JPH08236557A - Semiconductor integrated circuit device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 放熱性の向上を図る樹脂封止形の半導体集積
回路装置およびその製造方法を提供する。
【構成】 半導体素子1を直接搭載しかつ半導体素子1
が発生する熱を外部に放つ熱拡散部材2と、熱拡散部材
2の外部へ延在しかつ半導体素子1の電極1aと電気的
に接続されたリードフレーム3と、熱拡散部材2とリー
ドフレーム3とを絶縁しかつ樹脂封止時に樹脂成形を行
う金型に接触する絶縁部材4とからなり、絶縁部材4が
粘着性を有しかつ細巾の絶縁性テープによって形成され
たダムバーであり、リードフレーム3のインナリード部
3aが絶縁部材4を介して熱拡散部材2に取り付けら
れ、熱拡散部材2の半導体素子搭載面2aだけが樹脂8
によって封止されている。
(57) [Summary] [Object] To provide a resin-encapsulated semiconductor integrated circuit device for improving heat dissipation and a method for manufacturing the same. [Structure] The semiconductor element 1 is directly mounted and the semiconductor element 1
Heat diffusion member 2 that radiates the heat generated by the outside, a lead frame 3 that extends to the outside of the heat diffusion member 2 and is electrically connected to the electrode 1a of the semiconductor element 1, the heat diffusion member 2, and the lead frame. An insulating member 4 which insulates the insulating member 3 from the mold 3 and contacts a mold for resin molding when the resin is sealed, and the insulating member 4 is a dam bar formed of an adhesive tape having adhesiveness and narrow width, The inner lead portion 3a of the lead frame 3 is attached to the heat diffusion member 2 via the insulating member 4, and only the semiconductor element mounting surface 2a of the heat diffusion member 2 is made of the resin 8
Is sealed by.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路装置お
よびその製造技術に関し、特に、樹脂によって封止を行
う半導体集積回路装置およびその製造方法に関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device and a manufacturing technique thereof, and more particularly to a semiconductor integrated circuit device sealed with resin and a manufacturing method thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を研究、
完成するに際し、本発明者によって検討されたものであ
り、その概要は次のとおりである。2. Description of the Related Art The techniques described below are for studying the present invention,
The present invention was studied by the present inventors upon completion, and its outline is as follows.
【0003】電子機器やコンピュータの小形化、軽量
化、高性能化あるいは低コスト化などに伴い、実装する
半導体集積回路装置の高速化や高集積化が図られてい
る。Along with the miniaturization, weight reduction, high performance, and cost reduction of electronic devices and computers, the speed and the degree of integration of semiconductor integrated circuit devices to be mounted have been increased.
【0004】その結果、半導体集積回路装置におけるリ
ードフレームの微細ピッチ化、多ピン化、または外形形
状の多用化が急進展し、機能当たりの大きさも大幅に縮
小されつつある。As a result, the lead frame in the semiconductor integrated circuit device has been made finer in pitch, has more pins, and has a wider outer shape, and the size per function has been significantly reduced.
【0005】そこで、前記要求に対応する半導体集積回
路装置の一例として、QFP(QuadFlat Package) と称
される樹脂封止型の半導体集積回路装置が知られてい
る。このQFPに用いられるリードフレームは、半導体
素子を搭載するタブと、半導体素子の電極と電気的に接
続するインナリードと、半導体集積回路装置が実装され
るプリント基板と電気的接続を行うアウタリードとによ
って構成されている。Therefore, as an example of a semiconductor integrated circuit device that meets the above requirements, a resin-sealed semiconductor integrated circuit device called QFP (Quad Flat Package) is known. The lead frame used in this QFP is composed of a tab for mounting a semiconductor element, an inner lead for electrically connecting with an electrode of the semiconductor element, and an outer lead for electrically connecting with a printed board on which a semiconductor integrated circuit device is mounted. It is configured.
【0006】また、前記アウタリードは、外枠のフレー
ム上で前記インナリードと接続されている。Further, the outer leads are connected to the inner leads on a frame of an outer frame.
【0007】さらに、樹脂封止は、タブに半導体素子を
搭載し、半導体素子の電極とインナリードとをワイヤボ
ンディングによって接続した後、半導体素子とワイヤ部
とを保護するために行う。Further, the resin sealing is performed in order to protect the semiconductor element and the wire portion after mounting the semiconductor element on the tab and connecting the electrode of the semiconductor element and the inner lead by wire bonding.
