JPH08236020A - フィルターパターンの製造方法 - Google Patents
フィルターパターンの製造方法Info
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- JPH08236020A JPH08236020A JP7327747A JP32774795A JPH08236020A JP H08236020 A JPH08236020 A JP H08236020A JP 7327747 A JP7327747 A JP 7327747A JP 32774795 A JP32774795 A JP 32774795A JP H08236020 A JPH08236020 A JP H08236020A
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- pigment
- layer
- pigment layer
- substrate
- green
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 フィルターを従来に比べ簡単な工程で製造す
る。 【解決手段】 基板１上に第１の顔料粒子を含む第１の
顔料層３，５と第２の顔料粒子を含む第２の顔料層６と
を備えたフィルターパターンの製造方法に関し、第１及
び第２の顔料層３，５，６の少なくとも一方に付着力調
整剤を含ませる。
る。 【解決手段】 基板１上に第１の顔料粒子を含む第１の
顔料層３，５と第２の顔料粒子を含む第２の顔料層６と
を備えたフィルターパターンの製造方法に関し、第１及
び第２の顔料層３，５，６の少なくとも一方に付着力調
整剤を含ませる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は例えば２層構造を
有するフィルター付き蛍光体層におけるフィルターパタ
ーンの製造方法に関する。
有するフィルター付き蛍光体層におけるフィルターパタ
ーンの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】陰極線管やカラー受像機のフェースプレ
ート内面には赤、青、緑色をしたドット状やストライプ
状等の蛍光体層が形成されている。この蛍光体層に電子
ビームが衝突することにより、蛍光体層が発光して画像
表示がなされる。コントラストや色純度等の画像表示特
性を向上させるために、従来より蛍光体層の改善がなさ
れている。例えば、フェースプレートと蛍光体層との間
に、蛍光体層の発光色と同色の体色を持つ顔料層を設け
るフィルター付き蛍光体層がある。このフィルター付き
蛍光体層は、入射した外光のうち赤色顔料は緑や青成分
の光を、青色顔料は緑や赤成分の光を、緑色顔料は青や
赤成分の光を選択的に、それぞれ吸収するためコントラ
ストや色純度が向上する。
ート内面には赤、青、緑色をしたドット状やストライプ
状等の蛍光体層が形成されている。この蛍光体層に電子
ビームが衝突することにより、蛍光体層が発光して画像
表示がなされる。コントラストや色純度等の画像表示特
性を向上させるために、従来より蛍光体層の改善がなさ
れている。例えば、フェースプレートと蛍光体層との間
に、蛍光体層の発光色と同色の体色を持つ顔料層を設け
るフィルター付き蛍光体層がある。このフィルター付き
蛍光体層は、入射した外光のうち赤色顔料は緑や青成分
の光を、青色顔料は緑や赤成分の光を、緑色顔料は青や
赤成分の光を選択的に、それぞれ吸収するためコントラ
ストや色純度が向上する。
【０００３】このフィルター付き蛍光体層の製造方法
は、例えば特開平５−２７５００８号公報に示されてい
る。この従来例は、レジストを塗布・所定位置以外を露
光しレジストのパターンをつけ、その上に顔料液を塗布
した後、酸分解によりレジストとその上の顔料層を剥離
して所定位置に顔料パターンを得る方法を利用して、各
色の顔料層を得ている。
は、例えば特開平５−２７５００８号公報に示されてい
る。この従来例は、レジストを塗布・所定位置以外を露
光しレジストのパターンをつけ、その上に顔料液を塗布
した後、酸分解によりレジストとその上の顔料層を剥離
して所定位置に顔料パターンを得る方法を利用して、各
色の顔料層を得ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来例には、レジストのパターンを各色の顔料層を得るご
とに形成する必要があり、工程数が多く、より簡単にフ
ィルターパターンを製造することが望まれる。
来例には、レジストのパターンを各色の顔料層を得るご
とに形成する必要があり、工程数が多く、より簡単にフ
ィルターパターンを製造することが望まれる。
【０００５】また、顔料層を形成する方法として例えば
特開平５−２７５００７号公報に示されているように、
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリド
ン（ＰＶＰ）等の水溶性高分子と重クロム酸アンモニウ
ム（ＡＤＣ）、ジアゾニウム塩等の架橋剤とを混ぜた顔
料分散液を塗布し、露光及び温水による現像を行って所
定パターンの顔料層を得ることも考えられる。
特開平５−２７５００７号公報に示されているように、
