JPH08235569A - 磁気記録媒体用ベースフィルム及びこれを用いた磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体用ベースフィルム及びこれを用いた磁気記録媒体Info
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- JPH08235569A JPH08235569A JP7040901A JP4090195A JPH08235569A JP H08235569 A JPH08235569 A JP H08235569A JP 7040901 A JP7040901 A JP 7040901A JP 4090195 A JP4090195 A JP 4090195A JP H08235569 A JPH08235569 A JP H08235569A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 走行安定性に優れ、製造コストの点で有利な
磁気記録媒体用ベースフィルムを提供する。さらには、
電磁変換特性を確保しうるとともに、強磁性金属薄膜の
成膜速度を向上することが可能な磁気記録媒体を提供す
る。 【構成】 ベースフィルムのバック面の表面粗さを、中
心線平均粗さＲaで４．５〜２０ｎｍ、十点平均粗さＲz
で３５〜３５０ｎｍ、最大高さＲmaxで４０〜４００ｎ
ｍとする。磁性層形成面側は、この上に形成される強磁
性金属薄膜の電磁変換特性や走行性等の点から最適化
し、中心線平均粗さＲaで１０ｎｍ以下、十点平均粗さ
Ｒzで８０ｎｍ以下、最大高さＲmaxで１５０ｎｍ以下と
する。あるいは、高さ４０ｎｍ〜１００ｎｍの突起を密
度０．５×１０4個／ｍｍ2〜１０×１０4個／ｍｍ2、高
さ１５ｎｍ〜３５ｎｍの突起を密度１０×１０4個／ｍ
ｍ2〜５０００×１０4個／ｍｍ2なる割合で形成する。
磁気記録媒体用ベースフィルムを提供する。さらには、
電磁変換特性を確保しうるとともに、強磁性金属薄膜の
成膜速度を向上することが可能な磁気記録媒体を提供す
る。 【構成】 ベースフィルムのバック面の表面粗さを、中
心線平均粗さＲaで４．５〜２０ｎｍ、十点平均粗さＲz
で３５〜３５０ｎｍ、最大高さＲmaxで４０〜４００ｎ
ｍとする。磁性層形成面側は、この上に形成される強磁
性金属薄膜の電磁変換特性や走行性等の点から最適化
し、中心線平均粗さＲaで１０ｎｍ以下、十点平均粗さ
Ｒzで８０ｎｍ以下、最大高さＲmaxで１５０ｎｍ以下と
する。あるいは、高さ４０ｎｍ〜１００ｎｍの突起を密
度０．５×１０4個／ｍｍ2〜１０×１０4個／ｍｍ2、高
さ１５ｎｍ〜３５ｎｍの突起を密度１０×１０4個／ｍ
ｍ2〜５０００×１０4個／ｍｍ2なる割合で形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、いわゆる蒸着テープに
使用される磁気記録媒体用ベースフィルムに関するもの
であり、さらには、これを用いた磁気記録媒体に関する
ものである。
使用される磁気記録媒体用ベースフィルムに関するもの
であり、さらには、これを用いた磁気記録媒体に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】高密度磁気記録媒体として、非磁性支持
体上に強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタリングの如
き物理沈着法やメッキ法によって形成した強磁性金属薄
膜磁気記録媒体が知られている。
体上に強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタリングの如
き物理沈着法やメッキ法によって形成した強磁性金属薄
膜磁気記録媒体が知られている。
【０００３】例えば、Ｃｏを蒸着した磁気テープ（特開
昭５４−１４７０１０号）、Ｃｏ−Ｃｒ合金を用いた垂
直磁気記録媒体（特開昭５２−１３４７０６号）等であ
る。
昭５４−１４７０１０号）、Ｃｏ−Ｃｒ合金を用いた垂
直磁気記録媒体（特開昭５２−１３４７０６号）等であ
る。
【０００４】このような蒸着、スパッタ、イオンプレー
ティング等の薄膜形成手段によって形成される金属薄膜
は、厚みが１．５μｍ以下と非常に薄く、それにもかか
わらず磁気記録層の厚みが３μｍ以上である塗布型磁気
記録媒体（磁性粉末を有機高分子バインダーに混入して
ベースフィルム上に塗布してなる磁気記録媒体）と同等
以上の性能が得られるという利点がある。
ティング等の薄膜形成手段によって形成される金属薄膜
は、厚みが１．５μｍ以下と非常に薄く、それにもかか
わらず磁気記録層の厚みが３μｍ以上である塗布型磁気
記録媒体（磁性粉末を有機高分子バインダーに混入して
ベースフィルム上に塗布してなる磁気記録媒体）と同等
以上の性能が得られるという利点がある。
【０００５】ところで、磁気記録媒体の静的特性である
保磁力Ｈｃまたはヒステリシスループの角形比のような
磁気特性は、用いられるベースフィルムの表面状態にあ
まり依存しないという考えがある。
保磁力Ｈｃまたはヒステリシスループの角形比のような
磁気特性は、用いられるベースフィルムの表面状態にあ
まり依存しないという考えがある。
【０００６】このような考えによったものの例として、
米国特許第３７８７３２７号には、真空蒸着によるＣｏ
−Ｃｒ多層構造体が開示されている。
米国特許第３７８７３２７号には、真空蒸着によるＣｏ
−Ｃｒ多層構造体が開示されている。
【０００７】しかしながら、金属薄膜型の磁気記録媒体
