図1に示すように、Xステージ11の駆動モータ
(図示せず)を駆動するモータ駆動回路16と、光距離
センサ12の照射部14を駆動する照射部駆動回路17
と、各種の演算及び制御を行う演算・制御部18と、測
定者が演算・制御部18に各種の指令を与えるためのキ
ーボード等の入力装置19と、Xステージ11の位置
(又は駆動量)を検出するエンコーダ等の位置検出器
(図示せず)と、を備えている。
は、図1に示すように、Xステージ11の駆動モータ
(図示せず)を駆動するモータ駆動回路16と、光距離
センサ12の照射部14を駆動する照射部駆動回路17
と、各種の演算及び制御を行う演算・制御部18と、測
定者が演算・制御部18に各種の指令を与えるためのキ
ーボード等の入力装置19と、Xステージ11の位置
(又は駆動量)を検出するエンコーダ等の位置検出器
(図示せず)と、を備えている。
【0026】演算・制御部18は、図示しない記憶装置
やCPU等を内臓したマイクロコンピュータ等から構成
され、モータ駆動回路16及び照射部駆動回路17の動
作を制御する駆動制御部としての機能や、光距離センサ
12の受光部15からの出力及び前記位置検出器からの
出力(Xステージ11の位置検出信号)に基づいて三次
元形状データを作製する三次元形状データ作製部として
の機能や、後述するサブピクセル処理を行うサブピクセ
ル処理部としての機能などの各種の機能を担う。
やCPU等を内臓したマイクロコンピュータ等から構成
され、モータ駆動回路16及び照射部駆動回路17の動
作を制御する駆動制御部としての機能や、光距離センサ
12の受光部15からの出力及び前記位置検出器からの
出力(Xステージ11の位置検出信号)に基づいて三次
元形状データを作製する三次元形状データ作製部として
の機能や、後述するサブピクセル処理を行うサブピクセ
ル処理部としての機能などの各種の機能を担う。
【0027】なお、本実施例では、演算・制御部18で
作製された三次元形状データは、これを利用するCAD
装置20に供給されるようになっている。
作製された三次元形状データは、これを利用するCAD
装置20に供給されるようになっている。
【0028】ここで、演算・制御部18で行われるサブ
ピクセル処理について、図2を参照して説明する。
ピクセル処理について、図2を参照して説明する。
【0029】被測定物13に照射部14からスリット状
の照射光14aを照射させると、被測定物13の形状に
沿った切断線13aが形成され、この切断線13aが受
光部15により撮像される。すなわち、図2(a)に示
すように、受光部15の2次元受光センサの受光面上に
は、前記切断線13aの像21が投影される。
の照射光14aを照射させると、被測定物13の形状に
沿った切断線13aが形成され、この切断線13aが受
光部15により撮像される。すなわち、図2(a)に示
すように、受光部15の2次元受光センサの受光面上に
は、前記切断線13aの像21が投影される。
【0030】図2(a)は、受光部15の2次元受光セ
ンサの受光面上の切断線13aの像21を示す図であ
る。図2(a)中の横軸は、図1中のY方向(すなわ
ち、スリット状の照射光14aの拡がり方向)に対応す
るY1方向の前記受光面上の位置を示している。図2
(a)中の縦軸は、前記受光面上のY1方向に垂直なZ
1方向の位置を示している。切断線13aの像21の太
さは、通常1つの受光素子の縦方向(Z1方向)の長さ
よりも大きく、例えば約10素子分程度の長さになって
いる。
ンサの受光面上の切断線13aの像21を示す図であ
る。図2(a)中の横軸は、図1中のY方向(すなわ
ち、スリット状の照射光14aの拡がり方向)に対応す
るY1方向の前記受光面上の位置を示している。図2
(a)中の縦軸は、前記受光面上のY1方向に垂直なZ
1方向の位置を示している。切断線13aの像21の太
さは、通常1つの受光素子の縦方向(Z1方向)の長さ
よりも大きく、例えば約10素子分程度の長さになって
いる。
【0031】Y1方向のある位置においてZ1方向に並
んだ1列の受光素子に対応する2次元受光センサの出力
レベルの分布(2次元受光センサの受光面上の、Y1方
向のある位置においてZ1方向に沿った、受光量の分布