【0008】なお、QFPについては、例えば、日経B
P社発行「実践講座VLSIパッケージング技術
(上)」1993年5月31日発行、香山晋、成瀬邦彦
(監)、85頁に記載されている。Regarding QFP, for example, Nikkei B
"Practice Course VLSI Packaging Technology (above)" issued by Company P, May 31, 1993, Susumu Kayama, Kunihiko Naruse (Director), page 85.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記した技
術において、QFPなどの樹脂封止形の半導体集積回路
装置に用いられる樹脂は、その熱伝導率が低い場合が多
い。However, in the above-mentioned technique, the resin used in the resin-encapsulated semiconductor integrated circuit device such as QFP often has a low thermal conductivity.
【0010】その結果、信号の高速化や配線の高集積化
が進むと、半導体素子の消費電力が増加した際に、放熱
性が問題とされる。As a result, when the speed of signals and the degree of integration of wirings increase, heat dissipation becomes a problem when the power consumption of semiconductor elements increases.
【0011】そこで、本発明の目的は、放熱性の向上を
図る樹脂封止形の半導体集積回路装置およびその製造方
法を提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to provide a resin-encapsulated semiconductor integrated circuit device for improving heat dissipation and a method for manufacturing the same.
【0012】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。Of the inventions disclosed in the present application, a representative one will be briefly described below.
It is as follows.
【0014】すなわち、本発明による半導体集積回路装
置は、半導体素子を直接搭載しかつ前記半導体素子が発
生する熱を外部に放つ熱拡散部材と、前記熱拡散部材の
外部へ延在しかつ前記半導体素子の電極と電気的に接続
されたリードフレームと、前記熱拡散部材と前記リード
フレームとを絶縁しかつ樹脂封止時に樹脂成形を行う金
型に接触する絶縁部材とを有し、前記リードフレームの
インナリード部が前記絶縁部材を介して前記熱拡散部材
に取り付けられているものである。That is, in the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the semiconductor element is directly mounted, and the heat diffusion member that radiates the heat generated by the semiconductor element to the outside, and the semiconductor element that extends to the outside of the heat diffusion member. A lead frame electrically connected to the electrodes of the element; and an insulating member that insulates the heat diffusion member and the lead frame from each other and contacts a mold for resin molding at the time of resin sealing. The inner lead portion is attached to the heat diffusion member via the insulating member.
【0015】また、本発明の半導体集積回路装置におけ
る絶縁部材は、粘着性を有しかつ細巾の絶縁性テープに
よって形成されたダムバーである。The insulating member in the semiconductor integrated circuit device of the present invention is a dam bar formed of an insulating tape having a narrow width and having an adhesive property.
【0016】さらに、本発明による半導体集積回路装置
は、前記熱拡散部材の半導体素子搭載面だけが樹脂によ
って封止されているものである。Further, in the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, only the semiconductor element mounting surface of the heat diffusion member is sealed with resin.
【0017】また、本発明による半導体集積回路装置
は、前記熱拡散部材が放熱フィンを有しているものであ
る。Further, in the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the heat diffusion member has a radiation fin.
【0018】なお、本発明による半導体集積回路装置の
製造方法は、樹脂封止を行う際に、前記熱拡散部材と前
記金型と前記リードフレームと前記絶縁部材とによって
形成された密閉領域に樹脂を流し込み、硬化することに
よって前記半導体素子およびその周辺部を封止するもの
である。In the method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the resin is sealed in a sealed area formed by the heat diffusion member, the mold, the lead frame, and the insulating member when the resin is sealed. Is poured and cured to seal the semiconductor element and its peripheral portion.
【0019】[0019]
【作用】上記した手段によれば、半導体素子を直接搭載
しかつ半導体素子が発生する熱を外部に放つ熱拡散部材
と、熱拡散部材の外部へ延在しかつ半導体素子の電極と
電気的に接続されたリードフレームと、熱拡散部材とリ
ードフレームとを絶縁しかつ樹脂封止時に樹脂成形を行
う金型に接触する絶縁部材とを有することにより、半導
体素子が直接熱拡散部材に接触するため、半導体素子の
放熱性の向上を図ることができる。According to the above-mentioned means, the semiconductor element is directly mounted, and the heat diffusion member that radiates the heat generated by the semiconductor element to the outside, and the electrode that extends to the outside of the thermal diffusion member and is electrically connected to the electrode of the semiconductor element. Since the semiconductor element directly contacts the heat diffusion member by having the connected lead frame and the insulating member that insulates the heat diffusion member and the lead frame from each other and contacts the mold for resin molding at the time of resin sealing Therefore, the heat dissipation of the semiconductor element can be improved.
【0020】さらに、前記絶縁部材が粘着性を有しかつ
細巾の絶縁性テープによって形成されたダムバーである
ことにより、樹脂封止の際、絶縁部材が樹脂の漏れを防
止することができる。Further, since the insulating member is a dam bar formed of a narrow insulating tape having adhesiveness, the insulating member can prevent the resin from leaking during resin sealing.