においては、ベースフィルム上に形成される金属薄膜の
厚さが非常に薄く、ベースフィルムの表面状態（表面凹
凸）がそのまま磁気記録層である金属薄膜表面の凹凸と
して発現し、それがノイズの原因となることが欠点とさ
れている。
においては、ベースフィルム上に形成される金属薄膜の
厚さが非常に薄く、ベースフィルムの表面状態（表面凹
凸）がそのまま磁気記録層である金属薄膜表面の凹凸と
して発現し、それがノイズの原因となることが欠点とさ
れている。
【０００８】ノイズの観点からは、ベースフィルムの表
面状態は、できるだけ平滑であることが好ましい。一
方、ベースフィルムの巻取り、巻出しといったハンドリ
ングの観点からは、フィルム表面が平滑すぎるとフィル
ム−フィルム相互の滑り性が悪くなり、いわゆるブロッ
キング現象が発生して製品にはなり得ず、このためベー
スフィルム表面がある程度粗であることが要求される。
面状態は、できるだけ平滑であることが好ましい。一
方、ベースフィルムの巻取り、巻出しといったハンドリ
ングの観点からは、フィルム表面が平滑すぎるとフィル
ム−フィルム相互の滑り性が悪くなり、いわゆるブロッ
キング現象が発生して製品にはなり得ず、このためベー
スフィルム表面がある程度粗であることが要求される。
【０００９】前述の通り、金属薄膜型の磁気記録媒体に
おいては、電磁変換特性の観点からベースフィルムの表
面が平滑であることが要求され、一方ハンドリングの観
点から表面が粗であることが要求される。つまり、前記
ベースフィルムは、これら両者の二律背反する性質を同
時に満足することが必要となる。
おいては、電磁変換特性の観点からベースフィルムの表
面が平滑であることが要求され、一方ハンドリングの観
点から表面が粗であることが要求される。つまり、前記
ベースフィルムは、これら両者の二律背反する性質を同
時に満足することが必要となる。
【００１０】さらに、金属薄膜型の磁気記録媒体には、
実際に使用されるときの重大な問題点として、金属薄膜
面の走行性がある。例えば、塗布型磁気記録媒体の場合
には、バインダー中に潤滑剤を分散混入することで、磁
性層の走行性を向上させることができるが、金属薄膜型
の磁気記録媒体では、このような対策をとることができ
ない。したがって、走行性を安定して保つのは非常に困
難であり、特に高温高湿時の走行性が著しく劣る。
実際に使用されるときの重大な問題点として、金属薄膜
面の走行性がある。例えば、塗布型磁気記録媒体の場合
には、バインダー中に潤滑剤を分散混入することで、磁
性層の走行性を向上させることができるが、金属薄膜型
の磁気記録媒体では、このような対策をとることができ
ない。したがって、走行性を安定して保つのは非常に困
難であり、特に高温高湿時の走行性が著しく劣る。
【００１１】これを解消することを目的として、特公昭
６２−３０１０５号公報には、微細粒子と水溶性樹脂及
びシランカップリング剤を用いて微小突起をベースフィ
ルム表面に形成することが提案されている。また、特公
昭６２−３０１０６号公報、特開昭５９−２２９３１６
号公報には、微細粒子と水溶性樹脂とにより微小突起を
ベースフィルム表面に形成することが提案されている。
６２−３０１０５号公報には、微細粒子と水溶性樹脂及
びシランカップリング剤を用いて微小突起をベースフィ
ルム表面に形成することが提案されている。また、特公
昭６２−３０１０６号公報、特開昭５９−２２９３１６
号公報には、微細粒子と水溶性樹脂とにより微小突起を
ベースフィルム表面に形成することが提案されている。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】このように、金属薄膜
型の磁気記録媒体においては、金属薄膜の表面状態を最
適化する目的で、ベースフィルムの磁性層形成面側の表
面性をコントロールすることが行われている。
型の磁気記録媒体においては、金属薄膜の表面状態を最
適化する目的で、ベースフィルムの磁性層形成面側の表
面性をコントロールすることが行われている。
【００１３】しかしながら、ベースフィルムの表面状態
について、これまで考慮されてきたのは、主に磁性層形
成面側であって、これとは反対側の面（いわゆるバック
面）については、ほとんど考慮されておらず、ただ単に
熱負けの懸念があるという理由から、中心線平均粗さＲ
aで４ｎｍ程度、十点平均粗さＲzで３０ｎｍ程度、最大
高さＲmaxで４０ｎｍ程度と、比較的良面とされるのが
通例である。
について、これまで考慮されてきたのは、主に磁性層形
成面側であって、これとは反対側の面（いわゆるバック
面）については、ほとんど考慮されておらず、ただ単に
熱負けの懸念があるという理由から、中心線平均粗さＲ
aで４ｎｍ程度、十点平均粗さＲzで３０ｎｍ程度、最大
高さＲmaxで４０ｎｍ程度と、比較的良面とされるのが
通例である。
【００１４】ベースフィルムのバック面は、フィルム形
成時、あるいは磁気記録媒体製造時に、ガイドロール等
に接する面であり、その表面性はフィルムの走行性に大
きな影響を及ぼす。そして、前述のような良面にした場
合、走行性が不安定なものとなり、ベースフィルム自体
の生産性を上げることができず、ベースフィルムの製造
コストの上昇を招くばかりか、磁気記録媒体の製造コス
トをも大幅に引き上げる結果となっている。
成時、あるいは磁気記録媒体製造時に、ガイドロール等
に接する面であり、その表面性はフィルムの走行性に大
きな影響を及ぼす。そして、前述のような良面にした場
合、走行性が不安定なものとなり、ベースフィルム自体