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリド
ン（ＰＶＰ）等の水溶性高分子と重クロム酸アンモニウ
ム（ＡＤＣ）、ジアゾニウム塩等の架橋剤とを混ぜた顔
料分散液を塗布し、露光及び温水による現像を行って所
定パターンの顔料層を得ることも考えられる。
【０００６】しかしながら、この方法も、各色の顔料層
を得るごとに、所定のパターンでの露光・現像を繰り返
すことになるため、前述の従来例と同様の問題をかかえ
ていた。この発明はこのような課題に対処するためにな
されたもので、より簡単な工程によるフィルターパター
ンの製造方法を提供することを目的とする。
を得るごとに、所定のパターンでの露光・現像を繰り返
すことになるため、前述の従来例と同様の問題をかかえ
ていた。この発明はこのような課題に対処するためにな
されたもので、より簡単な工程によるフィルターパター
ンの製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明は、基板上に第
１の顔料粒子を含む溶液を塗布乾燥し、所定のパターン
に露光して硬化させた後に現像して第１の顔料層のパタ
ーンを形成する第１の工程と、第２の顔料粒子を含む溶
液を基板及びパターン上に塗布乾燥する第２の工程とを
備えたフィルターパターンの製造方法についてのもので
あり、第１の顔料粒子を含む溶液と第２の顔料粒子を含
む溶液の少なくとも一方に付着力調整剤を含ませてお
り、第２の工程の後にリンスして、パターン上の第２の
顔料層を除去することにより、第１及び第２の顔料層を
形成する工程を備えている。
１の顔料粒子を含む溶液を塗布乾燥し、所定のパターン
に露光して硬化させた後に現像して第１の顔料層のパタ
ーンを形成する第１の工程と、第２の顔料粒子を含む溶
液を基板及びパターン上に塗布乾燥する第２の工程とを
備えたフィルターパターンの製造方法についてのもので
あり、第１の顔料粒子を含む溶液と第２の顔料粒子を含
む溶液の少なくとも一方に付着力調整剤を含ませてお
り、第２の工程の後にリンスして、パターン上の第２の
顔料層を除去することにより、第１及び第２の顔料層を
形成する工程を備えている。
【０００８】この発明に係わる顔料は、無機系及び有機
系のいずれの顔料も使用することができる。特に、フィ
ルター層中に均一に分散でき、光の散乱を起こすことな
くフィルター層が充分な透明性を有することのできる顔
料が好ましい。
系のいずれの顔料も使用することができる。特に、フィ
ルター層中に均一に分散でき、光の散乱を起こすことな
くフィルター層が充分な透明性を有することのできる顔
料が好ましい。
【０００９】具体的な例として以下の顔料を例示するこ
とができる。無機系では、赤の顔料として、酸化第二鉄
系である商品名シコトランスレッドＬ−２８１７（粒子
径０．０１〜０．０２μｍ、ＢＡＳＦ社製）、アンスラ
キノン系である商品名クロモファータルレッドＡ２Ｂ
（粒子径０．０１μｍ、チバガイギー社製）、青の顔料
として、アルミン酸コバルト（Ａｌ2 Ｏ3 −ＣｏＯ）系
である商品名コバルトブルーＸ（粒子径０．０１〜０．
０２μｍ、東洋顔料社製）、群青系である商品名群青Ｎ
ｏ．８０００（粒子径０．３μｍ、第一化成社製）、フ
タロシアニンブルー系である商品名リオノールブルーＦ
Ｇ−７３７０（粒子径０．０１μｍ、東洋インキ社
製）、緑の顔料として、ＴｉＯ2 −ＮｉＯ−ＣｏＯ−Ｚ
ｎＯ系である商品名ダイピロキサイドＴＭ−グリーン＃
３３２０（粒子径０．０１〜０．０２μｍ、大日精化社
製）、ＣｏＯ−Ａｌ2 Ｏ3 −Ｃｒ2 Ｏ3−ＴｉＯ2 系で
ある商品名ダイピロキサイドＴＭ−グリーン＃３３４０
（粒子径０．０１〜０．０２μｍ、大日精化社製）、Ｃ
ｏＯ−Ａｌ2 Ｏ3 −Ｃｒ2 Ｏ3 系である商品名ダイピロ
キサイドＴＭ−グリーン＃３４２０（粒子径０．０１〜
０．０２μｍ、大日精化社製）、Ｃｒ2 Ｏ3 系である商
品名ＮＤ−８０１（粒子径０．３５μｍ、日本電工社
製）、塩素化フタロシアニングリーン系である商品名フ
ァーストゲングリーンＳ（粒子径０．０１μｍ、大日本
インキ社製）、臭素化フタロシアニングリーン系である
商品名ファーストゲングリーン２ＹＫ（粒子径０．０１
μｍ、大日本インキ社製）を例示することができる。
とができる。無機系では、赤の顔料として、酸化第二鉄
系である商品名シコトランスレッドＬ−２８１７（粒子
径０．０１〜０．０２μｍ、ＢＡＳＦ社製）、アンスラ
キノン系である商品名クロモファータルレッドＡ２Ｂ
（粒子径０．０１μｍ、チバガイギー社製）、青の顔料
として、アルミン酸コバルト（Ａｌ2 Ｏ3 −ＣｏＯ）系
である商品名コバルトブルーＸ（粒子径０．０１〜０．
０２μｍ、東洋顔料社製）、群青系である商品名群青Ｎ
ｏ．８０００（粒子径０．３μｍ、第一化成社製）、フ
タロシアニンブルー系である商品名リオノールブルーＦ
Ｇ−７３７０（粒子径０．０１μｍ、東洋インキ社
製）、緑の顔料として、ＴｉＯ2 −ＮｉＯ−ＣｏＯ−Ｚ
ｎＯ系である商品名ダイピロキサイドＴＭ−グリーン＃
３３２０（粒子径０．０１〜０．０２μｍ、大日精化社
製）、ＣｏＯ−Ａｌ2 Ｏ3 −Ｃｒ2 Ｏ3−ＴｉＯ2 系で