に相当)は、図2(b)に示すようになる。Y1方向の
この位置における切断線13aの像21のZ1方向の位
置は、図2(b)中の出力レベルが大きい位置に相当す
ることになる。なお、図2(b)中のDMAXは、Y1方
向のある位置においてZ1方向に並んだ1列の受光素子
に対応する出力レベルのうちの最大レベルを示してい
る。
んだ1列の受光素子に対応する2次元受光センサの出力
レベルの分布(2次元受光センサの受光面上の、Y1方
向のある位置においてZ1方向に沿った、受光量の分布
に相当)は、図2(b)に示すようになる。Y1方向の
この位置における切断線13aの像21のZ1方向の位
置は、図2(b)中の出力レベルが大きい位置に相当す
ることになる。なお、図2(b)中のDMAXは、Y1方
向のある位置においてZ1方向に並んだ1列の受光素子
に対応する出力レベルのうちの最大レベルを示してい
る。
【0032】図2(b)に示すような分布の形状から切
断線13aの像21のZ1方向の中心位置を推定する処
理が、いわゆるサブピクセル処理である。具体的には、
例えば、図2(b)中の所定の閾値D0以上の部分の加
重平均を以て切断線13aの像21のZ1方向の中心位
置とする。
断線13aの像21のZ1方向の中心位置を推定する処
理が、いわゆるサブピクセル処理である。具体的には、
例えば、図2(b)中の所定の閾値D0以上の部分の加
重平均を以て切断線13aの像21のZ1方向の中心位
置とする。
【0033】切断線13aの像21のZ1方向の中心位
置がY1方向の位置に対応する被測定物13の測定点ま
での距離を示すことになるので、演算・制御部18は、
三次元形状データの作製処理の一部として、受光部15
の2次元受光センサの出力信号に対して前述したサブピ
クセル処理を行うのである。
置がY1方向の位置に対応する被測定物13の測定点ま
での距離を示すことになるので、演算・制御部18は、
三次元形状データの作製処理の一部として、受光部15
の2次元受光センサの出力信号に対して前述したサブピ
クセル処理を行うのである。
【0034】次に、本実施例による三次元形状測定装置
の動作の一例について、説明する。
の動作の一例について、説明する。
【0035】まず、被測定物13である歯科用の模型の
測定に必要な測定箇所は歯の交合面及び側面であるか
ら、測定不要な面が下になるように、測定者が被測定物
13を接着剤(図示せず)でXステージ11に仮止めす
る。
測定に必要な測定箇所は歯の交合面及び側面であるか
ら、測定不要な面が下になるように、測定者が被測定物
13を接着剤(図示せず)でXステージ11に仮止めす
る。
【0036】この状態で、演算・制御部18は、測定者
により入力装置19から与えられた測定開始指令に応答
して、照射部駆動回路17に制御信号を与え、照射部1
4から被測定物13に所定輝度のスリット光14aを照
射させ、被測定物13の形状に沿った切断線13aを形
成する。
により入力装置19から与えられた測定開始指令に応答
して、照射部駆動回路17に制御信号を与え、照射部1
4から被測定物13に所定輝度のスリット光14aを照
射させ、被測定物13の形状に沿った切断線13aを形
成する。
【0037】この切断線13aが受光部15により斜め
から撮像される。すなわち、図2(a)に示すように、
受光部15の2次元受光センサの受光面上には、切断線
13aの像21が投影される。その結果、その像21に
応じた出力信号が、受光部15の2次元受光センサから
得られる。
から撮像される。すなわち、図2(a)に示すように、
受光部15の2次元受光センサの受光面上には、切断線
13aの像21が投影される。その結果、その像21に
応じた出力信号が、受光部15の2次元受光センサから
得られる。
【0038】演算・制御部18は、この2次元受光セン
サの出力に基づいて、照射部駆動回路17に制御信号を
与えて、照射部駆動回路17を介して、照射部14に対
する駆動電圧等を調整することによって、スリット状の
照射光14aの輝度を調整する。
サの出力に基づいて、照射部駆動回路17に制御信号を
与えて、照射部駆動回路17を介して、照射部14に対
する駆動電圧等を調整することによって、スリット状の
照射光14aの輝度を調整する。