の生産性を上げることができず、ベースフィルムの製造
コストの上昇を招くばかりか、磁気記録媒体の製造コス
トをも大幅に引き上げる結果となっている。
【００１５】そこで本発明は、磁性層形成面側のみなら
ず、これとは反対側の面（バック面）の表面性が最適化
され、走行安定性に優れ、製造コストの点でも有利な磁
気記録媒体用ベースフィルムを提供することを目的とす
る。さらには、電磁変換特性を確保しうるとともに、強
磁性金属薄膜の成膜速度を向上することが可能な磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
ず、これとは反対側の面（バック面）の表面性が最適化
され、走行安定性に優れ、製造コストの点でも有利な磁
気記録媒体用ベースフィルムを提供することを目的とす
る。さらには、電磁変換特性を確保しうるとともに、強
磁性金属薄膜の成膜速度を向上することが可能な磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、金属薄膜型の磁気記録媒体に用いられるベースフィ
ルムの表面性について、種々の検討を重ねてきた。その
結果、ベースフィルムのバック面の表面がある程度粗で
あっても、強磁性金属薄膜の成膜時に熱負けが生ずるこ
とはなく、走行安定性に寄与する効果の方が大であるこ
とが判明した。
に、金属薄膜型の磁気記録媒体に用いられるベースフィ
ルムの表面性について、種々の検討を重ねてきた。その
結果、ベースフィルムのバック面の表面がある程度粗で
あっても、強磁性金属薄膜の成膜時に熱負けが生ずるこ
とはなく、走行安定性に寄与する効果の方が大であるこ
とが判明した。
【００１７】本発明は、このような知見に基づいて完成
されたものである。
されたものである。
【００１８】すなわち、本発明のベースフィルムは、磁
性層形成面の表面状態のみならず、これとは反対側の面
（バック面）の表面状態を走行安定性の観点から最適化
したものである。
性層形成面の表面状態のみならず、これとは反対側の面
（バック面）の表面状態を走行安定性の観点から最適化
したものである。
【００１９】この、バック面の表面状態は、いわゆる表
面粗さで規定することができ、本発明は、中心線平均粗
さＲaで４．５〜２０ｎｍ、十点平均粗さＲzで３５〜３
５０ｎｍ、最大高さＲmaxで４０〜４００ｎｍとするこ
とに特徴を有する。
面粗さで規定することができ、本発明は、中心線平均粗
さＲaで４．５〜２０ｎｍ、十点平均粗さＲzで３５〜３
５０ｎｍ、最大高さＲmaxで４０〜４００ｎｍとするこ
とに特徴を有する。
【００２０】磁性層形成面側も、バック面と同様、表面
粗さで規定することができ、さらには突起の高さ及び密
度で規定することもできる。いずれにしても、この上に
形成される強磁性金属薄膜の電磁変換特性や走行性等の
点から最適化すればよく、前者による場合、中心線平均
粗さＲaで１０ｎｍ以下、十点平均粗さＲzで８０ｎｍ以
下、最大高さＲmaxで１５０ｎｍ以下とすることが好ま
しい。後者による場合には、高さ４０ｎｍ〜１００ｎｍ
の突起を密度０．５×１０4個／ｍｍ2〜１０×１０4個
／ｍｍ2、高さ１５ｎｍ〜３５ｎｍの突起を密度１０×
１０4個／ｍｍ2〜５０００×１０4個／ｍｍ2なる割合で
形成することが好ましい。
粗さで規定することができ、さらには突起の高さ及び密
度で規定することもできる。いずれにしても、この上に
形成される強磁性金属薄膜の電磁変換特性や走行性等の
点から最適化すればよく、前者による場合、中心線平均
粗さＲaで１０ｎｍ以下、十点平均粗さＲzで８０ｎｍ以
下、最大高さＲmaxで１５０ｎｍ以下とすることが好ま
しい。後者による場合には、高さ４０ｎｍ〜１００ｎｍ
の突起を密度０．５×１０4個／ｍｍ2〜１０×１０4個
／ｍｍ2、高さ１５ｎｍ〜３５ｎｍの突起を密度１０×
１０4個／ｍｍ2〜５０００×１０4個／ｍｍ2なる割合で
形成することが好ましい。
【００２１】本発明のベースフィルムは、金属薄膜型の
磁気記録媒体のベースフィルムとして用いられ、前記磁
性層形成面上に蒸着、スパッタ、イオンプレーティング
等の真空薄膜形成技術により強磁性金属薄膜を成膜する
ことで、この強磁性金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒
体とされる。
磁気記録媒体のベースフィルムとして用いられ、前記磁
性層形成面上に蒸着、スパッタ、イオンプレーティング
等の真空薄膜形成技術により強磁性金属薄膜を成膜する
ことで、この強磁性金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒
体とされる。
【００２２】
【作用】金属薄膜型の磁気記録媒体に用いられるベース
フィルムにおいては、金属薄膜蒸着時に熱負けの懸念が
あることから、これまでバック面は比較的良面とされて
きたが、種々の実験の結果、ある程度粗であっても蒸着
が可能であることが判明した。
フィルムにおいては、金属薄膜蒸着時に熱負けの懸念が
あることから、これまでバック面は比較的良面とされて
きたが、種々の実験の結果、ある程度粗であっても蒸着
が可能であることが判明した。
【００２３】本発明は、このような実験結果に基づいて
バック層の表面状態を最適化したもので、その表面粗さ
を本願発明において規定される範囲に設定することで、
蒸着時に熱負けが発生することなく、走行安定性が確保
される。
バック層の表面状態を最適化したもので、その表面粗さ
を本願発明において規定される範囲に設定することで、