ある商品名ダイピロキサイドＴＭ−グリーン＃３３４０
（粒子径０．０１〜０．０２μｍ、大日精化社製）、Ｃ
ｏＯ−Ａｌ2 Ｏ3 −Ｃｒ2 Ｏ3 系である商品名ダイピロ
キサイドＴＭ−グリーン＃３４２０（粒子径０．０１〜
０．０２μｍ、大日精化社製）、Ｃｒ2 Ｏ3 系である商
品名ＮＤ−８０１（粒子径０．３５μｍ、日本電工社
製）、塩素化フタロシアニングリーン系である商品名フ
ァーストゲングリーンＳ（粒子径０．０１μｍ、大日本
インキ社製）、臭素化フタロシアニングリーン系である
商品名ファーストゲングリーン２ＹＫ（粒子径０．０１
μｍ、大日本インキ社製）を例示することができる。
【００１０】有機系では、赤の顔料として、アゾレーキ
系である商品名レーキレッドＣ（大日精化社製）、青の
顔料として、銅フタロシアニン系である商品名ファスト
ゲンプルーＧＮＰＳ（大日本インキ社製）、緑の顔料と
して、塩素臭素化銅フタロシアニン系である商品名リオ
ノールグリーン２Ｙ−３０１（東洋インキ社製）を例示
することができる。
系である商品名レーキレッドＣ（大日精化社製）、青の
顔料として、銅フタロシアニン系である商品名ファスト
ゲンプルーＧＮＰＳ（大日本インキ社製）、緑の顔料と
して、塩素臭素化銅フタロシアニン系である商品名リオ
ノールグリーン２Ｙ−３０１（東洋インキ社製）を例示
することができる。
【００１１】この顔料を、これを分散させるための分散
剤、付着力調整剤、フォトレジスト及び純水とともに混
合撹拌することにより、顔料層を形成する分散液が得ら
れる。なお、純水中に５重量％以下であれば、水溶性の
有機溶媒例えばアルコール等を含ませることができる。
剤、付着力調整剤、フォトレジスト及び純水とともに混
合撹拌することにより、顔料層を形成する分散液が得ら
れる。なお、純水中に５重量％以下であれば、水溶性の
有機溶媒例えばアルコール等を含ませることができる。
【００１２】分散剤の例として、アニオン系ナトリウム
塩分散剤、アニオン系アンモニウム塩分散剤及びノニオ
ン系分散剤等がある。アニオン系ナトリウム塩分散剤と
しては、アクリル系、アクリル−スチレン系、アクリル
共重合物、ポリカルボン酸型、ナフタレンスルホン酸ホ
ルマリン縮合物等がある。具体例としては、アクリル系
として、ディスペックＮ−４０（アライド・コロイド社
製）、高分子ポリカルボン酸型として、デモールＥＰ
（花王社製）、ポイズ５２０（花王社製）、ナフタレン
スルホン酸ホルマリン縮合物として、デモールＮ（花王
社製）、特殊芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物とし
て、デモールＭＳ（花王社製）、オクチルフォスフェー
トモノエタノールアミノ塩として、エレノンＮｏ．１９
Ｍが挙げられる。アニオン系アンモニウム塩分散剤とし
ては、アクリル系、アクリル−スチレン系、アクリル共
重合物、ポリカルボン酸型、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテルサルフェート等がある。具体例としては、ア
クリル系として、ディスペックＡ−４０（アライド・コ
ロイド社製）、高分子ポリカルボン酸型として、ディス
コートＮ−１４（第一工業製薬社製）、ポリオキシエチ
レンアルキルエーテルサルフェートのアンモニウム塩と
してハイテノール０８（第一工業製薬社製）、縮合ナフ
タレンスルホン酸として、Ｌｏｍｅｒ ＰＷＡ（サンノ
ブコ社製）が挙げられる。ノニオン系分散剤として、ポ
リオキシエチレンラウリエーテル、ポリオキシエチレン
誘導体、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリ
オキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエ
チレンソルビタンモノラウレート等が挙げられる。具体
例としては、ノイゲンＥＡ−１４０（第一工業製薬社
製）、エマルゲン１０６（花王社製）、レオドールＴＷ
−Ｌ１２０（花王社製）がある。
塩分散剤、アニオン系アンモニウム塩分散剤及びノニオ
ン系分散剤等がある。アニオン系ナトリウム塩分散剤と
しては、アクリル系、アクリル−スチレン系、アクリル
共重合物、ポリカルボン酸型、ナフタレンスルホン酸ホ
ルマリン縮合物等がある。具体例としては、アクリル系
として、ディスペックＮ−４０（アライド・コロイド社
製）、高分子ポリカルボン酸型として、デモールＥＰ
（花王社製）、ポイズ５２０（花王社製）、ナフタレン
スルホン酸ホルマリン縮合物として、デモールＮ（花王
社製）、特殊芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物とし
て、デモールＭＳ（花王社製）、オクチルフォスフェー
トモノエタノールアミノ塩として、エレノンＮｏ．１９
Ｍが挙げられる。アニオン系アンモニウム塩分散剤とし
ては、アクリル系、アクリル−スチレン系、アクリル共
重合物、ポリカルボン酸型、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテルサルフェート等がある。具体例としては、ア
クリル系として、ディスペックＡ−４０（アライド・コ