【0039】すなわち、演算・制御部18は、スリット
状の照射光14aの拡がり方向(Y方向)に対応するZ
1方向に並んだ前記2次元受光センサの受光素子の列で
あって、前記2次元受光センサの前記出力信号における
当該列に属する複数の受光素子にそれぞれ対応する複数
のレベルのうちの最大レベルが所定の範囲(図2(b)
中のD1〜D2の範囲)に入る列、の数が多くなるように
(好ましくは、最大になるように)、前記2次元受光セ
ンサの前記出力信号に基づいて、スリット状の照射光1
4aの輝度を調整する。
状の照射光14aの拡がり方向(Y方向)に対応するZ
1方向に並んだ前記2次元受光センサの受光素子の列で
あって、前記2次元受光センサの前記出力信号における
当該列に属する複数の受光素子にそれぞれ対応する複数
のレベルのうちの最大レベルが所定の範囲(図2(b)
中のD1〜D2の範囲)に入る列、の数が多くなるように
(好ましくは、最大になるように)、前記2次元受光セ
ンサの前記出力信号に基づいて、スリット状の照射光1
4aの輝度を調整する。
【0040】例えば、前記2次元受光センサが、500
×1000個の受光素子(図2(a)中のY1方向に5
00個の受光素子で、Z1方向に1000個の受光素
子)を有しているとすると、Z1方向に並んだ1000
個の受光素子の列が500列存在することになる。この
場合には、演算・制御部18は、この500列うち、前
記2次元受光センサの前記出力信号における当該列に属
する1000個の受光素子に対応する複数のレベルのう
ち最大レベル(図2(b)中のDMAXに相当)が図2
(b)中のD1〜D2の範囲に入る列の数が多くなるよう
に、スリット状の照射光14aの輝度を調整する。
×1000個の受光素子(図2(a)中のY1方向に5
00個の受光素子で、Z1方向に1000個の受光素
子)を有しているとすると、Z1方向に並んだ1000
個の受光素子の列が500列存在することになる。この
場合には、演算・制御部18は、この500列うち、前
記2次元受光センサの前記出力信号における当該列に属
する1000個の受光素子に対応する複数のレベルのう
ち最大レベル(図2(b)中のDMAXに相当)が図2
(b)中のD1〜D2の範囲に入る列の数が多くなるよう
に、スリット状の照射光14aの輝度を調整する。
【0041】その具体的な調整は、例えば、前記500
列の各々の最大レベルDMAXを得て、これら500個の
最大レベルDMAXのレベル値の分布状態に基づいてスリ
ット状の照射光14aの輝度を設定することにより、行
うことができる。必要に応じて、スリット状の照射光1
4aの輝度を既知の複数の輝度にし、それぞれの輝度に
応じてそれぞれ500個の最大レベルDMAXを得、これ
らに基づいてスリット状の照射光14aの輝度を設定し
てもよい。
列の各々の最大レベルDMAXを得て、これら500個の
最大レベルDMAXのレベル値の分布状態に基づいてスリ
ット状の照射光14aの輝度を設定することにより、行
うことができる。必要に応じて、スリット状の照射光1
4aの輝度を既知の複数の輝度にし、それぞれの輝度に
応じてそれぞれ500個の最大レベルDMAXを得、これ
らに基づいてスリット状の照射光14aの輝度を設定し
てもよい。
【0042】2次元受光センサの受光面上に投影された
切断線13aの像21の光量が余りにも大きいと受光素
子から得られる出力が飽和してしまい、前述したサブピ
クセル処理により切断線13aの像21の中心位置を決
めるときの精度が下がる。逆に、光量が小さくなりすぎ
ると外乱光の影響が大きくなり、やはり測定精度が低下
する。したがって、このような点を考慮して、前記範囲
D1〜D2が定められている。例えば、この範囲の境界D
2は、受光素子の飽和出力レベルより若干小さく設定さ
れる。
切断線13aの像21の光量が余りにも大きいと受光素
子から得られる出力が飽和してしまい、前述したサブピ
クセル処理により切断線13aの像21の中心位置を決
めるときの精度が下がる。逆に、光量が小さくなりすぎ
ると外乱光の影響が大きくなり、やはり測定精度が低下
する。したがって、このような点を考慮して、前記範囲
D1〜D2が定められている。例えば、この範囲の境界D
2は、受光素子の飽和出力レベルより若干小さく設定さ