蒸着時に熱負けが発生することなく、走行安定性が確保
される。
【００２４】一方、ベースフィルムの磁性層形成面の表
面粗さ、あるいは突起の高さ、密度を規定の範囲に設定
することで、この上に形成される強磁性金属薄膜の磁気
特性が確保され良好な電磁変換特性が得られるととも
に、強磁性金属薄膜面の走行性（この場合には、例えば
磁気ヘッドに対する走行性）も安定に保たれる。
面粗さ、あるいは突起の高さ、密度を規定の範囲に設定
することで、この上に形成される強磁性金属薄膜の磁気
特性が確保され良好な電磁変換特性が得られるととも
に、強磁性金属薄膜面の走行性（この場合には、例えば
磁気ヘッドに対する走行性）も安定に保たれる。
【００２５】
【実施例】以下、本発明を適用した実施例について、図
面や具体的な実験結果を参照しながら説明する。
面や具体的な実験結果を参照しながら説明する。
【００２６】ベースフィルムの構成 ベースフイルムを構成するポリエステル樹脂は、芳香族
二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオ―ル又は
そのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポ
リエステルである。かかるポリエステルの好ましい具体
例としては、ポリエチレンテレフタレ―ト、ポリエチレ
ンイソフタレ―ト、ポリテトラメチレンテレフタレ―
ト、ポリ（１、４―シクロヘキシレンジメチレンテレフ
タレ―ト）、ポリエチレン―２、６―ナフタレンジカル
ボキシレ―ト等が例示でき、これらの共重合体又はこれ
らと小割合の他樹脂とのブレンド物なども含まれる。
二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオ―ル又は
そのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポ
リエステルである。かかるポリエステルの好ましい具体
例としては、ポリエチレンテレフタレ―ト、ポリエチレ
ンイソフタレ―ト、ポリテトラメチレンテレフタレ―
ト、ポリ（１、４―シクロヘキシレンジメチレンテレフ
タレ―ト）、ポリエチレン―２、６―ナフタレンジカル
ボキシレ―ト等が例示でき、これらの共重合体又はこれ
らと小割合の他樹脂とのブレンド物なども含まれる。
【００２７】かかるポリエステル樹脂は、従来から知ら
れている方法で製造することができる。例えば、ポリエ
チレンテレフタレ―トは、テレフタル酸とエチレングリ
コ―ルとをエステル化反応又はジメチルテレフタレ―ト
とエチレングリコ―ルとをエステル交換反応せしめ、次
いで反応生成物を重縮合せしめる方法で製造することが
できる。その際、公知の触媒を用いることができるが、
フイルム特性の点から重縮合反応の触媒として有機チタ
ン化合物を用いることが好ましい。
れている方法で製造することができる。例えば、ポリエ
チレンテレフタレ―トは、テレフタル酸とエチレングリ
コ―ルとをエステル化反応又はジメチルテレフタレ―ト
とエチレングリコ―ルとをエステル交換反応せしめ、次
いで反応生成物を重縮合せしめる方法で製造することが
できる。その際、公知の触媒を用いることができるが、
フイルム特性の点から重縮合反応の触媒として有機チタ
ン化合物を用いることが好ましい。
【００２８】また、ポリエステル中には本発明の目的を
損なわない範囲で当業界でよく知られた粗面化物質、例
えば炭酸カルシウム、カオリナイト、二酸化チタン、シ
リカ、アルミナ等の添加剤を含有することができる。
損なわない範囲で当業界でよく知られた粗面化物質、例
えば炭酸カルシウム、カオリナイト、二酸化チタン、シ
リカ、アルミナ等の添加剤を含有することができる。
【００２９】上記のポリエステルを常法により溶融押出
し、二軸方向に延伸配向し、そして熱固定することによ
ってフイルムとする。二軸延伸は、例えば逐次二軸延伸
法、同時二軸延伸法等の二軸延伸法で行うことができ
る。この二軸配向ポリエステルフイルムは、通常、差動
走査熱量計を用い窒素雰囲気下昇温速度１０℃／ｍｉｎ
で求めた融解熱が４ｃａｌ／ｇ以上となる結晶配向特性
を有する。延伸配向後のフイルムの厚さは一般に３〜１
００μｍ、好ましくは４〜５０μｍの範囲である。
し、二軸方向に延伸配向し、そして熱固定することによ
ってフイルムとする。二軸延伸は、例えば逐次二軸延伸
法、同時二軸延伸法等の二軸延伸法で行うことができ
る。この二軸配向ポリエステルフイルムは、通常、差動
走査熱量計を用い窒素雰囲気下昇温速度１０℃／ｍｉｎ
で求めた融解熱が４ｃａｌ／ｇ以上となる結晶配向特性
を有する。延伸配向後のフイルムの厚さは一般に３〜１
００μｍ、好ましくは４〜５０μｍの範囲である。
【００３０】上述のベースフィルムにおいて、本発明に
おいては、磁性層形成面の表面粗さを、中心線平均粗さ
Ｒaで１０ｎｍ以下、十点平均粗さＲzで８０ｎｍ以下、
最大高さＲmaxで１５０ｎｍ以下とし、他方の面（バッ
ク面）の表面粗さを、中心線平均粗さＲaで４．５〜２
０ｎｍ、十点平均粗さＲzで３５〜３５０ｎｍ、最大高
さＲmaxで４０〜４００ｎｍとする。
おいては、磁性層形成面の表面粗さを、中心線平均粗さ
Ｒaで１０ｎｍ以下、十点平均粗さＲzで８０ｎｍ以下、
最大高さＲmaxで１５０ｎｍ以下とし、他方の面（バッ
ク面）の表面粗さを、中心線平均粗さＲaで４．５〜２
０ｎｍ、十点平均粗さＲzで３５〜３５０ｎｍ、最大高
さＲmaxで４０〜４００ｎｍとする。
【００３１】より好ましくは、磁性層形成面の表面粗さ