ロイド社製）、高分子ポリカルボン酸型として、ディス
コートＮ−１４（第一工業製薬社製）、ポリオキシエチ
レンアルキルエーテルサルフェートのアンモニウム塩と
してハイテノール０８（第一工業製薬社製）、縮合ナフ
タレンスルホン酸として、Ｌｏｍｅｒ ＰＷＡ（サンノ
ブコ社製）が挙げられる。ノニオン系分散剤として、ポ
リオキシエチレンラウリエーテル、ポリオキシエチレン
誘導体、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリ
オキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエ
チレンソルビタンモノラウレート等が挙げられる。具体
例としては、ノイゲンＥＡ−１４０（第一工業製薬社
製）、エマルゲン１０６（花王社製）、レオドールＴＷ
−Ｌ１２０（花王社製）がある。
【００１３】付着力調整剤の例として、微粒子シリカ、
Ｌｉ−シリケート、微粒子アルミナ等があり、固形分で
１０〜６０重量％添加すればよい。また、微粒子シリカ
と微粒子アルミナについては、粒子径０．１μｍ以下と
することが望ましい。
Ｌｉ−シリケート、微粒子アルミナ等があり、固形分で
１０〜６０重量％添加すればよい。また、微粒子シリカ
と微粒子アルミナについては、粒子径０．１μｍ以下と
することが望ましい。
【００１４】フォトレジストとしては、重クロム酸アン
モニウム（ＡＤＣ）／ポリビニルアルコール（ＰＶ
Ａ）、重クロム酸ナトリウム（ＳＤＣ）／ＰＶＡ、ジア
ゾニウム塩等／ＰＶＡ、スチゾバル系、ＡＤＣ／カゼイ
ン等の水溶性フォトレジスト各種を使用できる。
モニウム（ＡＤＣ）／ポリビニルアルコール（ＰＶ
Ａ）、重クロム酸ナトリウム（ＳＤＣ）／ＰＶＡ、ジア
ゾニウム塩等／ＰＶＡ、スチゾバル系、ＡＤＣ／カゼイ
ン等の水溶性フォトレジスト各種を使用できる。
【００１５】分散剤に分散させる顔料濃度は、０．１重
量％〜５０重量％、好ましくは１重量％〜５０重量％の
範囲である。顔料濃度が０．１重量％未満であると、顔
料層の着色が認められなくなる。１重量％を超えると、
より明瞭に着色が認められる。また、５０重量％を超え
ると、分散液の粘度が急激に増加してしまうため、均一
な膜が塗布できなくなる。
量％〜５０重量％、好ましくは１重量％〜５０重量％の
範囲である。顔料濃度が０．１重量％未満であると、顔
料層の着色が認められなくなる。１重量％を超えると、
より明瞭に着色が認められる。また、５０重量％を超え
ると、分散液の粘度が急激に増加してしまうため、均一
な膜が塗布できなくなる。
【００１６】次に、顔料層を現像する工程における現像
液及びリンスに用いる液について説明する。現像液及び
リンスに用いる液として、温水又はアルカリ水溶液を好
ましく使用することができる。
液及びリンスに用いる液について説明する。現像液及び
リンスに用いる液として、温水又はアルカリ水溶液を好
ましく使用することができる。
【００１７】この発明は、例えばカラーブラウン管パネ
ルにフィルターを形成する場合、以下のような手順でな
される。まず、第１の顔料層の顔料分散液をフェースプ
レート内面に塗布し乾燥する。塗布方法としては、フェ
ースプレート内面を上向き、横向き、下向き等にて塗布
する。顔料分散液の固形分、粘度、塗り方等のパラメー
ターをコントロールし均一な塗布が行えるように選択す
ることができる。塗布方法はスピンコート法以外にも浸
漬法、フローコート法等を用いることができる。均一で
所定の膜厚を得るために、スピンコート法が特に好まし
い。乾燥方法としては、例えば振り切りによる乾燥、ヒ
ーターによる乾燥、熱風による乾燥、ドライエアーによ
る乾燥、室温における長時間の乾燥等があり、これによ
り顔料層を形成することができる。なお、顔料層の形成
前にフェースプレート内面にパターニングされた光吸収
層を形成しておくこともできる。続いて、シャドウマス
クを介して所望のパターンに、例えば高圧水銀灯等を利
用して露光する。その後、フェースプレート内面に現像
液を数秒間浸漬して現像を行う。次に、第２の顔料層の
顔料分散液をフェースプレート内面に塗布し乾燥した
後、例えば水をスプレーしてリンスすることにより、最
終的に第１及び第２の顔料層が完成する。
ルにフィルターを形成する場合、以下のような手順でな
される。まず、第１の顔料層の顔料分散液をフェースプ
レート内面に塗布し乾燥する。塗布方法としては、フェ
ースプレート内面を上向き、横向き、下向き等にて塗布
する。顔料分散液の固形分、粘度、塗り方等のパラメー
ターをコントロールし均一な塗布が行えるように選択す
ることができる。塗布方法はスピンコート法以外にも浸
漬法、フローコート法等を用いることができる。均一で
所定の膜厚を得るために、スピンコート法が特に好まし
い。乾燥方法としては、例えば振り切りによる乾燥、ヒ
ーターによる乾燥、熱風による乾燥、ドライエアーによ
る乾燥、室温における長時間の乾燥等があり、これによ
り顔料層を形成することができる。なお、顔料層の形成
前にフェースプレート内面にパターニングされた光吸収
層を形成しておくこともできる。続いて、シャドウマス
クを介して所望のパターンに、例えば高圧水銀灯等を利
用して露光する。その後、フェースプレート内面に現像
