JPH08236597A - 移載装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】自重で撓むような板体を確実の吸着して処理ス
テージ間で搬送できるようにした移載アームを備えた移
載装置を提供する。 【構成】本体に対して少なくとも水平方向に伸縮する移
載アーム２を備えた移載装置において、前記移載アーム
２の板体載置領域にデルタ配置した３個の吸着器３を備
えた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は移載装置に係り、特に液
晶表示素子や半導体素子の製造における液晶パネル用の
ガラス基板あるいは半導体ウエハに各種の処理を施す際
の当該ガラス基板あるいはウエハを処理装置間で搬送
し、処理ステージに載置または取り出すための移載装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子や半導体素子の製造におけ
る液晶パネル用のガラス基板あるいは半導体ウエハに各
種の処理を施す際に、素材搬入ステージと当該ガラス基
板あるいはウエハを処理装置、および処理後の搬出ステ
ージ間で搬送するために、一般にロボットと称する移載
装置が使用されている。

【０００３】図７はこの種の移載装置を使用する製造工
程の一例としての液晶パネル処理装置におけるレジスト
塗布工程の移載装置の配置と動作を説明する概念図であ
って、１はカセットに収納したガラス基板、２は移載装
置を構成する移載アーム、４は移載装置、４ａ，４ｂは
移載装置を移動させるためのガイドレール、５はガラス
基板を供給するためのカセット、６はレジスト塗布装
置、６ａは塗布ステージ、７は乾燥装置、７ａは乾燥ス
テージである。

【０００４】同図において、移載装置４はガイドレール
４ａ，４ｂで矢印Ｄ方向に移動可能とされると共に水平
方向Ａに伸縮する移載アーム２を有し、かつこの移載ア
ーム２を水平面内で矢印Ｂ方向への旋回と垂直方向Ｃへ
の昇降させる機能を有している。

【０００５】移載アーム２の載置位置には、複数の真空
吸着器が取付けられており、この真空吸着器でガラス基
板を吸着して搬送するように構成されている。

【０００６】まず、多数のガラス基板１は図示しない素
材搬入装置でカセット５に収納された状態で搬入され
る。

【０００７】移載装置４は所定のカセットに対向した位
置においてその積載アーム２を伸ばしてカセット５から
ガラス基板１を一枚ずつ上記積載アーム２に載置して取
り出す。

【０００８】ガラス基板１は積載アーム２に載置された
まま矢印Ｂに沿ってレジスト塗布装置６方向に旋回し、
同時に移載装置４がガイドレール４ａ，４ｂで矢印Ｄに
沿ってレジスト塗布装置６方向に移動する。

【０００９】所定の移動後、移載アーム２はレジスト塗
布装置６の塗布ステージ６ａの位置と同一高さに昇降
し、塗布ステージ６ａにガラス基板１を載置する。

【００１０】レジストを塗布したガラス基板１は上記と
同様の移載装置の動作により塗布ステージ６ａから取り
出され、乾燥装置７の乾燥ステージ７ａに搬入されてレ
ジストの乾燥が行われる。

【００１１】乾燥後のガラス基板１はカセット５に戻さ
れるか、あるいは図示しない搬出ステージに移載され
る。

【００１２】図８は図７におけるカセットの説明図であ
って、（ａ）は側面図、（ｂ）は正面図である。

【００１３】このカセット５は内部にもつ棚５ａ，５ｂ
に両端を支持した状態で多数のガラス基板１を間隙をも
って収納しており、この間隙に移載アーム２を挿入し、
上昇させて１枚ずつ取り出し、あるいは再収納するよう
になっている。

【００１４】図９はガラス基板の処理ステージへのガラ
ス基板の移載動作の一例を説明する模式図であって、８
は処理ステージ、８ａは移載アームを挿入する溝であ
る。

【００１５】同図において、ガラス基板１は移載アーム
２に載置されて処理ステージ８の溝８ａに進退して昇降
することでガラス基板１を処理ステージ８に載置しある
いはそこから取り出す。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】移載装置で取り扱う薄
板は、特に、液晶パネル用のガラス基板は、その厚さが
例えば１．１ｍｍと薄く、サイズも大型になり、また最
近では０．７ｍｍのように極めて薄いものを用いるよう
になっているため、移載アーム２に載置したときに自重
で撓みが発生する。