れる。
【0043】ところで、被測定物13上の切断線13a
の各点の面の傾きはそれぞれ異なるので、切断線13a
の像21の各部の光量はそれぞれ異なる。したがって、
スリット状の照射光14aの輝度を変化させても、切断
線13aの像21の全長にわたって受光部15の出力レ
ベルが前記範囲D1〜D2に入る保証は無い。そこで、前
述したように、前記列の数が多くなるようにスリット状
の照射光14aの輝度を調整しているのである。
の各点の面の傾きはそれぞれ異なるので、切断線13a
の像21の各部の光量はそれぞれ異なる。したがって、
スリット状の照射光14aの輝度を変化させても、切断
線13aの像21の全長にわたって受光部15の出力レ
ベルが前記範囲D1〜D2に入る保証は無い。そこで、前
述したように、前記列の数が多くなるようにスリット状
の照射光14aの輝度を調整しているのである。
【0044】演算・制御部18は、このようなスリット
状の照射光14aの調整が完了すると、前記2次元受光
センサの出力として得られる切断線13aの画像をフレ
ームメモリ(図示せず)に一旦記憶し、この画像データ
に対して前述したサブピクセル処理を行って、Y1方向
の各位置において切断線13aの像21のZ1方向の中
心位置を求め、そのデータをXステージの位置データと
対応させてメモリ(図示せず)に記憶させる。これで、
一つの切断線13aに対する測定が終了することにな
る。
状の照射光14aの調整が完了すると、前記2次元受光
センサの出力として得られる切断線13aの画像をフレ
ームメモリ(図示せず)に一旦記憶し、この画像データ
に対して前述したサブピクセル処理を行って、Y1方向
の各位置において切断線13aの像21のZ1方向の中
心位置を求め、そのデータをXステージの位置データと
対応させてメモリ(図示せず)に記憶させる。これで、
一つの切断線13aに対する測定が終了することにな
る。
【0045】被測定物12の全体を計測するためにはX
ステージ11を所定量のピッチで動かした後、同様の手
順で測定を繰り返せば良い。被測定物13の全域が所定
のピッチで測定できたなら全ての測定が終了したことに
なる。
ステージ11を所定量のピッチで動かした後、同様の手
順で測定を繰り返せば良い。被測定物13の全域が所定
のピッチで測定できたなら全ての測定が終了したことに
なる。
【0046】本実施例によれば、スリット状の照射光1
4aの輝度の最適化が図られ、被測定物13の面の傾き
にかかわらず、受光部15の2次元受光センサの多くの
受光素子の受光量が一定の範囲に保たれる。したがっ
て、測定不能の箇所が少なくなるのみならず、外乱光に
よる測定精度の低下が少なくなるとともに、2次元受光
センサの多くの受光素子の出力が飽和しないことから2
次元受光センサ上に投影された光切断線の像の中心位置
を精度良く求めることができる。よって、被測定物13
の面の傾きに左右されずに安定して、高い精度で被測定
物13の三次元形状を測定できる。
4aの輝度の最適化が図られ、被測定物13の面の傾き
にかかわらず、受光部15の2次元受光センサの多くの
受光素子の受光量が一定の範囲に保たれる。したがっ
て、測定不能の箇所が少なくなるのみならず、外乱光に
よる測定精度の低下が少なくなるとともに、2次元受光
センサの多くの受光素子の出力が飽和しないことから2
次元受光センサ上に投影された光切断線の像の中心位置
を精度良く求めることができる。よって、被測定物13
の面の傾きに左右されずに安定して、高い精度で被測定
物13の三次元形状を測定できる。
【0047】次に、本発明の第2の実施例による三次元
形状測定装置について、図3を参照して説明する。
形状測定装置について、図3を参照して説明する。
【0048】図3は、本発明の第2の実施例による三次
元形状測定装置の全体構成を示す図である。図3におい
て、図1中の構成要素と同一又は対応する構成要素には
同一符号を付し、重複した説明は省略する。
元形状測定装置の全体構成を示す図である。図3におい
て、図1中の構成要素と同一又は対応する構成要素には
同一符号を付し、重複した説明は省略する。
【0049】本実施例が前述した第1の実施例と異なる
所は、以下の点である。
所は、以下の点である。