【0021】また、半導体素子を熱拡散部材に直接搭載
し、さらに、リードフレームのインナリード部が絶縁部
材を介して熱拡散部材に固定されていることにより、半
導体素子とインナリード部との変位を低減することがで
き、両者の位置関係を常に安定に保つことができる。Further, since the semiconductor element is directly mounted on the heat diffusion member and the inner lead portion of the lead frame is fixed to the heat diffusion member via the insulating member, the semiconductor element and the inner lead portion are displaced. Can be reduced, and the positional relationship between the two can always be kept stable.
【0022】なお、熱拡散部材の半導体素子搭載面だけ
が樹脂によって封止されていることにより、半導体集積
回路装置の大きさを小形化することが可能になる。Since only the semiconductor element mounting surface of the heat diffusion member is sealed with resin, the size of the semiconductor integrated circuit device can be reduced.
【0023】また、熱拡散部材が放熱フィンを有するこ
とにより、半導体素子の放熱性をさらに向上させること
ができる。Further, since the heat diffusion member has the heat radiation fins, the heat radiation property of the semiconductor element can be further improved.
【0024】[0024]
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.
【0025】(実施例1)図1は本発明の半導体集積回
路装置の構造の一実施例を示す断面図、図2は本発明の
半導体集積回路装置の製造方法の一実施例を示す図であ
り、(a)は部分断面図、(b)は部分平面図、(c)
は部分断面図である。(Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the structure of a semiconductor integrated circuit device of the present invention, and FIG. 2 is a view showing an embodiment of a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device of the present invention. Yes, (a) is a partial cross-sectional view, (b) is a partial plan view, (c)
FIG.
【0026】まず、本実施例1の半導体集積回路装置の
構成について説明すると、半導体素子1を直接搭載しか
つ半導体素子1が発生する熱を外部に放つ熱拡散部材2
と、熱拡散部材2の外部へ延在しかつ半導体素子1の電
極1aと電気的に接続されたリードフレーム3と、熱拡
散部材2とリードフレーム3とを絶縁しかつ樹脂封止時
に樹脂成形を行う金型5に接触する絶縁部材4とを有
し、リードフレーム3のインナリード部3aが絶縁部材
4を介して熱拡散部材2に取り付けられている。First, the structure of the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment will be described. The heat diffusion member 2 for directly mounting the semiconductor element 1 and for radiating the heat generated by the semiconductor element 1 to the outside.
A lead frame 3 extending to the outside of the heat diffusion member 2 and electrically connected to the electrode 1a of the semiconductor element 1, and a resin molding for insulating the heat diffusion member 2 from the lead frame 3 and for resin sealing. The inner lead portion 3 a of the lead frame 3 is attached to the heat diffusion member 2 via the insulating member 4.
【0027】なお、半導体素子1は熱拡散部材2のほぼ
中央付近にペースト剤6などを介して直接固定され、さ
らに半導体素子1の電極1aは、ボンディングワイヤ7
によってリードフレーム3のインナリード部3aと接続
されている。The semiconductor element 1 is directly fixed near the center of the heat diffusion member 2 with a paste 6 or the like, and the electrode 1a of the semiconductor element 1 is bonded to the bonding wire 7.
Is connected to the inner lead portion 3a of the lead frame 3.
【0028】ここで、熱拡散部材2は、例えば、放熱性
や加工性に優れたアルミニウムなどの金属によって形成
されているものであり、本実施例1の熱拡散部材2の形
状は、所定の厚さを有した板状のものである。Here, the heat diffusion member 2 is formed of, for example, a metal such as aluminum having excellent heat dissipation and workability, and the shape of the heat diffusion member 2 of the first embodiment is predetermined. It is a plate having a thickness.
【0029】また、絶縁部材4は、例えば、ポリイミド
系の絶縁材によって形成された枠状を成すものであり、
さらに粘着性を有し、かつ細巾の絶縁性テープによって
形成されたダムバーである。The insulating member 4 is, for example, in the form of a frame made of a polyimide insulating material,
Further, it is a dam bar formed of a narrow insulating tape having adhesiveness.
【0030】したがって、枠状の絶縁性テープである絶
縁部材4は、熱拡散部材2上において、樹脂成形時に金
型5に接触する箇所、つまり熱拡散部材2上の金型5と
合わさる箇所に張り付けられている。Therefore, the insulating member 4, which is a frame-shaped insulating tape, is placed on the heat diffusion member 2 at a position where it contacts the mold 5 at the time of resin molding, that is, at a position where the mold 5 on the heat diffusion member 2 is joined. It is stuck.