【００１７】図１０は移載アームにガラス基板を載置し
た状態の説明図であって、１はガラス基板、２は移載ア
ーム、３は吸着器である。

【００１８】また、図１１は従来の移載アームに設けら
れている吸着器の各種の例の説明図であって、（ａ）は
移載アーム２の長手方向に２つのスリット状吸着器３を
取付けたもの、（ｂ）は円形の吸着器３を５個取付けた
もの、（ｃ）はガラス基板を浮かして保持するために移
載アーム２の表面から突出させた吸着器３を設けたもの
である。

【００１９】上記図８、図９に示したように、移載アー
ム２の幅は上記した処理ステージ８の溝８ａの幅で制限
されると共に、自身の重さで撓むために十分な幅を持た
せることができない。

【００２０】また、ガラス基板１はそれ自体で０．７ｍ
ｍ程度の反りを有し、また薄くなると自重で撓むため
に、吸着器３との間に間隙が生じて吸着保持ができなく
なってしまい、上記図１１に示した何れの吸着器でも十
分な保持ができず、移載途中で位置ずれや脱落が発生す
るという問題があった。

【００２１】さらに、吸着力が低下するとガラス基板自
体の上記撓みが大きくなり、カセットに収納する際に下
に隣接するガラス基板との間で干渉が起こる場合があ
る。

【００２２】また、吸着器に真空を供給する系統も一系
統であるために、１つの吸着器に真空漏れが発生すると
全体の吸着力がなくなってしまい、確実な搬送、移載が
できなくなるという問題があった。

【００２３】本発明の目的は、自重で撓むような板体を
確実に吸着して処理ステージ間で搬送できるようにした
移載アームを備えた移載装置を提供することにある。

【００２４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、搬送する板体が完全に平坦でない、ある
いは自重による撓みをもつことを前提とした吸着器を備
えることによって達成される。

【００２５】すなわち、請求項１に記載の第１の発明
は、本体に対して少なくとも水平方向に伸縮する移載ア
ームを備えた移載装置において、前記移載アームの板体
載置領域にデルタ配置した３個の吸着器を備えたことを
特徴とする。

【００２６】また、請求項２に記載の第２の発明は、前
記吸着器の板体接触面に押圧変形する可撓パッドを備え
たことを特徴とする。なお、この吸着器の個数は３個に
限らない。

【００２７】さらに、請求項３に記載の第３の発明は、
前記吸着器が、その吸着開口に接して載置した板体の吸
着面の湾曲に倣って揺動する揺動機構を備えたことを特
徴とする。この吸着器の個数も３個に限らない。

【００２８】

【作用】上記第１の発明の構成において、デルタ状に配
置した３個の吸着器は、載置した板体の撓み量に係わら
ず全てが当該板体の面を受けて吸着するため、移載途上
での位置ずれや脱落が防止されると共に、吸着力によっ
て板体はその撓みが戻る方向に変形するので、カセット
収納時、あるいは処理ステージとの衝突が回避される。

【００２９】また、上記第２の発明の構成において、吸
着器に設けた可撓パッドは載置した板体の撓みに沿って
変形するため、撓みによる真空力の漏れがなく吸着する
ので、移載途上での位置ずれや脱落が防止されると共
に、吸着力によって板体はその撓みが戻る方向に変形す
るので、カセット収納時、あるいは処理ステージとの衝
突が回避される。

【００３０】そして、上記第３の発明の構成において、
吸着器に設けた揺動機構は板体の吸着面の湾曲に倣って
揺動して当該板体の吸着面に正対するため、撓みによる
真空力の漏れがなく吸着するので、移載途上での位置ず
れや脱落が防止されると共に、吸着力によって板体はそ
の撓みが戻る方向に変形するので、カセット収納時、あ
るいは処理ステージとの衝突が回避される。