【0050】すなわち、本実施例では、前記第1の実施
例において、スリット状の照射光14aに対して受光部
15と対称な位置関係となるように前記本体基盤に固定
された受光部31が、追加されている。受光部31は光
距離センサ15と同一の構成を有している。なお、受光
部31は、必ずしも受光部15と対称となるように配置
する必要はなく、切断線13aの像を受光部15と異な
る方向から受光するように配置すればよい。
例において、スリット状の照射光14aに対して受光部
15と対称な位置関係となるように前記本体基盤に固定
された受光部31が、追加されている。受光部31は光
距離センサ15と同一の構成を有している。なお、受光
部31は、必ずしも受光部15と対称となるように配置
する必要はなく、切断線13aの像を受光部15と異な
る方向から受光するように配置すればよい。
【0051】本実施例による三次元形状測定装置の動作
の一例について、説明する。
の一例について、説明する。
【0052】まず、前記第1の実施例と同様に、被測定
物13がXステージ11に仮止めされる。
物13がXステージ11に仮止めされる。
【0053】この状態で、演算・制御部18は、前記第
1の実施例と同様に、照射部駆動回路17に制御信号を
与え、照射部14から被測定物13に所定輝度のスリッ
ト光14aを照射させ、被測定物13の形状に沿った切
断線13aを形成する。
1の実施例と同様に、照射部駆動回路17に制御信号を
与え、照射部14から被測定物13に所定輝度のスリッ
ト光14aを照射させ、被測定物13の形状に沿った切
断線13aを形成する。
【0054】この切断線13aが受光部15,31によ
り斜めから撮像される。すなわち、図2(a)に示すよ
うに、受光部15の2次元受光センサの受光面及び受光
部31の2次元受光センサの受光面の上には、切断線1
3aの像がそれぞれ投影される。その結果、それらの像
に応じた出力信号が、受光部15の2次元受光センサ及
び受光部31の2次元受光センサから得られる。
り斜めから撮像される。すなわち、図2(a)に示すよ
うに、受光部15の2次元受光センサの受光面及び受光
部31の2次元受光センサの受光面の上には、切断線1
3aの像がそれぞれ投影される。その結果、それらの像
に応じた出力信号が、受光部15の2次元受光センサ及
び受光部31の2次元受光センサから得られる。
【0055】演算・制御部18は、受光部15,31の
2次元受光センサの出力に基づいて、照射部駆動回路1
7に制御信号を与えて、照射部駆動回路17を介して、
照射部14に対する駆動電圧等を調整することによっ
て、スリット状の照射光14aの輝度を調整する。
2次元受光センサの出力に基づいて、照射部駆動回路1
7に制御信号を与えて、照射部駆動回路17を介して、
照射部14に対する駆動電圧等を調整することによっ
て、スリット状の照射光14aの輝度を調整する。
【0056】すなわち、演算・制御部18は、受光部1
5,31のうちの少なくとも1つに関して、スリット状
の照射光14aの拡がり方向(Y方向)に対応する方向
に並んだ2次元受光センサの受光素子の列であって、当
該2次元受光センサの出力信号における当該列に属する
複数の受光素子にそれぞれ対応する複数のレベルのうち
の最大レベルが所定の範囲に入る列、の数が多くなるよ
うに(好ましくは、最大になるように)、前記2次元受
光センサの前記出力信号に基づいて、スリット状の照射
光14aの輝度を調整する。
5,31のうちの少なくとも1つに関して、スリット状
の照射光14aの拡がり方向(Y方向)に対応する方向
に並んだ2次元受光センサの受光素子の列であって、当
該2次元受光センサの出力信号における当該列に属する
複数の受光素子にそれぞれ対応する複数のレベルのうち
の最大レベルが所定の範囲に入る列、の数が多くなるよ
うに(好ましくは、最大になるように)、前記2次元受
光センサの前記出力信号に基づいて、スリット状の照射
光14aの輝度を調整する。
【0057】例えば、演算・制御部18は、まず、前記
第1の実施例と同様にして、受光部15に関して最大レ
ベルDMAXが所定範囲に入る列の数が多くなるようにス
リット状の照射光14aの輝度の調整を行う。そして、
このようにして調整された第1の輝度において、受光部
