JPH08238541A - 冷却基板への溶融金属および合金の供給量を一定化する方法 - Google Patents
冷却基板への溶融金属および合金の供給量を一定化する方法Info
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- JPH08238541A JPH08238541A JP4266495A JP4266495A JPH08238541A JP H08238541 A JPH08238541 A JP H08238541A JP 4266495 A JP4266495 A JP 4266495A JP 4266495 A JP4266495 A JP 4266495A JP H08238541 A JPH08238541 A JP H08238541A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の目的は、液体急冷法において、タン
ディッシュなどの溶融金属を受給し、かつ、冷却基板に
溶融金属を誘導する容器の湯面高さの変動を抑制し、冷
却基板に供給する溶融金属の量を一定化するための方法
を提供することにある。 【構成】 溶融金属を受給し、かつ、溶融金属を冷却基
板に誘導するための容器に、溶融金属に浸漬するよう
に、昇降可能なダミーボリュームを挿入し、この容器が
受給する溶融金属の量の変動に応じて、ダミーボリュー
ムを上下させて、容器内の溶融金属の湯面高さを一定と
しながら、容器から冷却基板へ溶融金属を供給すること
を特徴とする冷却基板への溶融金属の供給量を一定化す
る方法。 【効果】 本発明により、液体急冷法において、板厚精
度の高い高品質な薄帯の製造が可能となった。また、板
厚不良により屑化する量が少なくなったことから、生産
歩留が向上した。
ディッシュなどの溶融金属を受給し、かつ、冷却基板に
溶融金属を誘導する容器の湯面高さの変動を抑制し、冷
却基板に供給する溶融金属の量を一定化するための方法
を提供することにある。 【構成】 溶融金属を受給し、かつ、溶融金属を冷却基
板に誘導するための容器に、溶融金属に浸漬するよう
に、昇降可能なダミーボリュームを挿入し、この容器が
受給する溶融金属の量の変動に応じて、ダミーボリュー
ムを上下させて、容器内の溶融金属の湯面高さを一定と
しながら、容器から冷却基板へ溶融金属を供給すること
を特徴とする冷却基板への溶融金属の供給量を一定化す
る方法。 【効果】 本発明により、液体急冷法において、板厚精
度の高い高品質な薄帯の製造が可能となった。また、板
厚不良により屑化する量が少なくなったことから、生産
歩留が向上した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、溶融金属および合金
（以下、単に溶融金属と称す）を移動する冷却基板上で
急冷凝固して、線および薄い帯状の金属および合金（以
下、単に薄帯と称す）を得る液体急冷法において、冷却
基板へ溶融金属を供給する方法に関する。
（以下、単に溶融金属と称す）を移動する冷却基板上で
急冷凝固して、線および薄い帯状の金属および合金（以
下、単に薄帯と称す）を得る液体急冷法において、冷却
基板へ溶融金属を供給する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】薄帯を製造するための液体急冷法とし
て、例えば、１つの高速回転している冷却ロール上に溶
融金属を供給して薄帯を得る、いわゆる単ロール法や、
一対の高速回転している冷却ロール間に溶融金属を供給
して薄帯を得る双ロール法などがある。
て、例えば、１つの高速回転している冷却ロール上に溶
融金属を供給して薄帯を得る、いわゆる単ロール法や、
一対の高速回転している冷却ロール間に溶融金属を供給
して薄帯を得る双ロール法などがある。
【０００３】液体急冷法により薄帯を形成する方法にお
いて、例えば図２に示す単ロール急冷凝固薄帯製造装置
を用いる場合を例にして説明する。図２において、溶融
金属３は、タンディッシュ２に供給されている。このタ
ンディッシュ２の底壁には羽口レンガ８が設けられてお
り、この羽口レンガ８に中間ノズル９およびノズルホル
ダー１０が連結されている。これらの羽口レンガ８、中
間ノズル９およびノズルホルダー１０の内部に孔が設け
られており、この孔が接続されて溶湯流路１１、ノズル