【0031】また、本実施例1の半導体集積回路装置
は、熱拡散部材2の半導体素子搭載面2aだけがエポキ
シ系などの樹脂8によって封止されているものであり、
熱拡散部材2の半導体素子搭載面2a以外の面は露出し
ている。In the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment, only the semiconductor element mounting surface 2a of the heat diffusion member 2 is sealed with the resin 8 such as epoxy resin.
The surface of the heat diffusion member 2 other than the semiconductor element mounting surface 2a is exposed.
【0032】次に、本実施例1の半導体集積回路装置の
製造方法について説明する。Next, a method of manufacturing the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment will be described.
【0033】まず、絶縁性テープである絶縁部材4を熱
拡散部材2上の金型5と合わさる箇所に張り付ける。First, the insulating member 4, which is an insulating tape, is attached to the heat diffusion member 2 at a position where it is fitted with the mold 5.
【0034】さらに、リードフレーム3のインナリード
部3aを絶縁部材4に張り付けて、リードフレーム3を
熱拡散部材2に取り付ける。Further, the inner lead portion 3a of the lead frame 3 is attached to the insulating member 4, and the lead frame 3 is attached to the heat diffusion member 2.
【0035】その後、熱拡散部材2の半導体素子搭載面
2aの中央付近にペースト剤6を用いて半導体素子1を
固定する。つまり、半導体素子1をペースト剤6を介し
て直接熱拡散部材2に搭載する。After that, the semiconductor element 1 is fixed to the vicinity of the center of the semiconductor element mounting surface 2a of the heat diffusion member 2 by using the paste agent 6. That is, the semiconductor element 1 is directly mounted on the heat diffusion member 2 via the paste agent 6.
【0036】続いて、半導体素子1の電極1aとリード
フレーム3のインナリード部3aとを金線などのボンデ
ィングワイヤ7によってボンディングする。Subsequently, the electrode 1a of the semiconductor element 1 and the inner lead portion 3a of the lead frame 3 are bonded by a bonding wire 7 such as a gold wire.
【0037】その後、熱拡散部材2の半導体素子搭載面
2aだけを樹脂8によって封止する。この時、図2
(c)に示すように、熱拡散部材2と金型5とリードフ
レーム3と絶縁部材4とによって形成された密閉領域1
1に樹脂8(図1参照)を流し込み、硬化することによ
って半導体素子1およびその周辺部を封止する。After that, only the semiconductor element mounting surface 2a of the heat diffusion member 2 is sealed with the resin 8. At this time,
As shown in (c), the hermetically sealed area 1 formed by the heat diffusion member 2, the mold 5, the lead frame 3, and the insulating member 4.
A resin 8 (see FIG. 1) is poured into 1 and cured to seal the semiconductor element 1 and its peripheral portion.
【0038】つまり、金型5をリードフレーム3のイン
ナリード部3aと接触させ、さらに支持部材10によっ
て支持された熱拡散部材2との間で所定の荷重を掛け
る。そこで、密閉領域11に前記樹脂8を流し込み、硬
化させる。That is, the die 5 is brought into contact with the inner lead portion 3a of the lead frame 3, and a predetermined load is applied between the die 5 and the heat diffusion member 2 supported by the support member 10. Therefore, the resin 8 is poured into the closed region 11 and cured.
【0039】これにより、樹脂封止を終了し、続いてリ
ードフレーム3のアウタリード部3bの切断および曲げ
成形を行う。As a result, the resin sealing is completed, and then the outer lead portion 3b of the lead frame 3 is cut and bent.
【0040】次に、本実施例1の半導体集積回路装置に
よって得られる効果について説明する。Next, the effect obtained by the semiconductor integrated circuit device of the first embodiment will be described.
【0041】まず、半導体素子1を直接搭載しかつ半導
体素子1が発生する熱を外部に放つ熱拡散部材2と、熱
拡散部材2の外部へ延在しかつ半導体素子1の電極1a
と電気的に接続されたリードフレーム3と、熱拡散部材
2とリードフレーム3とを絶縁しかつ樹脂封止時に樹脂
成形を行う金型5に接触する絶縁部材4とを有すること
により、半導体素子1が直接熱拡散部材2に接触するた
め、半導体素子1の放熱性の向上を図ることができる。First, the thermal diffusion member 2 for directly mounting the semiconductor element 1 and radiating the heat generated by the semiconductor element 1 to the outside, and the electrode 1a of the semiconductor element 1 extending to the outside of the thermal diffusion member 2.
The semiconductor element is provided with the lead frame 3 electrically connected to the heat diffusion member 2 and the insulating member 4 which insulates the heat diffusion member 2 and the lead frame 3 from each other and is in contact with the mold 5 for resin molding at the time of resin sealing. Since 1 directly contacts the heat diffusion member 2, the heat dissipation of the semiconductor element 1 can be improved.