15に関して最大レベルDMAXが所定範囲に入る列の数
を得る。次に、前記第1の実施例と同様にして、受光部
31に関して最大レベルDMAXが所定範囲に入る列の数
が多くなるようにスリット状の照射光14aの輝度の調
整を行う。そして、このようにして調整された第2の輝
度において、受光部31に関して最大レベルDMAXが所
定範囲に入る列の数を得る。前記第1の輝度における受
光部15に関して最大レベルDMAXが所定範囲に入る列
の数と、前記第2の輝度における受光部31に関して最
大レベルDMAXが所定範囲に入る列の数とを比較し、ス
リット状の照射光14aの輝度を、その列の数が多い方
の受光部に対応する前記第1又は第2の輝度にする。
第1の実施例と同様にして、受光部15に関して最大レ
ベルDMAXが所定範囲に入る列の数が多くなるようにス
リット状の照射光14aの輝度の調整を行う。そして、
このようにして調整された第1の輝度において、受光部
15に関して最大レベルDMAXが所定範囲に入る列の数
を得る。次に、前記第1の実施例と同様にして、受光部
31に関して最大レベルDMAXが所定範囲に入る列の数
が多くなるようにスリット状の照射光14aの輝度の調
整を行う。そして、このようにして調整された第2の輝
度において、受光部31に関して最大レベルDMAXが所
定範囲に入る列の数を得る。前記第1の輝度における受
光部15に関して最大レベルDMAXが所定範囲に入る列
の数と、前記第2の輝度における受光部31に関して最
大レベルDMAXが所定範囲に入る列の数とを比較し、ス
リット状の照射光14aの輝度を、その列の数が多い方
の受光部に対応する前記第1又は第2の輝度にする。
【0058】演算・制御部18は、このようなスリット
状の照射光14aの調整が完了すると、前記列の数が多
い方の受光部の2次元受光センサの出力として得られる
切断線13aの画像をフレームメモリ(図示せず)に一
旦記憶し、この画像データに対して前述したサブピクセ
ル処理を行って、Y1方向の各位置において切断線13
aの像21のZ1方向の中心位置を求め、そのデータを
Xステージの位置データと対応させてメモリ(図示せ
ず)に記憶させる。これで、一つの切断線13aに対す
る測定が終了することになる。
状の照射光14aの調整が完了すると、前記列の数が多
い方の受光部の2次元受光センサの出力として得られる
切断線13aの画像をフレームメモリ(図示せず)に一
旦記憶し、この画像データに対して前述したサブピクセ
ル処理を行って、Y1方向の各位置において切断線13
aの像21のZ1方向の中心位置を求め、そのデータを
Xステージの位置データと対応させてメモリ(図示せ
ず)に記憶させる。これで、一つの切断線13aに対す
る測定が終了することになる。
【0059】被測定物13の全体を計測するためにはX
ステージ11を所定量のピッチで動かした後、同様の手
順で測定を繰り返せば良い。被測定物13の全域が所定
のピッチで測定できたなら全ての測定が終了したことに
なる。
ステージ11を所定量のピッチで動かした後、同様の手
順で測定を繰り返せば良い。被測定物13の全域が所定
のピッチで測定できたなら全ての測定が終了したことに
なる。
【0060】本実施例によっても、前記第1の実施例と
同様に、被測定物の面の傾きに左右されずに安定して、
高い精度で被測定物の三次元形状を測定できる。
同様に、被測定物の面の傾きに左右されずに安定して、
高い精度で被測定物の三次元形状を測定できる。
【0061】ただし、既に説明したように、受光する反
射光の光量が変化する原因が、光の照射方向及び被測定
物からの反射光の受光方向と被測定物の測定点の面の傾
きとの関係であるので、被測定物の測定箇所によってい
ずれか一方の受光部の受光状態の方が他方の受光部の受
光状態より良くなる。したがって、本実施例では、各受
光部15,31の受光状態に応じて良い方の受光部の出
力が計測データとして採用されることになり、単一の受
光部15のみを用いていた前記第1の実施例に比べて、
一層測定精度の向上を図ることができる。
射光の光量が変化する原因が、光の照射方向及び被測定
物からの反射光の受光方向と被測定物の測定点の面の傾
きとの関係であるので、被測定物の測定箇所によってい