液を数秒間浸漬して現像を行う。次に、第２の顔料層の
顔料分散液をフェースプレート内面に塗布し乾燥した
後、例えば水をスプレーしてリンスすることにより、最
終的に第１及び第２の顔料層が完成する。
【００１８】この発明によれば、第２の顔料粒子を含む
溶液を基板上に塗布乾燥した後は、特に、この塗布膜を
所定のパターンに露光することを行わなくても、単なる
リンス処理により第２の顔料層を形成することが可能と
なる。このためには、第２の顔料層の塗布膜と基板との
間及び第２の顔料層の塗布膜と第１の顔料層との間の密
着性に充分な差をつけることが重要である。そこで、発
明者等は種々の実験を繰り返し、次のような点に気付い
た。
溶液を基板上に塗布乾燥した後は、特に、この塗布膜を
所定のパターンに露光することを行わなくても、単なる
リンス処理により第２の顔料層を形成することが可能と
なる。このためには、第２の顔料層の塗布膜と基板との
間及び第２の顔料層の塗布膜と第１の顔料層との間の密
着性に充分な差をつけることが重要である。そこで、発
明者等は種々の実験を繰り返し、次のような点に気付い
た。
【００１９】基板がガラスのような無機材である場合、
第１及び第２の顔料層の塗布膜の少なくとも一方に付着
力調整剤を含ませることにより、単なるリンス処理によ
る第２の顔料層の塗布膜のパターニングが可能となるこ
とが分かった。付着力調整剤の働きについては、次のよ
うに考えられている。即ち、顔料層中に付着力調整剤を
含ませることにより、顔料層を所定の電荷（例えば微粒
子シリカでは−の電荷、Ｌｉ−シリケートと微粒子アル
ミナでは＋の電荷）にチャージすることができる。一
方、基板も顔料層の形成前にシリカやアミノシランを形
成することにより、所定の電荷（例えばシリカでは−の
電荷、アミノシランでは＋の電荷）にチャージすること
ができる。従って、付着力調整剤の働きで、第１及び第
２の顔料層にチャージされる電荷量を所定の値とするこ
とにより、第２の顔料層と基板との間及び第２の顔料層
と第１の顔料層との間の密着性に充分な差をつけること
が可能になる。
第１及び第２の顔料層の塗布膜の少なくとも一方に付着
力調整剤を含ませることにより、単なるリンス処理によ
る第２の顔料層の塗布膜のパターニングが可能となるこ
とが分かった。付着力調整剤の働きについては、次のよ
うに考えられている。即ち、顔料層中に付着力調整剤を
含ませることにより、顔料層を所定の電荷（例えば微粒
子シリカでは−の電荷、Ｌｉ−シリケートと微粒子アル
ミナでは＋の電荷）にチャージすることができる。一
方、基板も顔料層の形成前にシリカやアミノシランを形
成することにより、所定の電荷（例えばシリカでは−の
電荷、アミノシランでは＋の電荷）にチャージすること
ができる。従って、付着力調整剤の働きで、第１及び第
２の顔料層にチャージされる電荷量を所定の値とするこ
とにより、第２の顔料層と基板との間及び第２の顔料層
と第１の顔料層との間の密着性に充分な差をつけること
が可能になる。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、この発明の詳細を第１の顔
料層が青色顔料層及び緑色顔料層、第２の顔料層が赤色
顔料層である場合について、図面を参照して説明する。
図１乃至図３はこの発明の一実施例を示す工程図であ
る。まず、図１（ａ）に示すように、例えばガラスから
なる基板１上の全面にアミノシランからなる膜（図示せ
ず）を形成した後、例えば黒鉛微粒子からなる所定パタ
ーンの光吸収層２を形成する。
料層が青色顔料層及び緑色顔料層、第２の顔料層が赤色
顔料層である場合について、図面を参照して説明する。
図１乃至図３はこの発明の一実施例を示す工程図であ
る。まず、図１（ａ）に示すように、例えばガラスから
なる基板１上の全面にアミノシランからなる膜（図示せ
ず）を形成した後、例えば黒鉛微粒子からなる所定パタ
ーンの光吸収層２を形成する。
【００２１】次に、青、緑、赤のフィルターを形成する
ための顔料分散液として、次の組成のものを準備した。 ＜青顔料分散液＞ 青顔料粒子：アルミン酸コバルト ３０重量％ （商品名コバルトブルーＸ（粒子径０．０１〜０．０２μｍ、東洋顔料社製） 分散剤：ポリアクリル酸共重合体のアンモニウム塩 ０．７重量％ （ディスペックＧＡ−４０（アライド・コロイド社製）） 付着力調整剤：微粒子シリカ（粒子径０．０８μｍ） ３重量％ （スノーテックス（日産化学社製）） フォトレジスト：重クロム酸アンモニウム（ＡＤＣ）＋ ポリビニルアルコール（ＰＶＡ） ０．５重量％ それぞれ純水中に分散 ＜緑顔料分散液＞ 緑顔料粒子：ＴｉＯ2 −ＮｉＯ−ＣｏＯ−ＺｎＯ ３０重量％ （商品名ダイピロキサイドＴＭ−グリーン＃３３２０（粒子径０．０１〜０．０ ２μｍ、大日精化社製） 分散剤：アクリル酸のナトリウム塩 ０．７重量％ （ディスペックＮ−４０） 付着力調整剤：微粒子シリカ（粒子径０．０８μｍ） ３重量％ （スノーテックス（日産化学社製）） フォトレジスト：ＡＤＣ＋ＰＶＡ ０．５重量％ それぞれ純水中に分散 ＜赤顔料分散液＞ 赤顔料粒子：Ｆｅ2 Ｏ3 の微粒子 ２０重量％ （粒子径０．０１〜０．０２μｍ） 分散剤：ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートのアンモニウム塩 （ハイテノール０８（第一工業製薬社製）） ０．７重量％ 付着力調整剤：微粒子シリカ（粒子径０．０８μｍ） ３重量％ （スノーテックス（日産化学社製）） フォトレジスト：ＡＤＣ＋ＰＶＡ ０．５重量％ それぞれ純水中に分散 次に、基板１を温度３０℃に保持して、図１（ｂ）に示