【0042】さらに、放熱性の向上を図ることができる
ため、消費電力が大きい半導体素子1を搭載することが
できる。Further, since the heat dissipation can be improved, the semiconductor element 1 which consumes a large amount of power can be mounted.
【0043】また、半導体素子1の消費電力に合わせ
て、熱拡散部材2の大きさ、形状を変えることが容易に
できる。The size and shape of the heat diffusion member 2 can be easily changed according to the power consumption of the semiconductor element 1.
【0044】なお、絶縁部材4が粘着性を有し、かつ細
巾の絶縁性テープによって形成されたダムバーであるこ
とにより、樹脂封止の際、絶縁部材4が樹脂8の漏れを
防止することができる。Since the insulating member 4 is a dam bar having adhesiveness and formed of a narrow insulating tape, the insulating member 4 prevents leakage of the resin 8 during resin sealing. You can
【0045】また、半導体素子1を熱拡散部材2に直接
搭載し、さらに、リードフレーム3のインナリード部3
aが絶縁部材4を介して熱拡散部材2に固定されている
ことにより、半導体素子1とインナリード部3aとの変
位を低減することができ、両者の位置関係を常に安定に
保つことができる。The semiconductor element 1 is directly mounted on the heat diffusion member 2, and the inner lead portion 3 of the lead frame 3 is further mounted.
Since a is fixed to the heat diffusion member 2 via the insulating member 4, the displacement between the semiconductor element 1 and the inner lead portion 3a can be reduced, and the positional relationship between the two can be always kept stable. .
【0046】その結果、ボンディングワイヤの変形によ
る接続不良を低減することができる。As a result, connection failure due to deformation of the bonding wire can be reduced.
【0047】さらに、熱拡散部材2の半導体素子搭載面
2aだけが樹脂8によって封止されることにより、半導
体集積回路装置の大きさを小形化することが可能にな
る。Further, since only the semiconductor element mounting surface 2a of the heat diffusion member 2 is sealed with the resin 8, the size of the semiconductor integrated circuit device can be reduced.
【0048】これによって、熱拡散部材2を大きくする
ことができ、放熱性を向上することができる。その結
果、前記同様に消費電力が大きな半導体素子1を搭載す
ることが可能になる。As a result, the heat diffusion member 2 can be made large and the heat dissipation can be improved. As a result, it becomes possible to mount the semiconductor element 1 which consumes a large amount of power similarly to the above.
【0049】また、樹脂封止を行う際に、熱拡散部材2
と金型5とリードフレーム3と絶縁部材4とによって形
成された密閉領域11に樹脂8を流し込み、半導体素子
1およびその周辺部を封止することによって、金型5の
形状を簡略化し、さらに、金型5の大きさを小形化する
ことができる。その結果、半導体集積回路装置の製造コ
ストを低減することができる。Further, when the resin sealing is performed, the heat diffusion member 2
The resin 8 is poured into the sealed region 11 formed by the mold 5, the lead frame 3 and the insulating member 4 to seal the semiconductor element 1 and its peripheral portion, thereby simplifying the shape of the mold 5. The size of the mold 5 can be reduced. As a result, the manufacturing cost of the semiconductor integrated circuit device can be reduced.
【0050】(実施例2)図3は本発明の他の実施例で
ある半導体集積回路装置の構造の一例を示す断面図、図
4は本発明の他の実施例である半導体集積回路装置の製
造方法の一例を示す図であり、(a)は部分断面図、
(b)は部分平面図、(c)は部分断面図である。(Embodiment 2) FIG. 3 is a sectional view showing an example of the structure of a semiconductor integrated circuit device which is another embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a semiconductor integrated circuit device which is another embodiment of the present invention. It is a figure showing an example of a manufacturing method, (a) is a partial sectional view,
(B) is a partial plan view and (c) is a partial sectional view.
【0051】本実施例2の半導体集積回路装置の構成に
ついて説明すると、半導体素子1を直接搭載しかつ半導
体素子1が発生する熱を外部に放つ熱拡散部材2と、熱
拡散部材2の外部へ延在しかつ半導体素子1の電極1a
と電気的に接続されたリードフレーム3と、熱拡散部材
2とリードフレーム3とを絶縁しかつ樹脂封止時に樹脂
成形を行う金型5に接触する絶縁部材4とを有し、リー
ドフレーム3のインナリード部3aが絶縁部材4を介し
て熱拡散部材2に取り付けられている。The structure of the semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment will be described. To the outside of the heat diffusion member 2 and the heat diffusion member 2 which directly mounts the semiconductor element 1 and radiates the heat generated by the semiconductor element 1 to the outside. The electrode 1a of the semiconductor element 1 which extends
A lead frame 3 electrically connected to the lead frame 3; and an insulating member 4 that insulates the heat diffusion member 2 and the lead frame 3 from each other and is in contact with a mold 5 for resin molding at the time of resin sealing. The inner lead portion 3 a of the above is attached to the heat diffusion member 2 via the insulating member 4.