ずれか一方の受光部の受光状態の方が他方の受光部の受
光状態より良くなる。したがって、本実施例では、各受
光部15,31の受光状態に応じて良い方の受光部の出
力が計測データとして採用されることになり、単一の受
光部15のみを用いていた前記第1の実施例に比べて、
一層測定精度の向上を図ることができる。
【0062】以上、本発明の各実施例について説明した
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【0063】例えば、単一の光距離センサが用いられて
いたが、複数の光距離センサを用いてもよい。また、光
距離センサにおける受光部の数も限定されるものではな
い。
いたが、複数の光距離センサを用いてもよい。また、光
距離センサにおける受光部の数も限定されるものではな
い。
【0064】また、前記各実施例では、光距離センサと
被測定物との間の相対位置を変更させる位置変更手段と
してXステージ11が採用されていたが、その相対位置
を所望の三次元形状を得るのに必要な位置にすることが
できれば、位置変更手段として任意の構成を採用するこ
とができる。
被測定物との間の相対位置を変更させる位置変更手段と
してXステージ11が採用されていたが、その相対位置
を所望の三次元形状を得るのに必要な位置にすることが
できれば、位置変更手段として任意の構成を採用するこ
とができる。
【0065】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
被測定物の面の傾きに左右されずに安定して、高い精度
で被測定物の三次元形状を測定できる。
被測定物の面の傾きに左右されずに安定して、高い精度
で被測定物の三次元形状を測定できる。
【図1】本発明の第1の実施例による三次元形状測定装
置の全体構成を模式的に示す図である。
置の全体構成を模式的に示す図である。
【図2】受光部の2次元受光センサの受光状態を示す説
明図である。
明図である。
【図3】本発明の第2の実施例による三次元形状測定装
置の全体構成を模式的に示す図である。
置の全体構成を模式的に示す図である。
【図4】スリット状の照射光を用いた三角測距式の光距
離センサの測定原理を示す説明図である。
離センサの測定原理を示す説明図である。
【図5】被測定物からの反射光の片寄りの状況を示す説
明図である。
明図である。
11 Xステージ 12 光距離センサ 13 被測定物 13a 切断線 14 照射部 15,31 受光部 16 モータ駆動回路 17 照射部駆動回路 18 演算・制御部 21 切断線の像
Claims (2)
- 【請求項1】 被測定物に対してスリット状の照射光を
照射する照射部と、2次元配列された複数の受光素子を
持った2次元受光センサを有する受光部であって、前記
照射光による前記被測定物上の像を前記2次元受光セン
サ上で受光する受光部と、を備えた光距離センサと、 前記光距離センサと前記被測定物との間の相対位置を変
更させる位置変更手段と、 前記光距離センサと前記被測定物との間の所定の複数の
相対位置に応じた前記2次元受光センサの出力信号に基
づいて、前記被測定物の三次元形状データを作製する三
次元形状データ作製手段と、 を備えた三次元形状測定装置において、 前記スリット状の照射光の拡がり方向に対応する方向と
直交する方向に並んだ前記2次元受光センサの受光素子
の列であって、前記出力信号における当該列に属する複
数の受光素子にそれぞれ対応する複数のレベルのうちの
最大レベルが所定の範囲内に入る列、の数が多くなるよ
うに、前記2次元受光センサの前記出力信号に基づい
て、前記照射光の輝度を調整する調整手段を、更に備え
たことを特徴とする三次元形状測定装置。 - 【請求項2】 被測定物に対してスリット状の照射光を
照射する照射部と、各々が、2次元配列された複数の受
光素子を持った2次元受光センサを有する複数の受光部
であって、各々が、前記照射光による前記被測定物上の
像を前記2次元受光センサ上で互いに異なる方向で受光
する複数の受光部と、を備えた光距離センサと、 前記光距離センサと前記被測定物との間の相対位置を変
更させる位置変更手段と、 前記光距離センサと前記被測定物との間の所定の複数の