ホルダー１０内の拡大内部空間１４となる。
いて、例えば図２に示す単ロール急冷凝固薄帯製造装置
を用いる場合を例にして説明する。図２において、溶融
金属３は、タンディッシュ２に供給されている。このタ
ンディッシュ２の底壁には羽口レンガ８が設けられてお
り、この羽口レンガ８に中間ノズル９およびノズルホル
ダー１０が連結されている。これらの羽口レンガ８、中
間ノズル９およびノズルホルダー１０の内部に孔が設け
られており、この孔が接続されて溶湯流路１１、ノズル
ホルダー１０内の拡大内部空間１４となる。
【０００４】また、ノズルホルダー１０の先端にはノズ
ルチップ１２が取り付けられており、このノズルチップ
１２の内部に設けたノズルスリット１３が溶湯流路１１
に連通している。なお、ノズルホルダー１０内の拡大内
部空間１４、ノズルチップ１２さらにノズルスリット１
３については図３に示すが、拡大内部空間１４とは、広
幅の薄帯を得るために、ノズルホルダー１０内で溶湯流
路１１を広げた部分を指し、ノズルスリット１３とは、
ノズルチップ１２中に設けた溶湯噴出用の開口を指す。
ルチップ１２が取り付けられており、このノズルチップ
１２の内部に設けたノズルスリット１３が溶湯流路１１
に連通している。なお、ノズルホルダー１０内の拡大内
部空間１４、ノズルチップ１２さらにノズルスリット１
３については図３に示すが、拡大内部空間１４とは、広
幅の薄帯を得るために、ノズルホルダー１０内で溶湯流
路１１を広げた部分を指し、ノズルスリット１３とは、
ノズルチップ１２中に設けた溶湯噴出用の開口を指す。
【０００５】タンディッシュストッパー４を上昇させる
ことによって、タンディッシュ２内の溶融金属３は、溶
湯流路１１を経由してノズルスリット１３から冷却ロー
ル６に向けて流出する。このとき、タンディッシュ２内
の溶湯静圧に応じて、ノズルスリット１３から冷却ロー
ルに向けて流出する溶融金属３の流量が制御される。ノ
ズルスリット１３から流出した溶融金属３は、冷却ロー
ル６の表面で急速に冷却されて薄帯７となる。なお、図
２において、装置全体に関する理解を容易にするため、
冷却ロール６はタンディッシュ２の縮尺率よりも大きな
縮尺率で描かれている。
ことによって、タンディッシュ２内の溶融金属３は、溶
湯流路１１を経由してノズルスリット１３から冷却ロー
ル６に向けて流出する。このとき、タンディッシュ２内
の溶湯静圧に応じて、ノズルスリット１３から冷却ロー
ルに向けて流出する溶融金属３の流量が制御される。ノ
ズルスリット１３から流出した溶融金属３は、冷却ロー
ル６の表面で急速に冷却されて薄帯７となる。なお、図
２において、装置全体に関する理解を容易にするため、
冷却ロール６はタンディッシュ２の縮尺率よりも大きな
縮尺率で描かれている。
【０００６】いずれの方法であっても、液体急冷法によ
り得られる薄帯の板厚は、例えば、１mm未満と小さく、
冷却速度としては１０2 Ｋ／秒以上である。単ロール法
においては、原理的に良好な薄帯を得るために、その板
厚にはこのような制限がある。一方、双ロール法では、
１mm以上の板厚の薄帯の製造も、製造因子を制御するこ
とにより不可能ではないが、本発明で対象としている液
体急冷法は、単に、薄い材料を製造するだけではなく、
急冷凝固により各種特性の改善を目的とする場合、すな
わち、冷却速度が１０2 Ｋ／秒以上の場合、板厚を用い
て示すと、板厚が１mm未満の薄帯を製造する場合に限定
する。
り得られる薄帯の板厚は、例えば、１mm未満と小さく、
冷却速度としては１０2 Ｋ／秒以上である。単ロール法
においては、原理的に良好な薄帯を得るために、その板
厚にはこのような制限がある。一方、双ロール法では、
１mm以上の板厚の薄帯の製造も、製造因子を制御するこ
とにより不可能ではないが、本発明で対象としている液
体急冷法は、単に、薄い材料を製造するだけではなく、
急冷凝固により各種特性の改善を目的とする場合、すな
わち、冷却速度が１０2 Ｋ／秒以上の場合、板厚を用い
て示すと、板厚が１mm未満の薄帯を製造する場合に限定
する。
【０００７】このような制限から、例えば、従来の凝固
技術である普通造塊法や連続鋳造法に比較して、本発明
で対象としている液体急冷法の場合、冷却基板への溶融
金属の供給量に大きな違いがある。すなわち、例えば、
一般に採用されている鋼などの連続鋳造法の場合、鋳型
に供給できる溶融金属の量は、例えば、鋼の場合、数ト