すように、青色顔料層３の顔料分散液を塗布した。基板
１を１００〜３００ｒｐｍで回転させ、過剰の顔料分散
液を振り切った。ヒーター温度１２０℃にて３〜４分間
乾燥した。そして、例えば色選別電極４を介して、高圧
水銀灯を用いて図１（ｃ）に示すように、所定のパター
ンに露光した。続いて、霧状にした例えば水を液圧２〜
１０ｋｇ／ｃｍ2 でスプレーしてリンスすることによ
り、図１（ｄ）に示すように、所定のパターンを有する
青色顔料層３を形成した。
ための顔料分散液として、次の組成のものを準備した。 ＜青顔料分散液＞ 青顔料粒子：アルミン酸コバルト ３０重量％ （商品名コバルトブルーＸ（粒子径０．０１〜０．０２μｍ、東洋顔料社製） 分散剤：ポリアクリル酸共重合体のアンモニウム塩 ０．７重量％ （ディスペックＧＡ−４０（アライド・コロイド社製）） 付着力調整剤：微粒子シリカ（粒子径０．０８μｍ） ３重量％ （スノーテックス（日産化学社製）） フォトレジスト：重クロム酸アンモニウム（ＡＤＣ）＋ ポリビニルアルコール（ＰＶＡ） ０．５重量％ それぞれ純水中に分散 ＜緑顔料分散液＞ 緑顔料粒子：ＴｉＯ2 −ＮｉＯ−ＣｏＯ−ＺｎＯ ３０重量％ （商品名ダイピロキサイドＴＭ−グリーン＃３３２０（粒子径０．０１〜０．０ ２μｍ、大日精化社製） 分散剤：アクリル酸のナトリウム塩 ０．７重量％ （ディスペックＮ−４０） 付着力調整剤：微粒子シリカ（粒子径０．０８μｍ） ３重量％ （スノーテックス（日産化学社製）） フォトレジスト：ＡＤＣ＋ＰＶＡ ０．５重量％ それぞれ純水中に分散 ＜赤顔料分散液＞ 赤顔料粒子：Ｆｅ2 Ｏ3 の微粒子 ２０重量％ （粒子径０．０１〜０．０２μｍ） 分散剤：ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートのアンモニウム塩 （ハイテノール０８（第一工業製薬社製）） ０．７重量％ 付着力調整剤：微粒子シリカ（粒子径０．０８μｍ） ３重量％ （スノーテックス（日産化学社製）） フォトレジスト：ＡＤＣ＋ＰＶＡ ０．５重量％ それぞれ純水中に分散 次に、基板１を温度３０℃に保持して、図１（ｂ）に示
すように、青色顔料層３の顔料分散液を塗布した。基板
１を１００〜３００ｒｐｍで回転させ、過剰の顔料分散
液を振り切った。ヒーター温度１２０℃にて３〜４分間
乾燥した。そして、例えば色選別電極４を介して、高圧
水銀灯を用いて図１（ｃ）に示すように、所定のパター
ンに露光した。続いて、霧状にした例えば水を液圧２〜
１０ｋｇ／ｃｍ2 でスプレーしてリンスすることによ
り、図１（ｄ）に示すように、所定のパターンを有する
青色顔料層３を形成した。
【００２２】次に、基板１を温度３０℃に保持して、図
２（ａ）に示すように、緑色顔料層５の顔料分散液を塗
布した。基板１を１００〜３００ｒｐｍで回転させ、過
剰の顔料分散液を振り切った。ヒーター温度１２０℃に
て３〜４分間乾燥した。そして、例えば色選別電極４を
介して、高圧水銀灯を用いて図２（ｂ）に示すように、
所定のパターンに露光した。続いて、霧状にした例えば
水を液圧２〜１０ｋｇ／ｃｍ2 でスプレーしてリンスす
ることにより、図２（ｃ）に示すように、所定のパター
ンを有する緑色顔料層５を形成した。
２（ａ）に示すように、緑色顔料層５の顔料分散液を塗
布した。基板１を１００〜３００ｒｐｍで回転させ、過
剰の顔料分散液を振り切った。ヒーター温度１２０℃に
て３〜４分間乾燥した。そして、例えば色選別電極４を
介して、高圧水銀灯を用いて図２（ｂ）に示すように、
所定のパターンに露光した。続いて、霧状にした例えば
水を液圧２〜１０ｋｇ／ｃｍ2 でスプレーしてリンスす
ることにより、図２（ｃ）に示すように、所定のパター
ンを有する緑色顔料層５を形成した。
【００２３】次に、基板１を温度３０℃に保持して、図
３（ａ）に示すように、赤色顔料層６の顔料分散液を塗
布した。基板１を１００〜３００ｒｐｍで回転させ、過
剰の顔料分散液を振り切った。ヒーター温度１２０℃に
て３〜４分間乾燥した。そして、例えば霧状にした例え
ば水を液圧２〜１０ｋｇ／ｃｍ2 でスプレーしてリンス
することにより、図３（ｂ）に示すように、所定のパタ
ーンを有する赤色顔料層６を形成した。
３（ａ）に示すように、赤色顔料層６の顔料分散液を塗
布した。基板１を１００〜３００ｒｐｍで回転させ、過
剰の顔料分散液を振り切った。ヒーター温度１２０℃に
て３〜４分間乾燥した。そして、例えば霧状にした例え
ば水を液圧２〜１０ｋｇ／ｃｍ2 でスプレーしてリンス
することにより、図３（ｂ）に示すように、所定のパタ
ーンを有する赤色顔料層６を形成した。
【００２４】こうして、基板１上に青色顔料層３、緑色
顔料層５及び赤色顔料層６からなる顔料層を得た。この
実施例では、基板１上の全面にアミノシランからなる膜