【0052】ここで、本実施例2による半導体集積回路
装置の熱拡散部材2は、その断面形状が櫛状をなす放熱
フィン9を有しているものである。さらに、熱拡散部材
2は、実施例1で説明したものと同様に、例えば、放熱
性や加工性に優れたアルミニウムなどの金属によって形
成されている。Here, the heat diffusion member 2 of the semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment has a radiation fin 9 having a comb-shaped cross section. Further, the heat diffusion member 2 is formed of a metal such as aluminum having excellent heat dissipation and workability, as in the case described in the first embodiment.
【0053】なお、本実施例2の半導体集積回路装置の
その他の構成およびその製造方法については、実施例1
で説明したものと同様であるため、その重複説明は省略
する。The other structure of the semiconductor integrated circuit device of the second embodiment and the manufacturing method thereof are the same as those of the first embodiment.
Since it is the same as the one described above, the duplicated description will be omitted.
【0054】本実施例2の半導体集積回路装置から得ら
れる効果は、熱拡散部材2が放熱フィン9を有している
ことにより、半導体素子1の放熱性をさらに向上できる
ことである。The effect obtained from the semiconductor integrated circuit device of the second embodiment is that the heat dissipating member 2 has the heat dissipating fins 9, so that the heat dissipating property of the semiconductor element 1 can be further improved.
【0055】なお、本実施例2の半導体集積回路装置か
ら得られるその他の効果については、実施例1で説明し
たものと同様であるため、その重複説明は省略する。Since the other effects obtained from the semiconductor integrated circuit device of the second embodiment are the same as those described in the first embodiment, the duplicated description will be omitted.
【0056】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the embodiments and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.
【0057】例えば、前記実施例で説明した半導体集積
回路装置は、熱拡散部材の半導体素子搭載面だけが樹脂
封止されるものであったが、図5の本発明の他の実施例
の半導体集積回路装置の断面図に示すように、熱拡散部
材2の半導体素子搭載面2aおよびそれから続く側面2
bが樹脂8によって封止されていてもよい。For example, in the semiconductor integrated circuit device described in the above embodiment, only the semiconductor element mounting surface of the heat diffusion member is resin-sealed, but the semiconductor of the other embodiment of the present invention shown in FIG. As shown in the cross-sectional view of the integrated circuit device, the semiconductor element mounting surface 2a of the heat diffusion member 2 and the side surface 2 continuing from the semiconductor element mounting surface 2a.
b may be sealed with the resin 8.
【0058】また、前記実施例で説明した絶縁部材は、
粘着性を有した絶縁性テープであったが、粘着性を持た
ない絶縁性テープに高耐熱性の接着剤などを塗布して用
いてもよい。The insulating member described in the above embodiment is
Although the insulating tape has adhesiveness, the insulating tape having no adhesiveness may be coated with a high heat resistant adhesive or the like.
【0059】さらに、前記絶縁部材の代わりにエポキシ
系の樹脂などを用いてもよい。つまり、熱拡散部材に前
記エポキシ系の樹脂を塗布し、そこへリードフレームの
インナリード部を取り付けても前記実施例の半導体集積
回路装置と同様のものを製造することができる。Further, an epoxy resin or the like may be used instead of the insulating member. That is, even if the epoxy resin is applied to the heat diffusion member and the inner lead portion of the lead frame is attached thereto, a semiconductor integrated circuit device similar to the above embodiment can be manufactured.
【0060】また、前記実施例で説明した熱拡散部材
は、アルミニウムによって形成されているものであった
が、銅などの他の金属によって形成されていてもよい。Although the heat diffusion member described in the above embodiment is made of aluminum, it may be made of other metal such as copper.
【0061】なお、前記実施例で説明した半導体集積回
路装置は、半導体素子の電極とリードフレームのインナ
リード部とがボンディングワイヤによって接続されるも
のであったが、バンプを用いたボールボンディングによ
って接続されるものであってもよい。In the semiconductor integrated circuit device described in the above embodiment, the electrode of the semiconductor element and the inner lead portion of the lead frame are connected by a bonding wire, but they are connected by ball bonding using bumps. It may be one that is done.
【0062】また、実施例2で説明した熱拡散部材の放
熱フィンの形状は、その断面形状が櫛状をなすものであ
ったが、前記放熱フィンの形状は、前記熱拡散部材の放
熱面積を拡大するものであれば他の形状であってもよ
い。Further, although the heat dissipating fins of the heat diffusion member described in the second embodiment have a comb-shaped cross section, the shape of the heat dissipating fins corresponds to the heat dissipating area of the heat dissipating member. Other shapes may be used as long as they can be enlarged.