が、中心線平均粗さＲaで６．０ｎｍ以下、十点平均粗
さＲzで３５ｎｍ以下、最大高さＲmaxで４０ｎｍ以下で
あり、バック面の表面粗さが、中心線平均粗さＲaで
７．０〜２０ｎｍ、十点平均粗さＲzで８０〜３５０ｎ
ｍ、最大高さＲmaxで１００〜４００ｎｍである。
が、中心線平均粗さＲaで６．０ｎｍ以下、十点平均粗
さＲzで３５ｎｍ以下、最大高さＲmaxで４０ｎｍ以下で
あり、バック面の表面粗さが、中心線平均粗さＲaで
７．０〜２０ｎｍ、十点平均粗さＲzで８０〜３５０ｎ
ｍ、最大高さＲmaxで１００〜４００ｎｍである。
【００３２】あるいは、磁性層形成面に高さ４０ｎｍ〜
１００ｎｍの突起を密度０．５×１０4個／ｍｍ2〜１０
×１０4個／ｍｍ2、高さ１５ｎｍ〜３５ｎｍの突起を密
度１０×１０4個／ｍｍ2〜５０００×１０4個／ｍｍ2な
る割合で形成し、バック面の表面粗さを、中心線平均粗
さＲaで４．５〜２０ｎｍ、十点平均粗さＲzで３５〜３
５０ｎｍ、最大高さＲmaxで４０〜４００ｎｍとする。
１００ｎｍの突起を密度０．５×１０4個／ｍｍ2〜１０
×１０4個／ｍｍ2、高さ１５ｎｍ〜３５ｎｍの突起を密
度１０×１０4個／ｍｍ2〜５０００×１０4個／ｍｍ2な
る割合で形成し、バック面の表面粗さを、中心線平均粗
さＲaで４．５〜２０ｎｍ、十点平均粗さＲzで３５〜３
５０ｎｍ、最大高さＲmaxで４０〜４００ｎｍとする。
【００３３】ベースフィルムの磁性層形成面の表面状態
を前述の範囲に制御する手法としては、例えばベースフ
ィルムを構成するポリエステル樹脂の中にＳｉＯ2等の
フィラーを内添し、さらに最表面に微小突起、あるいは
しわ状等の突起を有するアンカー層を形成する方法等が
挙げられる。バック面についても同様である。
を前述の範囲に制御する手法としては、例えばベースフ
ィルムを構成するポリエステル樹脂の中にＳｉＯ2等の
フィラーを内添し、さらに最表面に微小突起、あるいは
しわ状等の突起を有するアンカー層を形成する方法等が
挙げられる。バック面についても同様である。
【００３４】図１〜図３に、ベースフィルムの基本構造
例を示す。
例を示す。
【００３５】図１は、ベースフィルムを例えば共押し出
し等の手法により２層構造とし、磁性層形成面側のベー
ス層１に小径の粒子３を内添し、バック面側のベース層
２に比較的大径の粒子４を内添したものである。小径の
粒子３や大径の粒子４には、ＳｉＯ2粒子や有機フィラ
ーが用いられる。
し等の手法により２層構造とし、磁性層形成面側のベー
ス層１に小径の粒子３を内添し、バック面側のベース層
２に比較的大径の粒子４を内添したものである。小径の
粒子３や大径の粒子４には、ＳｉＯ2粒子や有機フィラ
ーが用いられる。
【００３６】図２は、図１に示すベースフィルムの磁性
層形成面側に微細粒子６を含むアンカー層５を形成した
ものであり、図３は、さらにバック面にも微細粒子８を
含むアンカー層７を形成したものである。
層形成面側に微細粒子６を含むアンカー層５を形成した
ものであり、図３は、さらにバック面にも微細粒子８を
含むアンカー層７を形成したものである。
【００３７】金属薄膜型磁気記録媒体の構成 金属薄膜型の磁気記録媒体は、前述のベースフィルムの
磁性層形成面上に、強磁性金属薄膜を真空蒸着法、スパ
ッタ法、イオンプレーティング等の真空薄膜形成技術に
より成膜することで作製される。
磁性層形成面上に、強磁性金属薄膜を真空蒸着法、スパ
ッタ法、イオンプレーティング等の真空薄膜形成技術に
より成膜することで作製される。
【００３８】強磁性金属薄膜としては、Ｃｏの他、Ｆ
ｅ、Ｎｉ等の金属や、Ｃｏ−Ｎｉ系合金、Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｐｔ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｂ
系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ
系合金等からなる面内磁化記録強磁性金属薄膜や、Ｃｏ
−Ｃｒ系合金薄膜、Ｃｏ−Ｏ系薄膜等の、垂直磁化記録
強磁性金属薄膜が挙げられる。
ｅ、Ｎｉ等の金属や、Ｃｏ−Ｎｉ系合金、Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｐｔ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｂ
系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ
系合金等からなる面内磁化記録強磁性金属薄膜や、Ｃｏ
−Ｃｒ系合金薄膜、Ｃｏ−Ｏ系薄膜等の、垂直磁化記録
強磁性金属薄膜が挙げられる。
【００３９】具体的な実験結果 １０-9気圧に排気した連続巻取り式蒸着機内で、るつぼ
内においたコバルトニッケル合金を電子ビームで加熱溶
融し、ベースフィルムである厚さ１０ｍｍのポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に蒸着した。蒸
着の入射角は、ベースフィルムの法線方向から９０度〜
４５度であり、ベースフィルムの送り速度が２５ｍ／分
で、蒸着される強磁性金属薄膜の厚みが２００ｎｍとな
るように電子ビームの強さを調節した。
内においたコバルトニッケル合金を電子ビームで加熱溶
融し、ベースフィルムである厚さ１０ｍｍのポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に蒸着した。蒸