ン／分のオーダーであり、さらに、普通造塊法ではそれ
以上の供給も可能である。
技術である普通造塊法や連続鋳造法に比較して、本発明
で対象としている液体急冷法の場合、冷却基板への溶融
金属の供給量に大きな違いがある。すなわち、例えば、
一般に採用されている鋼などの連続鋳造法の場合、鋳型
に供給できる溶融金属の量は、例えば、鋼の場合、数ト
ン／分のオーダーであり、さらに、普通造塊法ではそれ
以上の供給も可能である。
【０００８】これに対して、本発明で対象にしている液
体急冷法においては、１０kg／分のオーダーと、かなり
供給量を少なくしなければならない。例えば、単ロール
法で通常製造される薄帯の板厚は０．１mmである。この
場合の冷却ロールの周速は、およそ５ｍ／秒で、薄帯の
板幅はせいぜい２００mmであるから、例えば、鉄を主成
分とすると、その溶融金属の供給量はおよそ５０kg／分
に制御しなければならない。
体急冷法においては、１０kg／分のオーダーと、かなり
供給量を少なくしなければならない。例えば、単ロール
法で通常製造される薄帯の板厚は０．１mmである。この
場合の冷却ロールの周速は、およそ５ｍ／秒で、薄帯の
板幅はせいぜい２００mmであるから、例えば、鉄を主成
分とすると、その溶融金属の供給量はおよそ５０kg／分
に制御しなければならない。
【０００９】一方、液体急冷法の場合に留まらず、いか
なる製造プロセスにおいても、製造される製品には、そ
の板厚が均一であることが要求されるが、特に、液体急
冷法の場合は、既に薄い製品であることや、機械的性質
上の問題から圧延などの二次加工が困難で、鋳造後に板
厚を均一にすることは困難である。よって、液体急冷法
での製造においては、均一な板厚の薄帯とすることが強
く求められていた。
なる製造プロセスにおいても、製造される製品には、そ
の板厚が均一であることが要求されるが、特に、液体急
冷法の場合は、既に薄い製品であることや、機械的性質
上の問題から圧延などの二次加工が困難で、鋳造後に板
厚を均一にすることは困難である。よって、液体急冷法
での製造においては、均一な板厚の薄帯とすることが強
く求められていた。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】薄帯の板厚を均一にす
るためには、ノズルから冷却基板に噴出する溶融金属の
量を一定にする必要がある。前述のように、液体急冷法
においては、冷却基板に供給する溶融金属の量は、１０
kg／分のオーダーと少量であることから、液体急冷法で
は、供給量の僅かな変動でも製品の板厚に及ぼす影響は
大きかった。液体急冷法では、溶融金属を、例えば前述
のように、タンディッシュを介して冷却基板上に供給す
るが、鋳造中この溶融金属の供給量は、主にタンディッ
シュ内の溶融金属の湯面高さ（以下、単に湯面高さと称
す）によって制御する。
るためには、ノズルから冷却基板に噴出する溶融金属の
量を一定にする必要がある。前述のように、液体急冷法
においては、冷却基板に供給する溶融金属の量は、１０
kg／分のオーダーと少量であることから、液体急冷法で
は、供給量の僅かな変動でも製品の板厚に及ぼす影響は
大きかった。液体急冷法では、溶融金属を、例えば前述
のように、タンディッシュを介して冷却基板上に供給す
るが、鋳造中この溶融金属の供給量は、主にタンディッ
シュ内の溶融金属の湯面高さ（以下、単に湯面高さと称
す）によって制御する。
【００１１】よって、この湯面高さの変動は、冷却基板
への溶融金属の供給量の変動を生み、薄帯の板厚の変動
につながる。湯面高さの原因は、タンディッシュへの供
給量の変動などによるが、タンディッシュへの供給量の
変動を抑制するのは非常に難しく、湯面高さの変動は避
けられず、より均一な板厚からなる薄帯の製造は困難で
あった。
への溶融金属の供給量の変動を生み、薄帯の板厚の変動
につながる。湯面高さの原因は、タンディッシュへの供
給量の変動などによるが、タンディッシュへの供給量の
変動を抑制するのは非常に難しく、湯面高さの変動は避
けられず、より均一な板厚からなる薄帯の製造は困難で
あった。
【００１２】本発明の目的は、液体急冷法において、タ
ンディッシュなどの溶融金属を受給し、かつ、冷却基板
に溶融金属を誘導する容器の湯面高さの変動を抑制し、
冷却基板に供給する溶融金属の量を一定化する方法を提
供することにある。