相対位置に応じた前記複数の受光部の2次元受光センサ
うちの少なくとも一つの出力信号に基づいて、前記被測
定物の三次元形状データを作製する三次元形状データ作
製手段と、 を備えた三次元形状測定装置において、 前記複数の受光部のうちの少なくとも1つに関して、前
記スリット状の照射光の拡がり方向に対応する方向と直
交する方向に並んだ前記2次元受光センサの受光素子の
列であって、前記出力信号における当該列に属する複数
の受光素子にそれぞれ対応する複数のレベルのうちの最
大レベルが所定の範囲内に入る列、の数が多くなるよう
に、前記2次元受光センサの前記出力信号に基づいて、
前記照射光の輝度を調整する調整手段を、更に備えたこ
とを特徴とする三次元形状測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7061747A JPH08233520A (ja) | 1995-02-24 | 1995-02-24 | 三次元形状測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7061747A JPH08233520A (ja) | 1995-02-24 | 1995-02-24 | 三次元形状測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08233520A true JPH08233520A (ja) | 1996-09-13 |
Family
ID=13180079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7061747A Pending JPH08233520A (ja) | 1995-02-24 | 1995-02-24 | 三次元形状測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08233520A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003028717A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Advantest Corp | 光波長測定装置、方法、プログラムおよび該プログラムを記録した記録媒体 |
| WO2008156329A1 (en) * | 2007-06-20 | 2008-12-24 | Konkuk University Industrial Cooperation Corp. | System for measuring the wrinkle on web in r2r process |
| US7791738B2 (en) | 2007-01-17 | 2010-09-07 | Konica Minolta Sensing, Inc. | Three-dimensional shape measuring device, and portable measuring device |
| JP2012103266A (ja) * | 2006-10-05 | 2012-05-31 | Keyence Corp | 光学式変位計、光学式変位測定方法、光学式変位測定プログラム |
-
1995
- 1995-02-24 JP JP7061747A patent/JPH08233520A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003028717A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Advantest Corp | 光波長測定装置、方法、プログラムおよび該プログラムを記録した記録媒体 |
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| KR100916615B1 (ko) * | 2007-06-20 | 2009-09-14 | 건국대학교 산학협력단 | 롤투롤 공정에서의 웹 주름 측정 시스템 |
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