を形成し且つ青色顔料層３、緑色顔料層５及び赤色顔料
層６に微粒子シリカを含ませることにより、基板１は＋
の電荷、青色顔料層３、緑色顔料層５及び赤色顔料層６
は−の電荷にチャージする。この結果、赤色顔料層６と
基板１との間の付着力が赤色顔料層６と青色顔料層３及
び緑色顔料層５との間の付着力に比べて充分に大きくな
って、リンス処理により青色顔料層３及び緑色顔料層５
上の赤色顔料層６は完全にリンスされ、図４に示すよう
に、基板１上の青色顔料層３及び緑色顔料層５が位置し
ている部分以外は赤色顔料層６で覆われる。従って、従
来から必要であった赤色顔料層６の形成の際の露光工程
が不要になり、フィルターの製造工程を簡略化すること
ができた。
顔料層５及び赤色顔料層６からなる顔料層を得た。この
実施例では、基板１上の全面にアミノシランからなる膜
を形成し且つ青色顔料層３、緑色顔料層５及び赤色顔料
層６に微粒子シリカを含ませることにより、基板１は＋
の電荷、青色顔料層３、緑色顔料層５及び赤色顔料層６
は−の電荷にチャージする。この結果、赤色顔料層６と
基板１との間の付着力が赤色顔料層６と青色顔料層３及
び緑色顔料層５との間の付着力に比べて充分に大きくな
って、リンス処理により青色顔料層３及び緑色顔料層５
上の赤色顔料層６は完全にリンスされ、図４に示すよう
に、基板１上の青色顔料層３及び緑色顔料層５が位置し
ている部分以外は赤色顔料層６で覆われる。従って、従
来から必要であった赤色顔料層６の形成の際の露光工程
が不要になり、フィルターの製造工程を簡略化すること
ができた。
【００２５】次に、通常の方法により、図３（ｃ）に示
すように青色蛍光体層７、緑色蛍光体層８及び赤色蛍光
体層９をそれぞれ青色顔料層３、緑色顔料層５及び赤色
顔料層６と対応するように形成した。
すように青色蛍光体層７、緑色蛍光体層８及び赤色蛍光
体層９をそれぞれ青色顔料層３、緑色顔料層５及び赤色
顔料層６と対応するように形成した。
【００２６】こうして、基板１上に顔料層及び蛍光体層
を有する所望のフィルター付き蛍光体層が得られ、これ
を用いたカラーブラウン管はコントラストや色純度が優
れたものとなる。また、フィルターパターンが所定の位
置、例えば青蛍光体層が形成されるべき位置に対応して
青フィルターを形成し、他色の位置には青フィルターの
顔料が残渣として残ることがなく、混色がなく色純度特
性の優れたフィルターとなる。
を有する所望のフィルター付き蛍光体層が得られ、これ
を用いたカラーブラウン管はコントラストや色純度が優
れたものとなる。また、フィルターパターンが所定の位
置、例えば青蛍光体層が形成されるべき位置に対応して
青フィルターを形成し、他色の位置には青フィルターの
顔料が残渣として残ることがなく、混色がなく色純度特
性の優れたフィルターとなる。
【００２７】この発明の効果が得られる他の実施例を挙
げれば、 （ａ）基板１上にアミノシランからなる膜を形成した場
合 青顔料分散液と緑顔料分散液には付着力調整剤を含ま
せず、赤顔料分散液にのみ微粒子シリカを含ませる （ｂ）基板１上にシリカからなる膜を形成した場合 青顔料分散液、緑顔料分散液及び赤顔料分散液にＬｉ
−シリケート或いは微粒子アルミナを含ませる 青顔料分散液と緑顔料分散液には付着力調整剤を含ま
せず、赤顔料分散液にのみＬｉ−シリケート或いは微粒
子アルミナを含ませる なお、今までの実施例では、顔料層における第１の顔料
層を青色顔料層及び緑色顔料層、第２の顔料層を赤色顔
料層としていたがこれに限られず、第２の顔料層は青色
顔料層或いは緑色顔料層のうちのいずれかであってもよ
いことは言うまでもない。また、この発明は、液晶表示
素子用カラーフィルター等にも適用することが可能であ
る。更に、各顔料層のパターニングに際し、霧状にした
水をスプレーする前に、基板を例えばアルカリ現像液に
浸漬することにより、各顔料層の不要部の剥離をより確
実に行うことができる。
げれば、 （ａ）基板１上にアミノシランからなる膜を形成した場
合 青顔料分散液と緑顔料分散液には付着力調整剤を含ま
せず、赤顔料分散液にのみ微粒子シリカを含ませる （ｂ）基板１上にシリカからなる膜を形成した場合 青顔料分散液、緑顔料分散液及び赤顔料分散液にＬｉ
−シリケート或いは微粒子アルミナを含ませる 青顔料分散液と緑顔料分散液には付着力調整剤を含ま
せず、赤顔料分散液にのみＬｉ−シリケート或いは微粒
子アルミナを含ませる なお、今までの実施例では、顔料層における第１の顔料
層を青色顔料層及び緑色顔料層、第２の顔料層を赤色顔
料層としていたがこれに限られず、第２の顔料層は青色
顔料層或いは緑色顔料層のうちのいずれかであってもよ
いことは言うまでもない。また、この発明は、液晶表示
素子用カラーフィルター等にも適用することが可能であ
る。更に、各顔料層のパターニングに際し、霧状にした
水をスプレーする前に、基板を例えばアルカリ現像液に
浸漬することにより、各顔料層の不要部の剥離をより確
実に行うことができる。
【００２８】
【発明の効果】この発明は、第１の顔料粒子を含む溶液
と第２の顔料粒子を含む溶液の少なくとも一方に付着力
調整剤を含ませており、リンス処理で第１の顔料層上の
第２の顔料層を除去することにより、第１及び第２の顔