ンディッシュなどの溶融金属を受給し、かつ、冷却基板
に溶融金属を誘導する容器の湯面高さの変動を抑制し、
冷却基板に供給する溶融金属の量を一定化する方法を提
供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、以下の構成を
要旨とする。溶融金属および合金を、高速で移動する冷
却基板上で急冷凝固する液体急冷法で線および薄い帯状
の金属および合金を製造する際の、冷却基板への溶融金
属および合金を供給する方法において、溶融金属および
合金を受給し、かつ、溶融金属および合金を前記冷却基
板に誘導するための容器に、溶融金属および合金に浸漬
するように、昇降可能なダミーボリュームを挿入し、前
記容器が受給する溶融金属および合金の量の変動に応じ
て、前記ダミーボリュームを上下させて、前記容器内の
溶融金属および合金の湯面高さを一定としながら、前記
容器から前記冷却基板へ溶融金属および合金を供給する
ことを特徴とする、冷却基板への溶融金属および合金の
供給量を一定化する方法である。
要旨とする。溶融金属および合金を、高速で移動する冷
却基板上で急冷凝固する液体急冷法で線および薄い帯状
の金属および合金を製造する際の、冷却基板への溶融金
属および合金を供給する方法において、溶融金属および
合金を受給し、かつ、溶融金属および合金を前記冷却基
板に誘導するための容器に、溶融金属および合金に浸漬
するように、昇降可能なダミーボリュームを挿入し、前
記容器が受給する溶融金属および合金の量の変動に応じ
て、前記ダミーボリュームを上下させて、前記容器内の
溶融金属および合金の湯面高さを一定としながら、前記
容器から前記冷却基板へ溶融金属および合金を供給する
ことを特徴とする、冷却基板への溶融金属および合金の
供給量を一定化する方法である。
【００１４】
【作用】以下に、本発明の方法について、図１に示す模
式図を用いて説明する。図１に示すように、本発明の方
法は、タンディッシュストッパー４を解放し、タンディ
ッシュ２中の溶融金属３を、羽口レンガ８、中間ノズル
９およびノズルホルダー１０の孔が接続されて形成され
た溶湯流路１１を介して、高速回転している冷却ロール
６に噴出し、薄帯７を製造する方法において、ダミーボ
リューム１をタンディッシュ２中の溶融金属３に浸漬さ
せ、鋳造中のタンディッシュ２内の湯面高さ（図１中の
ｈで示す高さ）の変動に応じて、このダミーボリューム
１を上下させることにより湯面高さを一定にして、溶融
金属３を冷却ロール６に供給する方法である。
式図を用いて説明する。図１に示すように、本発明の方
法は、タンディッシュストッパー４を解放し、タンディ
ッシュ２中の溶融金属３を、羽口レンガ８、中間ノズル
９およびノズルホルダー１０の孔が接続されて形成され
た溶湯流路１１を介して、高速回転している冷却ロール
６に噴出し、薄帯７を製造する方法において、ダミーボ
リューム１をタンディッシュ２中の溶融金属３に浸漬さ
せ、鋳造中のタンディッシュ２内の湯面高さ（図１中の
ｈで示す高さ）の変動に応じて、このダミーボリューム
１を上下させることにより湯面高さを一定にして、溶融
金属３を冷却ロール６に供給する方法である。
【００１５】この方法により、冷却ロール６に供給する
溶融金属３の量を一定にすることが可能となり、よっ
て、均一な板厚からなる薄帯が得られるようになる。な
お、タンディッシュ２への溶融金属３の供給は、溶融金
属３を保持した取鍋などの容器から、例えば、特開昭５
９−０４２１６１号公報記載のサイホン方式により、予
め１０kg／分のオーダーに少量流量制御された状態で、
例えば、図１に示すように、ロングノズル５を介してな
される。鋳造中の湯面高さの変動は、主にタンディッシ
ュ２に供給される溶融金属３の量の変動によって発生す
る。
溶融金属３の量を一定にすることが可能となり、よっ
て、均一な板厚からなる薄帯が得られるようになる。な
お、タンディッシュ２への溶融金属３の供給は、溶融金
属３を保持した取鍋などの容器から、例えば、特開昭５
９−０４２１６１号公報記載のサイホン方式により、予
め１０kg／分のオーダーに少量流量制御された状態で、
例えば、図１に示すように、ロングノズル５を介してな
される。鋳造中の湯面高さの変動は、主にタンディッシ
ュ２に供給される溶融金属３の量の変動によって発生す
る。
【００１６】ダミーボリューム１の上下動の仕方を具体
的に述べると、タンディッシュ２への溶融金属３の供給