【0063】[0063]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.
【0064】(1).半導体素子を直接搭載しかつ半導
体素子が発生する熱を外部に放つ熱拡散部材と、熱拡散
部材の外部へ延在しかつ半導体素子の電極と電気的に接
続されたリードフレームと、熱拡散部材とリードフレー
ムとを絶縁しかつ樹脂封止時に樹脂成形を行う金型に接
触する絶縁部材とを有することにより、半導体素子が直
接熱拡散部材に接触するため、半導体素子の放熱性の向
上を図ることができる。(1). A heat diffusion member that directly mounts the semiconductor element and radiates heat generated by the semiconductor element to the outside, a lead frame that extends to the outside of the heat diffusion member and is electrically connected to an electrode of the semiconductor element, and a heat diffusion member Since the semiconductor element is in direct contact with the heat diffusion member by having an insulating member that insulates the lead frame and the lead frame and is in contact with the mold for resin molding at the time of resin sealing, the heat dissipation of the semiconductor element is improved. be able to.
【0065】(2).前記(1)により、半導体素子の
放熱性の向上を図ることができるため、消費電力が大き
い半導体素子を搭載することができる。(2). According to the above (1), the heat dissipation of the semiconductor element can be improved, so that a semiconductor element consuming large power can be mounted.
【0066】(3).半導体素子の消費電力に合わせ
て、熱拡散部材の大きさ、形状を変えることが容易にで
きる。(3). The size and shape of the heat diffusion member can be easily changed according to the power consumption of the semiconductor element.
【0067】(4).絶縁部材が粘着性を有しかつ細巾
の絶縁性テープによって形成されたダムバーであること
により、樹脂封止の際、絶縁部材が樹脂の漏れを防止す
ることができる。(4). Since the insulating member is a dam bar formed of a narrow insulating tape having adhesiveness, the insulating member can prevent the resin from leaking during resin sealing.
【0068】(5).半導体素子を熱拡散部材に直接搭
載し、さらに、リードフレームのインナリード部が絶縁
部材を介して熱拡散部材に固定されていることにより、
半導体素子とインナリード部との変位を低減することが
でき、両者の位置関係を常に安定に保つことができる。
その結果、ボンディングワイヤの変形による接続不良を
低減することができる。(5). By mounting the semiconductor element directly on the heat diffusion member, and further, by fixing the inner lead portion of the lead frame to the heat diffusion member via the insulating member,
The displacement between the semiconductor element and the inner lead portion can be reduced, and the positional relationship between the two can be always kept stable.
As a result, connection failure due to deformation of the bonding wire can be reduced.
【0069】(6).熱拡散部材の半導体素子搭載面だ
けが樹脂によって封止されていることにより、半導体集
積回路装置の大きさを小形化することが可能になる。(6). Since only the semiconductor element mounting surface of the heat diffusion member is sealed with the resin, the size of the semiconductor integrated circuit device can be reduced.
【0070】これにより、熱拡散部材を大きくすること
ができ、放熱性を向上することができる。その結果、消
費電力が大きな半導体素子を搭載することが可能にな
る。This makes it possible to increase the size of the heat diffusion member and improve heat dissipation. As a result, it becomes possible to mount a semiconductor element with high power consumption.
【0071】(7).熱拡散部材が放熱フィンを有する
ことにより、半導体素子の放熱性をさらに向上させるこ
とができる。(7). Since the heat diffusion member has the heat dissipation fins, the heat dissipation of the semiconductor element can be further improved.
【0072】(8).樹脂封止を行う際に、熱拡散部材
と金型とリードフレームと絶縁部材とによって形成され
た密閉領域に樹脂を流し込み、半導体素子およびその周
辺部を封止することによって、金型の形状を簡略化し、
さらに、金型の大きさを小形化することができる。その
結果、半導体集積回路装置の製造コストを低減すること
ができる。(8). When performing resin sealing, the resin is poured into a sealed region formed by the heat diffusion member, the mold, the lead frame, and the insulating member, and the semiconductor element and its peripheral portion are sealed so that the shape of the mold is changed. Simplify,
Further, the size of the mold can be reduced. As a result, the manufacturing cost of the semiconductor integrated circuit device can be reduced.
【図1】本発明の半導体集積回路装置の構造の一実施例
を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the structure of a semiconductor integrated circuit device of the present invention.
【図2】本発明の半導体集積回路装置の製造方法の一実
施例を示す図であり、(a)は部分断面図、(b)は部
分平面図、(c)は部分断面図である。2A and 2B are views showing an embodiment of a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, in which FIG. 2A is a partial sectional view, FIG. 2B is a partial plan view, and FIG.