料層を形成する工程とを備えているので、従来に比べ簡
単な工程で確実に顔料層の所定パターンを得ることがで
きる。
と第２の顔料粒子を含む溶液の少なくとも一方に付着力
調整剤を含ませており、リンス処理で第１の顔料層上の
第２の顔料層を除去することにより、第１及び第２の顔
料層を形成する工程とを備えているので、従来に比べ簡
単な工程で確実に顔料層の所定パターンを得ることがで
きる。
【図１】この発明の一実施例における青色顔料層の形成
工程を示す断面図である。
工程を示す断面図である。
【図２】この発明の一実施例における緑色顔料層の形成
工程を示す断面図である。
工程を示す断面図である。
【図３】この発明の一実施例における赤色顔料層の形成
工程を示す断面図である。
工程を示す断面図である。
【図４】この発明の一実施例における顔料層の形成後の
構造を示す平面図である。
構造を示す平面図である。
１……基板 ３……青色顔料層 ５……緑色顔料層 ６……赤色顔料層
Claims (3)
- 【請求項１】 基板上に第１の顔料粒子を含む溶液を塗
布乾燥し、所定のパターンに露光して硬化させた後に現
像して第１の顔料層のパターンを形成する第１の工程
と、第２の顔料粒子を含む溶液を前記基板及び前記パタ
ーン上に塗布乾燥する第２の工程とを備えたフィルター
パターンの製造方法において、前記第１の顔料粒子を含
む溶液と前記第２の顔料粒子を含む溶液の少なくとも一
方に付着力調整剤を含ませており、前記第２の工程の後
にリンスして、前記パターン上の前記第２の顔料層を除
去することにより、前記第１及び第２の顔料層を形成す
る工程を備えたことを特徴とするフィルターパターンの
製造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載のフィルターパターンの製
造方法において、前記基板の全面にはシリカ或いはアミ
ノシランが形成されていることを特徴とするフィルター
パターンの製造方法。 - 【請求項３】 請求項１記載のフィルターパターンの製
造方法において、前記付着力調整剤は粒子径０．１μｍ
以下の微粒子シリカ、Ｌｉ−シリケート、粒子径０．１
μｍ以下の微粒子アルミナのいずれかであることを特徴
とするフィルターパターンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7327747A JPH08236020A (ja) | 1994-12-26 | 1995-12-18 | フィルターパターンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-322065 | 1994-12-26 | ||
| JP32206594 | 1994-12-26 | ||
| JP7327747A JPH08236020A (ja) | 1994-12-26 | 1995-12-18 | フィルターパターンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08236020A true JPH08236020A (ja) | 1996-09-13 |
Family
ID=26570679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7327747A Pending JPH08236020A (ja) | 1994-12-26 | 1995-12-18 | フィルターパターンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08236020A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6140758A (en) * | 1994-12-26 | 2000-10-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Cathode ray tube with color filter |
-
1995
- 1995-12-18 JP JP7327747A patent/JPH08236020A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6140758A (en) * | 1994-12-26 | 2000-10-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Cathode ray tube with color filter |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050223 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050414 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050606 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061201 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070403 |