量の変動などにより、例えば、湯面高さが所定の値より
低くなったら、ダミーボリューム１を下げて湯面高さを
上げ、湯面高さが所定の値になるようにする。また、湯
面高さが所定の値より高くなったら、ダミーボリューム
１を上げて湯面高さを下げ、湯面高さが所定の値になる
ようにする。
的に述べると、タンディッシュ２への溶融金属３の供給
量の変動などにより、例えば、湯面高さが所定の値より
低くなったら、ダミーボリューム１を下げて湯面高さを
上げ、湯面高さが所定の値になるようにする。また、湯
面高さが所定の値より高くなったら、ダミーボリューム
１を上げて湯面高さを下げ、湯面高さが所定の値になる
ようにする。
【００１７】なお、湯面高さの変動に応じてのダミーボ
リューム１の上下動は、例えば、各種センサーにより湯
面高さを正確に検出し、この測定信号を演算制御器へ伝
え、この演算制御器で測定信号を基にダミーボリューム
１の上下すべき量を演算し、その演算結果をダミーボリ
ューム１の制御系にフィードバックすることにより行
う。好ましい湯面高さの値や湯面高さの検出方法などに
ついては、実施例にて具体的に述べる。
リューム１の上下動は、例えば、各種センサーにより湯
面高さを正確に検出し、この測定信号を演算制御器へ伝
え、この演算制御器で測定信号を基にダミーボリューム
１の上下すべき量を演算し、その演算結果をダミーボリ
ューム１の制御系にフィードバックすることにより行
う。好ましい湯面高さの値や湯面高さの検出方法などに
ついては、実施例にて具体的に述べる。
【００１８】なお、本発明の方法においては、タンディ
ッシュと冷却ロールの位置関係について特に限定しな
い。つまり、冷却ロールに対してタンディッシュを横に
置く場合を用いて説明したが、タンディッシュの位置は
冷却ロールの直上や斜めの位置になっても構わない。但
し、タンディッシュの位置が変わっても、ノズルスリッ
トが冷却ロールの面に対向するように、タンディッシュ
の位置に応じてタンディッシュの羽口、中間ノズル、ノ
ズルホルダーなどの位置を変える必要がある。
ッシュと冷却ロールの位置関係について特に限定しな
い。つまり、冷却ロールに対してタンディッシュを横に
置く場合を用いて説明したが、タンディッシュの位置は
冷却ロールの直上や斜めの位置になっても構わない。但
し、タンディッシュの位置が変わっても、ノズルスリッ
トが冷却ロールの面に対向するように、タンディッシュ
の位置に応じてタンディッシュの羽口、中間ノズル、ノ
ズルホルダーなどの位置を変える必要がある。
【００１９】また、本発明の方法で用いるダミーボリュ
ームの好ましい寸法や材質については、実施例にて述べ
るが、用いる際には、ダミーボリュームの損傷や、溶融
金属の温度低下を極力防止するため、溶融金属を供給す
る前に、バーナーを用いる方法や通電加熱などにより充
分予熱する必要がある。
ームの好ましい寸法や材質については、実施例にて述べ
るが、用いる際には、ダミーボリュームの損傷や、溶融
金属の温度低下を極力防止するため、溶融金属を供給す
る前に、バーナーを用いる方法や通電加熱などにより充
分予熱する必要がある。
【００２０】本発明の方法に適用し得る金属は、非晶質
になりやすい合金や圧延などの加工が困難な金属および
合金の場合に特に利点が大きが、これらに限定されるも
のではなく、各種の溶融金属からの薄帯の製造に適用可
能である。
になりやすい合金や圧延などの加工が困難な金属および
合金の場合に特に利点が大きが、これらに限定されるも
のではなく、各種の溶融金属からの薄帯の製造に適用可
能である。
【００２１】また、本発明の方法において採用される基
本的な製造装置は、既に述べたように溶融金属をノズル
を介して冷却基板の上に噴出し、熱的接触によって急冷
凝固させる、液体急冷装置の内、いわゆる単ロール装置
および双ロール装置である。単ロール装置には、ドラム
の内壁を使う遠心急冷装置やエンドレスタイプのベルト
を使う装置や、これらの改良型、例えば補助ロールや、
ロール表面温度制御装置を付属させたもの、あるいは減
圧下ないし真空中または不活性ガス中での鋳造も含まれ
る。
本的な製造装置は、既に述べたように溶融金属をノズル
を介して冷却基板の上に噴出し、熱的接触によって急冷
凝固させる、液体急冷装置の内、いわゆる単ロール装置
および双ロール装置である。単ロール装置には、ドラム