【図3】本発明の他の実施例である半導体集積回路装置
の構造の一例を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing an example of the structure of a semiconductor integrated circuit device which is another embodiment of the present invention.
【図4】本発明の他の実施例である半導体集積回路装置
の製造方法の一例を示す図であり、(a)は部分断面
図、(b)は部分平面図、(c)は部分断面図である。FIG. 4 is a diagram showing an example of a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device according to another embodiment of the present invention, in which (a) is a partial cross-sectional view, (b) is a partial plan view, and (c) is a partial cross-sectional view. It is a figure.
【図5】本発明の他の実施例である半導体集積回路装置
の構造の一例を示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing an example of the structure of a semiconductor integrated circuit device which is another embodiment of the present invention.
1 半導体素子 1a 電極 2 熱拡散部材 2a 半導体素子搭載面 2b 側面 3 リードフレーム 3a インナリード部 3b アウタリード部 4 絶縁部材 5 金型 6 ペースト剤 7 ボンディングワイヤ 8 樹脂 9 放熱フィン 10 支持部材 11 密閉領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor element 1a Electrode 2 Thermal diffusion member 2a Semiconductor element mounting surface 2b Side surface 3 Lead frame 3a Inner lead part 3b Outer lead part 4 Insulating member 5 Mold 6 Paste agent 7 Bonding wire 8 Resin 9 Radiating fin 10 Supporting member 11 Sealing area
Claims (5)
て、 半導体素子を直接搭載し、かつ前記半導体素子が発生す
る熱を外部に放つ熱拡散部材と、 前記熱拡散部材の外部へ延在し、かつ前記半導体素子の
電極と電気的に接続されたリードフレームと、 前記熱拡散部材と前記リードフレームとを絶縁し、かつ
樹脂封止時に樹脂成形を行う金型に接触する絶縁部材と
を有し、 前記リードフレームのインナリード部が前記絶縁部材を
介して前記熱拡散部材に取り付けられていることを特徴
とする半導体集積回路装置。1. A resin-encapsulated semiconductor integrated circuit device, comprising: a semiconductor element directly mounted on the semiconductor element; and a heat diffusion member that radiates heat generated by the semiconductor element to the outside, and a heat diffusion member that extends to the outside of the heat diffusion member. A lead frame that is present and electrically connected to the electrodes of the semiconductor element; and an insulating member that insulates the heat diffusion member and the lead frame from each other and that contacts a mold for resin molding during resin sealing. An inner lead portion of the lead frame is attached to the heat diffusion member via the insulating member.
って、前記絶縁部材が粘着性を有し、かつ細巾の絶縁性
テープによって形成されたダムバーであることを特徴と
する半導体集積回路装置。2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the insulating member is a dambar formed of a narrow insulating tape having adhesiveness. apparatus.
装置であって、前記熱拡散部材の半導体素子搭載面だけ
が樹脂によって封止されていることを特徴とする半導体
集積回路装置。3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1 or 2, wherein only the semiconductor element mounting surface of the heat diffusion member is sealed with resin.
回路装置であって、前記熱拡散部材が放熱フィンを有し
ていることを特徴とする半導体集積回路装置。4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the heat diffusion member has a radiation fin.
集積回路装置の製造方法であって、樹脂封止を行う際
に、前記熱拡散部材と前記金型と前記リードフレームと
前記絶縁部材とによって形成された密閉領域に樹脂を流
し込み、硬化することによって前記半導体素子およびそ
の周辺部を封止することを特徴とする半導体集積回路装
置の製造方法。5. The method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the heat diffusion member, the mold, the lead frame, and the insulation are formed when resin sealing is performed. A method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device, comprising: pouring a resin into a sealed region formed by a member and curing the resin to seal the semiconductor element and its peripheral portion.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7039857A JPH08236557A (en) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | Semiconductor integrated circuit device and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7039857A JPH08236557A (en) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | Semiconductor integrated circuit device and manufacturing method thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08236557A true JPH08236557A (en) | 1996-09-13 |
Family
ID=12564651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7039857A Pending JPH08236557A (en) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | Semiconductor integrated circuit device and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08236557A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110137142A (en) * | 2018-02-08 | 2019-08-16 | 浙江清华柔性电子技术研究院 | Thermally conductive packaging structure, manufacturing method and wearable device having the same |
-
1995
- 1995-02-28 JP JP7039857A patent/JPH08236557A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110137142A (en) * | 2018-02-08 | 2019-08-16 | 浙江清华柔性电子技术研究院 | Thermally conductive packaging structure, manufacturing method and wearable device having the same |
| CN110137087A (en) * | 2018-02-08 | 2019-08-16 | 浙江清华柔性电子技术研究院 | The production method and wearable device of thermally conductive encapsulating structure |
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