【００３１】上記各発明は、液晶パネル用のガラス基
板、あるいは半導体ウエハの移載に適用して特に好適で
ある。

【００３２】

【実施例】以下、本発明の実施例につき、図面を参照し
て詳細に説明する。

【００３３】図１は本発明の移載装置の第１実施例を構
成する移載アームと載置したガラス基板の吸着を説明す
る模式図、図２は図１のＸ−Ｘ線に沿った断面図であっ
て、１はガラス基板、２は移載アーム、２ａは真空路、
３は吸着器である。

【００３４】同各図において、移載アーム２の先端は凸
字状に形成されており、その突出領域に１個の吸着器３
−１を、また凸字の基部に２個の吸着器３−２，３−３
が設置され、これら３個の吸着器３（３−１、３−２、
３−３）をデルタ状に配置される。

【００３５】吸着器は、その個数が増加するにつれ真空
力漏れが発生する可能性が増大する。上記したように、
３個の吸着器３をデルタ状に配置した構成により、上記
真空力漏れの危険性が最小限となり、更に、ガラス基板
１を安定して移載することができる。

【００３６】吸着器３は図２に示したように移載アーム
２の表面から若干浮かせて設けられ、移載アーム２に形
成した真空路２ａに連接されて真空が供給される。

【００３７】この構成により、載置したガラス基板１は
３個の吸着器３−１、３−２、３−３の全てで吸着され
る。

【００３８】したがって、ガラス基板１は確実に保持さ
れ、移載途中で位置ずれや脱落が防止される。

【００３９】なお、この実施例では、吸着器３の上面
（ガラス基板１との接触面）を移載アーム２の表面から
浮かせた状態で設けているが、これに替えて両者が同一
表面となるようにしてもよいが、ガラス基板１が凹形に
反っている場合もあるため、吸着器３の上面はアームか
ら浮かせて設置した方が吸着効果がより大きくなる。

【００４０】図３は本発明の移載装置の第２実施例を構
成する移載アームと載置したガラス基板の吸着を説明す
る前記図２と同様の断面模式図であって、３ａは吸着ベ
ース、３ｂは可撓パッド、図２と同一符号は同一部分に
対応する。

【００４１】同図において、吸着器３は吸着ベース３ａ
を覆って可撓パッド３ｂが設けてあり、この可撓パッド
３ｂはガラス基板１の載置の押圧で変形し、また真空吸
着力で変形して当該ガラス基板１の吸着面に倣って吸着
する。

【００４２】図４は図３で説明した吸着器を移載アーム
に設置した状態の説明図であって、この実施例では４個
の吸着器を設置している。

【００４３】本実施例によれば、ガラス基板１は更に確
実に保持され、移載途中で位置ずれや脱落が防止され
る。

【００４４】なお、図３、図４では吸着器３の上面（ガ
ラス基板１との接触面）を移載アーム２の表面から浮か
せた状態で設けているが、これに替えて両者が同一表面
となるようにしてもよい。しかし、前記実施例での説明
と同様に、ガラス基板１が凹形に反っている場合もある
ため、吸着器３の上面はアームから浮かせて設置した方
が吸着効果がより大きくなる。

【００４５】図５は本発明の移載装置の第３実施例を構
成する移載アームと載置したガラス基板の吸着を説明す
る模式図であって、３ｃは可撓膜、３ｄはコイルスプリ
ング、３ｅは吸着開口、前記実施例と同一符号は同一部
分に対応する。

【００４６】同図において、吸着器３は移載アーム２に
形成した凹部３ｆにスプリング３ｄと可撓膜３ｃとを介
して吸着ベース３ａを設置している。

【００４７】吸着ベース３ａはスプリング３ｄで移載ア
ームから上方に離れる方向に偏寄され、可撓膜３ｃで真
空が漏れないようにして全体が自由に動くような揺動機
構を構成している。また、吸着ベース３ａの吸着面には
漏斗状に形成された吸着開口３ｅが設けてある。