の内壁を使う遠心急冷装置やエンドレスタイプのベルト
を使う装置や、これらの改良型、例えば補助ロールや、
ロール表面温度制御装置を付属させたもの、あるいは減
圧下ないし真空中または不活性ガス中での鋳造も含まれ
る。
【００２２】次に、本発明の方法において採用される鋳
造条件および具体的な鋳造の作業について説明する。溶
融金属の噴出圧力は０．０１〜３kg／cm2 で、主にタン
ディッシュ内の湯面高さを用いて制御する。冷却ロール
の回転速度（表面速度）は５〜６０ｍ／秒の範囲であ
る。これらの条件は目的とする薄帯の板厚やその他の製
造条件に合わせて最適な値を選択する。
造条件および具体的な鋳造の作業について説明する。溶
融金属の噴出圧力は０．０１〜３kg／cm2 で、主にタン
ディッシュ内の湯面高さを用いて制御する。冷却ロール
の回転速度（表面速度）は５〜６０ｍ／秒の範囲であ
る。これらの条件は目的とする薄帯の板厚やその他の製
造条件に合わせて最適な値を選択する。
【００２３】
【実施例】図２に示すような単ロール薄帯製造装置を用
いて、Ｆｅ−Ｂ12−Ｓｉ6.5 −Ｃ1 （原子％）合金薄帯
の製造を行った。合金の溶解は、高周波誘導装置を取り
付けた取鍋を用いた。タンディッシュには図１に示すよ
うな、ダミーボリュームを取り付けた。このダミーボリ
ュームは、アルミナ−カーボン製で、外側にはＢＮを数
mmほど塗布した。内部には予備加熱ができるように通電
加熱装置を取り付けた。また、制御盤を介して油圧シリ
ンダーと連結して上下動ができるようにした。なお、こ
のダミーボリュームの寸法は外寸で、縦、横がそれぞれ
１８０mmで、高さを２００mmとした。
いて、Ｆｅ−Ｂ12−Ｓｉ6.5 −Ｃ1 （原子％）合金薄帯
の製造を行った。合金の溶解は、高周波誘導装置を取り
付けた取鍋を用いた。タンディッシュには図１に示すよ
うな、ダミーボリュームを取り付けた。このダミーボリ
ュームは、アルミナ−カーボン製で、外側にはＢＮを数
mmほど塗布した。内部には予備加熱ができるように通電
加熱装置を取り付けた。また、制御盤を介して油圧シリ
ンダーと連結して上下動ができるようにした。なお、こ
のダミーボリュームの寸法は外寸で、縦、横がそれぞれ
１８０mmで、高さを２００mmとした。
【００２４】取鍋での合金の溶解を開始すると同時に、
ダミーボリュームおよびタンディッシュを予熱した。な
お、ダミーボリュームの予熱は、予め装備した通電加熱
装置により行い、タンディッシュはガスバーナーを用い
て予熱した。合金が溶解した後、これらの予熱を停止
し、タンディッシュへの溶融合金の供給を開始した。
ダミーボリュームおよびタンディッシュを予熱した。な
お、ダミーボリュームの予熱は、予め装備した通電加熱
装置により行い、タンディッシュはガスバーナーを用い
て予熱した。合金が溶解した後、これらの予熱を停止
し、タンディッシュへの溶融合金の供給を開始した。
【００２５】タンディッシュ内の溶融合金の湯面高さが
２５０mmとなったところで、タンディッシュストッパー
を解放し、溶融合金を回転する冷却ロール上に噴出し
た。タンディッシュ内の湯面高さを予め装着したボアス
コープによって検出し、この測定信号を演算制御器へ伝
え、ダミーボリュームの上下のストローク量を演算し、
その結果をダミーボリュームの制御盤にフィードバック
して、湯面高さを一定にするようダミーボリュームを上
下動させた。
２５０mmとなったところで、タンディッシュストッパー
を解放し、溶融合金を回転する冷却ロール上に噴出し
た。タンディッシュ内の湯面高さを予め装着したボアス
コープによって検出し、この測定信号を演算制御器へ伝
え、ダミーボリュームの上下のストローク量を演算し、
その結果をダミーボリュームの制御盤にフィードバック
して、湯面高さを一定にするようダミーボリュームを上
下動させた。
【００２６】なお、その他の製造条件については下記の
通りであった。 注湯時の取鍋内溶融合金温度：１３５０℃ ノズル開口形状：１２０mm×０．７mmの矩形状スリット
を１．５mm間隔に２本並べた開口 ロール表面速度：２０ｍ／ｓ ノズルギャップ：０．３mm ダミーボリュームの予熱温度：１２００℃
通りであった。 注湯時の取鍋内溶融合金温度：１３５０℃ ノズル開口形状：１２０mm×０．７mmの矩形状スリット
を１．５mm間隔に２本並べた開口 ロール表面速度：２０ｍ／ｓ ノズルギャップ：０．３mm ダミーボリュームの予熱温度：１２００℃