着の入射角は、ベースフィルムの法線方向から９０度〜
４５度であり、ベースフィルムの送り速度が２５ｍ／分
で、蒸着される強磁性金属薄膜の厚みが２００ｎｍとな
るように電子ビームの強さを調節した。
【００４０】以上の方法に従い、磁性層形成面及びバッ
ク面の表面粗さの異なるベースフィルムを用いてサンプ
ルテープを作製し、電磁変換特性や裏面（バック面）の
摩擦係数を測定した。なお、磁性層形成面やバック面の
表面粗さや突起の高さ、密度の測定方法や、電磁変換特
性の測定方法は下記の通りである。
ク面の表面粗さの異なるベースフィルムを用いてサンプ
ルテープを作製し、電磁変換特性や裏面（バック面）の
摩擦係数を測定した。なお、磁性層形成面やバック面の
表面粗さや突起の高さ、密度の測定方法や、電磁変換特
性の測定方法は下記の通りである。
【００４１】突起数 フイルム表面上の突起数の計測は走査型電子顕微鏡によ
り行う。即ち、微粒子を核とする微少突起は倍率２万倍
〜５万倍で、樹脂のみによる微少突起は倍率１万倍〜２
万倍で評価した。
り行う。即ち、微粒子を核とする微少突起は倍率２万倍
〜５万倍で、樹脂のみによる微少突起は倍率１万倍〜２
万倍で評価した。
【００４２】微少突起の高さ／密度 フイルム表面上の微少突起の高さの測定は、トンネル電
流を利用した三次元粗さ計（走査型トンネル顕微鏡）に
より行った。すなわち、フイルム表面に２００オングス
トロ―ム厚さの金を均一に蒸着した試料を用い、被測定
表面と金属製探針との間に印加する電圧は０．８Ｖ、設
定したトンネル電流は０．５ｎＡとして、大気中におい
て２ミクロン×２ミクロンの範囲を測定して微少突起１
個ずつの高さを測定し、２０個の平均値をもって微少突
起の高さとした。また、密度は５×５μｍの中の突起の
密度を測定した。
流を利用した三次元粗さ計（走査型トンネル顕微鏡）に
より行った。すなわち、フイルム表面に２００オングス
トロ―ム厚さの金を均一に蒸着した試料を用い、被測定
表面と金属製探針との間に印加する電圧は０．８Ｖ、設
定したトンネル電流は０．５ｎＡとして、大気中におい
て２ミクロン×２ミクロンの範囲を測定して微少突起１
個ずつの高さを測定し、２０個の平均値をもって微少突
起の高さとした。また、密度は５×５μｍの中の突起の
密度を測定した。
【００４３】電磁変換特性測定 ソニ―社製８ミリＶＴＲ ＥＶＳ―９００改造機を用い
て測定した。相対速度は３．８ｍ／秒、記録周波数は７
ＭＨｚとした。記録電流は、各サンプルについて最も高
い再生出力が得られる値に設定した。比較例―１のＹ―
Ｃ／Ｎの値を０ｄＢとし、０〜±２ｄＢの範囲を○、―
２〜―４ｄＢを△、―４ｄＢ以下を×として評価した。
（３回の平均値） 表面粗さ 中心線平均粗さＲａ（Ｃｅｎｔｅｒ Ｌｉｎｅ Ａｖｅ
ｒａｇｅ）は、ＪＩＳＢ０６０１に準じ、小坂研究所社
製の高精度表面粗さ計ＳＥ―３ＦＡＴ（商品名）を使用
して測定した。すなわち、針の半径２μｍ、荷重３０ｍ
ｇで拡大倍率２０万倍、カットオフ０．０８ｍｍの条件
下にチャートをかかせ、フイルム表面粗さ曲線からその
中心線の方向に測定長さＬの部分を抜き取り、この抜き
取り部分の中心線をＸ軸、縦倍率の方向をＹ軸として、
粗さ曲線をＹ=ｆ （ｘ）で表したとき、下記の数１で与
えられた値をｎｍ単位で表わした。この測定は基準長を
０．５ｍｍとして５０回行い、その平均値をとった。
て測定した。相対速度は３．８ｍ／秒、記録周波数は７
ＭＨｚとした。記録電流は、各サンプルについて最も高
い再生出力が得られる値に設定した。比較例―１のＹ―
Ｃ／Ｎの値を０ｄＢとし、０〜±２ｄＢの範囲を○、―
２〜―４ｄＢを△、―４ｄＢ以下を×として評価した。
（３回の平均値） 表面粗さ 中心線平均粗さＲａ（Ｃｅｎｔｅｒ Ｌｉｎｅ Ａｖｅ
ｒａｇｅ）は、ＪＩＳＢ０６０１に準じ、小坂研究所社
製の高精度表面粗さ計ＳＥ―３ＦＡＴ（商品名）を使用
して測定した。すなわち、針の半径２μｍ、荷重３０ｍ
ｇで拡大倍率２０万倍、カットオフ０．０８ｍｍの条件
下にチャートをかかせ、フイルム表面粗さ曲線からその
中心線の方向に測定長さＬの部分を抜き取り、この抜き
取り部分の中心線をＸ軸、縦倍率の方向をＹ軸として、
粗さ曲線をＹ=ｆ （ｘ）で表したとき、下記の数１で与
えられた値をｎｍ単位で表わした。この測定は基準長を
０．５ｍｍとして５０回行い、その平均値をとった。
【００４４】
【数１】
【００４５】測定結果を表１に示す。
【００４６】
【表１】
【００４７】この表から明らかなように、ベースフィル
ムのバック面が平滑過ぎる場合（比較例１〜比較例３）
には、バック面の摩擦係数が高く、走行安定性に劣るこ
とがわかった。また、バック面が過剰に粗である場合
（比較例４）には、電磁変換特性に悪影響が見られるば
かりか、強磁性金属薄膜の蒸着時に熱負けを生じた。
ムのバック面が平滑過ぎる場合（比較例１〜比較例３）
には、バック面の摩擦係数が高く、走行安定性に劣るこ
とがわかった。また、バック面が過剰に粗である場合
（比較例４）には、電磁変換特性に悪影響が見られるば
かりか、強磁性金属薄膜の蒸着時に熱負けを生じた。
【００４８】これに対して、本発明において規定される
範囲の表面粗さを有するベースフィルムを用いた場合に
は、走行安定性に優れ、高速走行が可能であるととも
に、電磁変換特性の点でも良好な結果を示した。
範囲の表面粗さを有するベースフィルムを用いた場合に
は、走行安定性に優れ、高速走行が可能であるととも
に、電磁変換特性の点でも良好な結果を示した。