【００４８】この漏斗状に形成された吸着開口３ｅによ
り吸着開口部の面積が大きくなり、ガラス基板１の吸着
力が向上する。

【００４９】本実施例のように吸着器３をガラス基板の
撓みに倣うように揺動可能としたことで、ガラス基板１
は更に確実に保持され、移載途中で位置ずれや脱落が防
止される。なお、前記したように吸着器３は３個に限ら
ないが、３個をデルタ状に配置した方がガラス基板１の
確実な保持と移載効果が大きい。

【００５０】図６は本発明の移載装置の第４実施例を構
成する移載アームと載置したガラス基板の吸着を説明す
る模式図であって、前記図１と同様に移載アーム２の先
端は凸字状に形成されており、その突出領域に１個の吸
着器３を、また凸字の基部にスリット状の吸着開口を有
する２個の吸着器３’が設置され、これら３個の吸着器
３（３、３’）をデルタ状に配置している。

【００５１】本実施例に用いる吸着器は上記した各実施
例で説明した各形式のものを適宜採用して組合せわせる
ことができる。

【００５２】本実施例によっても、ガラス基板１は確実
に保持され、移載途中で位置ずれや脱落が防止される。

【００５３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
薄いガラス基板や半導体ウエハのように自重で撓むよう
な板体を確実の吸着して処理ステージ間で搬送できるよ
うにした移載アームを備えた移載装置において、その移
載アームに上記板体を確実に保持して位置ずれや脱落を
防止してカセットと処理ステージの間、あるいは処理ス
テージ間で搬送し移載することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の移載装置の第１実施例を構成する移載
アームと載置したガラス基板の吸着を説明する模式図で
ある。

【図２】図１のＸ−Ｘ線に沿った断面図である。

【図３】本発明の移載装置の第２実施例を構成する移載
アームと載置したガラス基板の吸着を説明する前記図２
と同様の断面模式図である。

【図４】図３で説明した吸着器を移載アームに設置した
状態の説明図である。

【図５】本発明の移載装置の第３実施例を構成する移載
アームと載置したガラス基板の吸着を説明する模式図で
ある。

【図６】本発明の移載装置の第４実施例を構成する移載
アームと載置したガラス基板の吸着を説明する模式図で
ある。

【図７】移載装置を使用する製造工程の一例としての液
晶パネル処理装置におけるレジスト塗布工程の移載装置
の配置と動作を説明する概念図である。

【図８】図７ディスペンス説明した移載装置におけるカ
セットの説明図である。

【図９】ガラス基板の処理ステージへのガラス基板の移
載動作の一例を説明する模式図である。

【図１０】移載アームにガラス基板を載置した状態の説
明図である。

【図１１】従来の移載アームに設けられている吸着器の
各種の例の説明図である。

【符号の説明】

１ ガラス基板 ２ 移載アーム ２ａ 真空路 ３ 吸着器 ３ａ 吸着ベース ３ｂ 可撓パッド ４ 移載装置 ５ カセット ６ レジスト塗布装置 ６ａ 塗布ステージ ７ 乾燥装置 ７ａ 乾燥ステージ。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】本体に対して少なくとも水平方向に伸縮す
   る移載アームを備えた移載装置において、前記移載アー
   ムの板体載置領域にデルタ配置した３個の吸着器を備え
   たことを特徴とする移載装置。
2. 【請求項２】本体に対して少なくとも水平方向に伸縮す
   る移載アームを備えた移載装置において、前記移載アー
   ムの板体載置領域に複数個の吸着器を備え、前記吸着器
   の板体接触面に押圧により変形する可撓パッドを設けた
   ことを特徴とする移載装置。
3. 【請求項３】本体に対して少なくとも水平方向に伸縮す
   る移載アームを備えた移載装置において、前記移載アー
   ムの板体載置領域に複数個の吸着器を備え、前記吸着器
   が、その吸着開口に接して載置した板体の吸着面の湾曲
   に倣って揺動する揺動機構を備えたことを特徴とする移
   載装置。