【００２７】結果として、ボアスコープで検出した鋳造
中のタンディッシュの湯面高さの変動は、±６mmの範囲
内に入っていた。鋳造の結果、幅がおよそ１２０mmの外
観が良好な薄帯が得られた。得られた薄帯から、長手方
向で間隔を一定とした位置で、それぞれ長さ２０mmのサ
ンプルを採取し、それらの板厚を測定した。なお、板厚
の測定は、薄帯の重量、薄帯の長さ、幅および合金の密
度（７．２６ｇ／cm3）から算出した。その結果、サン
プルの平均板厚は５２μｍで、全てのサンプルの板厚
は、±３μｍの範囲に入っていた。
中のタンディッシュの湯面高さの変動は、±６mmの範囲
内に入っていた。鋳造の結果、幅がおよそ１２０mmの外
観が良好な薄帯が得られた。得られた薄帯から、長手方
向で間隔を一定とした位置で、それぞれ長さ２０mmのサ
ンプルを採取し、それらの板厚を測定した。なお、板厚
の測定は、薄帯の重量、薄帯の長さ、幅および合金の密
度（７．２６ｇ／cm3）から算出した。その結果、サン
プルの平均板厚は５２μｍで、全てのサンプルの板厚
は、±３μｍの範囲に入っていた。
【００２８】以上の結果から、タンディッシュにダミー
ボリュームを用いることにより、板厚精度のかなり高い
薄帯が得られることがわかった。これは、ダミーボリュ
ームを用いることにより、タンディッシュ内の湯面高さ
の変動を抑えられたことによると判断される。
ボリュームを用いることにより、板厚精度のかなり高い
薄帯が得られることがわかった。これは、ダミーボリュ
ームを用いることにより、タンディッシュ内の湯面高さ
の変動を抑えられたことによると判断される。
【００２９】〔比較例〕図２に示すような単ロール薄帯
製造装置を用いて、Ｆｅ−Ｂ12−Ｓｉ6.5 −Ｃ1 （原子
％）合金薄帯の製造を行った。但し、タンディッシュ内
には何も挿入せずに鋳造した。その他の鋳造条件は、実
施例と同様とした。
製造装置を用いて、Ｆｅ−Ｂ12−Ｓｉ6.5 −Ｃ1 （原子
％）合金薄帯の製造を行った。但し、タンディッシュ内
には何も挿入せずに鋳造した。その他の鋳造条件は、実
施例と同様とした。
【００３０】結果として、ボアスコープで検出した鋳造
中のタンディッシュの湯面高さの変動は、±１７mmと大
きかった。また、鋳造の結果、幅がおよそ１２０mmの薄
帯が得られた。得られた薄帯から長手方向で間隔を均等
とした位置で、それぞれ長さ２０mmのサンプルを採取
し、それらの板厚を測定した。その結果、サンプルの平
均板厚は５１μｍで、板厚変動は、±１０μｍと大きか
った。以上の結果から、タンディッシュにダミーボリュ
ームを用いずに鋳造したことから、タンディッシュ内の
湯面高さの変動を抑えることができずに、板厚変動の大
きな薄帯となったと判断される。
中のタンディッシュの湯面高さの変動は、±１７mmと大
きかった。また、鋳造の結果、幅がおよそ１２０mmの薄
帯が得られた。得られた薄帯から長手方向で間隔を均等
とした位置で、それぞれ長さ２０mmのサンプルを採取
し、それらの板厚を測定した。その結果、サンプルの平
均板厚は５１μｍで、板厚変動は、±１０μｍと大きか
った。以上の結果から、タンディッシュにダミーボリュ
ームを用いずに鋳造したことから、タンディッシュ内の
湯面高さの変動を抑えることができずに、板厚変動の大
きな薄帯となったと判断される。
【００３１】
【発明の効果】本発明により、液体急冷法において、板
厚精度の高い高品質な薄帯の製造が可能となった。ま
た、板厚不良により屑化する量が少なくなったことか
ら、生産歩留が向上した。
厚精度の高い高品質な薄帯の製造が可能となった。ま
た、板厚不良により屑化する量が少なくなったことか
ら、生産歩留が向上した。
【図１】本発明の方法を説明する模式図である。
【図２】単ロール急冷凝固薄帯製造装置を用いての鋳造
の様子を説明する模式図である。
の様子を説明する模式図である。
【図３】単ロール急冷凝固薄帯製造装置を用いての鋳造
の様子を説明する拡大模式図である。
の様子を説明する拡大模式図である。
１ ダミーボリューム ２ タンディッシュ ３ 溶融金属 ４ タンディッシュストッパー ５ ロングノズル ６ 冷却ロール ７ 薄帯 ８ 羽口レンガ ９ 中間ノズル １０ ノズルホルダー １１ 溶湯流路 １２ ノズルチップ １３ ノズルスリット １４ 拡大内部空間
Claims (1)
- 【請求項１】 溶融金属および合金を、高速で移動する