【００４９】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明のベースフィルムは、バック面が適正な表面状態を有
するため、フィルム成膜時の走行性が非常に安定であ
り、したがって歩留りの向上、生産性の向上を果たすこ
とが可能である。また、その結果、ベースフィルムの製
造コストを削減することが可能である。
明のベースフィルムは、バック面が適正な表面状態を有
するため、フィルム成膜時の走行性が非常に安定であ
り、したがって歩留りの向上、生産性の向上を果たすこ
とが可能である。また、その結果、ベースフィルムの製
造コストを削減することが可能である。
【００５０】また、本発明の磁気記録媒体においては、
電磁変換特性や磁気ヘッドに対する走行性を確保するこ
とができるばかりでなく、強磁性金属薄膜の成膜速度を
向上することができ、製造コストの点でも有利である。
電磁変換特性や磁気ヘッドに対する走行性を確保するこ
とができるばかりでなく、強磁性金属薄膜の成膜速度を
向上することができ、製造コストの点でも有利である。
【図１】ベースフィルムの一構成例を模式的に示す概略
断面図である。
断面図である。
【図２】ベースフィルムの他の構成例を模式的に示す概
略断面図である。
略断面図である。
【図３】ベースフィルムのさらに他の構成例を模式的に
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
１ ベース層（磁性層形成面側） ２ ベース層（バック面側） ３，４ 粒子 ５，７ アンカー層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松村 伸一 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 磁性層形成面の表面粗さが、中心線平均
粗さＲaで１０ｎｍ以下、十点平均粗さＲzで８０ｎｍ以
下、最大高さＲmaxで１５０ｎｍ以下であり、 他方の面の表面粗さが、中心線平均粗さＲaで４．５〜
２０ｎｍ、十点平均粗さＲzで３５〜３５０ｎｍ、最大
高さＲmaxで４０〜４００ｎｍであることを特徴とする
磁気記録媒体用ベースフィルム。 - 【請求項２】 磁性層形成面に高さ４０ｎｍ〜１００ｎ
ｍの突起が密度０．５×１０4個／ｍｍ2〜１０×１０4
個／ｍｍ2、高さ１５ｎｍ〜３５ｎｍの突起が密度１０
×１０4個／ｍｍ2〜５０００×１０4個／ｍｍ2なる割合
で形成され、 他方の面の表面粗さが、中心線平均粗さＲaで４．５〜
２０ｎｍ、十点平均粗さＲzで３５〜３５０ｎｍ、最大
高さＲmaxで４０〜４００ｎｍであることを特徴とする
磁気記録媒体用ベースフィルム。 - 【請求項３】 請求項１記載の磁気記録媒体用ベースフ
ィルムの磁性層形成面上に、強磁性金属薄膜が真空薄膜
形成技術により形成され磁性層とされていることを特徴
とする磁気記録媒体。 - 【請求項４】 請求項２記載の磁気記録媒体用ベースフ
ィルムの磁性層形成面上に、強磁性金属薄膜が真空薄膜
形成技術により形成され磁性層とされていることを特徴
とする磁気記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7040901A JPH08235569A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 磁気記録媒体用ベースフィルム及びこれを用いた磁気記録媒体 |
| EP96102688A EP0730264B1 (en) | 1995-02-28 | 1996-02-22 | Base film for magnetic recording medium and magnetic recording medium using same |
| DE69613729T DE69613729T2 (de) | 1995-02-28 | 1996-02-22 | Basisfilm für magnetisches Aufzeichnungsmedium und Aufzeichnungsmedium mit diesem |
| US08/920,568 US5976668A (en) | 1995-02-28 | 1997-08-29 | Base film for magnetic recording medium and magnetic recording medium using same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7040901A JPH08235569A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 磁気記録媒体用ベースフィルム及びこれを用いた磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08235569A true JPH08235569A (ja) | 1996-09-13 |
Family
ID=12593421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7040901A Pending JPH08235569A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 磁気記録媒体用ベースフィルム及びこれを用いた磁気記録媒体 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0730264B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08235569A (ja) |