冷却基板上で急冷凝固する液体急冷法で線および薄い帯
状の金属および合金を製造する際の、冷却基板への溶融
金属および合金を供給する方法において、溶融金属およ
び合金を受給し、かつ、溶融金属および合金を前記冷却
基板に誘導するための容器に、溶融金属および合金に浸
漬するように、昇降可能なダミーボリュームを挿入し、
前記容器が受給する溶融金属および合金の量の変動に応
じて、前記ダミーボリュームを上下させて、前記容器内
の溶融金属および合金の湯面高さを一定としながら、前
記容器から前記冷却基板へ溶融金属および合金を供給す
ることを特徴とする冷却基板への溶融金属および合金の
供給量を一定化する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4266495A JPH08238541A (ja) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | 冷却基板への溶融金属および合金の供給量を一定化する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4266495A JPH08238541A (ja) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | 冷却基板への溶融金属および合金の供給量を一定化する方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08238541A true JPH08238541A (ja) | 1996-09-17 |
Family
ID=12642290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4266495A Pending JPH08238541A (ja) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | 冷却基板への溶融金属および合金の供給量を一定化する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08238541A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002248547A (ja) * | 2001-02-21 | 2002-09-03 | Ulvac Japan Ltd | 溶湯の供給装置および供給方法 |
| EP2100677A1 (en) | 2008-03-06 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate obtained thereby and lithographic printing plate support |
-
1995
- 1995-03-02 JP JP4266495A patent/JPH08238541A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002248547A (ja) * | 2001-02-21 | 2002-09-03 | Ulvac Japan Ltd | 溶湯の供給装置および供給方法 |
| EP2100677A1 (en) | 2008-03-06 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate obtained thereby and lithographic printing plate support |
| JP2009208140A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法、ならびに該製造方法により得られる平版印刷版用アルミニウム合金板および平版印刷版用支持体 |
| US8042603B2 (en) | 2008-03-06 | 2011-10-25 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate obtained thereby and lithographic printing plate support |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030401 |