| DE (1) | DE69613729T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6120877A (en) * | 1998-04-28 | 2000-09-19 | Victor Company Of Japan, Limited | Magnetic recording medium |
| JP2002367147A (ja) * | 2001-06-11 | 2002-12-20 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0987686B1 (en) * | 1998-09-17 | 2004-11-03 | Toray Industries, Inc. | A method for storing a polyester film for a magnetic recording medium, and a method for producing a magnetic recording medium |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3787327A (en) | 1972-02-22 | 1974-01-22 | Ncr | Process for manufacturing minute capsules having polynitrile capsule walls |
| JPS52134706A (en) | 1976-05-06 | 1977-11-11 | Univ Tohoku | Vertical magnetic recorder reproducer and system therefor |
| JPS54147010A (en) | 1978-05-10 | 1979-11-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS59229316A (ja) | 1984-05-01 | 1984-12-22 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルムの製造方法 |
| US4616057A (en) | 1985-07-10 | 1986-10-07 | Sun Chemical Corporation | Polymer emulsion containing an interpenetrating polymer network |
| JPS6230106A (ja) | 1985-07-31 | 1987-02-09 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 重合体の回収法 |
| US5188891A (en) * | 1987-12-25 | 1993-02-23 | Diafoil Company, Limited | Magnetic recording medium comprising a polyester film substrate, a magnetic coating and a specified back coat layer |
| EP0679508B1 (en) * | 1988-06-08 | 1999-12-29 | Toray Industries, Inc. | Biaxially oriented laminated film |
-
1995
- 1995-02-28 JP JP7040901A patent/JPH08235569A/ja active Pending
-
1996
- 1996-02-22 DE DE69613729T patent/DE69613729T2/de not_active Revoked
- 1996-02-22 EP EP96102688A patent/EP0730264B1/en not_active Revoked
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6120877A (en) * | 1998-04-28 | 2000-09-19 | Victor Company Of Japan, Limited | Magnetic recording medium |
| JP2002367147A (ja) * | 2001-06-11 | 2002-12-20 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69613729T2 (de) | 2002-05-08 |
| EP0730264A3 (en) | 1997-03-05 |
| EP0730264A2 (en) | 1996-09-04 |
| DE69613729D1 (de) | 2001-08-16 |
| EP0730264B1 (en) | 2001-07-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040216 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040224 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040622 |